KR101330827B1 - Apparatus forming frost, laser processing system including the same and laser processing method using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템은 가공물의 저면에 냉각 부재가 형성된 냉각 가공물을 형성하는 냉각 가공물 형성 장치, 상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 성에층 형성 장치, 상기 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 상기 성에층 및상기 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 레이저 발생 장치를 포함할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템은 가공물 및 냉각 부재를 포함하는 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하고, 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 냉각 가공물에 미세 홀을 형성함으로써, 냉각 부재의 냉각 작용에 의해 미세 홀의 내벽에 용융물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.Laser processing system according to an embodiment of the present invention is a cold workpiece forming apparatus for forming a cooling workpiece formed with a cooling member on the bottom surface of the workpiece, a frost layer forming apparatus for forming a frost layer on the surface of the cooled workpiece, the frost layer is It may include a laser generating device for forming a fine hole in the frost layer and the cooling workpiece by irradiating a laser beam to the formed cooling workpiece. Therefore, the laser processing system according to an embodiment of the present invention forms a frosted layer on the surface of the cooled workpiece including the workpiece and the cooling member, and irradiates a laser beam to the cooled workpiece having the frosted layer to form fine holes in the cooled workpiece. By forming, the melt can be prevented from occurring on the inner wall of the fine hole due to the cooling action of the cooling member.
Description
본 발명은 성에 형성 장치, 이를 포함하는 레이저 가공 시스템 및 이를 이용한 레이저 가공 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a frost forming apparatus, a laser processing system including the same, and a laser processing method using the same.
일반적으로 웨이퍼, 금속, 플라스틱 등과 같은 다양한 재료를 이용하여 물품을 제조하기 위해서는 절단, 그루빙, 용접, 열처리 등과 같은 가공 절차가 필요하며, 이러한 가공 절차를 위하여 레이저 가공 장치가 이용되고 있다.In general, in order to manufacture articles using various materials such as wafers, metals, plastics, and the like, processing procedures such as cutting, grooving, welding, and heat treatment are required, and laser processing apparatuses are used for such processing procedures.
레이저 가공 장치는 레이저 발생 장치에서 발생한 레이저 빔을 이용하여 가공물에 미세 홀 등의 패턴을 형성하는 장치로서, 초정밀 미세 가공에 사용된다.The laser processing apparatus is a device which forms patterns, such as a fine hole, on a workpiece | work using the laser beam which generate | occur | produced in the laser generating apparatus, and is used for ultra-precision fine processing.
이러한 레이저 가공 장치의 레이저 빔은 중앙부의 에너지 밀도가 높고 가장자리부의 에너지 밀도가 낮은 가우시안 분포(Gaussian distribution)를 가진다.The laser beam of such a laser processing apparatus has a Gaussian distribution having a high energy density at the center and a low energy density at the edge.
특히, 가공물에 미세 홀을 형성하는 드릴링(drilling) 가공 시, 레이저 빔에 의해 용융된 가공물이 미세 홀의 내벽에 재응고되는 문제가 발생한다. 이와 같이, 가공물의 미세 홀의 내벽에 재응고된 용융물은 세척하기 어렵다. 또한, 레이저 빔의 주변으로 전파되는 플라즈마(plasma) 및 플라즈마가 비산된 플룸(plume)에 의해 가공물 표면이 손상되기 쉽다.In particular, in a drilling process in which fine holes are formed in a workpiece, a problem occurs in that the workpiece melted by the laser beam is resolidified on the inner wall of the fine hole. As such, the melt resolidified on the inner wall of the fine holes of the workpiece is difficult to wash. In addition, the workpiece surface is liable to be damaged by the plasma propagating around the laser beam and the plume in which the plasma is scattered.
본 발명은 전술한 배경 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 가공물에 미세 홀 형성 시 미세 홀의 내벽에 용융물이 발생하는 것을 억제하고 가공물의 표면에 비산된 파티클을 제거할 수 있는 성에 형성 장치, 이를 포함하는 레이저 가공 시스템 및 이를 이용한 레이저 가공 방법을 제공하고자 한다.The present invention is to solve the above-mentioned problems of the background art, frost forming apparatus that can suppress the generation of melt on the inner wall of the micro-holes when forming the micro-holes in the workpiece and to remove particles scattered on the surface of the workpiece, including It is intended to provide a laser processing system and a laser processing method using the same.
본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템은 가공물의 저면에 냉각 부재가 형성된 냉각 가공물을 형성하는 냉각 가공물 형성 장치, 상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 성에층 형성 장치, 상기 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 상기 성에층 및 상기 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 레이저 발생 장치를 포함할 수 있다.Laser processing system according to an embodiment of the present invention is a cold workpiece forming apparatus for forming a cooling workpiece formed with a cooling member on the bottom surface of the workpiece, a frost layer forming apparatus for forming a frost layer on the surface of the cooled workpiece, the frost layer is It may include a laser generating device for forming a fine hole in the frost layer and the cooling workpiece by irradiating a laser beam to the formed cooling workpiece.
상기 냉각 가공물 형성 장치는 상기 가공물의 표면을 흡착하는 진공척, 상기 가공물의 저면에 위치하는 냉각 가스를 압축하여 상기 가공물의 저면에 냉각 부재를 형성하는 압축 피스톤을 포함할 수 있다.The apparatus for forming a cold workpiece may include a vacuum chuck for adsorbing a surface of the workpiece, and a compression piston for compressing a cooling gas located on the bottom of the workpiece to form a cooling member on the bottom of the workpiece.
상기 냉각 부재는 고체 드라이 아이스일 수 있다.The cooling member may be solid dry ice.
상기 성에층 형성 장치는 상기 냉각 가공물이 탑재되며 상기 냉각 가공물의 표면만 노출되는 고정 지그, 상기 고정 지그 내부에 위치하며 상기 냉각 가공물을 지지하는 지지판, 상기 고정 지그와 상기 지지판 사이에 설치되는 완충 부재를 포함할 수 있다.The defrosting layer forming apparatus includes a fixed jig on which the cooled workpiece is mounted and which exposes only the surface of the cooled workpiece, a support plate positioned inside the fixed jig to support the cooled workpiece, and a buffer member provided between the fixed jig and the support plate. It may include.
상기 고정 지그는 단열재로 만들어질 수 있다.The fixing jig may be made of heat insulating material.
상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 세정하는 세정 장치를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a cleaning device for cleaning the cooled workpiece on which the fine holes are formed.
상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 상기 세정 장치의 세정액에 담굴 수 있다. The cooled workpiece in which the fine holes are formed can be turned over and soaked in the cleaning liquid of the cleaning apparatus.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템을 이용한 레이저 가공 방법은 가공물의 저면에 냉각 부재가 형성된 냉각 가공물을 형성하는 단계, 상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 단계, 상기 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 상기 성에층 및 상기 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the laser processing method using a laser processing system according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a cooled workpiece formed with a cooling member on the bottom surface of the workpiece, forming a frost layer on the surface of the cooled workpiece, the frost layer Irradiating a laser beam to the formed cooling workpiece may include forming fine holes in the frost layer and the cooling workpiece.
상기 가공물의 저면에 위치하는 냉각 가스를 압축하여 상기 가공물의 저면에 냉각 부재를 형성할 수 있다.A cooling member may be formed on the bottom surface of the workpiece by compressing the cooling gas located on the bottom surface of the workpiece.
상기 냉각 가스는 이산화탄소(CO2)와 불소 계열 가스의 혼합 가스일 수 있다.The cooling gas may be a mixed gas of carbon dioxide (CO 2 ) and a fluorine-based gas.
상기 냉각 가스는 이산화탄소(CO2)와 산소(O2)의 혼합 가스일 수 있다.The cooling gas may be a mixed gas of carbon dioxide (CO 2 ) and oxygen (O 2 ).
상기 냉각 가스는 나프탈렌, 안트라센, 또는 테트라센 중에서 선택된 어느 하나의 첨가제를 포함할 수 있다.The cooling gas may include any one additive selected from naphthalene, anthracene, or tetracene.
단열재로 만들어진 고정 지그에 탑재된 상기 냉각 가공물의 표면을 노출시켜 시간 경과에 따라 상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성할 수 있다.The surface of the cooled workpiece mounted on a fixing jig made of a heat insulating material may be exposed to form a frost layer on the surface of the cooled workpiece over time.
상기 레이저 빔을 이용하여 상기 냉각 부재에 미세 홀을 형성하여 상기 냉각 부재의 파티클이 상기 가공물 및 성에층의 미세 홀을 통해 분출되게 할 수 있다.The laser beam may be used to form fine holes in the cooling member so that particles of the cooling member may be ejected through the fine holes of the workpiece and the frost layer.
상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 세정 장치의 세정액에 담구어 상기 냉각 부재를 기화시켜 발생시킨 버블이 상기 미세 홀 내부의 파티클을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method may further include the step of inverting the cooled workpiece having the fine holes formed therein and immersing it in a cleaning solution of the cleaning apparatus to vaporize the cooling member to remove particles inside the fine holes.
상기 냉각 부재를 기화시키는 동시에 상기 성에층을 액화시켜 상기 성에층에 비산된 파티클을 제거할 수 있다.The cooling member may be vaporized and the frost layer may be liquefied to remove particles scattered on the frost layer.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 성에층 형성 장치는 가공물의 저면에 냉각 부재가 형성된 냉각 가공물이 탑재되며 상기 냉각 가공물의 표면만 노출되는 고정 지그, 상기 고정 지그 내부에 위치하며 상기 냉각 가공물을 지지하는 지지판, 상기 고정 지그와 상기 지지판 사이에 설치되는 완충 부재를 포함할 수 있다.In addition, the apparatus for forming a frost layer according to an embodiment of the present invention is mounted on the bottom surface of the workpiece, the cooling workpiece is formed with a cooling member is fixed jig which exposes only the surface of the cooling workpiece, the fixing jig is located inside the fixed jig It may include a support plate for supporting, a buffer member provided between the fixing jig and the support plate.
상기 고정 지그는 단열재로 만들어질 수 있다. The fixing jig may be made of heat insulating material.
본 발명에 따르면, 가공물 및 냉각 부재를 포함하는 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하고, 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 냉각 가공물에 미세 홀을 형성함으로써, 냉각 부재의 냉각 작용에 의해 미세 홀의 내벽에 용융물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, a frosted layer is formed on the surface of a cooled workpiece including a workpiece and a cooling member, and a fine hole is formed on the cooled workpiece by irradiating a laser beam to the cooled workpiece on which the frosted layer is formed, thereby reducing the cooling effect of the cooling member. This can prevent the melt from occurring on the inner wall of the fine holes.
또한, 레이저 가공에 의해 가공물 미세 홀 형성 시, 냉각 부재 미세 홀까지 가공함으로써, 냉각 부재 미세 홀 가공 시 발생하는 냉각 부재 파티클이 미세 홀을 통해 폭발적으로 분출되면서 가공물 미세 홀의 내벽에 잔류하는 가공물 파티클을 제거할 수 있다. 따라서, 가공물 미세 홀의 내벽을 깔끔하게 가공할 수 있다. In addition, when forming the workpiece microhole by laser processing, by processing to the cooling member microhole, the cooling member particles generated during the cooling member microhole processing exploded through the microholes exploding through the microholes to remove the workpiece particles remaining on the inner wall of the workpiece microholes. Can be removed Therefore, the inner wall of the workpiece fine hole can be neatly processed.
또한, 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 세정 장치에 투입하여 성에층을 액화시킴으로써, 레이저 가공 시 성에층 위에 비산된 가공물 파티클을 함께 제거할 수 있다. 따라서, 가공물 위에 비산되는 가공물 파티클을 용이하게 제거할 수 있다. In addition, by cooling the workpiece formed with fine holes into the cleaning apparatus to liquefy the frost layer, it is possible to remove the workpiece particles scattered on the frost layer during laser processing. Therefore, the workpiece particle scattered on the workpiece can be easily removed.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 개략도이다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 냉각 부재 형성 장치를 이용하여 냉각 가공물을 형성하는 단계를 순서대로 도시한 도면이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 성에층 형성 장치를 이용하여 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 단계를 순서대로 도시한 도면이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 레이저 발생 장치를 이용하여 성에층 및 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 단계를 순서대로 도시한 도면이다.
도 9 및 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 세정 장치를 이용하여 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 세정하는 단계를 순서대로 도시한 도면이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 UV 레이저 빔의 파장에 따른 UV 레이저 빔의 흡수율을 냉각 가스에 함유된 첨가제별로 도시한 그래프이다. 1 is a schematic diagram of a laser processing system according to one embodiment of the invention.
2 to 4 are diagrams sequentially illustrating steps of forming a cooled workpiece by using a cooling member forming apparatus of a laser processing system according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are diagrams sequentially illustrating steps of forming a frost layer on a surface of a cooled workpiece using a frost layer forming apparatus of a laser processing system according to an embodiment of the present invention.
7 and 8 are diagrams sequentially illustrating steps of forming fine holes in a frosted layer and a cooled workpiece using a laser generating apparatus of a laser processing system according to an embodiment of the present invention.
9 and 10 are diagrams sequentially illustrating steps of cleaning a cooling workpiece in which fine holes are formed by using a cleaning apparatus of a laser processing system according to an embodiment of the present invention.
11 is a graph showing the absorption rate of the UV laser beam according to the wavelength of the UV laser beam of the laser processing system according to an embodiment of each additive according to the cooling gas.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.
그러면 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템에 대하여 도 1을 참조하여 상세하게 설명한다.Next, a laser processing system according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a laser processing system according to one embodiment of the invention.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템은 가공물(11)의 저면에 냉각 부재(12)가 형성된 냉각 가공물(10)을 형성하는 냉각 가공물 형성 장치(100), 냉각 가공물(10)의 표면에 성에층(20)을 형성하는 성에층 형성 장치(200), 성에층(20)이 형성된 냉각 가공물(10)에 레이저 빔(30)을 조사하여 성에층(20) 및 냉각 가공물(10)에 미세 홀(10a)을 형성하는 레이저 발생 장치(300), 미세 홀(10a)이 형성된 냉각 가공물(10)을 세정하는 세정 장치(400)를 포함한다.As shown in Figure 1, the laser processing system according to an embodiment of the present invention is a cold
냉각 가공물 형성 장치(100)는 가공물(11)의 표면을 흡착하는 진공척(110), 가공물(11)의 저면에 위치하는 냉각 가스(1)를 압축하는 압축 피스톤(120)을 포함한다. The cold
진공척(110)은 가공물(11) 위에 배치하여 에어를 흡입함으로써 가공물(11)의 표면을 흡착하여 가공물(11)을 진공척(110)에 고정시킨다. 압축 피스톤(120)은 압축 피스톤(120)과 가공물(11) 사이에 위치하는 냉각 가스(1)를 압축하여 가공물(11)의 저면에 냉각 부재(12)를 형성한다. 이 때, 냉각 부재(12)는 고체 드라이 아이스일 수 있다. 냉각 부재(12)는 가공물(11)을 냉각시키는 역활을 한다. The
성에층 형성 장치(200)는 냉각 가공물(10)이 탑재되는 고정 지그(210), 고정 지그(210) 내부에 위치하며 냉각 가공물(10)을 지지하는 지지판(220), 고정 지그(210)와 지지판(220) 사이에 설치되는 완충 부재(230)를 포함한다.Defrosting
고정 지그(210)는 냉각 가공물(10)을 고정하며, 단열재로 만들어져 냉각 가공물(10)이 외부와 열교환되는 것을 방지한다. 다만, 고정 지그(210)는 냉각 가공물(10)의 표면만 노출되는 개구부(210a)를 가지며, 고정 지그(210)의 개구부(210a)를 통해 노출되는 냉각 가공물(10)의 표면에는 외부와의 온도차에 의해 성에층(20)이 형성된다. 성에층(20)은 외부 포화 기체의 수증기가 고체화된 것이다. The
완충 부재(230)는 냉각 부재(12)가 증발하여 부피가 줄어도 레이저 빔(30)과 가공물(11)사이의 초점거리를 항상 일정하게 유지시켜 주는 역할을 함과 동시에 냉각 가공물(10)과 접촉하는 지지판(220)과 고정 지그(210)가 서로 직접 접촉하는 것을 방지하는 역할을 한다. The
레이저 발생 장치(300)는 유도 방출에 의해 증폭된 광인 레이저 빔(30)을 발생시키는 레이저 발생부(300), 레이저 빔(30)의 조사 궤적을 조절하는 레이저 스캐너(320)를 포함한다.The
레이저 빔(30)은 미세 가공에 유리한 UV 레이저 빔 또는 드라이 아이스에 반응성이 우수한 CO2 레이저 빔일 수 있다. 또한, 레이저 빔(30)은 중앙부의 에너지 밀도가 가장자리부의 에너지 밀도보다 높은 가우시안 분포(Gaussian distribution)의 가우시안 레이저 빔이거나, 중앙부와 가장자리부의 에너지 밀도가 거의 동일한 평면 레이저 빔일 수 있다.The
이러한 레이저 빔(30)은 성에층(20), 가공물(11) 및 냉각 부재(12)에 각각 성에층 미세 홀(20a), 가공물 미세 홀(11a) 및 냉각 부재 미세 홀(12a)을 형성한다. 가공물 미세 홀(11a)을 형성하는 경우, 냉각 부재(12)의 냉각 작용에 의해 가공물 미세 홀(11a)의 내벽에 용융물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.The
또한, 가공물 미세 홀(11a) 형성 시, 냉각 부재 미세 홀(12a)까지 가공함으로써, 냉각 부재 미세 홀(12a) 가공 시 발생하는 냉각 부재 파티클(2)이 미세 홀(10a)을 통해 폭발적으로 분출되면서 가공물 미세 홀(11a)의 내벽에 잔류하는 가공물 파티클(3)을 제거할 수 있다. 따라서, 가공물 미세 홀(11a)의 내벽을 깔끔하게 가공할 수 있다. In addition, when forming the workpiece
세정 장치(400)는 세정액(420)이 채워진 수조(410)일 수 있다. 미세 홀(10a)이 형성된 냉각 가공물(10)을 뒤집어서 세정 장치(400)에 담구는 경우, 냉각 부재 미세 홀(12a)에 침투한 세정액(420)이 냉각 부재(12)를 기화시켜 발생시킨 버블이 가공물 미세 홀(11a) 내벽의 가공물 파티클(3)을 제거한다. 또한, 세정액(420)은 성에층(20)을 액화시킴으로써, 레이저 가공 시 성에층(20) 위에 비산된 가공물 파티클(3)을 함께 제거할 수 있다. 따라서, 가공물(11) 위에 비산되는 가공물 파티클(3)을 용이하게 제거할 수 있다. 이러한 세정액(420)은 물 또는 알코올일 수 있다. 한편, 세정 장치(400)는 세정액(420)을 분사하거나 열풍을 분사하는 구조의 장치일 수도 있다. The
상기 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템을 이용한 레이저 가공 방법에 대하여 도 2 내지 도 10을 참조하여 이하에서 상세히 설명한다.A laser processing method using a laser processing system according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. 2 to 10.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 냉각 부재 형성 장치를 이용하여 냉각 가공물을 형성하는 단계를 순서대로 도시한 도면이고, 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 성에층 형성 장치를 이용하여 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 단계를 순서대로 도시한 도면이고, 도 7 및 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 레이저 발생 장치를 이용하여 성에층 및 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 단계를 순서대로 도시한 도면이고, 도 9 및 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 세정 장치를 이용하여 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 세정하는 단계를 순서대로 도시한 도면이다.2 to 4 are views showing in sequence the steps of forming a cooling workpiece by using the cooling member forming apparatus of the laser processing system according to an embodiment of the present invention, Figures 5 and 6 is an embodiment of the present invention 7 is a view illustrating a step of sequentially forming a frosted layer on the surface of a cooled workpiece using a frosted layer forming apparatus of a laser processing system according to an example, and FIGS. 7 and 8 are laser processing systems according to an embodiment of the present invention. FIG. 9 is a view illustrating steps of forming fine holes in a frost layer and a cooled workpiece by using a laser generator of FIG. 9, and FIGS. 9 and 10 are using a cleaning apparatus of a laser processing system according to an embodiment of the present invention. It is a figure which shows the process of washing | cleaning the cooled workpiece in which the microhole was formed in order.
우선, 도 2에 도시한 바와 같이, 가공물(11)을 진공척(110)에 고정시키고, 가공물(11)과 압축 피스톤(120) 사이에 냉각 가스(1)를 위치시킨다. First, as shown in FIG. 2, the
가공물(11)은 탄화 규소(SiC) 또는 산화 알루미늄(Al2O3) 등의 세라믹이거나 철(Fe) 등의 금속일 수 있다. The
냉각 가스(1)는 이산화탄소(CO2)와 불소 계열 가스의 혼합 가스일 수 있다. 불소 계열 가스는 SF6, CF4, NF3 또는 CHF3등이 그 예이다. 가공물(11)이 실리콘 웨이퍼인 경우 이산화탄소(CO2)와 불소 계열 가스의 혼합 가스인 냉각 가스(1)가 압축되어 냉각 부재(12)가 되면, 레이저 가공 시 건식 식각과 같은 화학적 효과가 가미되어 가공물 미세 홀(11a)의 내벽의 가공물 파티클(3)을 제거하는 크리닝 효과가 더욱 증대된다. The cooling
또한, 냉각 가스(1)는 이산화탄소(CO2)와 산소(O2)의 혼합 가스일 수 있다. 가공물(11)이 플라스틱계열의 재료인 경우 이산화탄소(CO2)와 산소(O2)의 혼합 가스인 냉각 가스(1)가 압축되어 냉각 부재(12)가 되면, 레이저 가공 시 탄화 현상을 최소화하여 가공물 파티클(3)의 발생을 최소화할 수 있다. In addition, the cooling
또한, 냉각 가스(1)는 나프탈렌(naphthalene), 안트라센(anthracene), 또는 테트라센(tetracene) 중에서 선택된 어느 하나의 첨가제를 포함할 수 있다. In addition, the cooling
도 11에는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 가공 시스템의 UV 레이저 빔의 파장에 따른 UV 레이저 빔의 흡수율이 냉각 가스에 함유된 첨가제별로 도시되어 있다. FIG. 11 is a graph illustrating absorption rates of UV laser beams according to wavelengths of UV laser beams of laser processing systems according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 11에 나타난 바와 같이, 벤젠 고리의 수가 많아질수록 즉, 나프탈렌(A)에서 안트라센(B), 테트라센(C)으로 갈수록 가공물(11)이 UV 레이저 빔(30)을 흡수하는 흡수율이 증가함을 알 수 있다. As shown in FIG. 11, as the number of benzene rings increases, that is, as the naphthalene (A) moves from anthracene (B) to tetracene (C), the absorption rate of the
또한, 사용하는 UV 레이저 빔(30)의 파장에 따라 적절하게 냉각 가스(1)에 첨가제를 함유함으로써 레이저 가공율을 향상시킬 수 있다. 예컨대, 343nm 또는 355nm의 파장을 가지는 UV 레이저 빔(30)을 사용하는 경우에는 그 파장에서 흡수율이 높은 안트라센을 냉각 가스(1)에 첨가제로 적용하는 것이 레이저 가공율을 향상시킬 수 있다.Moreover, the laser processing rate can be improved by containing an additive in cooling
다음으로, 도 3에 도시한 바와 같이, 압축 피스톤(120)을 이용하여 냉각 가스(1)를 압축하여 액상 냉각 부재(1')로 만든다. Next, as shown in FIG. 3, the cooling
다음으로, 도 4에 도시한 바와 같이, 압축 피스톤(120)을 이용하여 액상 냉각 부재(1')를 더욱 압축하여 가공물(11)의 저면에 냉각 부재(12)를 형성하여 냉각 부재(12)와 가공물(11)로 이루어진 냉각 가공물(10)을 제조한다. 이 때, 냉각 부재(12)는 고체 드라이 아이스일 수 있다. Next, as shown in FIG. 4, the
다음으로, 도 5에 도시한 바와 같이, 냉각 부재(12)와 가공물(11)로 이루어진 냉각 가공물(10)을 성에층 형성 장치(200)의 고정 지그(210)에 탑재한다.Next, as shown in FIG. 5, the cooled
다음으로, 도 6에 도시한 바와 같이, 단열재로 만들어진 고정 지그(210)는 가공물(11)의 표면만을 개구부(210a)를 통해 노출하므로, 단열되지 않는 가공물(11)의 표면에는 시간 경과에 따라 얇은 두께로 성에층(20)이 형성된다. Next, as shown in FIG. 6, since the fixing
다음으로, 도 7에 도시한 바와 같이, 성에층(20)이 형성된 냉각 가공물(10)에 레이저 빔(30)을 조사하여 성에층(20) 및 냉각 가공물(10)에 미세 홀(10a)을 형성한다. 미세 홀(10a)은 성에층(20), 가공물(11) 및 냉각 부재(12)에 각각 형성된 성에층 미세 홀(20a), 가공물 미세 홀(11a) 및 냉각 부재 미세홀(12a)을 포함한다. Next, as shown in FIG. 7, the
이 때, 냉각 부재(12)의 냉각 작용에 의해 미세 홀(10a)의 내벽에 용융물이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 도 8에 도시한 바와 같이, 냉각 부재 미세 홀(12a) 가공 시 발생하는 냉각 부재 파티클(2)이 미세 홀(10a)을 통해 폭발적으로 분출되면서 가공물 미세 홀(11a)의 내벽에 잔류하는 가공물 파티클(3)을 제거할 수 있다. 따라서, 가공물 미세 홀(11a)의 내벽을 깔끔하게 가공할 수 있다. At this time, it is possible to prevent the melt from occurring on the inner wall of the
또한, 냉각 부재(12)는 레이저 빔(30)에 의한 플라즈마의 발생을 최소화할 수 있고, 따라서, 플라즈마에 의해 성에층(20) 위에 증착하는 가공물 파티클(3)을 최소화할 수 있다. 이러한 성에층(20) 위에 증착된 가공물 파티클(3)을 제거하기 위해 아래와 같이 세정 장치(400)를 사용한다. In addition, the cooling
다음으로, 도 9에 도시한 바와 같이, 미세 홀(10a)이 형성된 냉각 가공물(10)을 뒤집어서 세정 장치(400)에 담군다.Next, as shown in FIG. 9, the cooled
이 때, 냉각 부재 미세 홀(12a)까지 침투한 세정액(420)이 냉각 부재(12)를 기화시켜 발생시킨 버블이 가공물 미세 홀(11a) 내벽의 가공물 파티클(3)을 제거한다. 또한, 버블은 진동을 일으켜 가공물 미세 홀(11a) 내벽의 가공물 파티클(3)이 더욱 잘 떨어지게 한다. At this time, the bubble generated by the cleaning
또한, 세정액(420)은 성에층(20)을 액화시킴으로써, 레이저 가공 시 성에층(20) 위에 비산된 가공물 파티클(3)을 함께 제거할 수 있다. 따라서, 가공물(11) 위에 비산되는 가공물 파티클(3)을 용이하게 제거할 수 있다. In addition, the cleaning
다음으로, 도 10에 도시한 바와 같이, 냉각 부재(12)가 기화되고, 성에층(20)이 액화된 가공물(11)을 세정 장치(400)로부터 꺼내서 건조한다. 따라서, 가공물(11)의 가공물 미세 홀(11a)에는 가공물 파티클(3)이 완전히 제거된다. Next, as shown in FIG. 10, the cooling
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the following claims. Those who are engaged in the technology field will understand easily.
1: 냉각 가스 2: 냉각 부재 파티클
3: 가공물 파티클 10: 냉각 가공물
11: 가공물 12: 냉각 부재
20: 성에층 30: 레이저 빔
100: 냉각 가공물 형성 장치 200: 성에층 형성 장치
300: 레이저 발생 장치 400: 세정 장치1: cooling gas 2: cooling member particles
3: workpiece particle 10: cooling workpiece
11: workpiece 12: cooling member
20: frost layer 30: laser beam
100: cooling workpiece forming apparatus 200: frost layer forming apparatus
300: laser generating device 400: cleaning device
Claims (18)
상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 성에층 형성 장치,
상기 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 상기 성에층 및상기 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 레이저 발생 장치,
상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 세정하는 세정 장치
를 포함하고,
상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 세정 장치의 세정액에 담구어 상기 냉각 부재를 기화시켜 발생시킨 버블이 상기 미세 홀 내부의 파티클을 제거하는 레이저 가공 시스템.Cooled workpiece forming apparatus for forming a cooled workpiece having a cooling member formed on the bottom of the workpiece,
Defrosting layer forming apparatus for forming a frosting layer on the surface of the cooled workpiece,
A laser generating device for irradiating a laser beam to the cooled workpiece having the frosted layer formed thereon to form fine holes in the frosted layer and the cooled workpiece;
Cleaning apparatus for cleaning the cooled workpiece in which the fine holes are formed
Lt; / RTI >
And a bubble generated by inverting the cooled workpiece having the fine holes formed therein and immersing it in a cleaning liquid of a cleaning apparatus to vaporize the cooling member to remove particles inside the fine holes.
상기 냉각 가공물 형성 장치는
상기 가공물의 표면을 흡착하는 진공척,
상기 가공물의 저면에 위치하는 냉각 가스를 압축하여 상기 가공물의 저면에 냉각 부재를 형성하는 압축 피스톤
을 포함하는 레이저 가공 시스템.In claim 1,
The cold workpiece forming apparatus
A vacuum chuck for adsorbing the surface of the workpiece,
Compression piston for compressing the cooling gas located on the bottom surface of the workpiece to form a cooling member on the bottom surface of the workpiece
Laser processing system comprising a.
상기 냉각 부재는 고체 드라이 아이스인 레이저 가공 시스템.In claim 1,
And said cooling member is solid dry ice.
상기 성에층 형성 장치는
상기 냉각 가공물이 탑재되며 상기 냉각 가공물의 표면만 노출되는 고정 지그,
상기 고정 지그 내부에 위치하며 상기 냉각 가공물을 지지하는 지지판,
상기 고정 지그와 상기 지지판 사이에 설치되는 완충 부재
를 포함하는 레이저 가공 시스템.In claim 1,
The frost layer forming apparatus is
A fixed jig in which the cooling workpiece is mounted and only the surface of the cooling workpiece is exposed;
A support plate positioned inside the fixing jig to support the cooling workpiece;
Shock absorbing member provided between the fixing jig and the support plate
Laser processing system comprising a.
상기 고정 지그는 단열재로 만들어지는 레이저 가공 시스템.5. The method of claim 4,
The fixing jig is a laser processing system made of insulation.
상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 상기 세정 장치의 세정액에 담구는 레이저 가공 시스템.In claim 1,
The laser processing system which flips the cooled workpiece in which the said microhole was formed, and immerses it in the washing | cleaning liquid of the said washing | cleaning apparatus.
상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 단계,
상기 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 상기 성에층 및 상기 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 단계,
상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 세정 장치의 세정액에 담구어 상기 냉각 부재를 기화시켜 발생시킨 버블이 상기 미세 홀 내부의 파티클을 제거하는 단계
를 포함하는 레이저 가공 방법.Forming a cooled workpiece having a cooling member formed on a bottom surface of the workpiece,
Forming a frosted layer on the surface of the cold workpiece,
Irradiating a laser beam on the cooled workpiece having the frosted layer formed thereon to form fine holes in the frosted layer and the cooled workpiece;
Inverting the cooling workpiece on which the fine holes are formed and immersing them in a cleaning liquid of a cleaning apparatus to vaporize the cooling member to remove particles in the fine holes;
.
상기 가공물의 저면에 위치하는 냉각 가스를 압축하여 상기 가공물의 저면에 냉각 부재를 형성하는 레이저 가공 방법.9. The method of claim 8,
And a cooling member positioned on the bottom surface of the workpiece to form a cooling member on the bottom surface of the workpiece.
상기 냉각 가스는 이산화탄소(CO2)와 불소 계열 가스의 혼합 가스인 레이저 가공 방법.The method of claim 9,
The cooling gas is a laser processing method is a mixed gas of carbon dioxide (CO 2 ) and fluorine-based gas.
상기 냉각 가스는 이산화탄소(CO2)와 산소(O2)의 혼합 가스인 레이저 가공 방법. The method of claim 9,
The cooling gas is a laser processing method is a mixed gas of carbon dioxide (CO 2 ) and oxygen (O 2 ).
상기 냉각 가스는 나프탈렌, 안트라센, 또는 테트라센 중에서 선택된 어느 하나의 첨가제를 포함하는 레이저 가공 방법. 11. The method according to claim 10 or 11,
The cooling gas is a laser processing method comprising any one of additives selected from naphthalene, anthracene, or tetracene.
단열재로 만들어진 고정 지그에 탑재된 상기 냉각 가공물의 표면을 노출시켜 시간 경과에 따라 상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 레이저 가공 방법.The method of claim 9,
A laser processing method for forming a frosted layer on the surface of the cooled workpiece over time by exposing the surface of the cooled workpiece mounted on a fixed jig made of a heat insulating material.
상기 레이저 빔을 이용하여 상기 냉각 부재에 미세 홀을 형성하여 상기 냉각 부재의 파티클이 상기 가공물 및 성에층의 미세 홀을 통해 분출되게 하는 레이저 가공 방법.9. The method of claim 8,
And forming a fine hole in the cooling member by using the laser beam to cause particles of the cooling member to be ejected through the fine holes of the workpiece and the frost layer.
상기 냉각 부재를 기화시키는 동시에 상기 성에층을 액화시켜 상기 성에층에 비산된 파티클을 제거하는 레이저 가공 방법.
9. The method of claim 8,
And vaporizing the cooling member and liquefying the frost layer to remove particles scattered on the frost layer.
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