KR101308751B1 - Overlay key of liquid crystal display device and method of forming the same - Google Patents
Overlay key of liquid crystal display device and method of forming the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR101308751B1 KR101308751B1 KR1020060139105A KR20060139105A KR101308751B1 KR 101308751 B1 KR101308751 B1 KR 101308751B1 KR 1020060139105 A KR1020060139105 A KR 1020060139105A KR 20060139105 A KR20060139105 A KR 20060139105A KR 101308751 B1 KR101308751 B1 KR 101308751B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- columns
- overlay
- rows
- color filter
- key
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D86/00—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates
- H10D86/01—Manufacture or treatment
- H10D86/021—Manufacture or treatment of multiple TFTs
- H10D86/0231—Manufacture or treatment of multiple TFTs using masks, e.g. half-tone masks
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
본 발명은 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키 형성방법은 3행 9열의 간격으로 분할된 컬러필터 오버레이 키(overlay key) 영역을 제공하는 단계; 블랙매트릭스 오버레이 키를 각 행마다 3개의 블랙매트릭스 오버레이 키를 1, 5, 9열에 배치하는 단계; 적색(red) 컬러필터 오버레이 키를 1행에 3개를 1, 4, 7열에 배치하는 단계; 녹색(green) 컬러필터 오버레이 키를 2행에 3개를 2, 5, 8열에 배치하는 단계; 및 청색 컬러필터 오버레이 키를 3행에 3개를 3, 6, 9열에 배치하는 단계를 포함하여 구성되며, RGB 마스크 혼용이 가능한 설계를 통해 오버레이(overlay) 및 더미패턴키(dummy key) 적용시에 측정하던 데이터를 혼용 여부에 관계없이 안정적으로 측정하고 관리할 수 있는 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device, the method of forming an overlay key of the liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of providing a color filter overlay key (overlay key) area divided into three rows and nine columns; Placing three black matrix overlay keys in rows 1, 5, and 9 for each row; Arranging three red color filter overlay keys in rows 1, 4, and 7; Arranging three green color filter overlay keys in two rows in two, five, and eight columns; And arranging three blue color filter overlay keys in three rows in three, six, and nine columns, and applying overlay and dummy keys through an RGB mask mixed design. It is possible to reliably measure and manage the data that was measured at the same time.
오버레이키, 블랙매트릭스키, 컬러필터키 Overlay Key, Black Matrix Ski, Color Filter Key
Description
도 1은 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 기판상에 블랙매트릭스와 컬러필터층의 오버레이 키 배치도.1 is a layout view of overlay keys of a black matrix and a color filter layer on a substrate in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 2는 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 패턴영역이 형성된 마스크를 개략적으로 나타낸 배치도.2 is a layout view schematically illustrating a mask in which a pattern region is formed in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 3은 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터층 오버레이키가 형성된 기판을 개략적으로 나타낸 배치도.3 is a layout view schematically illustrating a substrate on which R, G, and B color filter layer overlay keys are formed in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 4는 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터층 오버레이키가 형성된 기판상에 패턴영역이 형성된 마스크가 배치된 상태를 개략적으로 도시한 배치도.FIG. 4 is a layout view schematically illustrating a state in which a mask having a pattern region is disposed on a substrate on which R, G, and B color filter layer overlay keys are formed in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art. FIG.
도 5는 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 오버레이 키(key) 혼용시에 패턴이 겹치는 현상을 보여 주는 사진.5 is a photo showing a phenomenon in which a pattern overlaps when mixing overlay keys in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터층이 형성되는 기판에 대각선방향으로 블랙매트릭스 오버레이 키가 형성된 마스크를 배치한 개략도.FIG. 6 is a schematic view of a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, in which a mask on which a black matrix overlay key is formed diagonally on a substrate on which R, G, and B color filter layers are formed;
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터 오버레이 키와 블랙매트릭스 오버레이 키가 배치된 상태를 확대도시한 평면도.FIG. 7 is an enlarged plan view illustrating a state in which R, G, and B color filter overlay keys and a black matrix overlay key are disposed in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention; FIG.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 마스크상에 수직방향으로 형성된 블랙매트릭스 오버레이 키와 컬러필터 오버레이 키가 배치된 상태의 평면도.8 is a plan view of a state in which a black matrix overlay key and a color filter overlay key are disposed in a vertical direction on a mask in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention.
- 도면의 주요부분에 대한 부호설명 -DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS -
100 : 기판 115 : 블랙매트릭스 오버레이 키100: substrate 115: black matrix overlay key
120a, 120b, 120c : R, G, B 컬러필터 오버레이 키120a, 120b, 120c: R, G, B color filter overlay keys
300 : 기판 315 : 블랙매트릭스 오버레이 키300: substrate 315: black matrix overlay key
320a, 320b, 320c : R, G, B 컬러필터 오버레이 키320a, 320b, 320c: R, G, B color filter overlay keys
본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 RGB 마스크 혼용이 가능한 설계를 통해 오버레이(overlay) 또는 더미키(dummy key) 적용시에 측정하던 데이터를 혼용 여부에 관계없이 안정적으로 측정하고 관리할 수 있는 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, a design capable of mixing RGB masks, stably regardless of whether or not the data measured when applying an overlay or a dummy key is mixed. An overlay key of a liquid crystal display device capable of measuring and managing the same, and a method of forming the same.
소자를 구동시키기 위해서는 트랜지스터, 캐패시터 등의 다양한 패턴이 요구되는데, 이러한 패턴을 형성하기 위해서는 필름을 증착하고, 상기 필름상에 사진식각기술(photo-lithography)로 포토레지스트패턴을 형성한후 포토레지스트 패턴에 의해 상기 필름을 식각하는 과정이 요구된다.In order to drive the device, various patterns such as transistors and capacitors are required. To form such a pattern, a film is deposited, a photoresist pattern is formed on the film by photo-lithography, and then a photoresist pattern. The process of etching the film is required.
구체적으로, 사진식각기술은 필름이 형성된 기판상에 포토레지스트를 순차로 도포하는 단계와, 자외선 파장을 이용하여 상기 포토레지스트를 빛에 반응시키는 노광단계와, 반응된 포토레지스트를 현상하여 노광된 포토레지스트를 패터닝하는 단계와, 상기 포토레지스트패턴의 정렬도를 검사(inspection)하는 단계의 순으로 진행된다.Specifically, photolithography includes sequentially applying a photoresist on a substrate on which a film is formed, an exposure step of reacting the photoresist with light using an ultraviolet wavelength, and developing the exposed photoresist to expose the photo. Patterning the resist, and then inspecting the alignment of the photoresist pattern (step).
이중 노광단계에서는 필름에 이식하고자 하는 패턴이 각인된 마스크를 이용하여 자외선 등의 광을 조사하는데, 상기 마스크는 기판에 패턴을 인쇄하기 위해 기판과 광원사이에 위치하게 되며, 기판과 정확하게 정렬될 수 있도록 다수의 얼라인 키를 포함한다.In the double exposure step, the mask is irradiated with light such as ultraviolet rays by using a mask in which a pattern to be implanted on the film is imprinted. The mask is positioned between the substrate and the light source to print the pattern on the substrate, and can be accurately aligned with the substrate. So that it contains a number of alignment keys.
특히, 기판이 대형화되고 패턴이 미세화됨에 따라 보다 정확한 정렬이 요구되고, 이에 따라 얼라인 키의 수와 그 종류도 다양해지고 있다.In particular, as the substrate becomes larger and the pattern becomes smaller, more accurate alignment is required, and accordingly, the number and types of alignment keys are diversified.
노광하는 방법으로는 기판을 여러 구역으로 나누어 여러번의 포토샷을 실시하여 기판 전체를 노광하는 방법이 있다.As a method of exposing, there is a method of exposing the entire substrate by dividing the substrate into several zones and performing several photo shots.
그러나, 기판이 대형화됨에 따라 한번의 포토샷(photo shot)으로 기판전체를 노광하는 대신에 여러 구역으로 나누어 여러번의 샷(shot)을 실시하여야 하는 불편이 있다. 즉, 기판의 각 위치별로 다른 패턴이 각인된 마스크를 이용하여야 하는 불편이 따르고, 포토샷과 포토샷간의 경계에서 스티칭(stitching) 불량이 발생하여 소자의 구동시 스티칭 얼룩이 생긴다는 문제점이 있다.However, as the substrate is enlarged, it is inconvenient to perform several shots by dividing into several zones instead of exposing the entire substrate with one photo shot. That is, the inconvenience of using a mask in which a different pattern is imprinted for each position of the substrate, and there is a problem in that a stitching defect occurs at the boundary between the photo shot and the photo shot, resulting in stitching unevenness when the device is driven.
이러한 문제점을 해결하고자 최근에는 스캐너 방식의 일괄 노광방식으로 대 체되고 있는 추세이다.In order to solve this problem, it is recently replaced by a batch exposure method of a scanner method.
이러한 관점에서, 종래기술에 따른 오버레이키(overlay key)를 이용한 액정표시장치 제조방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.In this regard, a method of manufacturing a liquid crystal display device using an overlay key according to the prior art will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 기판상에 블랙매트릭스와 컬러필터층의 오버레이 키 배치도이다.1 is a layout view of overlay keys of a black matrix and a color filter layer on a substrate in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 2는 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 패턴영역이 형성된 마스크를 개략적으로 나타낸 배치도이다.2 is a layout view schematically illustrating a mask in which a pattern region is formed in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 3은 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터 오버레이키가 형성된 기판을 개략적으로 나타낸 배치도이다.3 is a layout view schematically illustrating a substrate on which R, G, and B color filter overlay keys are formed in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 4는 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터 오버레이키가 형성된 기판상에 패턴영역이 형성된 마스크가 배치된 상태를 개략적으로 도시한 배치도이다.4 is a layout view schematically illustrating a state in which a mask in which a pattern region is formed is disposed on a substrate on which R, G, and B color filter overlay keys are formed in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 5는 종래기술에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 오버레이 키(key) 혼용시에 패턴이 겹치는 현상을 보여 주는 사진이다.FIG. 5 is a photograph showing a phenomenon in which a pattern overlaps when an overlay key is mixed in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the related art.
도 1을 참조하면, R, G, B 컬러필터 오버레이 키(20)이 기판의 가장자리를 따라 일정간격을 두고 형성되어 있으며, 상기 R, G, B 컬러필터 오버레이 키(20) 외측에 상기 R, G, B 컬러필터 오버레이 키(20)를 감싸도록 블랙매트릭스 오버레이 키 (15)가 형성되어 있다.Referring to FIG. 1, R, G, and B color
또한, 기판의 가장자리부와 인접된 부분에는 블랙매트릭스 오버레이 키(15)가 교번으로 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스 오버레이 키(15)의 내측에 R, G, B 컬러필터 오버레이 키(20)가 형성되어 있다.In addition, black
한편, 도 2를 참조하면, 마스크(30)에는 마스크 패턴(35a, 35b, 35c)가 대각선 방향으로 형성되어 있다.2,
그리고, 도 3을 참조하면, 기판(40)에는 일 방향으로 일정간격을 두고 블랙매트릭스 키(45a, 45b, 45c)가 형성되어 있다.3,
도 4를 참조하면, 블랙매트릭스 키(45a, 45b, 45c)이 형성된 기판(40)상에 마스크패턴(35a, 35b, 35c)이 형성된 경우이다.Referring to FIG. 4,
이때, 상기 블랙매트릭스 키(45c) 상에 마스크의 마스크패턴(35c)이 정확하게 얼라인되어 있다. 하지만, 상기 블랙매트릭스 키(45a, 45b)에는 마스크패턴 (35a, 35b)이 제대로 얼라인되지 않게 된다.At this time, the
또한, 상기 마스크 패턴(35a, 35b, 35c) 간에는 1 픽셀 간격만큼 이격되어 있다.In addition, the
상기한 바와 같이, 도 1을 참조하면, 기존 컬러필터층 오버레이키는 R, G, B 마스크 혼용을 고려하지 않고 설계되어 있다.As described above, referring to FIG. 1, the existing color filter layer overlay keys are designed without considering R, G, and B masks.
현재 R, G, B 형성공정은 마스크 오염이나 마스크 결함발생시에 R, G, B 마스크를 혼용해서 사용하는 경우가 빈번하게 발생한다.Currently, R, G, and B forming processes frequently use a mixture of R, G, and B masks when mask contamination or mask defects occur.
이러한 경우 현재의 컬러필터 오버레이키 또는 더미키는, 도 5에서와 같이, 패턴의 겹침이 발생하거나 패턴이 이동되는 경우가 발생할 경우, 오버레이 측정이 불가능하거나 측정이 가능하더라도 위치가 이동되어 양산 적용시에 측정 에러 (error)가 발생할 수 있다.In this case, the current color filter overlay key or dummy key, as shown in Figure 5, when the pattern overlap or when the pattern is moved, even if the overlay measurement is impossible or can be measured when the position is moved to apply the mass production A measurement error may occur.
한편, 현재의 오버레이 구조에서는 R, G, B 마스크 혼용시에는 측정이 불가능하기 때문에 오버레이 데이터를 지속적으로 확보할 수 없게 된다.On the other hand, in the current overlay structure, it is impossible to continuously obtain the overlay data because the measurement is impossible when the R, G, and B masks are mixed.
즉, 오버레이 관리를 통한 사전 여과(filtering) 기능 및 모니터링 기능을 할 수 없게 된다는 단점이 발생한다.That is, a disadvantage arises that the pre-filtering function and the monitoring function through overlay management cannot be performed.
이에 본 발명은 상기 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 R, G, B 마스크 혼용 가능한 설계를 통하여 오버레이키 (overlay key) 또는 더미키(dummy key) 적용시에 측정하던 데이터를 혼용여부에 관계없이 안정적으로 측정 및 관리할 수 있는 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법을 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, the object of the present invention is to apply an overlay key or a dummy key through the R, G, B mask mixed design The present invention provides an overlay key of a liquid crystal display device and a method of forming the same, which can stably measure and manage data measured or not.
또한, 본 발명의 다른 목적은 각 컬러필터층별 관리 데이터 정량화가 가능하고, 공정의 상태를 꾸준하게 관리하고 확인할 수 있는 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법을 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide an overlay key of a liquid crystal display device capable of quantifying management data for each color filter layer, and to steadily manage and confirm the state of a process, and a method of forming the same.
그리고, 본 발명의 또다른 목적은 컬러필터층별 오버레이로 패턴 이동 발생시와 R, G, B의 단차 변동에 의한 단차 변동에 의한 체적 변동으로 인한 액정마진 변동을 예측 및 모니터링할 수 있어 관리치를 벗어 났을 경우 중력/미충진 발생을 최소화할 수 있는 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법을 제공함에 있다.In addition, another object of the present invention is to overlay the color filter layer to predict and monitor the liquid crystal margin fluctuations due to the volume fluctuations caused by the fluctuations of the step due to the variation of the steps of R, G, and B and the deviation of the control value. In this case, an overlay key of a liquid crystal display device capable of minimizing gravity / unfilled occurrence and a method of forming the same are provided.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키 구조는 1행 내지 3행 × 1열 내지 9열의 간격으로 분할된 컬러필터 오버레이 키(overlay key); 각 행마다 3개의 패턴을 1, 5, 9열에 배치한 블랙매트릭스 오버레이 키; 1행에 3개의 패턴을 1, 4, 7열에 배치한 적색 컬러필터 오버레이 키; 2행에 3개의 패턴을 2, 5, 8열에 배치한 녹색 컬러필터 오버레이 키; 및 3행에 3개의 패턴을 3, 6, 9열에 배치한 청색컬러필터 오버레이 키;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로한다.The overlay key structure of the liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object is a color filter overlay key (overlay key) divided at intervals of 1 to 3 rows × 1 to 9 columns; A black matrix overlay key with three patterns arranged in rows 1, 5, and 9 for each row; A red color filter overlay key in which three patterns are arranged in rows 1, 4, and 7 in one row; A green color filter overlay key with three patterns arranged in two rows in two, five, and eight columns; And a blue color filter overlay key having three patterns arranged in three rows in three, six, and nine rows in three rows.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키를 형성하는 방법은 1행 내지 3행 × 1열 내지 9열의 간격으로 분할된 컬러필터 오버레이 키(overlay key) 영역을 제공하는 단계; 블랙매트릭스 오버레이 키를 각 행마다 3개의 패턴을 1, 5, 9열에 배치하는 단계; 적색(red) 컬러필터 오버레이 키를 1행에 3개의 패턴을 1, 4, 7열에 배치하는 단계; 녹색(green) 컬러필터 오버레이 키를 2행에 3개의 패턴을 2, 5, 8열에 배치하는 단계; 및 청색 컬러필터 오버레이 키를 3행에 3개의 패턴을 3, 6, 9열에 배치하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of forming an overlay key of a liquid crystal display device, the method including: providing a color filter overlay key region divided at intervals of 1 to 3 rows x 1 to 9 columns; Placing the black matrix overlay keys in three rows of 1, 5, and 9 columns for each row; Arranging three patterns in one row of red color filter overlay keys in rows 1, 4, and 7; Placing three patterns in two rows of green color filter overlay keys in two, five, and eight columns; And arranging three patterns in three rows of three, six, and nine columns of blue color filter overlay keys.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키는 기판에 일정간격을 두고 수직 및 수평방향으로 복수개의 R, G, B 컬러필터 오버레이 키가 형성되며; 상기 복수개의 R, G, B 컬러필터 오버레이 키 상에 정렬되고, 적어도 하나 이상의 블랙매트릭스 오버레이 키 영역이 대각선 방향으로 일정간격을 두고 형성된 것을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. The overlay key of the liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object is formed with a plurality of R, G, B color filter overlay keys in a vertical and horizontal direction at a predetermined interval on the substrate; Aligned on the plurality of R, G, B color filter overlay keys, it characterized in that it comprises at least one black matrix overlay key region is formed at a predetermined interval in the diagonal direction.
이하, 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an overlay key of a liquid crystal display according to the present invention and a method of forming the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터층이 형성된 기판에 대각선방향으로 블랙매트릭스 오버레이 키가 형성된 마스크를 배치한 개략도이다.6 is a schematic diagram of a mask in which a black matrix overlay key is formed in a diagonal direction on a substrate on which R, G, and B color filter layers are formed in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, R, G, B 컬러필터 오버레이 키와 블랙매트릭스 오버레이 키가 배치된 상태를 확대도시한 평면도이다.FIG. 7 is an enlarged plan view illustrating a state in which R, G, and B color filter overlay keys and a black matrix overlay key are disposed in a method of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 제조방법에 있어서, 마스크상에 수직방향으로 형성된 블랙매트릭스 오버레이 키와 컬러필터 오버레이 키가 배치된 상태의 평면도이다.8 is a plan view of a state in which a black matrix overlay key and a color filter overlay key formed in a vertical direction on a mask are disposed in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 6을 참조하면, 본 발명의 일시예에 따른 액정표시소자 제조방법은 R, G, B 마스크 혼용원리가 1 픽셀 단축방향의 간격을 블랙매트릭스 오버레이 키(115)와 R, G, B 컬러필터 오버레이 키(120a, 120b, 120c)를 얼라인하는 것이다.Referring to FIG. 6, in the liquid crystal display device manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention, the black
이는 오버레이키에도 적용할 경우 현재의 패턴은 그 크기가 크기때문에 횡배열에서는 간섭이 발생하게 된다.When applied to the overlay key, the current pattern is large in size, so interference occurs in the horizontal array.
따라서, 패턴의 크기를 고려하여 간섭이 발생하지 않을 수 있도록 횡배열의 원리와 수직배열의 원리를 접목시켜 오버레이 키 배치를 한 것이다.Therefore, in order to prevent interference in consideration of the size of the pattern, the overlay key arrangement is made by combining the principle of horizontal arrangement and the principle of vertical arrangement.
한편, 도 7을 참조하면, 패턴내의 크기 및 간격에 대한 설정은 다음과 같다.On the other hand, referring to Figure 7, the setting for the size and spacing in the pattern is as follows.
오버레이(overlay) 측정은 X 이동(shift) = (a-b)/2이고, Y 이동(shift) = (c-d)/2이다. 또한, 사각형 내의 명암을 구비해서 거리차를 구한다.Overlay measurements are X shift = (a-b) / 2 and Y shift = (c-d) / 2. In addition, the distance difference is obtained by providing the contrast within the rectangle.
또한, 상기 블랙매트릭스 오버레이 키(115)의 크기(W1)는 약 30 μm 이상이며, W2는 1 픽셀의 단축간격을 나타낸다.In addition, the size (W1) of the black
본 발명의 일실시예의 경우, 마스크 혼용시 R, G, B 오버레이 확인이 가능하지만, 패턴 크기에 따라 제약이 발생할 수 있다.In one embodiment of the present invention, when the mask is mixed, it is possible to check the R, G, and B overlay, but constraints may occur according to the pattern size.
즉, 1 픽셀 단축 간격(W2)을 충분히 확보한 경우에는 오버레이 영역의 최소화가 가장 이상적이지만, 그렇지 않은 경우 패턴간 간섭이 발생하여 마스크 혼용여부에 관계없이 측정 제약이 발생할 수 있다.That is, minimizing the overlay area is ideal when the 1 pixel short interval W2 is sufficiently secured, but otherwise, inter-pattern interference may occur and measurement constraints may occur regardless of whether a mask is mixed.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 오버레이키를 이용한 액정표시소자 제조방법에 대해 도 8을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, a method of manufacturing a liquid crystal display device using an overlay key according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 8.
컬러필터 오버레이 키(overlay key) 영역을 1행 내지 3행 × 1열 내지 9열의 간격으로 나누었을 때, 블랙매트릭스 오버레이 키(315)의 위치는 각 행마다 3개의 블랙매트릭스 오버레이 키(315)를 1열, 5열, 9열에 배치한다.When the color filter overlay key area is divided into intervals of 1 to 3 rows x 1 to 9 columns, the position of the black
먼저, 적색(red) 컬러필터 오버레이 키(320a)는 1행에 3개의 컬러필터 오버레이 키(320a)를 1열, 4열, 7열에 배치하는데, 1열을 A, 4열을 B, 7열을 C라고 할 때, 정상일 경우는 1행×1열의 블랙매트릭스 오버레이 키(315) 내에 적색 컬러필터 오버레이 키(320a)의 A가 배치되고, 녹색(green)과 혼용시에는 블랙매트릭스 오버레이 키(315)의 1행×5열의 패턴 내에 적색 컬러필터 오버레이 키(320a)의 B가 배치되고, 청색(blue)과 혼용시에는 블랙매트릭스 오버레이 키(315)의 1행×9열의 패턴 내에 적색 컬러필터 오버레이 키(320a)의 C가 배치된다.First, the red color
또한, 녹색(green) 컬러필터 오버레이 키(320b)는 2행에 3개의 컬러필터 오버레이 키(320b)를 2열, 5열, 8열에 배치하고, 2열을 A, 5열을 B, 8열을 C라고 할 때, 정상일 경우는 2행×5열의 블랙매트릭스 오버레이 키(315) 내에 녹색 컬러필터 오버레이 키(320b)의 B가 배치되고, 적색(red) 혼용시에는 2행×1열의 블랙매트릭스 오버레이 키(315) 내에 녹색 컬러필터 오버레이 키(320b)의 A가 배치되고, 청색(blue)와 혼용시에는 2행×9열의 블랙매트릭스 오버레이 키(315) 내에 녹색 컬러 필터 오버레이 키(320b)의 C가 배치된다.In addition, the green color filter overlay key 320b has three color
그리고, 청색 컬러필터 오버레이 키(320c)는 3행에 3개의 청색 컬러필터 오버레이 키(320c)를 3열, 6열, 9열에 배치하고, 3열을 A, 6열을 C라고 할 때, 정상일 경우는 3행×9열의 블랙매트릭스 오버레이 키(315) 내에 청색 컬러필터 오버레이 키(320c)의 C가 배치되고, 녹색(green)과 혼용시에는 3행×5열의 블랙매트릭스 오버레이 키(315) 내에 청색 컬러필터 오버레이 키(320c)의 B가 배치되고, 적색(red)과 혼용시에는 3행×1열의 블랙매트릭스 오버레이 키(315)에 청색 컬러필터 오버레이 키(320c)의 A가 배치된다.When the blue color
기존의 횡배열의 구조 테스트시에 오버레이키영역보다 작기 때문에 양산 적용에 문제가 없다.There is no problem in mass production because it is smaller than the overlay key area when testing the existing horizontal array.
또한, 모델에 따라 픽셀의 크기가 다르기 때문에 1 픽셀 단축의 크기에 따라 본 발명의 제1 및 2 실시예를 적용하면 R, G, B 혼용에 상관없이 오버레이 데이터를 지속적으로 안정적으로 측정할 수 있다.In addition, since the size of the pixel is different according to the model, when the first and second embodiments of the present invention are applied according to the size of one pixel shortening, overlay data can be continuously and stably measured regardless of mixing R, G, and B. .
한편, 상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.On the other hand, while described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art various modifications of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below And can be changed.
상기에서 설명한 바와같이, 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.As described above, according to the overlay key and the method of forming the liquid crystal display device according to the present invention has the following effects.
본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법은 R, G, B 마스크 혼용 가능한 설계를 통하여 오버레이키 (overlay key) 또는 더미키(dummy key) 적용시에 측정하던 데이터를 혼용여부에 관계없이 안정적으로 측정 및 관리할 수 있다.The overlay key of the liquid crystal display according to the present invention and a method of forming the same may be used to mix data measured when an overlay key or a dummy key is applied through an R, G, and B mask design. It can be measured and managed reliably regardless.
또한, 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법은 각 컬러필터층별 관리 데이터 정량화가 가능하고, 공정의 상태를 꾸준하게 관리하고 확인할 수 있다.In addition, the overlay key of the liquid crystal display device and the method of forming the liquid crystal display device according to the present invention can quantify the management data for each color filter layer, and can continuously manage and confirm the state of the process.
그리고, 본 발명에 따른 액정표시소자의 오버레이키 및 이를 형성하는 방법은 컬러필터층별 오버레이로 패턴 이동 발생시와 R, G, B의 단차 변동에 의한 단차 변동에 의한 체적 변동으로 인한 액정마진 변동을 예측 및 모니터링할 수 있어 관리치를 벗어 났을 경우 중력/미충진 발생을 최소화할 수 있다. In addition, the overlay key of the liquid crystal display device and the method for forming the same according to the present invention predict the liquid crystal margin variation due to the volume variation caused by the step difference caused by the step difference variation of R, G, and B as the overlay for each color filter layer. And monitoring, minimizing the occurrence of gravity / unfilled when out of control.
Claims (11)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060139105A KR101308751B1 (en) | 2006-12-29 | 2006-12-29 | Overlay key of liquid crystal display device and method of forming the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060139105A KR101308751B1 (en) | 2006-12-29 | 2006-12-29 | Overlay key of liquid crystal display device and method of forming the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080062917A KR20080062917A (en) | 2008-07-03 |
KR101308751B1 true KR101308751B1 (en) | 2013-09-12 |
Family
ID=39814983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060139105A Active KR101308751B1 (en) | 2006-12-29 | 2006-12-29 | Overlay key of liquid crystal display device and method of forming the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101308751B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11536883B2 (en) | 2019-10-07 | 2022-12-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Color conversion panel and display device including the same |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102593308B1 (en) | 2018-07-13 | 2023-10-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | Display device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020008646A (en) * | 2000-07-24 | 2002-01-31 | 구본준, 론 위라하디락사 | Alignment key Marking Method of Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display |
KR20030058235A (en) * | 2001-12-29 | 2003-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Method For Fabricating Liquid Crystal Display Device |
KR20030058215A (en) * | 2001-12-29 | 2003-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Test Method for Shift badness of Color Filter Panel for Liquid Crystal Display Device |
KR20060023454A (en) * | 2004-09-09 | 2006-03-14 | 삼성전자주식회사 | Display device and manufacturing method thereof |
-
2006
- 2006-12-29 KR KR1020060139105A patent/KR101308751B1/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020008646A (en) * | 2000-07-24 | 2002-01-31 | 구본준, 론 위라하디락사 | Alignment key Marking Method of Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display |
KR20030058235A (en) * | 2001-12-29 | 2003-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Method For Fabricating Liquid Crystal Display Device |
KR20030058215A (en) * | 2001-12-29 | 2003-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Test Method for Shift badness of Color Filter Panel for Liquid Crystal Display Device |
KR20060023454A (en) * | 2004-09-09 | 2006-03-14 | 삼성전자주식회사 | Display device and manufacturing method thereof |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11536883B2 (en) | 2019-10-07 | 2022-12-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Color conversion panel and display device including the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080062917A (en) | 2008-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101003829B1 (en) | CIO structure liquid crystal display device and manufacturing method thereof | |
WO2015100775A1 (en) | Method for exposing glass substrate of liquid crystal display | |
WO2017114098A1 (en) | Display substrate motherboard, manufacturing and detection method therefor and display panel motherboard | |
CN108681142A (en) | Manufacturing method of display panel | |
KR101308751B1 (en) | Overlay key of liquid crystal display device and method of forming the same | |
JP2008281919A (en) | Method of forming color filter forming substrate and color filter forming substrate | |
IE57546B1 (en) | Method of fabricating a photomask pattern | |
TWI514015B (en) | Method for exposing substrate of color filter | |
KR100812322B1 (en) | Inspection method, and manufacturing method for liquid crystal display using inspection method | |
WO2011086892A1 (en) | Method for exposing color filter base | |
WO2018205588A1 (en) | Mask and assembly thereof, exposure machine and method for inspecting shielding effect of test windows, and photoetching method | |
CN110716400B (en) | Display device | |
JPH10115702A (en) | Color filter with color slurring quantity confirmation mark | |
KR101600389B1 (en) | Color filter substrate and manufacturing method thereof | |
CN109212908B (en) | Method for determining position of shutter of exposure machine | |
JP2002098823A (en) | Method for measuring misalignment of exposure position during manufacturing color filter, and color filter | |
KR101144643B1 (en) | Method for Fabricating Color Filter Substrate Using and Photo Apparatus Thereof | |
JP2015022229A (en) | Production method and production apparatus of flat display device | |
KR100771358B1 (en) | Liquid crystal display device | |
CN114690473A (en) | Color filter substrate, liquid crystal cell and manufacturing method thereof | |
JP4435002B2 (en) | Accuracy measurement pattern, display panel manufacturing method, and display device manufacturing method | |
KR20060121423A (en) | Mask and manufacturing method of color filter substrate using same | |
TWI400529B (en) | Method of fabricating color filter substrate | |
KR20110126837A (en) | Photomask for Manufacturing Color Filter | |
KR101006008B1 (en) | Thin film transistor array substrate and manufacturing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20061229 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20111227 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20061229 Comment text: Patent Application |
|
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20130324 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20130826 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20130906 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20130909 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160816 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160816 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170816 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170816 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180816 Year of fee payment: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180816 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190814 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190814 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200814 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210818 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220816 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230816 Start annual number: 11 End annual number: 11 |