KR101276237B1 - 저온소결 전도성 금속막 및 이의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 저온소결 전도성 금속잉크 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는금속 나노콜로이드, 금속염 및 상기 금속염과 반응을 일으키는 고분자를 포함하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 막 또는 패턴 및 금속 나노콜로이드를 제조하는 단계(단계 1); 금속염 및 고분자를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계(단계 2); 상기 단계 1 및 단계 2에서 제조된 금속 나노콜로이드와 금속염/고분자 혼합물을 교반하여 금속잉크를 제조하는 단계(단계 3); 상기 단계 3에서 제조된 금속 잉크를 인쇄하는 단계(단계 4); 및 상기 단계 4의 인쇄물을 건조하고 열처리하는 단계(단계 5)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴은 종래의 은 나노 입자가 아닌 구리 나노 입자를 사용함으로써 제조단가가 낮은 효과가 있다. 또한, 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴은 소결온도가 낮은 효과가 있으며, 이에 따라 종래의 구리 나노 입자를 사용 시 소결온도가 높았던 종래의 문제점을 극복하여 플렉서블한 특징을 가지는 플라스틱 재질의 기판에 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴을 적용할 수 있는 효과가 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴은 종래의 은 나노 입자가 아닌 구리 나노 입자를 사용함으로써 제조단가가 낮은 효과가 있다. 또한, 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴은 소결온도가 낮은 효과가 있으며, 이에 따라 종래의 구리 나노 입자를 사용 시 소결온도가 높았던 종래의 문제점을 극복하여 플렉서블한 특징을 가지는 플라스틱 재질의 기판에 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴을 적용할 수 있는 효과가 있다.
Description
본 발명은 저온소결 전도성 금속막 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
최근 디스플레이, FPCB, RFID 등의 전극이나 회로를 구성하는 데 있어서 고신뢰성과 고전도성에 대한 요구가 증대되고 있으며, 디스플레이의 대화면화와 고효율, 고해상도에 대한 요구가 늘어남과 동시에 플렉서블한 기판을 사용하고자 하는 요구가 증대되고 있다. 또한, PDP, LCD 등 다양한 평판 디스플레이 시장에서의 치열한 경쟁은 전극 소재를 비롯한 소재의 원가절감과 공정비용을 줄이기 위한 노력으로 나타나고 있는 실정이다. 나아가 각종 휴대용 전자기기들의 소형화가 진행되면서, 이들 내부에 사용되는 칩도 보다 고밀도, 고집적의 형태로 제작될 것이 요구되고 있으며, 특히 배선형성을 위하여 미세패턴 형성기술의 개발이 주목되고 있다.
각종 전자기기에 들어가는 기판에서 배선 패턴 등의 도전층을 형성하는 방법 중 일반적으로 알려진 것은 금속을 도금하는 방법이다. 그 외 액상의 열경화성 수지 재료 중 도전성 분말이 분산된 도전 페이스트를 도포 또는 인쇄하여 기판에 배선을 형성한 후, 수지를 열경화시키는 방법도 사용되고 있으며, 금속의 초미립자를 유기 분산매 중에 균일하게 분산시킨 금속 초미립자 분산액을 반도체 기판 위에 도포한 후 가열함으로써 유기용매의 제거와 동시에 금속 초미립자를 융착시키는 박막 형성방법 등도 알려져 있다. 하지만 도금법의 경우 금속이온으로부터의 도금막 성장속도가 느리기 때문에, 두꺼운(약 10 μm 이상의 두께) 도전막, 도전층 또는 층간 단락부를 형성하기 위해서는 상당히 긴 시간이 요구되며, 이에 따라 생산성이 낮다는 문제점이 있다. 또한, 도전 페이스트나 금속 초미립자 분산액을 도포, 인쇄 등에 적용하여 도전층을 형성하는 방법은 도전층의 두께나 도전층의 형성 위치 등을 정밀 제어하는 것이 어렵다는 단점이 있다. 특히, 수지와 도전성 분말로 이루어지는 도전 페이스트는 비교적 고점도 (25 ℃에서 약 100 mpa·s)이기 때문에, 형성위치나 형상 등의 점에서 고정밀도의 도전층을 형성하기 어렵다. 나아가 금속 초미립자의 분산액의 점도를 낮추기 위하여 수지 성분을 포함시키지 않을 경우, 두꺼운 도전층을 형성시키고자 할 때 도전층에 금이 생기거나 기판에 대한 도전층의 밀착성도 낮아지게 되는 문제가 있다.
한편, 잉크젯 기술은 최근 디스플레이 산업 등의 대형화 및 공정단순화에 의한 생산성과 원가절감 및 새로운 산업분야의 창출을 추구하고 있는 시점에서 개발되어진 새로운 방식의 제조공정이다. 잉크젯 프린팅은 프린트헤드의 노즐로부터 나오는 젯팅(Jetting) 잉크로 패턴을 인쇄하는 비접촉 기술이다. 잉크젯 프린팅 기술에서 프린트헤드 기술은 많은 기술 발전이 있었으나, 잉크 설계는 아직까지 난제로 남아있다. 최적 구동조건 달성과 프린팅 시스템의 내구성, 최고의 인쇄 패턴을 얻기 위해서 잉크는 까다로운 물리화학적 특성에 부합되어야 하며, 금속잉크의 경우 무엇보다도 균일하고 안정한 금속 나노입자의 제조가 우선되어야 한다.
잉크젯용 금속잉크는 주로 미세도선이나 도전막 등을 형성하는 재료로서 입자크기가 수 내지 수십 나노미터 크기를 가지는 금속 나노입자가 이용된다. 최근 은 나노입자를 이용하여 금속잉크를 제조한 후 잉크젯 기술로 미세도선 등을 형성시키는 연구가 진행되고 있으나, 은 입자 사용으로 인한 고가의 생산비로 인하여 산업적 응용에 많은 제약이 따른다. 따라서 저가의 원료이면서 비교적 높은 전도도를 가지는 구리 나노입자의 필요성이 꾸준히 언급되고 있으나 구리의 낮은 안정성, 즉 높은 산화성으로 인해 안정한 구리 나노입자의 제조에 많은 어려움이 있으며 또한 나노입자 제조 시 입자의 성장이 매우 빨라 입도가 균일하고 안정한 구리 나노입자의 제조에 대한 개발은 아직 미미한 실정이다.
대한민국 등록특허 10-0911439호에서는 20 nm 이하의 나노 은 입자가 함유된 나노 은 콜로이드용액으로 분산제 및 분산용매를 첨가한 잉크젯용 수계 전도성 잉크가 개시되어 있다. 상기 은 나노 입자를 사용함으로써 안전적 측면과 환경적인 측면에서 취급이 쉽고, 저장 및 분산 안정성이 우수하며, 잉크젯 기법으로 프린팅이 가능한 전도성 잉크를 제조할 수 있는 효과가 있으나, 고가의 은을 사용함에 따라 제조단가가 높은 문제점이 있다.
대한민국 등록특허 10-0833869호에서는 구리 나노입자 및 은 나노입자가 혼합된 금속 나노입자 혼합물과 유기 용매를 포함하는 잉크 조성물이 개시되어 있다. 상기 구리 나노입자 및 은 나노입자가 혼합된 금속 나노입자 혼합물과 유기 용매를 포함하는 잉크 조성물은 은을 소재로 한 전도성 배선에서 전도도의 저하 없이 이온 마이그레이션 현상을 효과적으로 억제할 수 있는 효과가 있으나, 구리 나노입자를 사용함으로써 구리입자의 안정성을 확보해야하는 문제점이 있으며, 또한 구리의 높은 소결온도로 인하여 잉크의 인쇄 후 열처리가 고온에서 수행되어야 하는 문제점이 있다.
이에 본 발명자들은 상기 문제점을 극복하기 위하여 금속 나노 콜로이드, 금속염 및 고분자를 혼합하여 나노입자의 안정성을 구비한 금속잉크를 제조하고 이를 인쇄함으로써 낮은 소결온도를 나타내는 전도성 금속막을 개발하여 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 목적은 저온소결 전도성 금속막 및 이의 제조방법을 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 금속 나노콜로이드, 금속염 및 상기 금속염과 반응을 일으키는 고분자를 포함하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막 또는 패턴을 제공하고, 또한 금속 나노콜로이드를 제조하는 단계(단계 1); 금속염 및 고분자를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계(단계 2); 상기 단계 1 및 단계 2에서 제조된 금속 나노콜로이드와 금속염/고분자 혼합물을 교반하여 금속잉크를 제조하는 단계(단계 3); 상기 단계 3에서 제조된 금속 잉크를 인쇄하는 단계(단계 4); 및 상기 단계 4의 인쇄물을 열처리하는 단계(단계 5)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴은 종래의 은 나노 입자가 아닌 구리 나노 입자를 사용함으로써 제조단가가 낮은 효과가 있다. 또한, 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴은 소결온도가 낮은 효과가 있으며, 이에 따라 종래의 구리 나노 입자를 사용 시 소결온도가 높았던 종래의 문제점을 극복하여 플렉서블한 특징을 가지는 플라스틱 재질의 기판에 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴을 적용할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크를 나타낸 사진이고;
도 2는 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법을 개략적으로 나타낸 그림이고;
도 3은 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크 중 금속염/고분자 혼합물을 시차열분석한 그래프이고;
도 4는 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크 중 금속염/고분자 혼합물을 가열한 후 X-선 회절 분석을 수행한 그래프이고;
도 5는 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크 중 금속염/고분자 혼합물을 가열한 후 주사전자현미경을 통하여 관찰한 사진이고;
도 6은 본 발명에 따른 전도성 막을 주사전자현미경을 통하여 관찰한 사진이다.
도 2는 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법을 개략적으로 나타낸 그림이고;
도 3은 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크 중 금속염/고분자 혼합물을 시차열분석한 그래프이고;
도 4는 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크 중 금속염/고분자 혼합물을 가열한 후 X-선 회절 분석을 수행한 그래프이고;
도 5는 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크 중 금속염/고분자 혼합물을 가열한 후 주사전자현미경을 통하여 관찰한 사진이고;
도 6은 본 발명에 따른 전도성 막을 주사전자현미경을 통하여 관찰한 사진이다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은 금속 나노콜로이드, 금속염 및 상기 금속염과 반응을 일으키는 고분자를 포함하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막 또는 패턴을 제공한다. 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴에서 사용되는 상기 전도성 금속잉크의 사진을 도 1에 나타내었다.
본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크는 금속 나노콜로이드를 포함함으로써 금속 나노 입자의 안정성을 확보하였으며, 상기 전도성 금속잉크를 인쇄함으로써 낮은 소결온도를 나타내는 본 발명에 다른 전도성 금속막 또는 패턴을 제조할 수 있는 특징이 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴에 있어서, 상기 금속잉크의 구성요소인 금속 나노콜로이드는 구리 또는 알루미늄으로 구성되는 군으로부터 선택되는 전도성 금속입자를 포함한다. 상기 전도성 금속입자들은 높은 전기 전도도를 나타내는 금속들로써 나노콜로이드 형태로 존재함으로써, 응집과 같은 문제점을 극복하고 안정적인 형태로 존재하는 효과가 있다.
이때, 상기 전도성 금속입자의 크기는 1 내지 500 nm 인 것이 바람직하다.
만약, 상기 전도성 금속입자의 크기가 1 nm 미만인 경우 금속 나노콜로이드로의 제조가 어려운 문제점이 있으며, 전도성 금속입자의 크기가 500 nm를 초과하는 경우에는 분산성이 떨어지고 소결 시 높은 소결온도가 요구되는 문제점이 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴에 있어서, 상기 금속 나노콜로이드는 0.1 내지 80 중량%의 전도성 금속을 포함하는 것이 바람직하다.
만약 금속 나노콜로이드가 0.1 중량% 미만의 전도성 금속을 포함하는 경우 잉크 내 금속 입자 부족으로 인하여 본 발명에 따른 전도성 금속막 및 패턴의 전기 전도도가 떨어지는 문제점이 있으며, 80 중량%를 초과하는 전도성 금속을 포함하는 경우 유동성이 좋지 않아 전도성 금속막 또는 패턴으로의 인쇄성이 떨어지는 문제점이 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴에 있어서, 상기 금속잉크의 구성요소인 금속염은 금속유기물, 금속 질화물 및 금속염화물을 포함하는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 상기 금속화합물을 포함함으로써 상기 금속화합물로부터 전도성 금속 원자를 석출해내는 효과가 있으며, 상기 전도성 금속 원자는 금속 나노입자들 사이를 채움으로써 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 전기 전도도를 향상시키는 효과가 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴에 있어서, 상기 금속잉크의 금속염과 반응을 일으키는 고분자는 폴리비닐 피롤리돈, 에틸렌 디아민 및 디에틸렌 아민을 포함하는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 상기 고분자들은 소결온도가 높은 구리입자의 문제점을 극복하여 낮은 소결온도를 가지는 전도성 금속잉크를 제조할 수 있게 하는 효과가 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴에 있어서, 상기 금속잉크는 점도조절제를 더 포함할 수 있다. 상기 점도조절제를 포함함으로써 본 발명에서 사용되는 전도성 금속잉크의 점도를 조절할 수 있으며, 이에 따라 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 인쇄시 기판으로의 접착성이 우수한 효과가 있다.
본 발명에 따른 전도성 패턴 또는 전도성 금속막의 인쇄는 그라비아 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 임프린트(imprint) 및 스핀코팅을 포함하는 군으로부터 선택되는 방법으로 수행될 수 있다. 상기 인쇄방법들은 기존의 패턴 또는 막을 제조하는 방법과 달리 잉크를 인쇄하는 하나의 공정을 통하여 패턴 또는 막을 제조할 수 있는 특징이 있다. 이에 따라 본 발명에 따른 전도성 패턴 또는 전도성 금속막의 인쇄가 원스텝(one-step) 공정으로 수행되는 효과가 있다.
또한 본 발명은 금속 나노콜로이드를 제조하는 단계(단계 1);
금속염 및 고분자를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계(단계 2);
상기 단계 1 및 단계 2에서 제조된 금속 나노콜로이드와 금속염/고분자 혼합물을 교반하여 금속잉크를 제조하는 단계(단계 3);
상기 단계 3에서 제조된 금속 잉크를 인쇄하는 단계(단계 4); 및
상기 단계 4의 인쇄물을 열처리하는 단계(단계 5)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법을 제공한다. 상기 제조방법의 개략적인 순서를 도 2에 나타내었다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법 중 단계 1은 금속 나노콜로이드를 제조하는 단계이다. 상기 단계 1의 금속 나노콜로이드는 전도성 금속 입자가 콜로이드상태로 분산되어 있어 분산성이 우수하며, 안정적으로 나노입자를 포함하여 저장안정성이 우수한 특징이 있다. 이때, 상기 금속 나노콜로이드는 전기선 폭발법을 이용하여 제조되는 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다.
금속 나노 입자의 제조에서 가장 중요한 것은 오염되지 않는 고순도의 입자를 경제적인 방법으로 제조하는 것과 제조된 입자를 오염 없이 후속 처리하는 것이다. 상기 전기선 폭발법은 오염 없이 금속 나노 입자를 제조할 수 있으며, 이에 따라 상기 나노콜로이드가 고순도의 전도성 금속 나노 입자를 포함하는 효과가 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법 중 단계 2는 금속염 및 고분자를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계이다. 상기 단계 2의 금속염은 금속유기물, 금속 질화물 및 금속염화물을 포함하는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하며, 상기 금속화합물을 포함함으로써 금속화합물로부터 전도성 금속 원자를 석출해내는 효과가 있으며, 석출된 전도성 금속 원자는 금속 나노입자들 사이를 채움으로써 본 발명에 따라 제조되는 전도성 금속막 또는 패턴의 전기 전도도를 향상시키는 효과가 있다.
또한 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법 중 단계 2의 고분자는 금속염과 반응을 일으키는 고분자들로써 폴리비닐 피롤리돈, 에틸렌 디아민 및 디에틸렌 아민을 포함하는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법 중 단계 2에서 금속염과 고분자가 혼합되는 농도는 0.01 내지 1 mol인 것이 바람직하며, 상기 농도의 금속염 및 고분자는 바람직하게는 정제수(De-mineralized water)에 각각 첨가되어 혼합된다.
만약 상기 금속염 및 고분자가 0.01 mol 미만의 농도로 혼합되는 경우 충분한 양의 구리원자가 석출되지 않아 나노콜로이드에 포함된 전도성 금속 입자 사이를 채워주지 못하여 전기 전도성이 떨어지는 문제점이 있으며, 상기 금속염 및 고분자가 1 mol 을 초과하는 농도로 혼합되는 경우 본 발명에 따른 제조방법에서 사용되는 전도성 금속 잉크의 점도가 높아져서 전도성 금속막 또는 패턴으로의 인쇄에 적합하지 않은 문제점이 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법 중 단계 3은 상기 단계 1 및 단계 2에서 제조된 금속 나노콜로이드와 금속염/고분자 혼합물을 교반하여 금속잉크를 제조하는 단계이다. 상기 단계 3의 교반은 본 발명의 금속 나노콜로이드와 금속염/고분자 혼합물을 완전히 분산시킬 수 있는 장치 또는 방법으로 수행된다. 상기 단계 3의 교반을 통하여 본 발명의 전도성 막 또는 패턴을 인쇄할 수 있는 전도성 금속잉크를 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법 중 단계 4는 상기 단계 3에서 제조된 금속잉크를 인쇄하는 단계이다. 상기 단계 4의 인쇄를 통해서 전도성 금속막 또는 패턴 모양을 형성시킬 수 있다. 이때, 상기 단계 4의 인쇄는 그라비아 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 임프린트(imprint) 및 스핀코팅을 포함하는 군으로부터 선택되는 방법으로 수행될 수 있다. 상기 인쇄방법들은 기존의 패턴 또는 막을 제조하는 방법과 달리 잉크를 인쇄하는 하나의 공정을 통하여 패턴 또는 막을 제조할 수 있는 특징이 있다. 이에 따라 본 발명에 따른 전도성 패턴 또는 전도성 금속막을 원스텝(one-step) 공정으로 형성시키는 효과가 있다.
또한, 상기 단계 4의 인쇄는 아르곤, 수소 및 공기로 이루어진 군으로부터 선택되는 가스 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 상기 아르곤, 수소가스 분위기에서 단계 4의 인쇄가 수행됨으로써 금속막의 산화 방지 효과가 있으며, 소결 온도 및 소결 시간 등의 변수 제어를 통하여 공정비용을 절감 할 수 있다.
본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법 중 단계 5는 상기 단계 4에서 인쇄된 전도성 금속잉크를 열처리하는 단계이다. 이때, 상기 열처리는 100 내지 500 ℃의 온도에서 수행되는 것이 바람직하다. 만약 상기 열처리가 100 ℃ 미만의 온도에서 수행되는 경우, 패턴 또는 막 내부에 잔류물이 남는 문제점 및 기판에 대한 접착성이 떨어지는 문제점이 있으며, 500 ℃를 초과하는 온도에서 열처리가 수행되는 경우 기판이 손상되거나, 인쇄된 패턴이 수축되는 문제가 있으며, 또한 과도하게 높은 온도로 인한 경제적인 손실이 생기는 문제점이 있다.
상기 온도 범위로 열처리를 함으로써 기판과의 접촉력이 우수하며, 전도성 금속의 치밀도가 높은 본 발명에 따른 금속막 또는 패턴을 제조할 수 있으며, 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴의 제조방법으로 제조된 금속막 또는 패턴이 다양한 분야의 전자소자에 적용되는 효과가 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 통해 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것일 뿐, 하기 실시예에 의하여 본 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니다.
<제조예 1> 전도성 금속잉크의 제조 1
단계 1: 직경 0.1 mm의 구리선을 무수알콜에 담지하고, 상기 무수알콜에 2000 V의 전압을 10초 간격으로 300회 인가하여 구리 나노콜로이드를 제조하였다.
단계 2: 질산구리 0.1 mol과 폴리비닐피롤리돈 0.1 mol 각각을 정제수 5 ml에 혼합하여 금속염/고분자 혼합물 10 ml를 제조하였다.
단계 3: 상기 단계 1 및 단계 2에서 제조된 구리 나노콜로이드와 금속염/고분자 혼합물을 교반하여 전도성 금속잉크를 제조하였다.
<제조예 2> 전도성 금속잉크의 제조 2
상기 제조예 1의 단계 2에서 폴리비닐피롤리돈 대신 에틸렌디아민을 사용한 것을 제외하고는 상기 제조예 1과 동일하게 수행하여 전도성 금속잉크를 제조하였다.
<제조예 3> 전도성 금속잉크의 제조 3
상기 제조예 1의 단계 2에서 폴리비닐피롤리돈 대신 디에틸렌 아민을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일하게 수행하여 전도성 금속잉크를 제조하였다.
<실시예 1> 전도성 막의 제조 1
단계 1: 상기 제조예 1을 통해 제조된 전도성 금속잉크를 알루미나기판 상에 스포이드를 사용하여 적하시킨 후 80℃에서 12시간 건조하여 막을 제조하였다.
단계 2: 상기 단계 1에서 제조된 막을 300 ℃의 온도에서 30분간 열처리하여 전도성 막을 제조하였다.
<실시예 2> 전도성 막의 제조 2
상기 제조예 2에서 제조된 금속잉크를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하여 전도성 막을 제조하였다.
<실시예 3> 전도성 막의 제조 3
상기 제조예 3에서 제조된 금속잉크를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하여 전도성 막을 제조하였다.
<실험예 1> 금속염/고분자 혼합물의 특성 측정
(1) 시차열분석 측정
본 발명의 전도성 금속잉크에 있어서 금속염/고분자 혼합물의 온도에 따른 질량변화 및 반응 거동을 관찰하기 위하여 하기와 같은 실험을 수행하였다.
본 발명에 따른 제조예 1 내지 3의 단계 2에서 제조된 금속염/고분자 혼합물과 질산구리 금속염을 시차열분석장치를 이용하여 분석하였고, 상기 분석의 결과는 도 3에 나타내었다.
도 3에 나타낸 바와 같이 제조예 1 내지 3의 단계 2에서 제조된 금속염/고분자 혼합물은 약 300 ℃ 이하의 온도에서 중량이 급격하게 감소하는 것을 알 수 있다. 또한, 중량이 감소하는 온도에서 흡열 또는 발열 피크가 생기는 것을 알 수 있다. 이를 통하여 본 발명에 따른 전도성 막 또는 패턴은 300 ℃ 이하의 온도에서 소결 처리될 수 있음을 알 수 있으며, 종래의 소결온도가 높았던 문제점을 극복하였음을 알 수 있다.
(2) X-선 회절 분석
본 발명의 전도성 금속잉크에 있어서 금속염/고분자 혼합물의 열처리 후 결정구조를 관찰하기 위하여 하기와 같은 실험을 수행하였다.
제조예 1 내지 3의 단계 2에서 제조된 금속염/고분자 혼합물과 질산구리 금속염을 300 ℃의 온도에서 30분간 열처리한 후 X-선 회절 분석장치를 이용하여 분석하였고, 상기 분석의 결과는 도 4에 나타내었다.
도 4에 나타낸 바와 같이 제조예 1 내지 3의 단계 2에서 제조된 금속염/고분자 혼합물은 300 ℃ 의 온도에서 열처리된 후 모두 큐빅(cubic)상의 구리가 존재하는 것을 알 수 있었다. 이를 통하여 금속염/고분자 혼합물을 열처리한 후 고분자는 제거되고 전도성 금속 원자만이 잔류하는 것을 알 수 있으며, 본 발명에 따른 전도성 막 또는 패턴이 상기 전도성 잉크를 사용함으로써 높은 전기전도도를 가질 수 있음을 알 수 있다.
(3) 주사전자현미경 관찰
본 발명의 전도성 금속잉크에 있어서 금속염/고분자 혼합물의 열처리 후 미세구조를 관찰하기와 같은 실험을 수행하였다.
제조예 1 내지 3의 금속염/고분자 혼합물과 질산구리 금속염을 300 ℃의 온도에서 30분간 열처리한 후 전계방사형 주사전자현미경으로 관찰하였고, 그 결과는 도 5에 나타내었다.
도 5에 나타낸 바와 같이 질산구리 금속염은 아직 분해가 완료되지 않은 구리염 및 고분자 상태를 보이고 있으나, 제조예 1 내지 3의 금속염/고분자 혼합물은금속염과 고분자가 서로 반응을 일으켜 도 5에 나타낸 바와 같이 모두 분해되어 구리 나노입자, 구리막 및 소결로 인한 neck가 형성되어 소결이 진행되었음을 알 수 있다. 이를 통해서 본 발명에 따른 전도성 금속막 또는 패턴이 금속잉크의 인쇄를 통하여 제조됨으로써 전기전도성을 나타낼 수 있음을 확인하였다.
<실험예 2> 전도성 막의 특성 분석
(1)주사전자현미경 관찰
본 발명에 따른 전도성 금속잉크로 인쇄된 막의 표면을 관찰하기 위하여 하기와 같은 실험을 수행하였다.
본 발명에 따른 실시예 1 내지 3에서 제조된 전도성 막을 전계방사형 주사전자현미경으로 관찰하였고, 그 결과는 도 6에 나타내었다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 3에서 제조된 전도성 막은 구리 나노입자들이 분산이 잘 되어 있는 상태로 존재하는 것을 알 수 있으며, 막의 구성이 치밀한 것을 알 수 있었다. 이를 통하여 본 발명에 따른 전도성 금속막이 치밀한 구조를 가짐으로써 다양한 전기소자에 적용되어 우수한 특성을 나타낼 수 있음을 확인하였다.
(2)전기전도도 측정
본 발명에 따른 전도성 금속잉크로 인쇄된 막의 전기전도도를 측정하기 위하여 본 발명에 따른 실시예 3을 통해 제조된 전도성 막의 전기전도도를 측정하였고, 그 결과는 하기에 나타내었다.
본 발명에 따른 실시예 3을 통해 제조된 전도성 막은 65 mΩ/sq. 의 우수한 전기전도도를 나타내는 것을 알 수 있었다. 이를 통하여 본 발명에 따른 전도성 금속막이 우수한 전기전도도를 가짐으로써 다양한 전기소자에 적용될 수 있음을 확인하였다.
Claims (16)
- 구리 나노콜로이드;
구리염; 및
폴리비닐피롤리돈, 에틸렌 디아민, 및 디에틸렌아민을 포함하는 군으로부터 선택되고, 상기 구리염과 반응을 일으킬 수 있는 고분자;를 포함하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 구리 나노콜로이드는 1 내지 500 nm 크기인 금속입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막.
- 제1항에 있어서, 상기 구리 나노 콜로이드의 구리 함유량은 0.1 내지 80 중량%인 것을 특징으로 하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막.
- 제1항에 있어서, 상기 구리염은 구리유기물, 구리 질화물 및 구리염화물을 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 금속잉크는 점도조절제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막.
- 제1항에 있어서, 상기 전도성 금속잉크의 인쇄는 그라비아 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 임프린트(imprint) 및 스핀코팅을 포함하는 군으로부터 선택되는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 금속잉크를 인쇄하여 제조되는 전도성 금속막.
- 구리 나노콜로이드를 제조하는 단계(단계 1);
구리염 및 고분자를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계(단계 2);
상기 단계 1 및 단계 2에서 제조된 구리 나노콜로이드와 구리염/고분자 혼합물을 교반하여 금속잉크를 제조하는 단계(단계 3);
상기 단계 3에서 제조된 금속 잉크를 인쇄하는 단계(단계 4); 및
상기 단계 4의 인쇄물을 열처리하는 단계(단계 5)를 포함하는 것을 특징으로 하는 제1항의 전도성 금속막의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 단계 1의 구리 나노콜로이드는 전기선 폭발법을 통하여 제조되는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 단계 2의 구리염 및 고분자가 혼합되는 농도는 0.01 내지 1 mol 인 것을 특징으로 하는 전도성 금속막의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 단계 4의 인쇄는 그라비아 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 임프린트(imprint) 및 스핀코팅을 포함하는 군으로부터 선택되는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 단계 4의 인쇄는 아르곤, 수소 및 공기로 이루어진 군으로부터 선택되는 가스 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 단계 5의 열처리는 100 내지 500 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 전도성 금속막은 패턴이 형성된 금속막인 것을 특징으로 하는 전도성 금속막.
- 제9항에 있어서, 상기 단계 4의 인쇄를 통해 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 전도성 금속막의 제조방법.
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