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KR101231428B1 - Placing mechanism, transport method of wafer having dicing frame and computer readable recording medium having program for transporting wafer used for this method - Google Patents

Placing mechanism, transport method of wafer having dicing frame and computer readable recording medium having program for transporting wafer used for this method Download PDF

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KR101231428B1
KR101231428B1 KR1020100090510A KR20100090510A KR101231428B1 KR 101231428 B1 KR101231428 B1 KR 101231428B1 KR 1020100090510 A KR1020100090510 A KR 1020100090510A KR 20100090510 A KR20100090510 A KR 20100090510A KR 101231428 B1 KR101231428 B1 KR 101231428B1
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KR
South Korea
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wafer
dicing frame
mounting table
placement
sheet
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KR1020100090510A
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Korean (ko)
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KR20110031885A (en
Inventor
무네토시 나가사카
이쿠오 오가사와라
Original Assignee
도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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    • H10P72/0442
    • H10P72/0446
    • H10P72/7402
    • H10P72/7612
    • H10P95/11

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 배치대로부터 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 반송하는 초기 단계에서 배치대와 시트 사이에서 발생하는 박리대전을 억제할 수 있는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법은, 승강 구동 기구를 이용하여 배치대(11)를 일정한 제1 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체(13)를 복수의 지지체(12)에 작용시켜 제1 속도로 다이싱 프레임(DF)을 들어 올려 웨이퍼(W)가 고정된 시트(F)를 배치대(11)로부터 제1 위치까지 이격시키는 제1 공정과, 승강 구동 기구를 이용하여 배치대(11)를 제1 속도보다 빠른 일정한 제2 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체(13)를 복수의 지지체(12)에 작용시켜 제2 속도로 다이싱 프레임(DF)을 들어 올려 웨이퍼가 고정된 시트(F)를 배치대로부터 제2 위치까지 이격시키는 제2 공정을 포함하고 있다.
An object of the present invention is to provide a method for conveying a wafer having a dicing frame which can suppress peeling charges generated between the placing table and the sheet in the initial stage of conveying the wafer having the dicing frame from the mounting table.
In the wafer conveyance method having the dicing frame of the present invention, the first working body 13 is attached to the plurality of supports 12 by lowering the mounting table 11 at a constant first speed by using a lift drive mechanism. By using the first step to lift the dicing frame (DF) at a first speed to separate the sheet (F) on which the wafer (W) is fixed from the mounting table 11 to the first position, and the lifting drive mechanism By lowering the mounting table 11 at a constant second speed faster than the first speed, the first working body 13 is applied to the plurality of supports 12 to lift the dicing frame DF at the second speed. And a second step of separating the sheet F on which the wafer is fixed from the mounting table to the second position.

Description

배치 기구, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법 및 이 반송 방법에 이용되는 웨이퍼 반송용 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체{PLACING MECHANISM, TRANSPORT METHOD OF WAFER HAVING DICING FRAME AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM HAVING PROGRAM FOR TRANSPORTING WAFER USED FOR THIS METHOD}A computer-readable recording medium that records a batch mechanism, a wafer conveying method having a dicing frame, and a wafer conveying program used in the conveying method. WAFER USED FOR THIS METHOD}

본 발명은 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 배치하는 배치 기구, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법 및 반송 방법에 이용되는 웨이퍼 반송용 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체에 관한 것이며, 더 자세하게는, 배치 기구에 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 배치하고, 웨이퍼의 전기적 특성을 검사한 후, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 배치 기구로부터 박리할 때에 발생하는 박리대전(剝離帶電)을 억제할 수 있는 배치 기구, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법 및 이 반송 방법에 이용되는 웨이퍼 반송용 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체에 관한 것이다.The present invention relates to a placement mechanism for placing a wafer having a dicing frame, a method for carrying a wafer having a dicing frame, and a computer readable recording medium for recording a wafer transfer program used in the transfer method. A placement mechanism capable of suppressing peeling charges generated when the wafer having a dicing frame is placed in the mechanism and inspecting the electrical characteristics of the wafer and then peeling the wafer having the dicing frame from the placement mechanism, A method of conveying a wafer having a dicing frame and a computer-readable recording medium on which a wafer transfer program used in the conveying method is recorded.

반도체 제조 공정에서 제조된 디바이스의 검사 방법으로서, 예컨대 복수의 디바이스가 형성된 웨이퍼를 검사 장치에 공급하고, 웨이퍼 상태 그대로 각 디바이스의 전기적 특성을 검사하는 방법이 있다. 이 종류의 검사 장치는, 예컨대 웨이퍼를 카세트 단위로 수납하고, 검사를 위해 웨이퍼를 반송하는 로더실과, 로더실로부터 웨이퍼를 수취하여 웨이퍼의 전기적 특성을 검사하는 프로버실을 구비하고 있다.As a method of inspecting a device manufactured in a semiconductor manufacturing process, for example, there is a method of supplying a wafer on which a plurality of devices are formed to an inspection apparatus and inspecting electrical characteristics of each device as it is in a wafer state. An inspection apparatus of this kind is provided with a loader chamber for storing wafers in cassette units, for example, for conveying wafers for inspection, and a prober chamber for receiving wafers from the loader chamber and inspecting electrical characteristics of the wafers.

로더실은 웨이퍼를 반송하기 위한 웨이퍼 반송 기구와, 웨이퍼의 방향을 일정 방향으로 정렬하기 위한 프리얼라인먼트 기구를 구비하고, 웨이퍼 반송 기구가 웨이퍼를 프로버실에 반송하는 도중에 프리얼라인먼트 기구에 의해 웨이퍼를 일정 방향으로 정렬한 후, 웨이퍼를 프로버실에 인도한다. 프로버실은, 웨이퍼를 배치하는 이동가능한 배치대와, 배치대 위쪽에 배치된 프로브 카드와, 웨이퍼의 전극 패드와 프로브 카드의 프로브와의 위치를 맞추는 얼라인먼트 기구를 구비하고, 배치대와 얼라인먼트 기구가 협동하여 배치대 위의 웨이퍼와 프로브 카드의 위치를 맞춘 후, 배치대를 이동시켜 웨이퍼와 프로브 카드를 전기적으로 접촉시키고 웨이퍼의 전기적 특성을 검사한 후, 웨이퍼를 로더실에 복귀시킨다.The loader chamber includes a wafer transfer mechanism for transporting the wafer and a prealignment mechanism for aligning the direction of the wafer in a predetermined direction, and the wafer transfer mechanism moves the wafer by the prealignment mechanism while the wafer transfer mechanism transfers the wafer to the prober chamber. After aligning, the wafer is delivered to the prober chamber. The prober chamber includes a movable mounting table for placing the wafer, a probe card disposed above the mounting table, and an alignment mechanism for aligning the electrode pad of the wafer with the probe of the probe card. After cooperating to position the wafer and the probe card on the placement table, the placement table is moved to electrically contact the wafer and the probe card, inspect the electrical properties of the wafer, and then return the wafer to the loader chamber.

최근, 디바이스의 미세화 및 박형화에 따라 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 검사 장치에 공급하고, 웨이퍼의 전기적 특성을 검사하는 경우가 있다. 여기서, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼란, 다이싱 프레임의 시트 위에 점착 고정된 웨이퍼를 말한다. 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼에는 예컨대 도 3에 도시하는 배치 기구가 사용된다.In recent years, with the miniaturization and thinning of a device, a wafer having a dicing frame is supplied to an inspection apparatus, and the electrical characteristics of the wafer may be inspected. Here, the wafer which has a dicing frame means the wafer adhesively fixed on the sheet | seat of a dicing frame. The placement mechanism shown in FIG. 3 is used for the wafer which has a dicing frame, for example.

그래서, 도 3의 (a)∼(c)에 기초하여 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 검사에 사용되는 배치 기구에 대해서 설명한다. 또한, 도 3의 (a)∼(c)는 배치 기구를 사용하여 웨이퍼를 검사한 후, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 배치 기구로부터 로더실에 반송하는 방법의 초기 단계를 도시하고 있다. 이 배치 기구는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 배치하는 배치대(1)와, 배치대(1)의 외주면을 따라 미리 정해진 간격을 두고 부착된 복수의 실린더 기구(2)를 구비하고 있다. 실린더 기구(2)는 실린더 본체(2A)와, 실린더 본체(2A)의 상면에서 신축하는 로드(2B)와, 로드 선단에 형성되며 다이싱 프레임(DF)을 흡착 고정하는 지지부(2C)를 갖고 있다. 그리고, 웨이퍼(W)의 검사시에, 웨이퍼(W)는 시트(F)를 통해 배치대(1)의 배치면 위에 흡착 고정되고, 다이싱 프레임(DF)은 실린더 기구(2)의 로드(2B)가 가장 수축되었을 때의 지지부(2C)에 흡착 고정되어 있다.Then, the arrangement | positioning mechanism used for the inspection of the wafer which has a dicing frame based on FIG.3 (a)-(c) is demonstrated. 3 (a) to 3 (c) show an initial step of a method of conveying a wafer DFW having a dicing frame from the placement mechanism to the loader chamber after inspecting the wafer using the placement mechanism. . As shown in FIG. 3, the arrangement mechanism includes a mounting table 1 on which a wafer DFW having a dicing frame is arranged, and a plurality of attachments at predetermined intervals along the outer circumferential surface of the mounting table 1. The cylinder mechanism 2 is provided. The cylinder mechanism 2 has a cylinder body 2A, a rod 2B that extends and contracts from an upper surface of the cylinder body 2A, and a support portion 2C formed at the tip of the rod and suction-fixing the dicing frame DF. have. At the time of inspection of the wafer W, the wafer W is sucked and fixed on the mounting surface of the mounting table 1 via the sheet F, and the dicing frame DF is loaded with the cylinder mechanism 2 ( 2B) is attracted and fixed to the support part 2C when it contracts most.

그리고, 검사 후에 웨이퍼(W)를 배치대(1)로부터 로더실측에 반송할 때에, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 웨이퍼 반송 기구에 인도하기 위해, 웨이퍼(W)를 배치대(1)의 배치면으로부터 일정한 치수만큼 들어 올린다. 이 때, 실린더 기구(2)가 구동하여 도 3의 (a)에 도시하는 상태로부터 로드(2B)를 연장시켜 지지부(2C)의 지지면이, 도 3의 (b)에 도시하는 배치대(1)의 배치면 높이를 초과하며, 로드(2B)가 더 연장되면 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)의 시트(F)가 배치면으로부터 박리되고, 미리 정해진 치수만큼 이격되어 정지한다. 이때의 웨이퍼(W)와 배치면 사이에 생기는 간극에 웨이퍼 반송 기구의 아암이 진출하고, 아암에 의해 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 로더실측에 반송한다.And when conveying the wafer W from the mounting table 1 to the loader chamber side after an inspection, in order to guide the wafer DFW which has a dicing frame to a wafer conveyance mechanism, the wafer W is placed on the mounting table 1. Lift a certain dimension from the placement surface of the. At this time, the cylinder mechanism 2 is driven to extend the rod 2B from the state shown in Fig. 3A so that the support surface of the support portion 2C shows the mounting table shown in Fig. 3B ( It exceeds the height of the mounting surface of 1), and when the rod 2B is further extended, the sheet F of the wafer DFW having the dicing frame is peeled off from the mounting surface and stopped by a predetermined dimension. The arm of the wafer conveyance mechanism advances into the gap which arises between the wafer W and the arrangement surface at this time, and the arm conveys the wafer DFW which has a dicing frame to the loader chamber side.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2004-067369호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2004-067369 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2006-049391호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-049391

그러나, 도 3의 (b)부터 (c)에 도시하는 바와 같이 실린더 기구(2)에 의해 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 들어 올려 웨이퍼(W)를 배치대(1)의 배치면으로부터 박리할 때에 시트(F)에 박리대전이 발생하고, 그 때의 정전기로 웨이퍼(W) 디바이스의 배선 구조가 손상될 우려가 있었다. 이러한 사태를 방지하기 위해 이온화 장치를 이용하여 이온을 도 3에 화살표 A로 도시하는 바와 같이 조사하여 시트(F)에서의 대전량을 경감시키고 있지만, 충분하지 않은 경우가 있다. 또한 이때의 박리대전량은 3 KV∼5 KV 정도에 도달하는 경우가 있다.However, as shown in Figs. 3B to 3C, when the wafer having a dicing frame is lifted by the cylinder mechanism 2 and the wafer W is peeled off from the mounting surface of the mounting table 1, There existed a possibility that peeling charge generate | occur | produced in the sheet | seat F, and the wiring structure of the wafer W device was damaged by the static electricity at that time. In order to prevent such a situation, although the ion is irradiated using the ionizer as shown by arrow A in FIG. 3, the charge amount in the sheet | seat F is reduced, but it may not be enough. In addition, the peeling charge amount at this time may reach 3 KV-about 5 KV.

박리대전을 경감시키는 방법은, 예컨대 특허문헌 1, 2에 기재되어 있다. 특허문헌 1에는 배치부로부터 판형 부재를 이동시킬 때에, 배치부를 여진(勵振)시키는 것에 의해 생기는 음파의 방사압을 이용하여 판형 부재를 배치부로부터 부양시켜 판형 부재의 박리대전을 억제하는 방법에 대해서 기재되어 있다. 그러나, 이 방법은, 음파에 방사압을 발생시키는 기구가 복잡하다. 또한 특허문헌 2에는 제전기를 사용하면서, 승강 부재를 이용하여 기판의 적어도 일부가 스테이지로부터 떨어진 제1 정지 위치에서 기판의 상승을 정지시키고, 1회 이상, 제1 정지 위치보다 높은 제2 정지 위치에서 기판의 상승을 정지시키는 것에 의해, 기판에서의 박리대전을 경감시키는 방법이 기재되어 있다. 이 방법은 간편하지만, 이 특허문헌 2에는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 배치면으로부터 박리하는 방법에 대해서 전혀 언급되어 있지 않다. 또한, 특허문헌 1에도 특허문헌 2와 마찬가지로 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼에 대해서 언급되어 있지 않다.The method of reducing peeling charge is described in patent document 1, 2, for example. Patent Literature 1 discloses a method of suppressing peeling charging of a plate member by lifting the plate member from the placement portion by using the radial pressure of sound waves generated by exciting the placement portion when the plate member is moved from the placement portion. It is described. However, this method has a complicated mechanism for generating radial pressure in sound waves. In addition, Patent Literature 2 stops the rising of the substrate at a first stop position where at least a part of the substrate is separated from the stage by using a lifting member while using the elevating member, and at least one second stop position higher than the first stop position. A method of reducing the peeling charge on a substrate by stopping the rise of the substrate is described. This method is simple, but this patent document 2 does not mention the method of peeling the wafer which has a dicing frame from a placement surface at all. In addition, patent document 1 does not mention the wafer which has a dicing frame like patent document 2, either.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 배치대로부터 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 반송하는 초기 단계에서 배치대와 시트 사이에서 발생하는 박리대전을 억제할 수 있는 배치 기구, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법 및 이 반송 방법에 이용되는 웨이퍼 반송용 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and includes a placement mechanism and a dicing frame capable of suppressing peeling charges generated between the placement table and the sheet in an initial step of conveying a wafer having a dicing frame from the placement table. It is an object of the present invention to provide a computer-readable recording medium on which a wafer transfer method and a wafer transfer program used in the transfer method are recorded.

본 발명자들은, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 배치대로부터 박리할 때의 박리대전에 대해서 검토한 결과, 종래의 배치 기구에서의 실린더 기구를 이용하여 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 배치대로부터 박리하는 방법에서는, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 상승 속도가 불안정하고, 상승 속도를 임의로 설정할 수 없기 때문에 박리대전량을 충분히 억제할 수 없는 것을 알았다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors examined the peeling charge at the time of peeling the wafer with a dicing frame from a mounting table, and, as a result, the method of peeling the wafer with a dicing frame from a mounting table using the cylinder mechanism in a conventional placement mechanism. In the above, it was found that the rising speed of the wafer having the dicing frame was unstable and the peeling charge amount could not be sufficiently suppressed because the rising speed could not be arbitrarily set.

본 발명은 상기 지견에 기초하여 이루어진 것으로, 청구항 1에 기재된 배치 기구는, 다이싱 프레임의 시트에 고정된 웨이퍼를 배치하는 배치대와, 상기 배치대를 승강시키는 승강 구동 기구와, 상기 다이싱 프레임을 하면으로부터 지지하며 상기 배치대의 외주면을 따라 미리 정해진 간격을 두고 상기 배치대에 대하여 상대적으로 승강할 수 있게 배치되는 복수의 지지체와, 상기 배치대가 하강할 때에 복수의 상기 지지체에 작용하여 상기 다이싱 프레임을 들어 올려 상기 웨이퍼가 고정된 시트를 상기 배치대로부터 이격시키는 제1 작용체를 포함하고, 컴퓨터의 제어하에서 상기 승강 구동 기구를 구동 제어하는 것을 특징으로 하는 것이다.This invention was made based on the said knowledge, The arrangement | positioning mechanism of Claim 1 is a mounting table which arrange | positions the wafer fixed to the sheet | seat of a dicing frame, the elevating drive mechanism which raises and lowers the said mounting table, and the said dicing frame. A plurality of supports which are supported from a lower surface and arranged to be relatively elevated with respect to the mounting table at predetermined intervals along the outer circumferential surface of the mounting table; And a first working body for lifting the frame to separate the sheet on which the wafer is fixed from the mounting table, and controlling the lift drive mechanism under the control of a computer.

또한, 본 발명의 청구항 2에 기재된 배치 기구는, 청구항 1에 기재된 발명에 있어서, 상기 복수의 지지체는, 상기 배치대의 외주면에 상하 방향으로 고정된 가이드 부재와 결합하는 결합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.Moreover, the arrangement | positioning mechanism of Claim 2 of this invention is a invention of Claim 1 WHEREIN: The said some support body includes the coupling part which engages with the guide member fixed to the outer peripheral surface of the said mounting table in the up-down direction, It is characterized by the above-mentioned. will be.

또한, 본 발명의 청구항 3에 기재된 배치 기구는, 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 발명에 있어서, 상기 배치대에 형성된 복수의 관통 구멍에 승강할 수 있게 현수되어 하단이 상기 배치대의 하면으로부터 돌출하는 복수의 핀과, 상기 복수의 핀에 대응하여 설치되며 상기 배치대와 함께 하강하는 상기 복수의 핀에 작용하여 상기 복수의 핀을 상기 배치대의 배치면으로부터 돌출시키는 제2 작용체를 포함한 것을 특징으로 하는 것이다.Moreover, the arrangement | positioning mechanism of Claim 3 of this invention WHEREIN: In the invention of Claim 1 or Claim 2, it is the number which hangs so that it can elevate to the some through-hole formed in the said mounting table, and the lower end protrudes from the lower surface of the said mounting table. And a second working body installed corresponding to the plurality of pins and acting on the plurality of pins descending together with the mounting table to protrude the plurality of pins from the mounting surface of the mounting table. will be.

또한, 본 발명의 청구항 4에 기재된 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법은, 청구항 1∼3에 기재된 배치 기구의 배치대에 배치된 다이싱 프레임의 시트에 고정된 웨이퍼를 상기 배치대로부터 반송하는 방법으로서, 승강 구동 기구를 이용하여 상기 배치대를 일정한 제1 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체를 복수의 지지체에 작용시켜 상기 제1 속도로 상기 다이싱 프레임을 들어 올려 상기 웨이퍼가 고정된 상기 시트를 상기 배치대로부터 제1 위치까지 이격시키는 제1 공정과, 상기 승강 구동 기구를 이용하여 상기 배치대를 상기 제1 속도보다 빠른 일정한 제2 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체를 복수의 지지체에 작용시켜 상기 제2 속도로 상기 다이싱 프레임을 들어 올려 상기 웨이퍼가 고정된 상기 시트를 상기 배치대로부터 제2 위치까지 이격시키는 제2 공정을 포함한 것을 특징으로 하는 것이다.Moreover, the conveyance method of the wafer which has a dicing frame of Claim 4 of this invention conveys the wafer fixed to the sheet | seat of the dicing frame arrange | positioned at the placement table of the placement mechanism of Claims 1-3 from the said placement table. A method is provided in which the wafer is fixed by lifting the dicing frame at the first speed by applying a first actuator to a plurality of supports by lowering the placement table at a constant first speed using a lift drive mechanism. The first step of separating the seat from the mounting table to the first position, and by lowering the mounting table at a second constant speed faster than the first speed by using the lifting drive mechanism, a plurality of first working bodies Lifts the dicing frame at the second speed by acting on a support of the second position from the placement table to the sheet on which the wafer is fixed. It is characterized in that including a second step of not spaced apart.

또한, 본 발명의 청구항 5에 기재된 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법은, 청구항 4에 기재된 발명에 있어서, 제2 작용체를 복수의 핀에 작용시켜 상기 복수의 핀을 상기 배치대의 배치면으로부터 돌출시켜 상기 배치대로부터 상기 웨이퍼를 이격시키는 것을 특징으로 하는 것이다.Moreover, the conveyance method of the wafer which has a dicing frame of Claim 5 of this invention WHEREIN: In the invention of Claim 4, a 2nd effector is made to act on a some pin, and the said some pin is moved from the arrangement surface of the said mounting table. It is characterized by protruding the wafer from the placement table.

또한, 본 발명의 청구항 6에 기재된 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법은, 청구항 5에 기재된 발명에 있어서, 상기 제1 작용체가 상기 복수의 지지체에 작용한 후, 상기 제2 작용체가 상기 복수의 핀에 작용하는 것을 특징으로 하는 것이다.Moreover, in the conveyance method of the wafer which has a dicing frame of Claim 6 of this invention, in the invention of Claim 5, after the said 1st effector acts on the said some support body, the said 2nd effector is a plurality of said It is characterized by acting on the pin.

또한, 본 발명의 청구항 7에 기재된 웨이퍼 반송용 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체는, 컴퓨터를 구동시켜, 청구항 4∼6 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법을 실행하는 것을 특징으로 하는 것이다.Moreover, the computer-readable recording medium which recorded the wafer conveyance program of Claim 7 of this invention drives a computer, and performs the conveyance method of the wafer which has a dicing frame of any one of Claims 4-6. It is characterized by.

본 발명에 의하면, 배치대로부터 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼를 반송할 때에 발생하는 박리대전을 억제할 수 있는 배치 기구, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법 및 이 반송 방법에 이용되는 웨이퍼 반송용 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체를 제공할 수 있다.According to the present invention, a placement mechanism capable of suppressing peeling charges generated when transferring a wafer having a dicing frame from a placement table, a transfer method of a wafer having a dicing frame, and a wafer transfer program used in the transfer method A computer readable recording medium having recorded thereon can be provided.

도 1의 (a)∼(c) 각각은 본 발명의 배치 기구를 이용한 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법의 일 실시형태를 도시하는 공정도.
도 2는 도 1에 도시하는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 일부를 확대하여 도시하는 단면도.
도 3의 (a)∼(c) 각각은 종래의 배치 기구를 이용한 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법의 일례를 도시하는 공정도.
(A)-(c) is a process figure which shows one Embodiment of the conveyance method of the wafer which has a dicing frame using the arrangement | positioning mechanism of this invention.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a wafer having a dicing frame shown in FIG. 1. FIG.
(A)-(c) is a process figure which shows an example of the conveyance method of the wafer which has a dicing frame using the conventional arrangement mechanism.

이하, 도 1의 (a)∼(c)에 도시하는 실시형태에 기초하여 본 발명을 설명한다.Hereinafter, this invention is demonstrated based on embodiment shown to Fig.1 (a)-(c).

우선, 본 실시형태의 배치 기구에 대해서 도 1의 (a)에 기초하여 설명한다. 본 실시형태의 배치 기구(10)는, 도 1의 (a)에 도시하는 바와 같이, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 배치하는 배치대(11)와, 배치대(11)를 승강시키는 승강 구동 기구(도시 생략)와, 다이싱 프레임(DF)을 하면으로부터 지지하며 배치대(11)의 외주면을 따라 미리 정해진 간격을 두고 배치대(11)에 대하여 상대적으로 승강가능하게 배치되는 복수의 지지체(12)와, 배치대(11)가 승강 구동 기구를 통해 하강할 때에 복수의 지지체(12)에 작용하여 다이싱 프레임(DF)을 들어 올려 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)의 시트(F)를 배치대로부터 이격시키는 제1 작용체(13)를 구비하고, 컴퓨터(도시 생략)의 제어하에서 승강 구동 기구를 구동 제어하도록 구성되어 있다. 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)의 웨이퍼(W) 상면에는 도 2에 도시하는 바와 같이 다이싱에 의한 홈(T)이 형성되어 있다.First, the arrangement mechanism of this embodiment is demonstrated based on FIG. 1 (a). As shown in FIG. 1A, the placement mechanism 10 according to the present embodiment lifts and lowers the placement table 11 and the placement table 11 on which the wafer DFW having the dicing frame is arranged. A plurality of lifting drive mechanisms (not shown) and the dicing frame DF are supported from the lower surface and are relatively liftable with respect to the mounting table 11 at predetermined intervals along the outer circumferential surface of the mounting table 11. The sheet 12 of the wafer DFW having a dicing frame by lifting the dicing frame DF by acting on the plurality of supports 12 when the support 12 and the mounting table 11 descend through the lifting drive mechanism. It is equipped with the 1st working body 13 which isolates F) from a mounting table, and is comprised so that drive control of a lift drive mechanism may be carried out under control of a computer (not shown). The groove T by dicing is formed in the upper surface of the wafer W of the wafer DFW having the dicing frame as shown in FIG. 2.

승강 구동 기구는 예컨대 모터와, 볼나사와, 배치대(11)에 고정된 너트 부재를 가지며, 배치대(11)를 일정한 속도로 승강시킬 수 있다. 배치대(11)의 승강 속도는 모터에 의해 원하는 속도로 설정할 수 있다.The lifting drive mechanism has, for example, a motor, a ball screw, and a nut member fixed to the mounting table 11, and can lift the mounting table 11 at a constant speed. The lifting speed of the mounting table 11 can be set at a desired speed by the motor.

또한, 배치 기구(10)는 컴퓨터의 제어하에서 XY 스테이지(도시 생략)를 통해 X, Y 방향으로 이동하도록 구성되어 있다. 배치 기구(10)의 위쪽에는 프로브 카드(도시 생략)가 배치되어 있고, 배치 기구(11)와 얼라인먼트 기구(도시 생략)가 협동하여 웨이퍼(W)의 전극 패드와 프로브 카드의 프로브를 얼라인먼트하도록 되어 있다.Moreover, the arrangement | positioning mechanism 10 is comprised so that it may move to X, Y direction through an XY stage (not shown) under control of a computer. A probe card (not shown) is disposed above the placement mechanism 10, and the placement mechanism 11 and the alignment mechanism (not shown) cooperate to align the electrode pad of the wafer W with the probe of the probe card. have.

배치대(11)의 둘레면에는 지지체(12)에 대응하는 가이드 레일(14)이 상하 방향으로 부착되어 있다. 지지체(12)는 측면에 있는 결합부(도시 생략)가 가이드 레일(14)과 결합하여, 가이드 레일(14)을 따라 승강하도록 되어 있다. 지지체(12)의 아래쪽에는 예컨대 상단 위치의 높이를 조정할 수 있는 로드에 의해 형성된 작용체(13)가 배치되고, 배치대(11)가 상승단에 위치할 때에 작용체(13)의 상단면이 지지체(12)의 하면에 접촉하고 있다. 따라서, 승강 구동 기구가 구동하여 배치대(11)가 하강하면, 지지체(12)는 가이드 레일(14)을 따라 배치대(11)에 대하여 상대적으로 상승한다.Guide rails 14 corresponding to the support 12 are attached to the peripheral surface of the mounting table 11 in the vertical direction. As for the support body 12, the engaging part (not shown) in the side surface is couple | bonded with the guide rail 14, and it is made to go up and down along the guide rail 14. As shown in FIG. At the bottom of the support 12, an actuator 13 formed by a rod that can adjust the height of the upper position, for example, is disposed, and when the placement table 11 is located at the ascending end, the upper surface of the actuator 13 is It is in contact with the lower surface of the support 12. Therefore, when the elevating drive mechanism is driven and the mounting table 11 is lowered, the support 12 rises relative to the mounting table 11 along the guide rail 14.

지지체(12)는 다이싱 프레임(DF)을 하면으로부터 지지하는 지지부(12A)를 갖고 있다. 이 지지부(12A)에는 다이싱 프레임(DF)을 진공 흡착하는 흡착부가 형성되고, 이 흡착부가 진공 펌프(도시 생략)에 접속되어 있다. 따라서, 웨이퍼(W)의 전기적 특성을 검사할 때에는 웨이퍼(W)가 시트(F)를 통해 배치대(11)의 배치면에 진공 흡착되고, 다이싱 프레임(DF)이 지지체(12)의 지지부(12A)에 진공 흡착되며, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 배치 기구(10)에 있어서 단단히 고정한다. The support body 12 has the support part 12A which supports the dicing frame DF from the lower surface. 12A of support parts are provided with the adsorption part which vacuum-adsorbs the dicing frame DF, and this adsorption part is connected to the vacuum pump (not shown). Therefore, when inspecting the electrical characteristics of the wafer W, the wafer W is vacuum-adsorbed to the mounting surface of the mounting table 11 through the sheet F, and the dicing frame DF is the support of the support 12. The wafer DFW having a dicing frame is vacuum-adsorbed to 12A, and is firmly fixed in the placement mechanism 10.

또한, 배치대(11)에는 그 상면으로부터 하면으로 관통하는 복수(예컨대 3개)의 관통 구멍이 형성되고, 이들 관통 구멍은 배치대(11)의 둘레 방향으로 등간격을 두고 배치되며, 이들 관통 구멍에는 각각 핀(15)이 승강할 수 있게 삽입되어 있다. 핀(15)은, 상단에 역원뿔대형의 지지부(15A)를 가지며, 이 지지부(15A)가 관통 구멍의 상단에 형성된 원뿔홈(11A)에 끼워 맞춰져 있다. 핀(15)의 하단은 배치대(11)의 관통 구멍을 관통하여 하면으로부터 돌출되어 있다. 따라서, 핀(15)은 지지부(15A)를 통해 원뿔홈(11A)과 끼워 맞춘 상태로 현수되어 있다. 핀(15)이 원뿔홈(11A)에서 현수된 상태에서는, 지지부(15A)의 지지면이 배치대(11)의 배치면과 동일면으로 되어 있다. 이 때문에 웨이퍼(W)가 다이싱되어 형성된 디바이스가 지지부(15A)로 지지되어 있기 때문에, 그 디바이스에 프로브 카드의 프로브가 전기적으로 접촉되어 강한 압박력이 부여되어도 원뿔홈(11A) 안에 빠지지 않게 되어 있다.In addition, the mounting table 11 is provided with a plurality of (eg three) through holes penetrating from the upper surface to the lower surface thereof, and these through holes are arranged at equal intervals in the circumferential direction of the mounting table 11. The pins 15 are respectively inserted into the holes so that the pins 15 can lift up and down. The pin 15 has an inverted truncated support 15A at its upper end, and the support 15A is fitted into a conical groove 11A formed at the upper end of the through hole. The lower end of the pin 15 protrudes from the lower surface through the through hole of the mounting table 11. Therefore, the pin 15 is suspended in the state fitted with the conical groove 11A via the support part 15A. In a state where the pin 15 is suspended in the conical groove 11A, the supporting surface of the supporting portion 15A is flush with the placing surface of the mounting table 11. For this reason, since the device formed by dicing the wafer W is supported by the supporting portion 15A, the probe of the probe card is electrically contacted with the device so that it does not fall into the conical groove 11A even when a strong pressing force is applied to the device. .

핀(15)의 아래쪽에는 제1 작용체(13)와 동일 구조의 제2 작용체(16)가 배치되고, 배치대(11)가 승강 구동 기구를 통해 하강하여 지지체(12)의 지지부(12A)가 배치대(11)의 배치면에 도달한 시점에서 제2 작용체(16)의 상단이 핀(15)의 하단에 접촉하도록 되어 있다. 배치대(11)가 더 하강하면 제2 작용체(16)로 핀(15)을 상대적으로 밀어 올려 핀(15)의 지지부(15A)가 배치면으로부터 돌출되어 웨이퍼(W)를 배치면으로부터 박리시킨다. 웨이퍼(W)가 배치면으로부터 박리될 때에 박리대전이 발생하고, 그 때의 대전량에 의해 디바이스의 배선 구조가 손상될 우려가 있다.Below the pin 15, a second working body 16 having the same structure as the first working body 13 is disposed, and the mounting table 11 is lowered through the lifting drive mechanism to support the support 12A of the support 12. At the point where) reaches the mounting surface of the mounting table 11, the upper end of the second effector 16 is in contact with the lower end of the pin 15. When the mounting table 11 is further lowered, the pin 15 is relatively pushed up by the second effector 16 so that the supporting portion 15A of the pin 15 protrudes from the mounting surface to detach the wafer W from the mounting surface. Let's do it. When the wafer W is peeled off from the placement surface, peeling charging occurs, and the wiring structure of the device may be damaged by the charging amount at that time.

그래서, 박리대전에 의한 시트(F)의 대전량을 억제하기 위해, 본 실시형태의 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법에서는, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)의 상승 속도를 도중에 전환하도록 되어 있다. 본 실시형태의 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법은, 컴퓨터에 등록된 웨이퍼 반송용 프로그램에 의해 실행된다. 그래서, 본 실시형태의 웨이퍼 반송용 프로그램에 의해 실행되는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법에 관해서 설명한다.Therefore, in order to suppress the charge amount of the sheet F due to the peeling charging, in the transfer method of the wafer having the dicing frame of the present embodiment, the rising speed of the wafer DFW having the dicing frame is switched on the way. have. The wafer transfer method having the dicing frame of the present embodiment is executed by a wafer transfer program registered in a computer. Then, the wafer conveyance method which has a dicing frame performed by the wafer conveyance program of this embodiment is demonstrated.

본 실시형태의 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법은, 웨이퍼(W)의 전기적 특성 검사를 끝낸 후, 도 1의 (a)에 도시하는 바와 같이 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)가 배치 기구(10)에 고정된 상태로부터 로더실측에 반송하는 방법으로, 이온화 장치를 병용한다.In the conveyance method of the wafer with a dicing frame of this embodiment, after the electrical property test of the wafer W is completed, as shown to Fig.1 (a), the wafer DFW with a dicing frame is arrange | positioned mechanism. The ionizer is used together by the method of conveying to the loader room side from the state fixed to (10).

우선, 이온화 장치로부터 도 1에 화살표 A로 도시하는 바와 같이 이온을 웨이퍼(W)를 향해 조사한 상태로, 승강 구동 기구가 구동하여 배치대(11)를 일정한 속도(예컨대, 1 ㎜/초)로 하강시키면, 제1 작용체(13)가 복수의 지지체(12)에 작용하여 지지체(12)가 가이드 레일(14)을 따라 배치대(11)에 대하여 상대적으로 일정한 빠른 속도로 상승하여 다이싱 프레임(DF)을 들어 올린다. 다이싱 프레임(DF)이 들어 올려지는 도중에 지지체(12)의 지지부(12A) 상면이 배치면의 상면을 초과할 쯤에 제2 작용체(16)가 복수의 핀(15)에 작용하여 지지부(15A)가 배치면으로부터 돌출되고, 도 1의 (b)에 도시하는 바와 같이 복수의 핀(15)이 일정한 느린 속도로 웨이퍼(W)[시트(F)]를 배치면으로부터 박리하며, 일정한 거리만큼 이격된 제1 위치(예컨대, 배치면으로부터 5 ㎜의 위치)에서 정지한다. 이와 같이 웨이퍼(W)[시트(F)]가 배치면으로부터 일정한 느린 속도로 박리되는 것에 의해, 웨이퍼(W)[시트(F)]의 배치면으로부터의 박리 속도가 안정되어 있기 때문에, 박리대전량을 억제할 수 있다.First, as shown by arrow A in FIG. 1 from the ionizer, the lifting drive mechanism is driven in a state where the ions are irradiated toward the wafer W to move the mounting table 11 at a constant speed (for example, 1 mm / sec). When lowered, the first actuator 13 acts on the plurality of supports 12 so that the support 12 rises at a relatively constant high speed relative to the mounting table 11 along the guide rails 14 to the dicing frame. Lift up (DF). As the upper surface of the support portion 12A of the support 12 exceeds the upper surface of the placement surface while the dicing frame DF is lifted up, the second actuator 16 acts on the plurality of pins 15 to support the support portion ( 15A) protrudes from the placement surface, and as shown in FIG. 1B, the plurality of pins 15 peel the wafer W (sheet F) from the placement surface at a constant slow speed, and at a constant distance. Stop at a first position spaced apart (eg, a position of 5 mm from the placement surface). Thus, since the peeling speed from the mounting surface of the wafer W [sheet F] is stabilized by peeling off the wafer W [sheet F] from a mounting surface at a constant slow speed, peeling charge is performed. The amount can be suppressed.

웨이퍼(W)[시트(F)]가 배치대(11)의 배치면으로부터 제1 위치까지 이격되어 박리대전을 억제한 후, 이온화 장치로 웨이퍼(W)에서의 대전을 억제하면서 승강 구동 기구를 통해 배치대(11)를 제1 속도보다 빠른 제2 속도로 빠르게 단숨에 하강시키고, 복수의 지지체(12) 및 복수의 핀(15)에 의해 배치면으로부터 웨이퍼(W)[시트(F)]를 이격시켜 도 1의 (c)에 도시하는 제2 위치(예컨대, 배치면으로부터 11 ㎜의 위치)에서 정지시킨다. 웨이퍼(W)[시트(F)]가 제1 위치로부터 제2 위치에 도달할 때까지는 박리대전이 잘 발생하지 않아, 웨이퍼(W)[시트(F)]에서의 대전을 억제할 수 있다. 웨이퍼(W)[시트(F)]가 제2 위치에 도달하면, 배치면과 웨이퍼(W)[시트(F)]와의 간극에 웨이퍼 반송 기구의 아암이 진출하여, 웨이퍼 반송 기구에 의해 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 반송할 수 있다.After the wafer W (sheet F) is spaced apart from the placement surface of the mounting table 11 to the first position to suppress the peeling charge, the lifting drive mechanism is held while the charging of the wafer W is suppressed by the ionizer. The mounting table 11 is lowered quickly and quickly at a second speed faster than the first speed, and the wafer W (sheet F) is removed from the mounting surface by the plurality of supports 12 and the plurality of pins 15. It is spaced apart and stopped at the 2nd position (for example, the position of 11 mm from an arrangement surface) shown to Fig.1 (c). Peeling charging does not occur well until the wafer W (sheet F) reaches the second position from the first position, so that charging on the wafer W (sheet F) can be suppressed. When the wafer W (sheet F) reaches the second position, the arm of the wafer transfer mechanism advances into the gap between the placement surface and the wafer W [sheet F], and dicing by the wafer transfer mechanism. The wafer DFW having a frame can be transported.

이상 설명한 바와 같이 본 실시형태에 의하면, 배치 기구(10)는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 배치하는 배치대(11)와, 배치대(11)를 승강시키는 승강 구동 기구(도시 생략)와, 다이싱 프레임(DF)을 하면으로부터 지지하며 배치대(11)의 외주면을 따라 미리 정해진 간격을 두고 배치대(11)에 대하여 상대적으로 승강가능하게 배치되는 복수의 지지체(12)와, 배치대가 하강할 때에 복수의 지지체(12)에 작용하여 다이싱 프레임(DF)을 들어 올려 웨이퍼(W)가 고정된 시트(F)를 배치대(11)로부터 이격시키는 제1 작용체(13)를 구비하고, 컴퓨터의 제어하에서 승강 구동 기구를 구동 제어하기 위해, 컴퓨터의 제어하에서 승강 구동 기구를 이용하여 배치대(11)를 일정한 제1 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체(13)를 복수의 지지체(12)에 작용시켜 제1 속도로 다이싱 프레임(DF)을 들어 올려 웨이퍼(W)가 고정된 시트(F)를 배치대(11)로부터 제1 위치까지 이격시키는 제1 공정과, 승강 구동 기구를 이용하여 배치대(11)를 제1 속도보다 빠른 일정한 제2 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체(13)를 복수의 지지체(12)에 작용시켜 제2 속도로 다이싱 프레임(DF)을 들어 올려 웨이퍼가 고정된 시트(F)를 배치대로부터 제2 위치까지 이격시키는 제2 공정을 실행하여, 배치대(11)로부터 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)를 반송할 때에 발생하는 박리대전을 억제할 수 있고, 더 나아가서는 디바이스의 정전기에 의한 손상을 방지할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, the placement mechanism 10 includes a placement table 11 on which a wafer DFW having a dicing frame is arranged, and a lift drive mechanism (not shown) for lifting up and down the placement table 11. And a plurality of supports 12 arranged to support the dicing frame DF from the lower surface and to be relatively liftable with respect to the mounting table 11 at predetermined intervals along the outer circumferential surface of the mounting table 11. When the table is lowered, the first working body 13 which acts on the plurality of supports 12 and lifts the dicing frame DF to separate the sheet F on which the wafer W is fixed from the mounting table 11 is removed. In order to drive-control the lifting drive mechanism under the control of the computer, the first working body 13 is plural by lowering the mounting table 11 at a constant first speed using the lifting drive mechanism under the control of the computer. On the support 12 of the die at a first speed Lifting the frame DF and separating the sheet F on which the wafer W is fixed from the mounting table 11 to the first position, and using the elevating drive mechanism, the mounting table 11 is first mounted. The sheet F having the wafer fixed thereto by lowering the dividing frame DF at a second speed by lowering the first working body 13 to the plurality of supports 12 by lowering at a constant second speed faster than the speed. The second step of separating the wafer from the mounting table to the second position, thereby suppressing the peeling charge generated when the wafer DFW having the dicing frame is conveyed from the mounting table 11, and further, the device. To prevent damage caused by static electricity.

또한, 본 실시형태에 의하면, 배치 기구(10)가 또한, 배치대(11)에 형성된 복수의 관통 구멍에 승강가능하게 현수되어 하단이 배치대(11)의 하면으로부터 돌출하는 복수의 핀(15)과, 복수의 핀(15)에 대응하여 설치되며 배치대와 함께 하강하는 복수의 핀(15)에 작용하여 복수의 핀(15)을 배치대(11)의 배치면으로부터 돌출시키는 제2 작용체(16)를 구비하고 있기 때문에, 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼(DFW)의 웨이퍼(W)[시트(F)]를 안정된 자세로 배치대(11)의 배치면으로부터 박리할 수 있고, 박리대전을 보다 억제할 수 있다.In addition, according to the present embodiment, the plurality of pins 15 are suspended from the plurality of through holes formed in the mounting table 11 so as to be lifted and lowered so that the lower end protrudes from the lower surface of the mounting table 11. ) And a second action of acting on the plurality of pins 15 which are installed corresponding to the plurality of pins 15 and descends together with the mounting table to protrude the plurality of pins 15 from the mounting surface of the mounting table 11. Since the sieve 16 is provided, the wafer W (sheet F) of the wafer DFW having a dicing frame can be peeled from the mounting surface of the mounting table 11 in a stable posture, and the peeling charge Can be suppressed more.

또한, 상기 실시형태에서는 제1, 제2 작용체(13, 16)가 복수의 지지체(12) 및 복수의 핀(15)에 각각 대응한 수만큼 설치되어 있지만, 복수의 지지체 및 복수의 핀을 일체적으로 승강할 수 있도록 연결하고, 연결 부재를 통해 하나의 제1, 제2 작용체로 복수의 지지체 및 복수의 핀을 승강시키도록 하여도 좋다. 이 반대의 경우라도 좋다. 요컨대 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 한, 각 구성 요소를 적절한 설계 변경한 것이면, 본 발명에 포함된다. 또한, 본 발명의 배치 기구는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼에 한정되지 않고, 통상의 웨이퍼 단체의 검사에도 적용할 수 있다.In addition, in the said embodiment, although the 1st, 2nd action bodies 13 and 16 are provided in the number corresponding to each of the some support body 12 and the some pin 15, respectively, a some support body and a some pin is provided. It may be connected so as to be able to move up and down integrally, and the plurality of supports and the plurality of pins may be lifted up and down by one first and second working body through the connecting member. The reverse may be the case. In short, as long as it does not deviate from the summary of this invention, if each component changes appropriate design, it is included in this invention. In addition, the arrangement | positioning mechanism of this invention is not limited to the wafer which has a dicing frame, It is applicable also to the inspection of a normal wafer single body.

본 발명은 웨이퍼를 검사하는 검사 장치에 적합하게 이용할 수 있다.The present invention can be suitably used for an inspection apparatus for inspecting a wafer.

10: 배치 기구 11: 배치대
12: 지지체 13: 제1 작용체
14: 가이드 레일 15: 핀
16: 제2 작용체 DFW: 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼
DF: 다이싱 프레임 W: 웨이퍼
10: batch apparatus 11: placement table
12: support 13: first agent
14: guide rail 15: pin
16: second agent DFW: wafer with dicing frame
DF: Dicing Frame W: Wafer

Claims (7)

다이싱 프레임의 시트에 고정된 웨이퍼를 배치하는 배치대와, 상기 배치대를 승강시키는 승강 구동 기구와, 상기 다이싱 프레임을 하면으로부터 지지하며 상기 배치대의 외주면을 따라 미리 정해진 간격을 두고 상기 배치대에 대하여 상대적으로 승강할 수 있게 배치되는 복수의 지지체와, 상기 배치대가 하강할 때에 상기 복수의 지지체에 작용하여 상기 다이싱 프레임을 들어 올려 상기 웨이퍼가 고정된 시트를 상기 배치대로부터 이격시키는 제1 작용체와, 상기 배치대에 형성된 복수의 관통 구멍에 승강할 수 있게 현수되어 하단이 상기 배치대의 하면으로부터 돌출하는 복수의 핀과, 상기 복수의 핀에 대응하여 설치되며 상기 배치대와 함께 하강하는 상기 복수의 핀에 작용하여 상기 복수의 핀을 상기 배치대의 배치면으로부터 돌출시키는 제2 작용체를 포함하고, 컴퓨터의 제어하에서 상기 승강 구동 기구를 구동 제어하는 것을 특징으로 하는 배치 기구. A placement table for placing the wafer fixed to the sheet of the dicing frame, a lift drive mechanism for elevating the placement table, and the placement table supporting the dicing frame from a lower surface with a predetermined interval along the outer circumferential surface of the placement table. A plurality of supports arranged to be relatively elevated relative to each other, and a first sheet that lifts the dicing frame by lifting the dicing frame by acting on the plurality of supports when the mounting table is lowered from the mounting table. And a plurality of pins suspended from the lower surface of the mounting table so as to be lifted and lowered in a plurality of through-holes formed in the mounting table, the lower end protruding from the lower surface of the mounting table. A second action that acts on the plurality of pins and protrudes the plurality of pins from the placement surface of the placement table; And a sieve, and driving control of the lift drive mechanism under the control of a computer. 제1항에 있어서, 상기 복수의 지지체는, 상기 배치대의 외주면에 상하 방향으로 고정된 가이드 부재와 결합하는 결합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배치 기구.The arrangement mechanism according to claim 1, wherein the plurality of supports include a coupling portion that engages with a guide member fixed to an outer circumferential surface of the placement table in a vertical direction. 삭제delete 제1항 또는 제2항에 기재된 배치 기구의 배치대에 배치된 다이싱 프레임의 시트에 고정된 웨이퍼를 상기 배치대로부터 반송하는 방법으로서, 승강 구동 기구를 이용하여 상기 배치대를 일정한 제1 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체를 복수의 지지체에 작용시켜 상기 제1 속도로 상기 다이싱 프레임을 들어 올려 상기 웨이퍼가 고정된 상기 시트를 상기 배치대로부터 제1 위치까지 이격시키는 제1 공정과, 상기 승강 구동 기구를 이용하여 상기 배치대를 상기 제1 속도보다 빠른 일정한 제2 속도로 하강시키는 것에 의해 제1 작용체를 복수의 지지체에 작용시켜 상기 제2 속도로 상기 다이싱 프레임을 들어 올려 상기 웨이퍼가 고정된 상기 시트를 상기 배치대로부터 제2 위치까지 이격시키는 제2 공정을 포함한 것을 특징으로 하는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법.A method of conveying a wafer fixed to a sheet of a dicing frame arranged on a placement table of the placement mechanism according to claim 1 or 2 from the placement table, wherein the placement table is fixed at a first speed using a lift drive mechanism. A first step of causing the first working body to act on the plurality of supports by raising the dicing frame to lift the dicing frame at the first speed so as to separate the sheet on which the wafer is fixed from the mounting table to the first position; And lowering the dicing frame at the second speed by acting on the plurality of supports by lowering the placement table at a constant second speed faster than the first speed by using the lifting drive mechanism. And a second process of separating the sheet from which the wafer is fixed to the second position from the placement table. Carrying method of the wafer. 제4항에 있어서, 제2 작용체를 복수의 핀에 작용시켜 상기 복수의 핀을 상기 배치대의 배치면으로부터 돌출시켜 상기 배치대로부터 상기 웨이퍼를 이격시키는 것을 특징으로 하는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법.The wafer having a dicing frame according to claim 4, wherein a second working body is applied to the plurality of pins so that the plurality of pins protrude from the mounting surface of the mounting table to separate the wafer from the mounting table. Bounce method. 제5항에 있어서, 상기 제1 작용체가 상기 복수의 지지체에 작용한 후, 상기 제2 작용체가 상기 복수의 핀에 작용하는 것을 특징으로 하는 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법. 6. The method of claim 5, wherein the second effector acts on the plurality of pins after the first effector acts on the plurality of supports. 컴퓨터를 구동시켜, 제4항에 기재된 다이싱 프레임을 갖는 웨이퍼의 반송 방법을 실행하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 반송용 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체.A computer-readable recording medium on which a wafer transfer program is recorded, the computer being driven to execute a wafer transfer method having the dicing frame according to claim 4.
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