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KR101224455B1 - In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same - Google Patents

In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same Download PDF

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KR101224455B1
KR101224455B1 KR1020050130034A KR20050130034A KR101224455B1 KR 101224455 B1 KR101224455 B1 KR 101224455B1 KR 1020050130034 A KR1020050130034 A KR 1020050130034A KR 20050130034 A KR20050130034 A KR 20050130034A KR 101224455 B1 KR101224455 B1 KR 101224455B1
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repair
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명은 불량 화소를 인접한 정상 화소와 연동 구동하여 시각적 무결점화하기 위한 것으로, 투명 절연 기판과, 투명 절연 기판 상에 수평 및 수직 방향으로 교차 형성되어 복수 개의 화소들을 정의하는 게이트 라인들 및 데이터 라인들과, 게이트 라인들과 데이터 라인들 각각의 교차 부위에 배치된 박막 트랜지스터와, 박막 트랜지스터에 연결된 화소 전극들과, 화소 전극들과 서로 엇갈리도록 배치되는 공통 전극들과, 공통 전극들을 서로 연결하는 공통 라인들과, 인접한 두 화소 간에 배치되어 양측 끝단의 오버랩 영역이 인접한 두 화소의 화소 전극들과 각각 겹쳐지도록 구성되는 섬 형상의 리페어 패턴들을 포함하는 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법을 제공한다.The present invention is to visually defect-free drive a bad pixel by interlocking with adjacent normal pixels, and includes a transparent insulating substrate and gate lines and data lines formed in a horizontal and vertical direction on the transparent insulating substrate to define a plurality of pixels. And thin film transistors disposed at intersections of the gate lines and the data lines, pixel electrodes connected to the thin film transistors, common electrodes arranged to cross the pixel electrodes, and connecting the common electrodes to each other. Provided is a transverse electric field liquid crystal display including a common line and island-shaped repair patterns disposed between two adjacent pixels such that overlap regions at both ends thereof overlap pixel electrodes of two adjacent pixels, and a repair method thereof. do.

액정 표시 장치, 어레이 기판, 리페어 공정, 레이저 용접 Liquid Crystal Display, Array Board, Repair Process, Laser Welding

Description

횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법{In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same}Transverse electric field type liquid crystal display device and its repair method {In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same}

도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 표시 장치용 어레이 기판의 평면도이다.1 and 2 are plan views of an array substrate for a liquid crystal display device according to the prior art.

도 3은 일반적으로 액정 표시 장치의 어레이 기판 완성 후 진행되는 검사 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 3 is a diagram for describing an inspection process that is generally performed after completing an array substrate of a liquid crystal display.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치에서 어레이 기판의 일부를 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating a portion of an array substrate in a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 리페어 공정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 is a diagram for describing a repair process of FIG. 4.

도 6은 도 5의 리페어 공정에 따른 Ι-Ι'라인의 변화를 나타낸 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a change in a line III according to the repair process of FIG. 5.

도 7은 도 4에 나타난 리페어 패턴의 변형된 형태를 나타낸 일부 평면도이다.FIG. 7 is a partial plan view illustrating a modified form of the repair pattern illustrated in FIG. 4.

도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 나타낸 흐름도이다.8 is a flowchart illustrating a repairing method of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 효과를 설명하기 위한 비교표이다.9 is a comparison table for explaining the effects of the present invention.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS (S)

100: 투명 절연 기판 P1, P2, …: 화소100: transparent insulating substrates P1, P2,... Pixel

110: 게이트 라인 120: 데이터 라인110: gate line 120: data line

121: 소스 전극 122: 드레인 전극121: source electrode 122: drain electrode

130: 공통 라인 131: 공통 전극130: common line 131: common electrode

140: 화소 전극 150: 리페어 패턴140: pixel electrode 150: repair pattern

본 발명은 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display and a repair method thereof, and more particularly, to a transverse electric field type liquid crystal display device and a repair method thereof.

액정 표시 장치는 상하부의 투명 절연 기판인 컬러 필터 기판과 어레이 기판 사이에 이방성 유전율을 갖는 액정층을 형성한 후, 액정층에 형성되는 전계의 세기를 조정하여 액정 물질의 분자 배열을 변경시키고, 이를 통하여 컬러 필터 기판에 투과되는 빛의 양을 조절함으로써 원하는 화상을 표현하는 표시 장치이다. 액정 표시 장치로는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 스위칭 소자로 이용하는 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(TFT LCD)가 주로 사용되고 있다.The liquid crystal display device forms a liquid crystal layer having anisotropic dielectric constant between the color filter substrate, which is the upper and lower transparent insulating substrates, and the array substrate, and then adjusts the intensity of the electric field formed in the liquid crystal layer to change the molecular arrangement of the liquid crystal material. The display device expresses a desired image by adjusting the amount of light transmitted through the color filter substrate. As the liquid crystal display, a thin film transistor liquid crystal display (TFT LCD) using a thin film transistor (TFT) as a switching element is mainly used.

도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 표시 장치용 어레이 기판의 평면도로서, TN(Twisted Nematic) 구조 및 IPS(In-Plane Switching) 구조에 쓰이는 어레이 기판을 각각 도시하고 있다.1 and 2 are plan views of an array substrate for a liquid crystal display according to the related art, and show an array substrate used in a twisted nematic (TN) structure and an in-plane switching (IPS) structure, respectively.

종래의 어레이 기판은 도 1 및 도 2에 도시된 것처럼, 서로 직교하는 게이트 라인(10, 40) 및 데이터 라인(20, 50)에 의해 정의되는 복수 개의 화소들로 이루어지고, 게이트 라인(10, 40)으로부터 연장된 게이트 전극(11, 41), 게이트 전극(11, 41) 상의 반도체층(미도시), 반도체층(미도시)을 사이에 두고 서로 마주보는 소스 전극(21, 51) 및 드레인 전극(22, 52)이 형성되어 박막 트랜지스터를 이룬다.A conventional array substrate is composed of a plurality of pixels defined by gate lines 10 and 40 and data lines 20 and 50 orthogonal to each other, as shown in FIGS. 1 and 2. Source electrodes 21 and 51 and drains facing each other with gate electrodes 11 and 41 extending from 40, semiconductor layers (not shown) on gate electrodes 11 and 41, and semiconductor layers (not shown) interposed therebetween. Electrodes 22 and 52 are formed to form a thin film transistor.

TN 구조의 경우에는 도 1과 같이, 드레인 전극(22)에 연결되도록 화소 전극(30)이 형성되어 컬러 필터 기판 상의 공통 전극(미도시)과 수직 방향의 전계를 발생시킴으로써 화상을 표시하게 된다.In the case of the TN structure, as illustrated in FIG. 1, the pixel electrode 30 is formed to be connected to the drain electrode 22 to display an image by generating an electric field perpendicular to a common electrode (not shown) on the color filter substrate.

또한, 도 2를 참조하면, IPS 구조의 경우 어레이 기판 상에 가로 방향으로 게이트 라인(40)과 공통 라인(70)이 평행을 이루며 배치되고, 세로 방향으로 데이터 라인(50)이 게이트 라인(40) 및 공통 라인(70)과 수직을 이루도록 배열된다.In addition, referring to FIG. 2, in the case of the IPS structure, the gate line 40 and the common line 70 are arranged in parallel in the horizontal direction on the array substrate, and the data line 50 is disposed in the vertical direction in the gate line 40. And perpendicular to the common line 70.

그리고, 공통 라인(70)으로부터 분기된 공통 전극(71)들과, 드레인 전극(52)에 연결된 화소 전극(61)들이 서로 엇갈리게 구성되어 수평 방향의 전계를 발생시키게 된다.The common electrodes 71 branched from the common line 70 and the pixel electrodes 61 connected to the drain electrode 52 are alternately formed to generate an electric field in a horizontal direction.

도 3은 일반적으로 액정 표시 장치의 어레이 기판 완성 후 진행되는 검사 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 3 is a diagram for describing an inspection process that is generally performed after completing an array substrate of a liquid crystal display.

TFT 어레이 공정(S10)을 거쳐 어레이 기판이 완성된 후, 어레이 기판과 컬러 필터 기판과의 합착 및 액정층 형성이 이루어지는 액정 셀 공정을 진행하여 액정 패널을 제조하기 이전에 어레이 테스트 공정(S11)을 통하여 완성된 어레이 기판의 불량 여부를 검사하게 된다.After the array substrate is completed through the TFT array process (S10), the array test process (S11) is performed before manufacturing the liquid crystal panel by performing the liquid crystal cell process in which the array substrate and the color filter substrate are bonded and the liquid crystal layer is formed. Through the inspection of the defective array substrate is completed.

어레이 테스트 공정(S11)에서는, 완성된 어레이 기판 상의 게이트 패드 및 데이터 패드로 일정한 테스트 신호를 인가하여 어레이 기판 상에 형성되어 있는 박막 트랜지스터들의 온/오프(ON/OFF) 상태를 검사한다. 그리고, 박막 트랜지스터들이 온 상태일 때, 데이터 패드 상의 데이터 라인들을 통해 테스트 신호를 인가하여 화소 점등 상태를 검사한다.In the array test process S11, a constant test signal is applied to the gate pad and the data pad on the completed array substrate to check the on / off state of the thin film transistors formed on the array substrate. When the thin film transistors are in the on state, the test signal is applied through the data lines on the data pad to check the pixel lighting state.

이러한 어레이 테스트 공정(S11)을 거쳐 불량품이 발견되면, 육안이나 광학 기구를 이용하여 불량의 형태, 리페어(repair) 가능 여부 등을 판단하기 위한 불량품 검사 작업(S12)을 진행한다.If a defective product is found through such an array test process (S11), the defective product inspection operation (S12) is performed to determine the form of the defect, whether repair is possible, etc. using the naked eye or an optical apparatus.

불량품 검사 결과, 불량 정도가 심하고, 불량 화소의 수가 기준치 이상인 경우에는 리페어 공정을 수행하지 않고, 불량 화소의 수가 기준치 영역에 있는 경우에는 각각의 불량 화소들에 대한 리페어 공정(S13)을 진행하게 된다.As a result of the defective product inspection, when the degree of defect is severe and the number of the defective pixels is greater than the reference value, the repair process is not performed. When the number of the defective pixels is in the reference value region, the repair process S13 is performed for each defective pixel. .

화소 불량인 경우, 해당 화소가 항상 온 상태가 되어 액정 패널 상에 휘점으로 나타나거나, 항상 다크(dark) 상태가 되어 액정 패널 상에 암점으로 나타나게 되며, 항상 온 상태가 되는 화소는 레이저를 이용한 리페어 공정(S13)을 수행하여 데이터 전압이 화소 전극으로 인가되지 않도록 암점화한다.In the case of a defective pixel, the pixel is always on and appears as a bright point on the liquid crystal panel, or is always dark and appears as a dark spot on the liquid crystal panel, and the pixel which is always on is repaired using a laser. Step S13 is performed to darken the data voltage so as not to be applied to the pixel electrode.

즉, 리페어 공정(S13)에서는 항상 온 상태가 되는 불량 화소가 있는 경우, 레이저를 이용해 다시 패터닝하여 정상화 시키거나, 도 1 및 도 2에 표시된 것과 같이, 박막 트랜지스터의 드레인 전극(22, 52) 부분을 단선(cutting)시킨 후(a1, a2), 화소 전극(30)과 게이트 라인(10)을 접촉시키거나, 화소 전극(61)과 공통 전극(71)을 접촉시켜 암점화시키게 된다.That is, in the repair process (S13), when there are defective pixels that are always in the on state, patterning is normalized by using a laser again to normalize them, or as shown in FIGS. 1 and 2, portions of the drain electrodes 22 and 52 of the thin film transistor. After cutting (a1, a2), the pixel electrode 30 is brought into contact with the gate line 10, or the pixel electrode 61 is brought into contact with the common electrode 71 to darken.

그런데, 이러한 방식으로 리페어 공정(S13)을 수행하게 되면, 복구된 화소가 항상 암점으로만 존재하게 되며, 암점화된 불량 지점의 화소는 휘점에 비하여 인지 정도가 떨어질 뿐이지 마찬가지로 사용자에게 쉽게 인지된다는 문제점이 있었다.However, when the repair process (S13) is performed in this manner, the repaired pixels always exist only as dark spots, and the pixels of the darkened spots are not easily recognized as compared to the bright spots but are easily recognized by the user. There was this.

또한, 화소 전극(30, 61)을 리페어하기 위하여 화소 전극(30, 61)과 연결된 박막 트랜지스터의 드레인 전극(22, 52) 부분을 절단할 때(a1, a2), 인접한 소스 전극(21, 51) 및 드레인 전극(22, 52)과 게이트 전극(11, 41) 간의 단락(short)이 쉽게 발생되는 문제점이 있었다.In addition, when the drain electrodes 22 and 52 of the thin film transistor connected to the pixel electrodes 30 and 61 are cut in order to repair the pixel electrodes 30 and 61 (a1 and a2), adjacent source electrodes 21 and 51 are cut. ) And a short between the drain electrodes 22 and 52 and the gate electrodes 11 and 41 easily occurs.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 불량 화소를 인접한 정상 화소와 연동 구동하여 시각적 무결점화함으로써, 일반적인 화상에서 쉽게 불량 지점이 인지되지 않는 횡전계 방식 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a transverse electric field type liquid crystal display device in which a bad point is not easily recognized in a general image by visually making defects by driving a bad pixel cooperatively with an adjacent normal pixel.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 액정 패널로 합착되기 전의 어레이 기판 상태에서뿐만 아니라 합착된 이후의 액정 패널 상태에서도 손쉽게 리페어 공정을 수행할 수 있는 횡전계 방식 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a transverse electric field type liquid crystal display device which can easily perform a repair process not only in the array substrate state before bonding to the liquid crystal panel but also in the liquid crystal panel state after the bonding.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 이와 같은 액정 표시 장치를 효율적으로 리페어할 수 있는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a repair method of a transverse electric field type liquid crystal display device capable of efficiently repairing such a liquid crystal display device.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems, and other technical problems not mentioned above will be clearly understood by those skilled in the art from the following description. Could be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치는 투명 절연 기판과, 상기 투명 절연 기판 상에 수평 및 수직 방향으로 교차 형성되어 복수 개의 화소들을 정의하는 게이트 라인들 및 데이터 라인들과, 상기 게이트 라인들과 상기 데이터 라인들 각각의 교차 부위에 배치되고, 상기 게이트 라인 상의 게이트 전극, 상기 게이트 전극 상의 반도체층, 상기 데이터 라인에서 분기된 소스 전극, 상기 반도체층을 사이에 두고 상기 소스 전극과 마주보는 드레인 전극이 구비된 박막 트랜지스터와, 상기 드레인 전극에 연결된 화소 전극들과, 상기 화소 전극들과 서로 엇갈리도록 배치되는 공통 전극들과, 상기 공통 전극들을 서로 연결하는 공통 라인들과, 양측 끝단의 오버랩 영역이 인접한 두 화소의 화소 전극들과 각각 겹쳐지도록 구성되는 섬 형상의 리페어 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, a transverse electric field type liquid crystal display device includes a transparent insulating substrate and gate lines crossing the horizontal and vertical directions on the transparent insulating substrate to define a plurality of pixels. And a gate electrode on the gate line, a semiconductor layer on the gate electrode, a source electrode branched from the data line, and the semiconductor layer, disposed at an intersection of each of the data lines and the gate lines and the data lines. A thin film transistor including a drain electrode facing the source electrode, a pixel electrode connected to the drain electrode, common electrodes disposed to cross the pixel electrodes, and connecting the common electrodes to each other; Pixel electrodes of two pixels adjacent to common lines and overlap regions at both ends And characterized by including the repair of an island-like pattern is configured so as to overlap respectively.

상기 리페어 패턴은 대칭 형상을 갖도록 구성되는 것이 바람직하며, 독립된 섬 형상의 패턴으로 구성되거나 상기 공통 전극에 연결되도록 구성된다.The repair pattern is preferably configured to have a symmetrical shape, and is configured to be an independent island-shaped pattern or to be connected to the common electrode.

상기 복수 개의 화소 각각은, 수직 방향으로 꺽인 구조를 갖도록 구성할 수도 있다.Each of the plurality of pixels may be configured to have a structure that is bent in the vertical direction.

상기 복수 개의 화소들 중 일부의 불량 화소에서, 상기 박막 트랜지스터는 상기 화소 전극들과 단선(cutting)되어 있으며, 상기 리페어 패턴은 상기 공통 라인으로부터 단선(cutting)되어 있고, 양측의 오버랩 영역을 통해 인접한 정상 화소의 상기 화소 전극들과 전기적으로 접촉되도록 구성된다.In the defective pixel of some of the plurality of pixels, the thin film transistor is cut off from the pixel electrodes, the repair pattern is cut off from the common line, and is adjacent to each other through overlap regions of both sides. And an electrical contact with the pixel electrodes of the normal pixel.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법은 게이트 전극, 반도체층과, 소스 및 드레인 전극을 갖는 박막 트랜지스터에 의해 스위칭되는 복수 개의 화소들로 구성되고, 섬 형상의 리페어 패턴이 형성되며, 상기 리페어 패턴은 양측 끝단이 인접한 두 화소 간의 화소 전극들에 겹쳐지도록 구성되는 어레이 기판을 제조하는 단계와, 상기 복수 개의 화소들 각각에 테스트 신호를 인가하여 불량 화소를 검출하는 단계와, 상기 불량 화소의 박막 트랜지스터를 단선(cutting)시키는 단계와, 상기 불량 화소와, 상기 불량 화소에 인접하는 정상 화소의 화소 전극들에 겹쳐진 리페어 패턴의 양측 끝단을 상기 불량 화소 및 상기 정상 화소의 화소 전극들에 전기적으로 접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In a repairing method of a transverse electric field type liquid crystal display device according to a preferred embodiment of the present invention, the repair pattern is formed of a plurality of pixels which are switched by a thin film transistor having a gate electrode, a semiconductor layer, and a source and a drain electrode. And a repair pattern, the array substrate having both ends overlapping pixel electrodes between two adjacent pixels, and detecting a bad pixel by applying a test signal to each of the plurality of pixels. Cutting the thin film transistor of the defective pixel, and forming both ends of a repair pattern overlapped with the defective pixel and pixel electrodes of a normal pixel adjacent to the defective pixel. And electrically contacting the electrodes.

상기 어레이 기판을 제조한 이후에, 상기 어레이 기판을 이용하여 액정 패널을 제조하는 단계가 더 포함될 수 있다.After manufacturing the array substrate, the method may further include manufacturing a liquid crystal panel using the array substrate.

상기 어레이 기판을 제조하는 단계에서 상기 리페어 패턴은 독립된 섬 형상의 패턴으로 형성되거나, 상기 복수 개의 화소들로 공통 전압을 인가하는 공통 전극들에 연결되도록 형성되고, 상기 불량 화소에 구비된 리페어 패턴이 공통 전극에 연결된 경우, 상기 연결된 공통 전극으로부터 단선(cutting)시키는 단계가 더 포함될 수 있다.In the manufacturing of the array substrate, the repair pattern may be formed as an independent island pattern, or may be connected to common electrodes applying a common voltage to the plurality of pixels, and the repair pattern may be provided in the defective pixel. When connected to the common electrode, cutting may be further included from the connected common electrode.

상기 리페어 패턴은, 대칭 형상을 갖도록 형성하는 것이 바람직하다.The repair pattern is preferably formed to have a symmetrical shape.

상기 복수 개의 화소 각각은, 수직 방향으로 꺽인 구조를 갖도록 구성할 수도 있다.Each of the plurality of pixels may be configured to have a structure that is bent in the vertical direction.

단선(cutting) 및 전기적 접촉을 위하여 레이저 커팅(laser cutting) 및 레이저 용접(laser welding) 공정이 이용될 수 있다.Laser cutting and laser welding processes can be used for cutting and electrical contact.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention, and methods of achieving the same will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 대하여 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a transverse electric field type liquid crystal display device and a repair method thereof according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치에서 어레이 기판의 일부를 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating a portion of an array substrate in a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치는 도 4에 도시된 P1이나 P2와 같은 복수 개의 화소들로 이루어지며, 서로 교차하는 수평 방향의 게이트 라인(110)들과 수직 방향의 데이터 라인(120)들에 의해 각 화소의 영역이 구분되고, 각 화소 별로 게이트 라인(110)과 나란한 공통 라인(130)이 형성되어 각 화소의 공통 전극(131)들에 공통 전압을 인가한다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of pixels, such as P1 and P2 illustrated in FIG. 4, and includes horizontal gate lines 110 crossing each other and data lines 120 perpendicular to each other. The pixels are divided into regions, and a common line 130 parallel to the gate line 110 is formed for each pixel to apply a common voltage to the common electrodes 131 of each pixel.

게이트 라인(110)과 데이터 라인(120)의 교차 부위에는 박막 트랜지스터가 형성된다. 박막 트랜지스터는 게이트 라인(110) 상의 일부 영역으로 정의되는 게이트 전극, 게이트 전극 상의 반도체층(미도시), 데이터 라인(120)에서 분기된 소스 전극(121), 반도체층(미도시)을 사이에 두고 소스 전극(121)과 서로 마주보도록 배치되는 드레인 전극(122)을 포함하도록 구성된다.The thin film transistor is formed at the intersection of the gate line 110 and the data line 120. The thin film transistor includes a gate electrode defined as a partial region on the gate line 110, a semiconductor layer on the gate electrode (not shown), a source electrode 121 branched from the data line 120, and a semiconductor layer (not shown). And a drain electrode 122 disposed to face the source electrode 121.

도 4에 도시된 것처럼, 박막 트랜지스터의 드레인 전극(122)은 I자 모양으로 형성되어 화소 전극(140)에 연결되어 있고, 소스 전극(121)은 드레인 전극(122)을 둘러싸는 U자 모양으로 형성되어 데이터 라인(120)과 연결되어 있다. 즉, 오목 형상의 홈을 가진 U자 모양의 소스 전극(121)이 형성되고, 드레인 전극(122)이 소스 전극(121)의 홈 내부에서 소스 전극(121)과 일정한 간격을 두고 위치하도록 형성되는 것이다.As shown in FIG. 4, the drain electrode 122 of the thin film transistor is formed in an I shape and connected to the pixel electrode 140, and the source electrode 121 has a U shape surrounding the drain electrode 122. And is connected to the data line 120. That is, the U-shaped source electrode 121 having a concave groove is formed, and the drain electrode 122 is formed to be positioned at regular intervals from the source electrode 121 in the groove of the source electrode 121. will be.

이러한 드레인 전극(122) 및 소스 전극(121)은 게이트 라인(110) 상의 일부 영역으로 정의되는 게이트 전극과 일정한 면적만큼 오버랩 된다.The drain electrode 122 and the source electrode 121 overlap the gate electrode defined as a partial region on the gate line 110 by a predetermined area.

수직 방향으로는 서로 엇갈리도록 배치되는 공통 전극(131)들과 화소 전극(140)들이 형성되어 수평 방향의 전계를 형성하게 된다.In the vertical direction, the common electrodes 131 and the pixel electrodes 140 are disposed to cross each other to form an electric field in the horizontal direction.

여기서, 공통 전극(131) 및 화소 전극(140)의 형상을 직선 형상으로 하거나, 도 4와 같이 꺽인 형상으로 하거나, 데이터 라인(120)까지도 모두 꺽인 형상으로 하여 공통 전극(131) 및 화소 전극(140)과 평행을 이루도록 함으로써, 복수 개의 화소 각각이 수직 방향으로 꺽인 구조를 갖도록 구성할 수 있다.Here, the common electrode 131 and the pixel electrode 140 may be in a straight line shape, or may be bent as shown in FIG. 4, or the data line 120 may also be bent in all the shape. By making it parallel to 140, each of the plurality of pixels can be configured to have a structure bent in the vertical direction.

각 화소가 꺽인 형상을 갖는 구조에서는, 공통 전극(131)과 화소 전극(140) 간의 공간에서 액정 분자의 배열 방향이 서로 다른 도메인(domain)들이 나누어지게 되므로, 어레이 기판 상의 횡전계가 일방향으로만 형성되는 경우에 비하여 컬러 쉬프트 현상이 개선되어 시야각 특성이 좋아지고, 응답 속도가 빨리지는 등의 효과가 있다.In the structure in which each pixel is bent, domains having different arrangement directions of liquid crystal molecules in the space between the common electrode 131 and the pixel electrode 140 are divided, so that the transverse electric field on the array substrate is in only one direction. Compared with the case of forming, the color shift phenomenon is improved, the viewing angle characteristic is improved, and the response speed is increased.

공통 전극(131)의 일부 영역에는 외곽이 공통 전극(131)의 다른 영역과 분리 되어 있고, 일측만이 공통 전극(131)과 연결되는 섬(island) 형상의 리페어 패턴(150)이 형성된다.In some regions of the common electrode 131, an outer portion of the common electrode 131 is separated from another region of the common electrode 131, and only one side of the common electrode 131 is formed with an island-shaped repair pattern 150.

리페어 패턴(150)은 P1 및 P2와 같이 인접한 두 개의 화소들 간에 배치되어 양측 끝단의 오버랩 영역이 인접한 두 화소의 화소 전극(140)들과 각각 겹쳐지도록 구성된다. 도 4의 경우, 리페어 패턴(150)은 양측 끝단이 상부에 위치한 화소인 P1의 화소 전극(140)과, 하부에 위치한 화소인 P2의 화소 전극(140) 간에 걸쳐지도록 형성된다.The repair pattern 150 is disposed between two adjacent pixels such as P1 and P2 so that the overlap regions at both ends thereof overlap the pixel electrodes 140 of the two adjacent pixels, respectively. In the case of FIG. 4, the repair pattern 150 is formed such that both ends thereof are interposed between the pixel electrode 140 of P1, which is a pixel located above, and the pixel electrode 140 of P2, which is a pixel located below.

이러한 리페어 패턴(150)의 구조는 불량 화소가 검출되었을 때 레이저를 이용해 독립된 섬 형상의 패턴으로 바꾸기 용이한 구조로서, 도 4의 리페어 패턴(150)과 같이 인접한 두 개의 화소들, P1과 P2가 모두 리페어 패턴(150)과 겹쳐지는 오버랩 영역을 포함하고 있어야 하며, 두 화소가 인접하는 방향(도 4의 경우, 수직 방향)으로 대칭 형상을 갖도록 하여 양측의 오버랩 영역이 같은 면적으로 겹쳐지도록 하는 것이 좋다.The repair pattern 150 has a structure in which a defective pixel is easily changed into an independent island-shaped pattern when a bad pixel is detected. As shown in the repair pattern 150 of FIG. 4, two adjacent pixels P1 and P2 Both should include an overlap region overlapping with the repair pattern 150, and the two pixels have a symmetrical shape in an adjacent direction (vertical direction in FIG. 4) so that the overlap regions on both sides overlap with the same area. good.

이러한 어레이 기판은 컬러 필터 기판과, 두 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하는 액정 패널로 제조되어 사용된다. 어레이 기판은 공통 전극(131) 및 화소 전극(140) 간에 수평 방향의 전계를 형성하도록 구동되어 액정층의 배향을 화소별로 제어하고, 컬러 필터 기판은 적색, 녹색, 청색의 컬러 필터 등을 구비하여, 액정 물질의 배향에 따라 파장별로 빛을 투과시켜 화상을 표시하게 된다.This array substrate is manufactured and used as a liquid crystal panel including a color filter substrate and a liquid crystal layer formed between the two substrates. The array substrate is driven to form a horizontal electric field between the common electrode 131 and the pixel electrode 140 to control the alignment of the liquid crystal layer for each pixel, and the color filter substrate includes red, green, and blue color filters. According to the alignment of the liquid crystal material, light is transmitted per wavelength to display an image.

도 5는 도 4의 리페어 공정을 설명하기 위한 도면이고, 도 6은 도 5의 리페어 공정에 따른 Ι-Ι'라인의 변화를 나타낸 단면도이다.FIG. 5 is a view for explaining the repair process of FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a change in a line II according to the repair process of FIG. 5.

어레이 기판 상의 불량 화소 수가 기준치 영역에 있는 경우, 리페어 패턴(150)의 구조를 이용하여 불량 화소를 시각적 무결점화하는 리페어 공정을 수행한다.When the number of defective pixels on the array substrate is in the reference region, the repair process is performed to visually defect the defective pixels using the structure of the repair pattern 150.

예를 들어, 도 4의 구조에서, P1이 불량 화소이고, P1과 인접해 있는 P2가 정상 화소인 경우를 가정하면, 우선, c1의 레이저 커팅(laser cutting)을 통해 P1에 구비된 박막 트랜지스터의 드레인 전극(122)을 단선시킨다.For example, in the structure of FIG. 4, assuming that P1 is a bad pixel and that P2 adjacent to P1 is a normal pixel, first of all, the thin film transistor of P1 is provided through laser cutting of c1. The drain electrode 122 is disconnected.

그리고, c2의 레이저 커팅(laser cutting)을 통해 P1의 화소 전극(140)과 P2의 화소 전극(140) 간에 형성된 리페어 패턴(150)을 공통 전극(131)으로부터 단선하여 P1, P2 두 화소 간의 화소 전극(140)들을 링크시키는 독립된 섬 형상의 패턴이 되도록 하고, c3 및 c4의 레이저 용접(laser welding)을 통해 P1 및 P2의 화소 전극(140)들과, 그에 겹쳐진 리페어 패턴(150)의 오버랩 영역을 단락(short) 시켜 불량 화소인 P1을 리페어한다.In addition, the repair pattern 150 formed between the pixel electrode 140 of P1 and the pixel electrode 140 of P2 is disconnected from the common electrode 131 by laser cutting of c2, thereby preventing the pixel between two pixels P1 and P2. An overlapping region of the pixel electrodes 140 of P1 and P2 and the repair pattern 150 overlapping the pixel electrodes 140 may be formed as an independent island-shaped pattern for linking the electrodes 140, and laser welding of c3 and c4. P1 is repaired by shorting.

그러면, 도 6에 도시된 것처럼, 서로 떨어져 있던 P1과 P2의 화소 전극(140)들이 리페어 패턴(150)을 통해 서로 연결되면서 정상 화소인 P2로 인가되는 데이터 전압이 불량 화소인 P1도 함께 구동하여 P1과 P2가 동일한 그레이 레벨(gray level)을 표시하게 되면서 시각적 무결점화가 가능해지는 것이다.Then, as illustrated in FIG. 6, the pixel electrodes 140 of P1 and P2 that are separated from each other are connected to each other through the repair pattern 150, and the data voltage applied to P2, which is a normal pixel, also drives P1, which is a bad pixel. As P1 and P2 display the same gray level, visual imperfections are possible.

도 6을 참조하면, 리페어 공정 이전의 상태(d1)에서는, 투명 절연 기판(100) 상에 고립(isolation) 상태의 리페어 패턴(150)이 형성되고, 보호막(101)을 사이에 두고 P1과 P2의 화소 전극(140)들이 각각 형성되어 있어, 리페어 패턴(150)으로는 공통 전압이, P1과 P2의 화소 전극(140)들로는 각각의 데이터 전압이 인가된다.Referring to FIG. 6, in the state d1 before the repair process, the repair pattern 150 in an isolation state is formed on the transparent insulating substrate 100, and P1 and P2 are disposed with the protective film 101 interposed therebetween. Each pixel electrode 140 is formed, and a common voltage is applied to the repair pattern 150, and a respective data voltage is applied to the pixel electrodes 140 of P1 and P2.

리페어 공정 이후의 상태(d2)에서는 c3 및 c4 지점을 통해 P1, P2의 화소 전극(140)들이 서로 전기적으로 접촉되어 P2의 화소 전극(140)으로 인가된 데이터 전압이 P1의 화소 전극(140)으로 전달된다.In the state d2 after the repair process, the pixel electrodes 140 of P1 and P2 are electrically contacted with each other through points c3 and c4 so that the data voltage applied to the pixel electrode 140 of P2 is the pixel electrode 140 of P1. Is passed to.

도 7은 도 4에 나타난 리페어 패턴의 변형된 형태를 나타낸 일부 평면도이다.FIG. 7 is a partial plan view illustrating a modified form of the repair pattern illustrated in FIG. 4.

도 4 내지 도 6에서는 P1 및 P2에서와 같이 인접한 두 개의 화소 간에 하나의 리페어 패턴(150)을 형성하고, 형성된 리페어 패턴(150)의 일측이 공통 전극(131)에 연결된 경우를 도시하여 설명하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형태의 실시예로 변형될 수 있다.4 to 6 illustrate a case in which one repair pattern 150 is formed between two adjacent pixels as in P1 and P2, and one side of the formed repair pattern 150 is connected to the common electrode 131. However, the present invention is not limited thereto and may be modified in various forms.

예를 들어, 리페어 공정 시 콘택(contact) 특성을 확보하기 위하여 이러한 리페어 패턴(150)들을 복수 개 형성하거나, 도 7에서와 같이 리페어 패턴(150)을 본래부터 독립된 섬 형상의 패턴으로 형성하여 c2의 레이저 커팅을 수행할 필요 없이 c3과 c4의 레이저 용접만으로 리페어가 가능하도록 할 수 있을 것이다.For example, in order to secure contact characteristics during the repair process, a plurality of such repair patterns 150 may be formed, or as shown in FIG. 7, the repair patterns 150 may be formed in an intrinsically independent island-shaped pattern c2. It is possible to repair by only laser welding of c3 and c4 without having to perform the laser cutting of.

종래에는, 불량 화소가 있는 경우 레이저로 다시 패턴을 형성하거나, 그대로 암점화 하였으나, 본 발명에서는, 어레이 공정에서 미리 리페어 패턴(150)을 형성해 놓고, 리페어 공정 시 다시 패턴을 형성할 필요 없이 레이저 커팅과 레이저 용접만을 이용하여 불량 화소를 리페어할 수 있다. 따라서, 어레이 기판 상태만이 아니라 어레이 기판이 액정 셀 공정을 거쳐 액정 패널로 제조된 상태에서도 리페어 공정을 수행할 수 있는 장점이 있다.Conventionally, when there are defective pixels, a pattern is formed again with a laser or darkened as it is. However, in the present invention, the repair pattern 150 is formed in advance in the array process, and the laser cutting is not necessary during the repair process. The defective pixels can be repaired using only the laser welding. Therefore, there is an advantage that the repair process can be performed not only in the array substrate state but also in the state in which the array substrate is manufactured as the liquid crystal panel through the liquid crystal cell process.

도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 나타낸 흐름도로서, 이하, 도 4의 구조를 갖는 어레이 기판에서 P1이 불량 화소이고, P2가 정상 화소인 경우를 예로 들어 설명하기로 한다.FIG. 8 is a flowchart illustrating a repairing method of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. Hereinafter, an example in which P1 is a bad pixel and P2 is a normal pixel in an array substrate having the structure of FIG. 4 will be described. Shall be.

먼저, S100 단계 내지 S120 단계를 거쳐 어레이 기판을 제조하는 TFT 어레이 공정, 컬러 필터 기판을 제조하는 컬러 필터 공정, 두 기판을 합착하고, 그 사이에 액정층을 형성하는 액정 셀 공정을 수행하여 액정 패널을 구성하게 된다.First, a TFT array process for manufacturing an array substrate through steps S100 to S120, a color filter process for manufacturing a color filter substrate, and a liquid crystal cell process for bonding two substrates together and forming a liquid crystal layer therebetween are performed. Will be configured.

여기서, 어레이 기판은 게이트 라인(110) 상의 일부 영역이 되는 게이트 전극과, 게이트 전극 상의 반도체층(미도시), 반도체층(미도시)을 사이에 두고 서로 마주보는 소스 전극(121) 및 드레인 전극(122)을 구비하는 박막 트랜지스터에 의해 스위칭되는 복수 개의 화소들(P1, P2, …)로 이루어지고, 섬 형상의 리페어 패턴(150)들이 형성되며, 각 리페어 패턴(150)의 양측 끝단이 인접한 화소들(예를 들어, P1, P2) 간의 화소 전극(140)들에 각각 겹쳐지도록 구성된다.The array substrate may include a gate electrode serving as a partial region on the gate line 110, a source electrode 121 and a drain electrode facing each other with a semiconductor layer (not shown) and a semiconductor layer (not shown) on the gate electrode interposed therebetween. Comprising a plurality of pixels (P1, P2, ...) to be switched by a thin film transistor having a 122, island-shaped repair pattern 150 is formed, both ends of each repair pattern 150 is adjacent It is configured to overlap each of the pixel electrodes 140 between the pixels (eg, P1 and P2).

어레이 기판 상의 리페어 패턴(150)들은 각 화소(P1, P2, …)에 공통 전압(Vcom)을 인가하는 공통 전극(131)에 연결된 형태, 또는 독립된 섬 형상의 패턴으로 형성할 수 있다.The repair patterns 150 on the array substrate may be formed in a form connected to the common electrode 131 applying a common voltage Vcom to each pixel P1, P2,..., Or in an independent island pattern.

컬러 필터 기판에는 적색, 녹색, 청색의 컬러 필터와 블랙 매트릭스 등을 형성하여 어레이 기판의 구동에 따라 빛을 파장별로 투과시켜 화상을 표시하도록 구성한다.Red, green, and blue color filters, a black matrix, and the like are formed on the color filter substrate, and light is transmitted for each wavelength in accordance with driving of the array substrate to display an image.

본 발명에 따른 리페어 공정은 어레이 기판 상태나 액정 패널 상태에 모두 적용될 수 있으며, 어레이 기판 상태에서 리페어 공정을 수행하는 경우에는 S110 단계 및 S120 단계가 생략된다.The repair process according to the present invention can be applied to both the array substrate state and the liquid crystal panel state, and when the repair process is performed in the array substrate state, steps S110 and S120 are omitted.

다음으로, S130 단계에서, 어레이 기판 상의 화소들(P1, P2, …)에 테스트 신호를 인가하여 불량 화소(P1)를 검출한다.Next, in operation S130, a bad signal P1 is detected by applying a test signal to the pixels P1, P2,..., On the array substrate.

다음으로, S140 단계에서, 불량 화소(P1)에 구비된 박막 트랜지스터의 드레인 전극(122)들을 레이저 커팅으로 단선(cutting)시킨다.Next, in operation S140, the drain electrodes 122 of the thin film transistor included in the bad pixel P1 are cut by laser cutting.

다음으로, S150 단계에서, 불량 화소(P1)와, 불량 화소(P1)에 인접하는 정상 화소(P2)의 화소 전극(140)들 간에 겹쳐지도록 구성된 리페어 패턴(150)의 양측 끝단을 레이저 용접하여 리페어 패턴(150)을 통해 두 화소(P1, P2)의 화소 전극(140)들을 링크시킨다.Next, in step S150, by laser welding the both ends of the repair pattern 150 configured to overlap between the bad pixel P1 and the pixel electrodes 140 of the normal pixel P2 adjacent to the bad pixel P1. The pixel electrodes 140 of the two pixels P1 and P2 are linked through the repair pattern 150.

어레이 기판 상의 리페어 패턴(150)들이 공통 전극(131)에 연결된 형태로 구성된 경우에는, S140 단계 이전에 레이저를 이용하여 불량 화소(P1)에 구비된 리페어 패턴(150)을 연결된 공통 전극(131)으로부터 단선시키는 단계를 더 포함하게 된다.When the repair patterns 150 on the array substrate are configured to be connected to the common electrode 131, the common electrode 131 to which the repair pattern 150 provided in the bad pixel P1 is connected using a laser before step S140. It will further comprise the step of disconnecting from.

이와 같이, 불량 화소(P1)를 상부 또는 하부 등의 위치에 인접한 정상 화소(P2)와 연결 구동함으로써, 화상을 표시할 때 불량이 인지되지 않도록 하는 시각적 무결점화를 구현할 수 있다.As described above, by driving the defective pixel P1 with the normal pixel P2 adjacent to the upper or lower position, the visual defect may be realized such that the defect is not recognized when the image is displayed.

도 8은 본 발명의 효과를 설명하기 위한 비교표로서, 본 발명을 적용하여 상하 화소(상하로 인접한 불량 화소와 정상 화소)를 링크시킨 경우와, 종래 기술에 따라 암점화한 경우의 인지 특성을 비교한 것이다.8 is a comparison table for explaining the effect of the present invention, comparing the recognition characteristics when the upper and lower pixels (up and down adjacent adjacent pixels and normal pixels) by applying the present invention and the dark point according to the prior art It is.

화면 상에 화이트, 그레이, 블랙(White/Gray/Black) 레벨이 표시되는 경우, 종래 기술에 따라 리페어하여 암점화하였을 때 우측에서와 같이 블랙 레벨을 제외 한 모든 그레이에서 불량으로 인지되는 반면에, 본 발명에 따라 상하 화소를 링크시킨 경우에는 좌측에서와 같이 어느 그레이에서도 불량 지점이 인지되지 않는다.If white, gray and black levels are displayed on the screen, when repaired and darkened according to the prior art, it is recognized as bad in all gray except the black level as shown on the right. In the case where the upper and lower pixels are linked according to the present invention, no defective point is recognized in any gray as in the left side.

화면 상에 라인(Line)이 표시되는 경우, 본 발명에서는 라인의 바로 위에 불량 화소가 걸릴 때에만 불량이 인지되는 반면에, 종래 기술에서는 블랙 레벨을 제외한 모든 그레이에서 불량이 인지된다.When a line is displayed on the screen, the defect is recognized only when the defective pixel is caught directly above the line in the present invention, whereas the defect is recognized in all grays except the black level in the prior art.

화면 상에 다양한 그레이를 갖는 이미지(Picture)가 표시되는 경우, 본 발명에서는 불량 화소가 인접한 정상 화소와 비슷한 그레이를 표시하므로 이미지의 경계 부분에서도 불량으로 잘 인지되지 않으나, 종래 기술에 따르면 암점으로 불량이 인지된다.When a picture having various grays is displayed on the screen, in the present invention, since a bad pixel displays gray similar to an adjacent normal pixel, it is not well recognized as a bad even at the boundary of the image. This is recognized.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive, The invention is only defined by the scope of the claims.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 의하면, 불량 화소를 인접한 정상 화소와 연동 구동하여 시각적 무결점화함으로써, 일반적인 화상에서 쉽게 불량 지점이 인지되지 않도록 할 수 있다.According to the transverse electric field type liquid crystal display device and the repair method thereof according to the preferred embodiment of the present invention as described above, the defect point is not easily recognized in the general image by visually defecting the defective pixel by cooperatively driving the adjacent pixel. You can do that.

또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 의하면, 액정 패널로 합착되기 전의 어레이 기판 상태에서뿐만 아니라 합착된 이후의 액정 패널 상태에서도 손쉽게 리페어 공정을 수행할 수 있다.Further, according to the transverse electric field type liquid crystal display device and the repair method thereof according to the preferred embodiment of the present invention, the repair process can be easily performed not only in the array substrate state before bonding to the liquid crystal panel but also in the liquid crystal panel state after the bonding. .

Claims (11)

투명 절연 기판;Transparent insulating substrates; 상기 투명 절연 기판 상에 수평 및 수직 방향으로 교차 형성되어 복수 개의 화소들을 정의하는 게이트 라인들 및 데이터 라인들;Gate lines and data lines intersecting in the horizontal and vertical directions on the transparent insulating substrate to define a plurality of pixels; 상기 게이트 라인들과 상기 데이터 라인들 각각의 교차 부위에 배치되고, 상기 게이트 라인의 일부 영역으로 정의되는 게이트 전극, 상기 게이트 전극 상의 반도체층, 상기 데이터 라인에서 분기된 소스 전극, 상기 반도체층을 사이에 두고 상기 소스 전극과 마주보는 드레인 전극이 구비된 박막 트랜지스터;A gate electrode disposed at an intersection of each of the gate lines and the data lines, and defined as a partial region of the gate line, a semiconductor layer on the gate electrode, a source electrode branched from the data line, and the semiconductor layer; A thin film transistor having a drain electrode facing the source electrode; 상기 드레인 전극에 연결된 화소 전극들과, 상기 화소 전극들과 서로 엇갈리도록 배치되는 공통 전극들;Pixel electrodes connected to the drain electrode, and common electrodes disposed to alternate with the pixel electrodes; 상기 공통 전극들을 서로 연결하는 공통 라인들; 및Common lines connecting the common electrodes to each other; And 양측 끝단의 오버랩 영역이 인접한 두 화소의 화소 전극들과 각각 겹쳐지도록 구성되는 섬 형상의 리페어 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.And an island-shaped repair pattern configured to overlap an overlap region at both ends thereof with pixel electrodes of two adjacent pixels, respectively. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리페어 패턴은,The repair pattern is, 대칭 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.A transverse electric field liquid crystal display device having a symmetrical shape. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수 개의 화소 각각은,Each of the plurality of pixels, 수직 방향으로 꺽인 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.A transverse electric field liquid crystal display device having a structure which is bent in the vertical direction. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리페어 패턴은,The repair pattern is, 독립된 섬 형상의 패턴으로 구성되거나 상기 공통 전극에 연결되도록 구성된 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.A transverse electric field liquid crystal display comprising a separate island pattern or connected to the common electrode. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 복수 개의 화소들 중 일부의 불량 화소에서,In some bad pixels of the plurality of pixels, 상기 박막 트랜지스터는 상기 화소 전극들과 단선(cutting)되어 있으며, 상기 리페어 패턴은 상기 공통 라인으로부터 단선(cutting)되어 있고, 양측의 오버랩 영역을 통해 인접한 정상 화소의 상기 화소 전극들과 전기적으로 접촉된 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.The thin film transistor is cut off from the pixel electrodes, and the repair pattern is cut off from the common line and electrically contacted with the pixel electrodes of adjacent normal pixels through overlap regions on both sides. A transverse electric field liquid crystal display device characterized by the above-mentioned. 게이트 전극, 반도체층과, 소스 및 드레인 전극을 갖는 박막 트랜지스터에 의해 스위칭되는 복수 개의 화소들로 구성되고, 섬 형상의 리페어 패턴이 형성되며, 상기 리페어 패턴은 양측 끝단이 인접한 두 화소 간의 화소 전극들에 겹쳐지도 록 구성되는 어레이 기판을 제조하는 단계;Comprising a plurality of pixels that are switched by a thin film transistor having a gate electrode, a semiconductor layer, and a source and drain electrodes, an island-shaped repair pattern is formed, the repair pattern is a pixel electrode between two pixels adjacent to both ends Manufacturing an array substrate configured to overlap with; 상기 복수 개의 화소들 각각에 테스트 신호를 인가하여 불량 화소를 검출하는 단계;Detecting a bad pixel by applying a test signal to each of the plurality of pixels; 상기 불량 화소의 박막 트랜지스터를 단선(cutting)시키는 단계; 및Cutting the thin film transistor of the defective pixel; And 상기 불량 화소와, 상기 불량 화소에 인접하는 정상 화소의 화소 전극들에 겹쳐진 리페어 패턴의 양측 끝단을 상기 불량 화소 및 상기 정상 화소의 화소 전극들에 전기적으로 접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.And electrically contacting the defective pixels and both ends of a repair pattern overlapping the pixel electrodes of the normal pixel adjacent to the defective pixel to the defective pixels and the pixel electrodes of the normal pixel. Repair method of electric field type liquid crystal display device. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 어레이 기판을 제조한 이후에, 상기 어레이 기판을 이용하여 액정 패널을 제조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.And after the array substrate is manufactured, manufacturing a liquid crystal panel using the array substrate. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 어레이 기판을 제조하는 단계에서 상기 리페어 패턴은 독립된 섬 형상의 패턴으로 형성되거나, 상기 복수 개의 화소들로 공통 전압을 인가하는 공통 전극들에 연결되도록 형성되고,In the manufacturing of the array substrate, the repair pattern may be formed as an independent island pattern, or may be connected to common electrodes applying a common voltage to the plurality of pixels. 상기 불량 화소에 구비된 리페어 패턴이 공통 전극에 연결된 경우, 상기 연결된 공통 전극으로부터 단선(cutting)시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.And when the repair pattern included in the bad pixel is connected to the common electrode, cutting the connected pattern from the connected common electrode. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 리페어 패턴은,The repair pattern is, 대칭 형상을 갖도록 형성하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.The repairing method of the transverse electric field type liquid crystal display device which is formed so that it may have a symmetrical shape. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 복수 개의 화소 각각은,Each of the plurality of pixels, 수직 방향으로 꺽인 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.The repair method of the transverse electric field type liquid crystal display device which has a structure bent in the vertical direction. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 레이저 커팅(laser cutting) 공정을 이용하여 단선(cutting)시키고, 레이저 용접(laser welding) 공정을 이용하여 전기적으로 접촉시키는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.A method of repairing a transverse electric field type liquid crystal display device, characterized in that it is cut using a laser cutting process and electrically contacted using a laser welding process.
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