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KR101181244B1 - Liquid crystal display device - Google Patents

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KR101181244B1
KR101181244B1 KR1020050080111A KR20050080111A KR101181244B1 KR 101181244 B1 KR101181244 B1 KR 101181244B1 KR 1020050080111 A KR1020050080111 A KR 1020050080111A KR 20050080111 A KR20050080111 A KR 20050080111A KR 101181244 B1 KR101181244 B1 KR 101181244B1
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Abstract

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 액정패널 최외곽 영역의 불량방지를 위한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and in particular, to prevent failure of an outermost region of a liquid crystal panel.

본 발명의 특징은 액정패널 표시영역의 최외곽에 배치되는 게이트 및 데이터배선의 외측인 비표시영역에 상기 최외곽 게이트 및 데이터배선과 이웃할 수 있는 더미 게이트 및 데이터배선을 더욱 형성하는 것을 특징으로 한다. The present invention is characterized in that the dummy gate and the data line which are adjacent to the outermost gate and the data line are further formed in the non-display area outside the gate and the data line disposed at the outermost side of the liquid crystal panel display area. do.

이로 인하여, 상기 표시영역의 중앙부에 배치되는 게이트 및 데이터배선들이 양 옆으로 대칭하여 이웃하는 게이트 및 데이터배선들과의 전기적인 영향을 주고받는 것과 동일한 환경을 제공하고, 상기 비표시영역에 형성되는 그라운드배선의 영향을 받지 않도록 함으로써, 액정패널의 최외곽 불량인 모서리 밝음 또는 첫 게이트배선 밝음 등과 같은 문제점을 해결하여, 액정패널의 전면으로 균일한 휘도를 나타낼 수 있다. As a result, the gate and data lines disposed at the center of the display area are symmetrically disposed on both sides thereof to provide the same environment as the electrical effects of neighboring gates and data lines, and are formed in the non-display area. By not being affected by the ground wiring, problems such as edge brightness or first gate wiring brightness, which are the outermost defects of the liquid crystal panel, can be solved, and uniform luminance can be exhibited to the entire surface of the liquid crystal panel.

Description

액정표시장치{Liquid crystal display device} [0001] Liquid crystal display device [0002]

도 1은 일반적인 액정패널의 평면도를 개략적으로 도시한 도면.1 is a schematic plan view of a general liquid crystal panel;

도 2는 도 1의 게이트 및 데이터 패드부와 게이트 및 데이터배선을 개략적으로 확대 도시한 도면.FIG. 2 is a schematic enlarged view of a gate and data pad part and a gate and data wiring of FIG. 1; FIG.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 액정패널의 평면도를 개략적으로 도시한 도면.3 is a schematic plan view of a liquid crystal panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 게이트 및 데이터 패드부와 게이트 및 데이터배선을 개략적으로 확대 도시한 도면.FIG. 4 is a schematic enlarged view of a gate and data pad part and a gate and data line of FIG. 3; FIG.

도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 절단한 단면도.FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4. FIG.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

GPA, DPA : 게이트 패드부, 데이터 패드부 GPA, DPA: Gate pad section, data pad section

DL, GL : 데이터배선, 게이트배선DL, GL: Data Wiring, Gate Wiring

AA : 표시영역 P : 화소영역AA: display area P: pixel area

111 : 어레이기판 113 : 컬러필터기판111: array substrate 113: color filter substrate

115 : 씰 패턴 117 : 블랙매트릭스115: seal pattern 117: black matrix

119 : 데이터 패드 125 : 게이트 패드 119: data pad 125: gate pad

151 : 더미 데이터 패드 155 : 더미 데이터배선151: dummy data pad 155: dummy data wiring

157 : 더미 게이트 패드 161 : 더미 게이트배선157: dummy gate pad 161: dummy gate wiring

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 액정패널 최외곽 영역의 불량방지를 위한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and in particular, to prevent failure of an outermost region of a liquid crystal panel.

일반적인 액정표시장치의 화상구현원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하는 것으로, 액정은 분자구조가 가늘고 길며 배열에 방향성을 갖는 이방성과 전기장 내에 놓일 경우 그 크기에 따라 분자배열의 방향이 변화되는 분극성질을 띤다. 이에 액정표시장치는 액정층을 사이에 두고 서로 마주보는 면으로 각각 전계생성전극이 형성된 한 쌍의 투명절연기판으로 이루어진 액정패널을 필수적인 구성요소로 하며, 각 전계생성전극 사이의 전기장 변화를 통해서 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절하고 이때 변화되는 빛의 투과율을 이용하여 여러 가지 화상을 표시한다. The image realization principle of a general liquid crystal display device uses the optical anisotropy and polarization property of the liquid crystal. The liquid crystal has a thin and long molecular structure and polarization in which the direction of the molecular array changes according to its size when placed in an electric field and an anisotropy having an orientation in the array. It has a nature. The liquid crystal display is an essential component of a liquid crystal panel composed of a pair of transparent insulating substrates, each having a liquid crystal layer interposed therebetween, and having a field generating electrode formed therebetween. Various images are displayed by artificially adjusting the arrangement direction of the molecules and using the light transmittance which is changed at this time.

일반적으로 액정표시장치는 박막트랜지스터 및 화소전극을 형성하는 어레이기판 제조공정과 컬러필터 및 공통전극을 형성하는 컬러필터기판 제조공정을 통해 각각 어레이기판 및 컬러필터기판을 형성하고, 이 두 기판 사이에 액정을 개재하는 액정셀 공정을 거쳐 완성한다. In general, a liquid crystal display device forms an array substrate and a color filter substrate through an array substrate manufacturing process for forming a thin film transistor and a pixel electrode, and a color filter substrate manufacturing process for forming a color filter and a common electrode, and between the two substrates. It completes through the liquid crystal cell process through a liquid crystal.

도 1은 일반적인 액정패널의 평면도를 개략적으로 도시한 도면이다. 1 is a view schematically showing a plan view of a general liquid crystal panel.

일반적으로 액정패널은 하부의 어레이기판(1)과 상부의 컬러필터기판(3)을 포함하며, 상기 두 기판(1, 3) 사이에는 액정이 충진 되어있다. In general, the liquid crystal panel includes a lower array substrate 1 and an upper color filter substrate 3, and liquid crystal is filled between the two substrates 1 and 3.

상기 어레이기판(1) 상의 표시영역(AA)에는 데이터배선(DL)들과 게이트배선(GL)들이 서로 교차하여 화소영역(P)을 정의하고, 상기 게이트배선(GL)과 데이터배선(DL)이 교차하는 부분에는 박막트랜지스터(미도시)가 형성된다.In the display area AA on the array substrate 1, data lines DL and gate lines GL cross each other to define a pixel area P, and the gate line GL and the data line DL are defined. A thin film transistor (not shown) is formed at this intersection.

상기 컬러필터기판(3)에는 블랙매트릭스(5)에 의해 셀영역별로 분리된 컬러필터(미도시)들이 형성되며, 상기 컬러필터(미도시) 상부에는 공통전극(미도시)이 형성되어 있다. Color filters (not shown) separated by cell regions are formed on the color filter substrate 3 by the black matrix 5, and a common electrode (not shown) is formed on the color filters (not shown).

또한, 상기 두 기판 사이의 테두리에도 상기 블랙매트릭스(5)가 형성되어 있으며, 상기 두 기판 사이에 충진 되어있는 액정의 누설을 방지하기 위한 씰 패턴(7)도 형성되어 있다. In addition, the black matrix 5 is formed at an edge between the two substrates, and a seal pattern 7 is formed to prevent leakage of the liquid crystal filled between the two substrates.

이때, 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)이 배치된 어레이기판(1) 일측의 비표시영역에는 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)과 각각 연결되는 게이트 및 데이터 패드(9, 13)가 형성된 패드부(DPA, GPA)가 형성되어 있다. In this case, gate and data pads 9 and 13 connected to the gate and data lines GL and DL are respectively disposed in a non-display area on one side of the array substrate 1 where the gate and data lines GL and DL are arranged. The formed pad portions DPA and GPA are formed.

이때, 도시하지는 않았지만 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 외부회로인 게이트 및 데이터 구동회로와 연결되어 디스플레이 컨트롤 신호 및 데이터신호를 공급받게 된다. At this time, although not shown, the gate and data lines GL and DL are connected to gate and data driving circuits, which are external circuits, to receive display control signals and data signals.

도 2는 도 1의 게이트 및 데이터 패드부와 게이트 및 데이터배선을 개략적으 로 확대 도시한 도면이다. FIG. 2 is a schematic enlarged view of the gate and data pad unit and the gate and data wiring of FIG. 1.

도시한 바와 같이, 액정패널 상에는 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들과 외부 구동회로로부터 소정의 신호를 입력받아 이를 게이트 및 데이터배선(GL, DL)에 인가하는 게이트 및 데이터 패드(9, 13)가 형성되어 있다. As illustrated, the gate and data pads 9 and 13 receive a predetermined signal from the gate and data lines GL and DL and external driving circuits and apply the predetermined signals to the gate and data lines GL and DL. ) Is formed.

상기 데이터배선(DL)들과 게이트배선(GL)들은 서로 매트릭스 형태로 교차하여 적, 녹, 청의 화소(P)를 정의하며, 상기 교차부에는 액정셀들을 스위칭하며 게이트전극, 소스 및 드레인전극 등으로 구성된 박막트랜지스터(T)가 형성된다. The data lines DL and the gate lines GL cross each other in a matrix to define red, green, and blue pixels P, and the liquid crystal cells are switched at the intersections, and the gate electrode, the source and drain electrodes, etc. The thin film transistor T is formed.

또한, 상기 게이트 및 데이터 패드(9, 13)는 외부의 구동회로로부터 상기 박막트랜지스터(T)를 제어하기 위한 게이트 및 데이터신호를 인가받아, 이를 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들에 공급한다. In addition, the gate and data pads 9 and 13 receive a gate and a data signal for controlling the thin film transistor T from an external driving circuit and supply the gate and data signals to the gate and data lines GL and DL. do.

상기 게이트 및 데이터 패드(9, 13)는 액정패널의 비표시영역에 구성되며, 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 액정패널의 표시영역(AA)에 구성된다.The gate and data pads 9 and 13 are configured in the non-display area of the liquid crystal panel, and the gate and data wirings GL and DL are configured in the display area AA of the liquid crystal panel.

이때, 상기 컬러필터기판(3)의 적, 녹, 청의 화소(P) 경계부와, 컬러필터기판(3) 테두리에도 블랙매트릭스(5)가 위치한다. In this case, the black matrix 5 is also positioned at the red, green, and blue pixel P boundaries of the color filter substrate 3 and the edges of the color filter substrate 3.

그러나, 상기 전술한 액정패널 표시영역(AA)의 중앙부에 배치된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들은 양 옆으로 서로 이웃하는 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들이 서로 대칭을 이룸으로써 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)에 흐르는 신호들 간에 전기적 평형상태를 유지하는 반면, 상기 표시영역(AA)의 최외곽에 배치된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 이웃하는 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들이 대칭을 이루지 못함으로써, 신호들 간의 전기적 평형상태를 유지하지 못하게 되는 문제점이 있 다. However, the gate and data lines GL and DL disposed at the center of the liquid crystal panel display area AA are symmetrical with each other and the gates and data lines GL and DL are adjacent to each other. And maintain electrical equilibrium between the signals flowing in the data lines GL and DL, while the gate and data lines GL and DL disposed at the outermost portion of the display area AA are adjacent to the gate and data lines. Since GL and DL are not symmetrical, there is a problem in that electrical equilibrium between signals cannot be maintained.

더욱이, 상기 표시영역(AA) 최외곽에 배치된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 비표시영역에 구성된 신호배선(예, 공통신호)들의 영향을 받게 되어 액정패널의 최외곽 부분에서 모서리 밝음, 또는 첫번째 게이트배선 밝음 등의 문제점이 발생되게 된다. Furthermore, the gate and data lines GL and DL disposed at the outermost portion of the display area AA are affected by the signal lines (eg, common signals) configured at the non-display area, so that the edges are bright at the outermost portion of the liquid crystal panel. Or the first gate wiring is bright.

즉, 액정패널의 표시영역(AA) 내에서 중앙부에 비해 표시영역(AA)의 모서리 영역이 더욱 밝은 빛을 내거나, 표시영역(AA)의 일측 가장자리가 중앙부에 비해 더욱 밝게 빛나는 것이다. That is, the edge area of the display area AA emits brighter light than the center part of the display area AA of the liquid crystal panel, or one edge of the display area AA shines brighter than the center part.

때문에, 액정패널 전체적으로 휘도가 균일하지 못하게 되는 문제점이 발생된다. Therefore, a problem arises in that luminance is not uniform throughout the liquid crystal panel.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 액정패널의 최외곽 불량을 방지하여, 액정패널 전체적으로 균일한 휘도를 나타내도록 하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to prevent outermost defects of the liquid crystal panel and to exhibit uniform luminance as a whole.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 표시영역과 비표시영역으로 나뉘어진 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상의 표시영역의 일 방향으로 배치되는 게이트배선과; 상기 게이트배선과 교차하여 화소영역을 정의하는 데이터배선과; 상 기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 구성된 게이트배선과 평행하게 위치하는 더미 게이트배선과; 상기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 구성된 데이터배선과 평행하게 위치하는 더미 데이터배선과; 상기 게이트 및 데이터배선의 교차부에 위치하는 박막트랜지스터와; 상기 화소영역 상에 위치하는 화소전극과; 상기 제 1 기판과 마주보는 제 2 기판의 일면에 형성되는 블랙매트릭스와 컬러필터, 공통전극과; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 이격된 공간에 형성된 액정층과; 상기 액정층의 누설을 방지하기 위한 씰 패턴을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a display device comprising: a first substrate divided into a display area and a non-display area; A gate wiring disposed in one direction of the display area on the first substrate; A data line crossing the gate line and defining a pixel area; A dummy gate line positioned in the non-display area in parallel with the gate line configured at the outermost portion of the display area; A dummy data line positioned in the non-display area in parallel with the data line configured at the outermost portion of the display area; A thin film transistor positioned at an intersection of the gate and the data line; A pixel electrode on the pixel area; A black matrix, a color filter, and a common electrode formed on one surface of the second substrate facing the first substrate; A liquid crystal layer formed in the spaced space between the first substrate and the second substrate; Provided is a liquid crystal display device including a seal pattern for preventing leakage of the liquid crystal layer.

상기 박막트랜지스터는 상기 게이트 및 데이터배선의 교차부에 위치하며, 게이트전극, 게이트절연막, 액티브층, 그리고 소스 및 드레인전극을 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 드레인전극은 상기 화소전극과 접촉하는 것을 특징으로 한다. The thin film transistor is positioned at an intersection of the gate and the data line, and includes a gate electrode, a gate insulating layer, an active layer, and a source and a drain electrode, and the drain electrode is in contact with the pixel electrode. It is done.

상기 블랙매트릭스는 상기 비표시영역과, 상기 컬러필터 사이에 구성되는 것을 특징으로 하며, 상기 게이트 및 데이터배선과 상기 더미 게이트 및 데이터배선은 구동회로로부터 소정의 신호를 인가받는 것을 특징으로 한다. The black matrix may be configured between the non-display area and the color filter, and the gate and data lines and the dummy gate and data lines may receive a predetermined signal from a driving circuit.

또한, 상기 구동회로는 상기 더미 게이트 및 데이터배선과 연결되는 더미 핀(Dummy pin)이 더욱 구성되는 것을 특징으로 한다. The driving circuit may further include a dummy pin connected to the dummy gate and the data wiring.

제 1 기판에 표시영역과 비표시영역을 정의하는 단계와; 상기 제 1 기판 상의 표시영역에 일방향으로 게이트배선을 형성하는 단계와; 상기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 배치된 게이트배선과 이웃한 더미 게이트배선을 형성하는 단계와; 상기 게이트배선과 교차하여 화소영역을 정의하는 데이터배선을 형성하는 단계와; 상기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 배치된 데이터배선과 이웃한 더미 데이터배선을 형성하는 단계와; 상기 게이트 및 데이터배선의 교차부에 위치하는 박막트랜지스터를 형성하는 단계와; 상기 화소영역 상에 화소전극을 형성하는 단계와; 상기 제 1 기판과 마주보는 제 2 기판의 일면에 블랙매트릭스와 컬러필터, 공통전극을 형성하는 단계와; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 이격된 공간에 액정층을 형성하는 단계와; 상기 액정층의 누설을 방지하기 위한 씰 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조방법을 제공한다. Defining a display area and a non-display area on the first substrate; Forming gate wirings in one direction on the display area on the first substrate; Forming a dummy gate wiring adjacent to the gate wiring disposed at the outermost portion of the display area in the non-display area; Forming a data line crossing the gate line to define a pixel area; Forming dummy data wires adjacent to the data wires arranged in the outermost part of the display area in the non-display area; Forming a thin film transistor positioned at an intersection of the gate and the data line; Forming a pixel electrode on the pixel region; Forming a black matrix, a color filter, and a common electrode on one surface of the second substrate facing the first substrate; Forming a liquid crystal layer in the spaced space between the first substrate and the second substrate; It provides a liquid crystal display device manufacturing method comprising the step of forming a seal pattern to prevent leakage of the liquid crystal layer.

상기 게이트 및 데이터배선과 상기 더미 게이트 및 데이터배선의 일 끝단에는 각각의 패드를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 박막트랜지스터는 기판 상에 게이트금속을 형성하는 단계와; 상기 게이트금속 상부에 게이트절연막, 액티브층을 차례로 형성하는 단계와; 상기 액티브층 상부에 서로 이격되는 소스 및 드레인전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. And a pad at each end of the gate and data lines and the dummy gate and data lines, wherein the thin film transistor comprises: forming a gate metal on a substrate; Sequentially forming a gate insulating film and an active layer on the gate metal; And forming source and drain electrodes spaced apart from each other on the active layer.

또한, 상기 더미 데이터배선은 상기 데이터배선 형성 시 동일한 공정에서 동일물질로 형성하는 것을 특징으로 하며, 상기 더미 게이트배선은 상기 게이트배선 형성 시 동일한 공정에서 동일물질로 형성하는 것을 특징으로 한다. The dummy data line may be formed of the same material in the same process when the data line is formed, and the dummy gate line may be formed of the same material in the same process when the gate line is formed.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 액정패널의 평면도를 개략적으로 도시한 도면이다. 3 is a schematic plan view of a liquid crystal panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 액정패널은 하부의 어레이기판(111)과 상부의 컬러필터기판(113)을 포함하며, 상기 두 기판(111, 113) 사이에는 액정이 충진 되어있다. As shown, the liquid crystal panel includes a lower array substrate 111 and an upper color filter substrate 113, and the liquid crystal is filled between the two substrates 111 and 113.

상기 어레이기판(111) 상의 표시영역(AA)에는 데이터배선(DL)들과 게이트배선 (GL)들이 서로 교차하여 화소영역(P)을 정의하고, 상기 게이트배선(GL)과 데이터배선(DL)이 교차하는 부분에는 박막트랜지스터(미도시)를 형성한다.In the display area AA on the array substrate 111, the data lines DL and the gate lines GL cross each other to define a pixel area P, and the gate lines GL and the data lines DL are defined. A thin film transistor (not shown) is formed at this intersection.

상기 컬러필터기판(113)에는 블랙매트릭스(115)에 의해 셀영역별로 분리된 컬러필터(미도시)들이 형성되며, 상기 컬러필터 상부에는 공통전극(미도시)을 형성한다. Color filters (not shown) separated by cell regions are formed on the color filter substrate 113 by the black matrix 115, and a common electrode (not shown) is formed on the color filter.

또한, 상기 두 기판 사이의 테두리에도 상기 블랙매트릭스(115)를 형성하며, 상기 두 기판 사이에 충진 되어있는 액정의 누설을 방지하기 위한 씰 패턴(117)도 형성한다. In addition, the black matrix 115 is formed at the edge between the two substrates, and a seal pattern 117 is formed to prevent leakage of the liquid crystal filled between the two substrates.

이때, 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)이 구성된 어레이기판(111) 일측의 비표시영역에는 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)과 각각 연결되는 게이트 및 데이터 패드(119, 125)가 형성된 패드부(DPA, GPA)를 형성한다. In this case, gate and data pads 119 and 125 connected to the gate and data lines GL and DL are formed in a non-display area on one side of the array substrate 111 having the gate and data lines GL and DL. Pad portions DPA and GPA are formed.

또한, 상기 액정패널의 표시영역(AA) 최외곽에 형성된 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)의 외측에는 각각 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)을 더욱 형성하는 것을 특징으로 한다. In addition, dummy gates and data lines 155 and 161 may be further formed outside the gates and data lines GL and DL formed at the outermost sides of the display area AA of the liquid crystal panel.

상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)의 일측 끝단에는 더미 게이트 및 데이터 패드(151, 157)를 형성한다. The dummy gate and the data pads 151 and 157 are formed at one end of the dummy gate and the data lines 155 and 161.

이때, 도시하지는 않았지만 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 외부회로인 게이트 및 데이터 구동회로와 연결되어 디스플레이 컨트롤 신호 및 데이터신호를 공급받게 된다. At this time, although not shown, the gate and data lines GL and DL are connected to gate and data driving circuits, which are external circuits, to receive display control signals and data signals.

또한, 상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161) 역시 상기 외부회로인 게이 트 및 데이터 구동회로와 연결되어 상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)으로 인가되는 소정의 신호를 공급받게 된다. In addition, the dummy gate and data lines 155 and 161 are also connected to the gate and data driving circuits, which are external circuits, to receive a predetermined signal applied to the dummy gate and data lines 155 and 161.

이때, 상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)은 상기 게이트 및 데이터 구동회로의 여분의 더미 핀(Dummy pin)을 통해 신호를 인가받게 된다. In this case, the dummy gate and the data wirings 155 and 161 receive a signal through an extra dummy pin of the gate and data driving circuit.

도 4는 도 3의 게이트 및 데이터 패드부와 게이트 및 데이터배선을 개략적으로 확대 도시한 도면이다. FIG. 4 is a schematic enlarged view of the gate and data pad part and the gate and data wiring of FIG. 3.

도시한 바와 같이, 액정패널 상에는 외부 구동회로로부터 소정의 신호를 입력받아 이를 게이트 및 데이터배선(GL, DL)에 인가하는 게이트 및 데이터 패드(119, 125)를 형성한다. As illustrated, gate and data pads 119 and 125 are formed on the liquid crystal panel to receive a predetermined signal from an external driving circuit and apply the predetermined signal to the gate and the data lines GL and DL.

상기 게이트 및 데이터 패드(119, 125)와 연결되는 데이터배선(DL)들과 게이트배선(GL)들은 서로 매트릭스 형태로 교차하여 적, 녹, 청의 화소(P)를 정의하며 상기 교차부에는 액정셀들을 스위칭하며 게이트전극, 소스 및 드레인전극 등으로 구성된 박막트랜지스터(T)를 형성한다.The data lines DL and the gate lines GL, which are connected to the gate and the data pads 119 and 125, cross each other in a matrix to define red, green, and blue pixels P, and the liquid crystal cell is disposed at the intersection. These transistors are formed to form a thin film transistor T composed of a gate electrode, a source and a drain electrode.

이때, 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들은 표시영역(AA) 내에 형성하며, 상기 액정패널의 표시영역(AA) 최외곽에 형성된 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)의 외측으로는 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)을 표시영역(AA) 외의 영역인 비표시영역에 형성한다. In this case, the gate and data lines GL and DL are formed in the display area AA, and dummy is formed outside the gate and data lines GL and DL formed at the outermost part of the display area AA of the liquid crystal panel. Gate and data lines 155 and 161 are formed in a non-display area that is an area other than the display area AA.

상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)은 더미 게이트 및 데이터 패드(151, 157)와 연결되어 있으며, 상기 더미 게이트 및 데이터 패드(151, 157)는 외부의 게이트 및 데이터 구동회로의 더미 핀을 통해 일정한 신호를 인가받게 된다. The dummy gates and the data lines 155 and 161 are connected to the dummy gates and the data pads 151 and 157, and the dummy gates and the data pads 151 and 157 connect dummy pins of external gates and data driving circuits. Through a certain signal is received.

상기 게이트 및 데이터 패드(119, 125)와 상기 더미 게이트 및 데이터 패드(151, 157)는 액정패널의 비표시영역에 구성되며, 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 액정패널의 표시영역에 구성되며, 상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)은 액정패널의 비표시영역에 구성된다.The gate and data pads 119 and 125 and the dummy gate and data pads 151 and 157 are configured in a non-display area of the liquid crystal panel, and the gate and data wirings GL and DL are formed in the display area of the liquid crystal panel. The dummy gate and the data lines 155 and 161 are configured in the non-display area of the liquid crystal panel.

이때, 상기 컬러필터기판(113)의 적, 녹, 청의 화소(P) 경계부와, 컬러필터기판(113) 테두리에도 블랙매트릭스(115)가 구성되며, 상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161), 패드(151, 157) 상부에도 위치한다. In this case, a black matrix 115 is formed on the red, green, and blue pixel P boundary of the color filter substrate 113 and the edge of the color filter substrate 113, and the dummy gate and the data wirings 155 and 161. It is also located on the pads 151 and 157.

앞서 전술한 바와 같이, 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)들과 더미 게이트 및 데이터 패드(151, 157)를 형성함으로써, 표시영역(AA)의 최외곽에 형성된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들은 표시영역(AA)의 중앙부에 형성된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들과 동일한 환경을 갖게 된다. As described above, the dummy gate and data lines 155 and 161 and the dummy gate and data pads 151 and 157 are formed to form the gate and data lines GL and DL formed at the outermost portion of the display area AA. ) Have the same environment as the gate and data lines GL and DL formed in the center of the display area AA.

즉, 각각의 게이트 및 데이터 패드(119, 125, 151, 157)는 외부의 구동회로로부터 상기 박막트랜지스터(T)를 제어하기 위한 게이트 및 데이터신호를 인가받아, 이를 표시영역(AA)내의 상기 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들에 공급하고, 상기 비표시영역에 형성된 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)으로도 소정의 신호가 인가된다. That is, each of the gates and data pads 119, 125, 151, and 157 receives a gate and a data signal for controlling the thin film transistor T from an external driving circuit, and the gates and data pads 119, 125, 151, and 157 receive the gate and data signals from the external driving circuit. And a predetermined signal is supplied to the data lines GL and DL and also applied to the dummy gates and the data lines 155 and 161 formed in the non-display area.

이로써, 상기 표시영역(AA) 내의 최외곽에 형성된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 양 옆 대칭적으로 서로 이웃하는 더미 게이트 및 데이터배선(GL, DL)을 통해 전기적인 영향을 받게 되므로, 상기 표시영역(AA) 내의 중앙부에 형성된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들이 대칭적으로 서로 이웃한 게이트 및 데이터배선(GL, DL)들 로 인한 전기적인 영향을 받는 것과 동일한 환경을 갖게 된다. As a result, the gate and data lines GL and DL formed at the outermost sides of the display area AA are electrically affected by the dummy gates and data lines GL and DL that are adjacent to each other symmetrically. The gate and data lines GL and DL formed at the center portion of the display area AA may have the same environment as those electrically affected by the gate and data lines GL and DL that are symmetrically adjacent to each other.

또한, 상기 더미 게이트 및 데이터배선(155, 161)이 액정패널의 비표시영역의 상기 그라운드배선(미도시)과 상기 표시영역(AA) 최외곽에 배치된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)의 사이에 배치됨으로써, 상기 표시영역(AA) 최외곽에 배치된 게이트 및 데이터배선(GL, DL)은 상기 그라운드배선(미도시)의 영향을 받지 않게 된다. In addition, the dummy gate and data wirings 155 and 161 may be connected to the ground wirings (not shown) of the non-display area of the liquid crystal panel and the gate and data wirings GL and DL disposed at the outermost sides of the display area AA. The gate and data lines GL and DL disposed at the outermost portion of the display area AA are not affected by the ground line (not shown).

도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 절단한 단면도이다. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4.

도시한 바와 같이, 액정패널은 화상이 표시되는 표시영역(AA)과 상기 표시영역(AA)에 신호를 인가하기 위해 외부 구동회로와 연결되는 게이트 및 데이터 패드(129, 미도시)가 위치하는 게이트 및 데이터 패드부(GPA, 미도시)가 구성된 비표시영역(NA)으로 나뉜다. As shown, the liquid crystal panel includes a display area AA in which an image is displayed and a gate connected to an external driving circuit and a data pad 129 (not shown) to apply a signal to the display area AA. And a non-display area NA having a data pad part GPA (not shown).

상기 표시영역(AA)에서 하부의 어레이기판(111)은 투명한 기판 위에 게이트전극(131)을 형성한 다음, 게이트전극(131)이 형성된 기판(111)의 상부에 게이트절연막(133), 액티브층(135, 137), 그리고 소스 및 드레인전극(139a, 139b)을 차례로 형성하여 박막트랜지스터(T)를 형성한다. In the display area AA, the lower array substrate 111 forms a gate electrode 131 on a transparent substrate, and then a gate insulating layer 133 and an active layer on the substrate 111 on which the gate electrode 131 is formed. The thin film transistor T is formed by sequentially forming the 135 and 137 and the source and drain electrodes 139a and 139b.

다음으로, 기판(111)의 전면에 보호층(141)을 형성한 다음, 드레인전극(139b)과 접촉하는 화소전극(143)을 형성한다.Next, the protective layer 141 is formed on the entire surface of the substrate 111, and then the pixel electrode 143 in contact with the drain electrode 139b is formed.

상기 어레이기판의 비표시영역(NA)에는 게이트 및 데이터배선(GL, 미도시)과 연결되는 게이트 및 데이터 패드(129, 미도시)가 형성되며, 상기 게이트배선(125) 상부에 형성된 게이트절연막(133) 상부에는 더미 데이터배선(155)이 더욱 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.A gate and a data pad 129 (not shown) connected to a gate and a data line GL (not shown) are formed in the non-display area NA of the array substrate, and a gate insulating layer formed on the gate line 125 is formed. 133, the dummy data wiring 155 is further formed.

이때, 도시하지는 않았지만 상기 더미 데이터배선(155), 패드는 상기 데이터배선 및 데이터 패드 형성 시 동일한 공정에서 동일물질로 형성하며 상기 더미 게이트배선, 패드는 상기 게이트배선 및 게이터 패드 형성공정과 동일한 공정에서 동일물질로 형성한다. At this time, although not shown, the dummy data wiring 155 and the pad are formed of the same material in the same process when the data wiring and the data pad are formed, and the dummy gate wiring and the pad are formed in the same process as the gate wiring and the gator pad forming process. Form the same material.

한편, 상기 어레이기판(111)과 마주보는 컬러필터기판(113)의 일면에는 격자형상의 블랙매트릭스(115)와, 상기 화소영역(P)에 대응하는 영역에 컬러필터(149)를 구성하고, 상기 컬러필터(149)와 블랙매트릭스(115)의 단차를 없애기 위한 평탄화층(147)을 형성한다. Meanwhile, a black matrix 115 having a lattice shape and a color filter 149 are formed in a region corresponding to the pixel region P on one surface of the color filter substrate 113 facing the array substrate 111. The planarization layer 147 is formed to eliminate the step between the color filter 149 and the black matrix 115.

그리고 상기 평탄화층(147) 상부에 투명한 공통전극(145)을 구성한다.The transparent common electrode 145 is formed on the planarization layer 147.

상기 블랙매트릭스(115)는 상기 어레이기판(111)의 박막트랜지스터(T)와 대응되는 위치에 형성되며 또한, 비표시영역(NA)에 있어서, 상기 게이트 및 데이터 패드부(GPA, 미도시)의 상부에 위치하며, 상기 더미 게이트 및 데이터배선(미도시, 155), 더미 게이트 및 데이터 패드부(미도시) 상부에 위치한다. The black matrix 115 is formed at a position corresponding to the thin film transistor T of the array substrate 111. In addition, in the non-display area NA, the black matrix 115 is formed of the gate and data pad units GPA (not shown). It is located in the upper portion, the dummy gate and data wiring (not shown, 155), the dummy gate and the data pad unit (not shown).

상기 비표시영역(NA)의 어레이기판(111)과 컬러필터기판(113) 사이에는 액정주입을 위한 갭을 형성하고, 주입된 액정의 누설을 방지하는 씰 패턴(117)을 형성한 다음, 상기 어레이기판(111)에 대향하여 컬러필터기판(113)을 배치하고 두 기판을 합착시키게 된다. A gap for forming liquid crystal is formed between the array substrate 111 and the color filter substrate 113 of the non-display area NA, and a seal pattern 117 is formed to prevent leakage of the injected liquid crystal. The color filter substrate 113 is disposed to face the array substrate 111 and the two substrates are bonded to each other.

다음으로, 상기 어레이기판(111)및 컬러필터기판(113)의 이격된 공간에는 액정층(200)을 구성한다. Next, the liquid crystal layer 200 is formed in the spaced space between the array substrate 111 and the color filter substrate 113.

앞서 전술한 바와 같이, 액정패널의 표시영역(AA)의 최외곽에 배치된 게이트 및 데이터배선(GL, 미도시) 외측인 비표시영역(NA)에 더미 게이트 및 데이터배선(미도시, 155)을 더욱 배치함으로써, 액정패널 최외곽 불량인 모서리밝음, 첫 게이트배선 밝음과 같은 불량으로 인한 액정패널 전체적으로 휘도가 균일하지 못한 문제점을 해결할 수 있다. As described above, the dummy gate and the data line (not shown) 155 are disposed in the non-display area NA that is outside the gate and the data line GL (not shown) disposed at the outermost portion of the display area AA of the liquid crystal panel. By further arranging, it is possible to solve the problem that the luminance of the entire liquid crystal panel is not uniform due to defects such as edge brightness, which is the outermost defect of the liquid crystal panel, and brightness of the first gate wiring.

본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 액정패널 표시영역의 최외곽에 배치되는 게이트 및 데이터배선의 외측인 비표시영역에 상기 최외곽 게이트 및 데이터배선과 이웃할 수 있는 더미 게이트 및 데이터배선을 형성함으로써, 액정패널 최외곽 불량인 모서리 밝음 또는, 첫 게이트배선 밝음 등과 같은 문제점을 해결할 수 있는 효과가 있다. As described above, according to the present invention, the dummy gate and the data wiring which are adjacent to the outermost gate and the data wiring are formed in the non-display area that is outside the gate and the data wiring disposed in the outermost of the liquid crystal panel display region. By doing so, there is an effect that can solve the problems such as the edge bright or the first gate wiring bright that is the outermost defective liquid crystal panel.

또한, 이로 인하여 액정패널 전체적으로 빛을 균일하게 할 수 있는 효과가 있다. In addition, this has the effect of making the light uniform throughout the liquid crystal panel.

Claims (11)

표시영역과 비표시영역으로 나뉘어진 제 1 기판과;A first substrate divided into a display area and a non-display area; 상기 제 1 기판 상의 표시영역의 일 방향으로 배치되는 게이트배선과;A gate wiring disposed in one direction of the display area on the first substrate; 상기 게이트배선과 교차하여 화소영역을 정의하는 데이터배선과;A data line crossing the gate line and defining a pixel area; 상기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 구성된 게이트배선과 평행하게 위치하는 더미 게이트배선과;A dummy gate line in the non-display area, the dummy gate line being positioned in parallel with the gate line formed at the outermost portion of the display area; 상기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 구성된 데이터배선과 평행하게 위치하며 상기 더미 게이트 배선과 교차하여 더미 화소영역을 정의하는 더미 데이터배선과;A dummy data line in the non-display area, parallel to the data line configured at the outermost portion of the display area and defining a dummy pixel area crossing the dummy gate line; 상기 게이트 및 데이터배선의 교차부에 위치하는 박막트랜지스터와;A thin film transistor positioned at an intersection of the gate and the data line; 상기 화소영역 상에 위치하는 화소전극과;A pixel electrode on the pixel area; 상기 제 1 기판과 마주보는 제 2 기판의 일면에 형성되는 블랙매트릭스와 컬러필터, 공통전극과; A black matrix, a color filter, and a common electrode formed on one surface of the second substrate facing the first substrate; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 이격된 공간에 형성된 액정층과;A liquid crystal layer formed in the spaced space between the first substrate and the second substrate; 상기 액정층의 누설을 방지하기 위한 씰 패턴Seal pattern to prevent leakage of the liquid crystal layer 을 포함하며, 상기 더미 화소영역에는 박막트랜지스터가 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And a thin film transistor is not formed in the dummy pixel region. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 박막트랜지스터는 상기 게이트 및 데이터배선의 교차부에 위치하며, 게 이트전극, 게이트절연막, 액티브층, 그리고 소스 및 드레인전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The thin film transistor is positioned at the intersection of the gate and the data line, and includes a gate electrode, a gate insulating layer, an active layer, and a source and a drain electrode. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 드레인전극은 상기 화소전극과 접촉하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the drain electrode is in contact with the pixel electrode. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 블랙매트릭스는 상기 비표시영역과, 상기 컬러필터 사이에 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the black matrix is arranged between the non-display area and the color filter. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 게이트 및 데이터배선과 상기 더미 게이트 및 데이터배선은 구동회로로부터 소정의 신호를 인가받는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. And the gate and data lines and the dummy gate and data lines receive a predetermined signal from a driving circuit. 제 5 항에 있어서, 6. The method of claim 5, 상기 구동회로는 상기 더미 게이트 및 데이터배선과 연결되는 더미 핀(Dummy pin)이 더욱 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치. The driving circuit may further include a dummy pin connected to the dummy gate and the data line. 제 1 기판에 표시영역과 비표시영역을 정의하는 단계와;Defining a display area and a non-display area on the first substrate; 상기 제 1 기판 상의 표시영역에 일방향으로 게이트배선을 형성하는 단계와;Forming gate wirings in one direction on the display area on the first substrate; 상기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 배치된 게이트배선과 이웃한 더미 게이트배선을 형성하는 단계와;Forming a dummy gate wiring adjacent to the gate wiring disposed at the outermost portion of the display area in the non-display area; 상기 게이트배선과 교차하여 화소영역을 정의하는 데이터배선을 형성하는 단계와;Forming a data line crossing the gate line to define a pixel area; 상기 비표시영역에, 상기 표시영역의 최외곽에 배치된 데이터배선과 이웃하고 상기 더미 게이트 배선과 교차하여 더미 화소영역을 정의하는 더미 데이터배선을 형성하는 단계와;Forming a dummy data line in the non-display area, the dummy data line being adjacent to the data line disposed at the outermost portion of the display area and crossing the dummy gate line to define a dummy pixel area; 상기 게이트 및 데이터배선의 교차부에 위치하는 박막트랜지스터를 형성하는 단계와;Forming a thin film transistor positioned at an intersection of the gate and the data line; 상기 화소영역 상에 화소전극을 형성하는 단계와;Forming a pixel electrode on the pixel region; 상기 제 1 기판과 마주보는 제 2 기판의 일면에 블랙매트릭스와 컬러필터, 공통전극을 형성하는 단계와; Forming a black matrix, a color filter, and a common electrode on one surface of the second substrate facing the first substrate; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판의 이격된 공간에 액정층을 형성하는 단계와;Forming a liquid crystal layer in the spaced space between the first substrate and the second substrate; 상기 액정층의 누설을 방지하기 위한 씰 패턴을 형성하는 단계Forming a seal pattern to prevent leakage of the liquid crystal layer; 를 포함하며, 상기 더미 화소영역에는 박막트랜지스터가 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. Wherein the thin film transistor is not formed in the dummy pixel region. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 게이트 및 데이터배선과 상기 더미 게이트 및 데이터배선의 일 끝단에는 각각의 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. And a pad at each end of the gate and data lines and the dummy gate and data lines. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 박막트랜지스터는 기판 상에 게이트금속을 형성하는 단계와; 상기 게이트금속 상부에 게이트절연막, 액티브층을 차례로 형성하는 단계와; 상기 액티브층 상부에 서로 이격되는 소스 및 드레인전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. The thin film transistor may include forming a gate metal on a substrate; Sequentially forming a gate insulating film and an active layer on the gate metal; And forming source and drain electrodes spaced apart from each other on the active layer. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 더미 데이터배선은 상기 데이터배선 형성 시 동일한 공정에서 동일물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. And the dummy data wirings are formed of the same material in the same process when the data wirings are formed. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 더미 게이트배선은 상기 게이트배선 형성 시 동일한 공정에서 동일물질 로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법. And the dummy gate wirings are formed of the same material in the same process when the gate wirings are formed.
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