[go: up one dir, main page]

KR101087498B1 - 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법 - Google Patents

바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101087498B1
KR101087498B1 KR1020080113614A KR20080113614A KR101087498B1 KR 101087498 B1 KR101087498 B1 KR 101087498B1 KR 1020080113614 A KR1020080113614 A KR 1020080113614A KR 20080113614 A KR20080113614 A KR 20080113614A KR 101087498 B1 KR101087498 B1 KR 101087498B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
compound
binaphthol
aldehyde
optically pure
Prior art date
Application number
KR1020080113614A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20100054627A (ko
Inventor
김관묵
안윤수
박현정
Original Assignee
주식회사 아미노룩스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 아미노룩스 filed Critical 주식회사 아미노룩스
Priority to KR1020080113614A priority Critical patent/KR101087498B1/ko
Priority to PCT/KR2008/007282 priority patent/WO2010055966A1/en
Publication of KR20100054627A publication Critical patent/KR20100054627A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101087498B1 publication Critical patent/KR101087498B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C07C45/70—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form
    • C07C45/71—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form being hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C47/00—Compounds having —CHO groups
    • C07C47/52—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings
    • C07C47/575—Compounds having —CHO groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

본 발명은 하기 화학식 1의 화합물 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure 112010023550482-pat00001
상기 화학식 1의 화합물은 2,2'-바이나프톨-3-알데히드의 2' 히드록시기의 수소 위치에 다양한 치환기를 매우 효율적으로 도입하는 것을 가능하게 한다. 또한, 본 발명의 제조방법은 상기 화학식 1의 화합물을 매우 안전한 방법으로 저렴하게 제조하는 방법을 제공한다.
키랄 합성, 아미노산, 아미노 알코올, 바이나프톨

Description

바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법{Binaphthol aldehyde derivatives and method for preparing the same}
본 발명은 2,2'-바이나프톨-3-알데히드(2,2'-binaphthol-3-aldehyde)의 2' 히드록시기의 수소 위치에 선택적으로 다양한 치환기를 도입하는데 있어서 매우 유용한 신규 화합물인 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
2,2'-바이나프톨-3-알데히드(2,2'-binaphthol-3-aldehyde)의 2' 히드록시기의 수소가 선택적으로 치환된 화합물들은 다양한 용도로 사용되고 있다. 이러한 화합물들 중에서, 이민 결합을 통하여 키랄 아미노 알코올 또는 아미노산의 키랄성을 인식하여 이들을 각각의 광학이성질체로 분리하거나, L-아미노산을 D-아미노산으로 변환시키는데 매우 유용한 하기 화학식 8의 화합물은 본 발명의 발명자들에 의해 개발되어((a)Park, H.; Kim, K. M.; Lee, A.; Ham, S.; Nam, W.; Chin, J. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 1518-1519;(b) Kim, K. M.; Park, H.; Kim, H.; Chin, J.; Nam, W. Org. Lett. 2005, 7, 3525-3527.), 특허 등록(한국특허등록 제10-0661280호)된 바 있다.
[화학식 8]
Figure 112008078890543-pat00002
그런데, 이러한 2,2'-바이나프톨-3-알데히드(2,2'-binaphthol-3-aldehyde)의 2' 히드록시기의 수소를 치환하는 종래의 기술에 의하면, 상기 2' 히드록시기에 대한 선택성이 낮아서 2 히드록시기의 수소에 대한 치환체와 2' 히드록시기의 수소에 대한 치환체가 혼합된 생성물이 얻어지며, 이 혼합물의 분리가 쉽지 않아서 목적물의 제조 효율이 크게 저하되는 문제가 있다. 따라서, 2' 히드록시기의 수소에 대한 선택성을 높여서 부산물이 생성되지 않게 하는 기술이 요구되었다.
한편, 본 발명의 신규 화합물인 바이나프톨 알데히드 유도체는 하기 화학식 1로 표시되는데, 이러한 화합물의 제조에는 하기 화학식 2의 화합물이 사용될 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112008078890543-pat00003
[화학식 2]
Figure 112008078890543-pat00004
종래의 기술에 의하면, 상기 화학식 2의 바이나프톨 알데히드 화합물은 광학적으로 순수한 바이나프톨을 출발물질로 사용하여 포밀기(-CHO)를 도입하여 제조된다. 이 때, 바이나프톨에 포밀기를 도입하는 과정은 -OH 기를 MOM(methoxy methyl)으로 보호한 후, n-부틸리튬(n-Butyl lithium) 과 DMF를 사용하여 진행되는 것이 일반적이다. 그러나 이 방법은 수분에 매우 민감하여 일반적인 공정에서는 사용하기 어려운 문제를 갖고 있다. 따라서, 안전한 방법으로 상기 화학식 2의 바이나프톨 알데히드 화합물을 제조하는 방법이 요구되었다.
또한 출발물질로 사용되는 바이나프톨의 값이 비교적 고가이므로 보다 저렴한 물질을 사용하는 방법의 개발도 필요하였다.
본 발명은, 종래기술의 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로서, 2,2'-바이나프톨-3-알데히드(2,2'-binaphthol-3-aldehyde)의 2' 히드록시기의 수소 위치에 선택적으로 다양한 치환기를 도입하는데 있어서 매우 효과적인 신규 화합물인 화학식 1의 바이나프톨 알데히드 유도체를 제공하는 것을 목적으로 하다.
또한, 상기 화학식 1의 바이나프톨 알데히드 유도체를 n-Butyl lithium과 같은 위험한 물질을 사용하지 않고 안전한 방법에 의해 저렴한 가격으로 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은,
하기 화학식 1의 화합물을 제공한다.
Figure 112008078890543-pat00005
상기 식에서, X 및 Y는 각각 독립적으로 수소; 할로겐; 아미노; 니트로; 시아노; 포밀; 카르복실; 할로겐, 히드록시, 아미노, 시아노, 니트로, 및 C6~C10의 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1~C10의 알킬; C1~C10의 알킬카르보닐; C6~C10의 아릴; 및 C1~C10의 알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되며; n 및 m은 0~5의 정수이고; R1은 C1~C5의 알킬, C6~C10의 아릴알킬, 및 C2~C10의 알콕시알킬로 이루어진 군으로부터 선택된다.
또한, 본 발명은,
하기 화학식 2의 화합물과 하기 화학식 9의 화합물을 염기의 존재 하에 반응시키는 단계를 포함하는 상기 화학식 1의 화합물의 제조방법을 제공한다.
Figure 112010023550482-pat00007
Figure 112010023550482-pat00029
상기 식에서, X, Y, n, m 및 R1은 상기 정의한 바와 동일하다.
본 발명의 신규 화합물인 화학식 1의 바이나프톨 알데히드 유도체를 사용하는 경우, 2,2'-바이나프톨-3-알데히드(2,2'-binaphthol-3-aldehyde)의 2' 히드록시기의 수소 위치에 다양한 치환기를 매우 효율적으로 도입할 수 있다.
또한, 본 발명의 제조방법은 상기 화학식 1의 바이나프톨 알데히드 유도체를 매우 안전한 방법으로 저렴하게 제조하는 방법을 제공한다. 따라서, 이러한 방법은 산업적인 규모의 생산라인에 적용될 경우 매우 큰 효과를 제공할 수 있다.
본 발명은,
하기 화학식 1의 화합물에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure 112008078890543-pat00008
상기 식에서, 상기 X, Y, n, m 및 R1은 상기 정의한 바와 동일하다.
상기 화학식 1의 화합물에 있어서, X 및 Y는 각각 독립적으로 수소; 할로겐; 아미노; 시아노; 카르복실; 할로겐, 히드록시, 아미노, 시아노, 니트로, 및 C6~C10의 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1~C10의 알킬; C1~C10의 알킬카르보닐; C6~C10의 아릴; 및 C1~C10의 알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되며; n 및 m은 0~5의 정수이고; R1은 C1~C5의 알킬 및 C6~C10의 아릴알킬로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다.
상기 화학식 1의 화합물에 있어서, n 및 m은 0이며; R1은 메틸 또는 에틸인 것이 더욱 바람직하다.
상기 화학식 1의 화합물은 2,2'-바이나프톨-3-알데히드의 2' 히드록시기의 수소가 치환된 화합물의 제조시 중간체로 유용하게 사용될 수 있다.
본 발명은 또한,
상기 화학식 2의 화합물과 상기 화학식 9의 화합물을 염기의 존재 하에 반응시키는 단계를 포함하는 화학식 1의 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
삭제
삭제
상기의 제조방법을 반응식으로 표시하면 다음과 같다.
Figure 112008078890543-pat00011
상기 반응에서 반응을 위한 용매로는 N,N-디메틸포름아마이드(N,N-dimethylformamide, DMF), 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran, THF), CH2Cl2 등을 사용할 수 있으며, DMF가 바람직하다. 상기 반응에 사용되는 염기로는 Et3N, NaH, NaOH 등의 유기 또는 무기염기를 들 수 있으며, Et3N 또는 NaH가 바람직하다. 또한 상기 반응은 -40~30℃에서 이루어지며, 상온에서 수행하는 것이 바람직하다.
상기 반응에서 상기 화학식 9의 화합물은 주로 2 히드록시의 수소 위치에 치환되며, 상기 화학식 9의 화합물이 2 히드록시기 및 2' 히드록시기의 수소 위치에 모두 치환된 화합물이 일부 생성된다. 그러나, 이러한 반응 부산물은 가수분해하여 다시 화학식 2의 화합물로 만들면 재활용이 가능하다. 상기 화학식 1의 화합물은 재결정을 통해 98% 이상의 순도 및 90% 이상의 수율로 수득될 수 있다.
상기 화학식 2의 화합물은 하기 화학식 4의 화합물을 환원시켜서 하기 화학식 3의 화합물을 얻는 단계 및 상기 단계에서 얻은 화학식 3의 화합물을 산화시키는 단계를 포함하여 제조될 수 있다.
Figure 112008078890543-pat00014
Figure 112008078890543-pat00015
상기 화학식 3 및 4에 있어서, X, Y, n 및 m은 상기 정의한 바와 동일하고; R2는 수소, C1~C5의 알킬, 토실(tosyl), CH3SO2-, 및 CH3CO-로 이루어진 군으로부터 선택된다.
상기 화학식 2의 화합물의 제조방법을 반응식으로 표시하면 다음과 같다.
Figure 112008078890543-pat00016
상기 반응 a는 환원제(예: LiAlH4, NaBH4)를 용매(예: THF)에 녹인 후, 상기 화학식 4의 화합물을 첨가하여 진행되는 반응을 의미한다. 이 반응에서 환원제 및 용매로는 이 분야에 공지된 것을 제한 없이 사용될 수 있다. 상기에서 반응은 약 3~7 시간 정도 진행시키는 것이 바람직하다.
상기 반응 b는 상기 화학식 3의 화합물과 산화제(예: 피리디늄 클로로크로메이트(PCC), DMSO/Ac2O)를 용매(예: 메틸렌클로라이드)에 녹인 후, 대략 1~6 시간 동안 반응시키는 것을 의미한다. 상기에서 반응은 실온에서 진행될 수 있다. 이 반응에서 산화제 및 용매로는 이 분야에 공지된 것을 제한 없이 사용될 수 있다.
상기에서 반응 a 및 b는 모두 거의 정량적으로 진행되어 경제적이며, 종래의 기술에서처럼, n-부틸리튬(n-butyl lithium)과 같이 위험성이 높은 화합물을 사용할 필요가 없으므로 매우 안전하다는 장점을 갖는다. 따라서, 상기와 같은 방법에 의하여 본 발명의 목적 화합물인 화학식 1의 화합물이 안전하고 경제적으로 제조될 수 있다.
상기 화학식 4의 화합물은 하기 화학식 5의 화합물과 하기 화학식 6의 화합물을 CuCl(OH)-TMEDA(Tetramethylethylenediamine)를 사용하여 반응시키는 방법에 의해 제조될 수 있다.
삭제
Figure 112008078890543-pat00017
Figure 112008078890543-pat00018
상기 화학식 5 및 6에 있어서, X, Y, n, m 및 R2는 상기 정의한 바와 동일하고; 단, 상기 화학식 5 및 화학식 6의 8번 위치에는 X 또는 Y가 존재하지 않는다.
상기 화학식 4의 화합물의 제조방법을 반응식으로 표시하면 다음과 같다.
Figure 112008078890543-pat00019
상기 반응은 매우 저렴한 화학식 5 및 화학식 6의 화합물을 사용하여 공지된 방법(M. Noji, M. Nakajima and K.Koga. Tetrahedron Lett. 35 (1994), p. 7983-7984.)을 응용 및 개선하여 진행될 수 있다. 간단히 설명하면, 상기 반응은 화학식 5의 화합물을 THF에 녹인 후, 화학식 6의 화합물을 첨가한 후, 이 혼합 용액에 CuCl(OH)-TMEDA를 가하고 산소하에서 반응시켜 진행하는 것을 특징으로 한다(자세한 내용 실시예 1 참고). 상기 화학식 5 및 6의 화합물은 종래의 기술에서 사용되던 고가의 바이나프톨과 달리, 저렴하며 대량 구매가 가능하여, 본 발명의 목적화합물인 화학식 1의 화합물을 경제적으로 제조할 수 있게 한다.
상기 반응에 의해 화학식 4의 화합물이 합성될 경우 라세믹 혼합물로 얻어지게 되므로 광학적으로 순수한 화학식 4의 화합물을 얻어야 할 필요성이 있다.
따라서, 본원발명의 제조방법은 상기 화학식 4의 화합물을 환원시키는 단계 전에, 상기 화학식 4의 화합물을 가수분해하여 2,2'-디히드록시-3-바이나프톨산을 얻고, 이를 징코니딘(cinchonidine)으로 분리(resolution)하여 광학적으로 순수한 형태로 제조하는 단계를 더 포함할 수 있다.
광학적으로 순수한 화학식 4의 화합물을 얻는 방법을 예를들어 설명하면 하기의 반응식 4와 같다.
Figure 112008078890543-pat00020
즉, 상기 화학식 4의 화합물을 가수분해하여 2,2'-디히드록시-3-바이나프톨산(2,2’-dihydroxy-3-binaphtholic acid) 유도체로 만들어 분리(resolution)한다. 이러한 분리 기술은 Hovorka, M. 등(Hovorka, M.; Stibor, I; Holakovsky, R.; Smiskova, I.; Struzka, V.r. Czech Rep. (2001), CZ 287879 B6 20010314 Patent written in Czech. Application: CZ 96-64 19960109)에 의해 공지되어 있다. 분리된(S)-2,2'-디히드록시-3-바이나프톨산(2,2’-dihydroxy-3-binaphtholic acid) 유도체는 에스테르화에 의해 간단히 R2 에스테르로 바뀌므로 결국 (S)형의 순수한 화합물 4를 얻을 수 있게 된다. 물론, (R)형을 분리하여 사용하는 것도 가능하다.
상기와 같이 분리된 광학적으로 순수한 화학식 4의 화합물을 사용하여 상기 반응식 1 및 2에 따라 반응을 진행하여 목적 화합물인 상기 화학식 1의 화합물을 제조할 수 있다.
본 발명의 화학식 1의 화합물의 일사용 예는 이민 결합을 통하여 키랄 아미노 알코올 또는 아미노산의 키랄성을 인식하여 이들을 각각의 광학이성질체로 분리하거나, L-아미노산을 D-아미노산으로 변환시키는데 매우 유용한 하기 화학식 8의 화합물의 제조를 위한 중간체로 쓰이는 것이다. 상기 제조방법을 도시하면 하기 반응식 5와 같다.
Figure 112008078890543-pat00021
상기 반응식 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 화학식 1의 화합물을 염기 존재하에서 (3-페닐우레일)벤질 브로마이드((3-phenyluryl)benzyl bromide)와 반응 시키고, 가수분해하면 화학식 8의 화합물을 90% 이상의 수율로 합성할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 이용하여 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되지 않고 다양하게 수정 및 변경될 수 있다.
실시예 1: 화학식 4의 화합물 제조(2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl-3-carboxylic acid methyl ester)
화합물 4는 공지된 논문(M. Noji, M. Nakajima and K.Koga. Tetrahedron Lett. 35 (1994), p. 7983-7984.)의 합성 방법을 응용 및 개선하여 합성되었다. 즉, 3-히드록시-2-나프탈레이트 메틸 에스터(3-hydroxy-2-naphthalate methyl ester, 2.0 g, 9.89 mmol)를 THF(20 ml)에 녹인 후 2-naphthol(1.42 g, 9.89 mmol)을 첨가하였다. 상온에서 이 혼합 용액에 CuCl(OH)-TMEDA(1.15 g, 4.94 mmol)을 첨가하고 산소하에서 3일 동안 교반하였다. 반응이 끝난 후 THF를 제거하고 클로로포름 10 ml와 1 N 염산 용액(2 x 5 ml)으로 추출한 후, 유기층을 증발시켜 건조한 후 얻은 고체화합물을 CHCl3/n-헥산에서 재결정하여 2,2'-디히드록시-1,1'-바이나프틸-3-카르복실산 메틸 에스테르 화합물을 얻었다(3.1 g, 수율: 90%).
m.p. 167 ℃; 1H NMR(CDCl3, 250 MHz): δ10.80(s, 1H), 8.74(s, 1H), 7.8- 8.0(m, 3H), 7.0-7.5(m, 8H), 4.06(s, 3H).
실시예 2: 화학식 3의 화합물 제조(2,2'-dihydroxy-3-hydroxymethyl-1,1'-binaphthalene)
리튬알루미늄 하이드라이드(LiAlH4, 0.51 g, 13.3 mmol)를 THF(30 ml)에 녹인 후, 상기 실시예 1에서 제조된 2,2'-디히드록시-1,1'-바이나프틸-3-카르복실산 메틸 에스테르(3.07 g, 8.89 mmol)를 얼음 bath 에서 첨가하였다. 5시간 동안 상온에서 교반한 후 묽은 염산을 가하여 반응을 종결시킨 후 에틸 아세테이트(EA)로 추출한 후, 무수 MgSO4로 처리하고 농축하여 2,2'-디히드록시-3-히드록시메틸-1,1'-바이나프탈렌 화합물을 얻었다(2.53 g, 수율: 90%).
m.p. 194 ℃; 1H NMR(DMSO-d6, 250 MHz): δ7.8-8.0(m, 4H), 6.7-7.4(m, 7H), 4.74(s, 2H).
실시예 3: 화학식 2의 화합물 제조(2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl-3-carboxaldehyde)
상기 실시예 2에서 얻은 2,2'-디히드록시-3-히드록시메틸-1,1'-바이나프탈렌(2.53 g, 7.98 mmol)과 피리디늄 클로로크로메이트(PCC, 3.44 g, 15.9 mmol)를 메틸렌 클로라이드(50 mL)에 넣고 3시간 동안 상온에서 교반하였다. 반응이 끝난 후 침전을 걸러버리고 얻은 용액을 농축하여 고체 형태의 2,2'-디히드록시-1,1'-바이나프틸-3-알데히드 화합물을 얻었다(2.14 g, 수율: 85%).
1H NMR(CDCl3, 250 MHz): δ10.24(s, 1H), 8.38(s, 1H), 7.8-8.1(m, 3H), 7.0-7.6(m, 7H), 4.95(s, 1H).
실시예 4: 화학식 1의 화합물 제조(2-methoxymethoxy-2'-hydroxy-1,1'-binaphthyl-3-carboxaldehyde)
Hovorka, M. 등의 방법으로 분리(resolution)한 (S)-2,2'-디히드록시-3-바이나프톨산을 에스테르화하여 얻은 (S)-2,2'-디히드록시-1,1'-바이나프톨산 메틸 에스터를 상기 실시예 1 내지 3을 거쳐서 (S)-2,2'-디히드록시-1,1'-바이나프틸-3-알데히드를 제조하였다. 그렇게 얻은 (S)-2,2'-디히드록시-1,1'-바이나프틸-3-알데히드(3.9 g, 12. 4 mmol)를 DMF(40 ml)에 녹인 후 잘 교반하면서 NaH(0.45 g, 11 mmol)을 첨가하였다. 이 용액에 DMF(40 ml)에 녹인 메톡시메틸 클로라이드(MOMCl, 1.08 ml, 12.4 mmol)를 첨가한 후, 15시간 동안 반응시켰다. 반응이 끝난 용액을 물과 에틸 아세테이트(EA)로 추출하고 유기층을 건조시킨 후, 얻은 생성물을 컬럼크로마토그래피(용출액: EA/헥산1/5)하여 화학식 1의 화합물인 (S)-2-메톡시메톡시-2'-히드록시-1,1'-바이나프틸-3-알데히드 화합물을 얻었다(2.9 g, 수율: 65%)
m.p. 164 ℃; [α]D = -108.2(c = 0.42 in EtOH); 1H NMR(CDCl3, 250 MHz): δ10.59(s, 1H), 8.62(s, 1H), 8.09(d, 1H), 7.99-7.88(m, 2H), 7.54-7.27(m, 6H), 7.07(d, 1H), 5.08(s, 1H), 4.74(dd, 2H), 3.03 ppm(s, 3H); 13C NMR(CDCl3, 62.5 MHz): δ154.4, 151.0, 136.6, 133.3, 132.7, 130.0, 130.7, 130.3, 129.7, 128.2, 128.5, 127.3, 126.1, 125.4, 124.3, 124.7, 123.4, 118.5, 114.2, 100.8, 57.3 ppm. HRMS(EI) calcd for C23H18O4: 358.1205; found: 358.1198

Claims (12)

  1. 하기 화학식 1의 화합물:
    [화학식 1]
    Figure 112011009830275-pat00022
    상기 식에서, X 및 Y는 각각 독립적으로 수소; 할로겐; 시아노; 카르복실; 할로겐, 히드록시, 시아노, 니트로, 및 C6~C10의 아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1~C10의 알킬; C6~C10의 아릴; 및 C1~C10의 알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되며; n 및 m은 0~5의 정수이고; R1은 C1~C5의 알킬 또는 C6~C10의 아릴알킬이다.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서, n 및 m은 0이며; R1은 메틸 또는 에틸인 것을 특징으로 하는 화학식 1의 화합물.
  4. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 광학적으로 순수하고 (S)형으로 존재하는 화학식 1의 화합물.
  5. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 광학적으로 순수하고 (R)형으로 존재하는 화학식 1의 화합물.
  6. 하기 화학식 2의 화합물과 하기 화학식 9의 화합물을 염기의 존재 하에 반응시키는 단계를 포함하는 제 1 항의 화학식 1의 화합물의 제조방법:
    [화학식 2]
    Figure 112010023550482-pat00024
    [화학식 9]
    Figure 112010023550482-pat00030
    상기 식에서, X, Y, n, m 및 R1은 상기 정의한 바와 동일하다.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 화학식 2의 화합물이 하기 화학식 4의 화합물을 환원시켜서 하기 화학식 3의 화합물을 얻는 단계 및 상기 단계에서 얻은 화학식 3의 화합물을 산화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 1의 화합물의 제조방법:
    [화학식 3]
    Figure 112011009830275-pat00025
    [화학식 4]
    Figure 112011009830275-pat00026
    상기 화학식 3 및 4에 있어서, X, Y, n 및 m은 상기 정의한 바와 동일하고; R2는 수소 또는 C1~C5의 알킬이다.
  8. 제 7 항에 있어서, n 및 m은 0이며; R2는 메틸인 것을 특징으로 하는 화학식 1의 화합물의 제조방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 화학식 4의 화합물을 환원시키는 단계 전에, 상기 화학식 4의 화합물을 가수분해하여 2,2'-디히드록시-3-바이나프톨산을 얻고, 이를 징코니딘(cinchonidine)으로 분리(resolution)하여 광학적으로 순수한 형태로 제조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 1의 화합물의 제조방법.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 화학식 4의 화합물이 하기 화학식 5의 화합물과 하기 화학식 6의 화합물을 CuCl(OH)-TMEDA를 사용하여 반응시키는 방법에 의해 제조되는 것임을 특징으로 하는 화학식 1의 화합물의 제조방법:
    [화학식 5]
    Figure 112010023550482-pat00027
    [화학식 6]
    Figure 112010023550482-pat00028
    상기 화학식 5 및 6에 있어서, X, Y, n, m 및 R2는 상기 정의한 바와 동일하고; 단, 상기 화학식 5 및 화학식 6의 8번 위치에는 X 또는 Y가 존재하지 않는다.
  11. 제 6 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물이 광학적으로 순수하고 (S)형으로 존재하는 화학식 1의 화합물의 제조방법.
  12. 제 6 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물이 광학적으로 순수하고 (R)형으로 존재하는 화학식 1의 화합물의 제조방법.
KR1020080113614A 2008-11-14 2008-11-14 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법 KR101087498B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080113614A KR101087498B1 (ko) 2008-11-14 2008-11-14 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법
PCT/KR2008/007282 WO2010055966A1 (en) 2008-11-14 2008-12-10 Binaphthol aldehyde derivatives and method for preparing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080113614A KR101087498B1 (ko) 2008-11-14 2008-11-14 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100054627A KR20100054627A (ko) 2010-05-25
KR101087498B1 true KR101087498B1 (ko) 2011-11-28

Family

ID=42170093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080113614A KR101087498B1 (ko) 2008-11-14 2008-11-14 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101087498B1 (ko)
WO (1) WO2010055966A1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120067586A (ko) 2010-12-16 2012-06-26 주식회사 아미노룩스 광학적으로 순수한 바이나프톨 유도체 및 그의 제조 방법
KR20130053244A (ko) * 2011-11-15 2013-05-23 주식회사 아미노로직스 2,2'-디히드록시-1,1'-바이나프틸-3-카르복실산의 제조방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100661280B1 (ko) 2005-02-01 2006-12-26 이화여자대학교 산학협력단 바이나프톨 유도체, 및 광학적 분할 또는 광학적 변환을위한 그의 용도

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100870227B1 (ko) * 2007-07-20 2008-11-24 (주)그린포뮬라 강력한 수소결합 제공기를 갖는 알라닌 라스메이즈 모방키랄 바이나프톨 유도체 및 이 유도체를 이용한 광학 분할및 변환 방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100661280B1 (ko) 2005-02-01 2006-12-26 이화여자대학교 산학협력단 바이나프톨 유도체, 및 광학적 분할 또는 광학적 변환을위한 그의 용도

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Tetrahedron, 1992, 48(43), pp. 9503-9516

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100054627A (ko) 2010-05-25
WO2010055966A1 (en) 2010-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2016082583A1 (zh) 消旋δ-羟基酯的不对称催化氢化动力学拆分及其应用
CA2889650C (en) Process and intermediates for preparing lacosamide
CA2847985A1 (en) Process for stereoselective synthesis of prostacyclin derivatives
KR101087498B1 (ko) 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 제조방법
CN106083539B (zh) 一种单氟甲氧基或单氟氘代甲氧基类化合物的合成方法
JP5623835B2 (ja) ジカルボニル化合物、その中間体及びその製造方法
WO2021020998A1 (ru) Способ получения роксадустата
KR101087500B1 (ko) 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 중간체의 제조방법
JP6420673B2 (ja) シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸ビス［４−（６−アクリロイルオキシヘキシル）フェニル］の製造方法
KR20100039114A (ko) 바이나프톨 알데히드 유도체 및 그의 중간체의 제조방법
JP2009073739A (ja) 医薬品中間体として許容しうる高純度な光学活性１−アリール−１，３−プロパンジオールの製造方法
KR101686087B1 (ko) 광학 활성을 갖는 인돌린 유도체 또는 이의 염의 신규 제조 방법
CN112778199B (zh) 含硝酸酯官能团的化合物及其合成方法
KR101069699B1 (ko) 나프토피란계 광변색 염료의 제조에 사용되는 중간체의 제조방법
JP2009263605A (ja) 分子カプセルおよびその製造方法
JP5023322B2 (ja) 縮合多環化合物の製造方法
KR101691792B1 (ko) 광학적으로 순수한 바이나프톨 유도체의 제조 방법
CN108863899B (zh) 一种吲哚啉-2-酮类化合物的合成方法及其应用
JP2002069026A (ja) （ｅ）−３−メチル−２−シクロペンタデセノンの製造法
KR20120067586A (ko) 광학적으로 순수한 바이나프톨 유도체 및 그의 제조 방법
CN119431211A (zh) 一种中间体及其制备方法和应用
JP3144920B2 (ja) α−アシルアミノケトン誘導体、その製造方法及びその利用
KR100835604B1 (ko) 항암 효과를 갖는 불포화 케톤 및 그 유도체의 제조 방법
Klis et al. A Convenient Synthesis of 2-Phenylglycerol
JP2005075734A (ja) 光学活性ホモクエン酸の製法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20081114

PA0201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
PN2301 Change of applicant

Patent event date: 20090406

Comment text: Notification of Change of Applicant

Patent event code: PN23011R01D

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20101213

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20110831

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20111122

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20111122

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141028

Year of fee payment: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20141028

Start annual number: 4

End annual number: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151026

Year of fee payment: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20151026

Start annual number: 5

End annual number: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161118

Year of fee payment: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20161118

Start annual number: 6

End annual number: 6

PC1903 Unpaid annual fee

Termination category: Default of registration fee

Termination date: 20200903