KR101079170B1

KR101079170B1 - Connector having a type for connecting with goniometer

Info

Publication number: KR101079170B1
Application number: KR1020100019207A
Authority: KR
Inventors: 남정대
Original assignee: 남정대
Priority date: 2010-03-03
Filing date: 2010-03-03
Publication date: 2011-11-02
Anticipated expiration: 2030-03-03
Also published as: KR20110100108A

Abstract

경통이 진공상태로 유지되는 검사장치의 고니오미터에 연결되는 고니오미터 연결형 커넥터로서, 고니오미터에 삽입되는 파이프부와, 파이프부와 연결되는 드럼부와, 드럼부와 연결되고 RF 플라즈마 클리닝 장치 또는 진공펌프와 연결되는 구조를 가지는 플랜지부를 포함하여 구성되고, 경통 내부의 진공펌프에 의해 RF 플라즈마 클리닝 장치의 설정압력을 형성할 수 없는 경우에도 고니오미터 연결형 커넥터를 이용하여 진공펌프를 연결시켜 설정압력을 설정할 수 있고, 경통에 직접적으로 RF 플라즈마 클리닝 장치를 연결하지 않고 고니오미터 연결형 커넥터를 이용하여 고니오미터에 RF 플라즈마 클리닝 장치를 연결시킬 수 있으므로 고진공상태에서의 누출을 방지할 수 있으며, 기존의 검사장치의 구조를 변경시키지 않은 상태에서 기존의 고니오미터 구조를 그대로 이용할 수 있으므로 사용이 편리하고 경제적인 이점이 있다.Goniometer connection type connector is connected to the goniometer of the inspection device in which the barrel is maintained in a vacuum state, the pipe portion is inserted into the goniometer, the drum portion connected to the pipe portion, the drum portion is connected to the RF plasma cleaning It is configured to include a flange portion having a structure connected to the device or the vacuum pump, even if the set pressure of the RF plasma cleaning device can not be formed by the vacuum pump inside the barrel using a goniometer connection type vacuum pump using a connector The set pressure can be set by connecting and the RF plasma cleaning device can be connected to the goniometer using the Goniometer connector without connecting the RF plasma cleaning device directly to the barrel. Can be used without changing the structure of the existing inspection apparatus Can take advantage of the structure is used as a convenient and economical advantages.

Description

CONNECTION HAVING A TYPE FOR CONNECTING WITH GONIOMETER}

본 발명은 고니오미터 연결형 커넥터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 투과전자현미경, 주사전자현미경 또는 접속이온빔 장비 등과 같은 검사장치의 외부에서 RF 플라즈마 클리닝 장치 또는 진공펌프 등을 연결하기 위한 커넥터에 관한 것이다.
The present invention relates to a goniometer connection type connector, and more particularly, to a connector for connecting an RF plasma cleaning device or a vacuum pump to an external device such as a transmission electron microscope, a scanning electron microscope, or a connection ion beam device. .

투과전자현미경(TEM), 주사전자현미경(SEM) 또는 접속이온빔 장비(FIB) 등은 진공상태에서 시편에 대한 고배율의 영상을 관찰하거나 진공상태에서 이온빔을 집속시켜 나노스케일 단위의 크기로 시편을 만들기 위한 장치이다.Transmission electron microscopy (TEM), scanning electron microscopy (SEM), or connected ion beam equipment (FIB) can be used to observe high magnification images of specimens in a vacuum state or to focus the ion beam in a vacuum state to produce specimens in nanoscale size. It is a device for.

투과전자현미경(TEM), 주사전자현미경(SEM) 또는 접속이온빔 장비(FIB) 등은 고에너지로 가속된 전자빔(이온빔)을 시편에 주사하여 고배율 고해상도의 영상을 관찰하거나 나노스케일 단위의 크기로 시편을 만들기 위한 장치인바. 시편과 경통(column)은 모두 고진공 상태로 유지되어야 한다.A transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), or a connected ion beam device (FIB) scans a specimen with high energy accelerated electron beams (ion beams) to observe high-resolution images or to test specimens in nanoscale size. A device for making a cake. Both the specimen and the column should be kept in high vacuum.

도 1에는 일반적인 전자현미경이 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 전자현미경은 진공상태의 경통(1) 내부에 스테이지(3)가 구비되고, 상기 스테이지(3)에 놓은 시편에 전자빔을 주사하여 형성되는 영상을 관찰하도록 구성되어 있다.1 shows a general electron microscope. As shown, the electron microscope is provided with a stage 3 inside the barrel 1 in a vacuum state, and configured to observe an image formed by scanning an electron beam on a specimen placed on the stage 3.

그러나 이러한 전자현미경 내부에는 시편에 의한 오염, 진공펌프에서의 오일 역류 및 장비 수리에 의한 오염 등과 같은 많은 오염인자들이 존재하며, 이러한 오염인자들은 전자현미경에 대한 고해상도 영상을 얻는데 방해요소로 작용한다.However, there are many contaminants in the electron microscope such as contamination by specimens, oil backflow in vacuum pumps, and contamination by equipment repair, and these contamination factors interfere with obtaining a high resolution image of the electron microscope.

따라서, 이러한 오염인자들을 제거하기 위하여 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)를 사용한다. 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)는 외부로부터 공기를 인입시켜 RF 플라즈마를 이용하여 산소 라디칼(radical)을 생성하고, 이러한 산소 라디칼을 경통(1) 내부에 인입시킴으로써 탄화수소 및 유기물 등을 제거하는 장치이다. 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)에 의해 탄화수소 및 유기물은 일산화탄소 등으로 변화되어 진공펌프(11, 13)에 의해 외부로 배출된다. 상기 진공펌프(11, 13)는 예비로 진공상태를 만드는 예비 진공펌프(11)와, 고진공상태를 만드는 고진공 펌프(13)로 구성된다.Therefore, the RF plasma cleaning apparatus 10 is used to remove these contaminants. The RF plasma cleaning apparatus 10 is an apparatus that introduces air from the outside to generate oxygen radicals using RF plasma, and removes hydrocarbons and organic substances by introducing such oxygen radicals into the barrel 1. . By the RF plasma cleaning apparatus 10, hydrocarbons and organic substances are converted into carbon monoxide and discharged to the outside by the vacuum pumps 11 and 13. The vacuum pumps 11 and 13 are constituted by a preliminary vacuum pump 11 which makes a preliminary vacuum state and a high vacuum pump 13 which makes a high vacuum state.

그러나 상기한 바와 같은 종래 기술에 의한 전자현미경에서는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the electron microscope according to the related art as described above has the following problems.

전자현미경 등의 경통 내부를 클리닝하기 위한 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)는 경통(1)에 구비된 진공 포트에 연결되는데, 전자현미경 중에는 흡입펌프(11, 13)에 의해 배기시킨 후 다시 펌핑을 하여 설정압력(0.4 torr)을 만들 수 없는 경우가 있다.The RF plasma cleaning device 10 for cleaning the inside of the barrel, such as an electron microscope, is connected to a vacuum port provided in the barrel 1, which is evacuated by suction pumps 11 and 13 and then pumped again. It may not be possible to create a set pressure (0.4 torr).

즉, RF 플라즈마 클리닝 장치(10)는 챔버의 진공도가 0.4 torr로 유지되는 상태에서 클리닝을 시작하는데, 대부분의 전자현미경의 임계압력(예비 진공펌프(11)에서 고진공 펌프(13)로 전환되는 진공도)이 0.9 torr이기 때문에 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)를 사용할 수 없는 경우가 있다.That is, the RF plasma cleaning apparatus 10 starts cleaning in a state in which the vacuum degree of the chamber is maintained at 0.4 torr, and the threshold pressure of most electron microscopes (the degree of vacuum that is switched from the preliminary vacuum pump 11 to the high vacuum pump 13). ) Is 0.9 torr, so the RF plasma cleaning apparatus 10 may not be used.

또한, 경통(1) 내부를 진공상태로 만들기 위해서는 먼저, 예비 진공펌프(11)에서 저진공 상태를 형성한 후에, 고진공 펌프(13)에 의해 고진공 상태를 만드는데, 고진공 상태에서는 고진공 펌프(13)의 진공속도가 매우 빠르므로(경통(1) 내부의 작은 공간 때문임) RF 플라즈마 클리닝 장치(10)의 진공밸브가 0.4 torr를 제어할 수 있는 시간보다 더 빠르게 고진공 펌프(13)가 진공상태를 형성해버리므로 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)의 진공도인 0.4 torr를 제어할 수 없는 전자현미경이 대부분이다. 이 경우, 보조적인 진공펌프를 연결할 수 있는 장치나 커넥터가 필요하다.In addition, in order to make the inside of the barrel 1 into a vacuum state, first, after forming a low vacuum state in the preliminary vacuum pump 11, a high vacuum state is created by the high vacuum pump 13, but in the high vacuum state the high vacuum pump 13 The vacuum speed of the high vacuum pump (13) is faster than the time that the vacuum valve of the RF plasma cleaning device (10) can control 0.4 torr, because the vacuum speed of the filter is very fast (due to the small space inside the barrel (1)). As a result, most electron microscopes cannot control 0.4 torr, which is the vacuum degree of the RF plasma cleaning apparatus 10. In this case, a device or a connector capable of connecting an auxiliary vacuum pump is required.

한편, RF 플라즈마 클리닝 장치(10)는 경통(1)에 구비된 진공포트에 연결될 수 있는데, 경통(1)에 구비된 진공포트에 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)를 연결하는 경우, 고진공 상태에서의 누출문제가 발생할 수 있으므로 진공포트에 RF 플라즈마 클리닝 장치(10)를 연결하는 것은 바람직하지 않다.On the other hand, the RF plasma cleaning apparatus 10 may be connected to the vacuum port provided in the barrel 1, in the case of connecting the RF plasma cleaning device 10 to the vacuum port provided in the barrel 1, in a high vacuum state It is not preferable to connect the RF plasma cleaning device 10 to the vacuum port because of a leakage problem.

또한, 경통(1)에는 일반적으로 하나의 진공포트가 구비되는데, 상기 진공포트에 진공라인, 고니오미터 또는 대물렌즈 조리개 등이 연결되는 경우에는, RF 플라즈마 클리닝 장치(10)를 연결할 수 없는 문제점이 있다.
In addition, the barrel 1 is generally provided with a vacuum port, when a vacuum line, a goniometer or an objective aperture is connected to the vacuum port, the RF plasma cleaning device 10 cannot be connected. There is this.

본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 고니오미터에 연결됨으로써 진공펌프 또는 RF 플라즈마 클리닝 장치를 검사장치와 연결하기 위한 커넥터를 제공하는 것이다.
The present invention is to solve such a conventional problem, it is an object of the present invention to provide a connector for connecting a vacuum pump or RF plasma cleaning device to the inspection apparatus by being connected to the goniometer.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 본 발명의 고니오미터 연결형 커넥터는 경통 내부가 진공상태로 유지되는 검사장치의 고니오미터에 연결되고, 일단에 외부 접속장치가 연결되기 위한 구조를 포함하는 것이 바람직하다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, the goniometer-connected connector of the present invention is connected to the goniometer of the inspection apparatus that the inside of the barrel is maintained in a vacuum state, and the external connection device is connected to one end It is preferable to include a structure.

본 발명의 외부 접속장치는 진공펌프 또는 RF 플라즈마 클리닝 장치인 것이 바람직하다.The external connection device of the present invention is preferably a vacuum pump or an RF plasma cleaning device.

본 발명은 고니오미터에 삽입되는 파이프부;및 상기 파이프부와 연결되고, 상기 진공펌프 또는 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치와 연결되는 구조를 포함하는 플랜지부를 포함하는 것이 바람직하다.The present invention preferably includes a pipe portion inserted into the goniometer; and a flange portion connected to the pipe portion and including a structure connected to the vacuum pump or the RF plasma cleaning apparatus.

본 발명의 파이프부와 상기 플랜지부 사이에는 드럼부가 구비되는 것이 바람직하다.Preferably, the drum portion is provided between the pipe portion and the flange portion of the present invention.

본 발명의 파이프부 또는 상기 드럼부에는 노치가 더 구비되는 것이 바람직하다.It is preferable that the notch is further provided in the pipe part or the said drum part of this invention.

본 발명의 플랜지부는 일단은 상기 플랜지부와 연결되고, 타단은 상기 플랜지부의 연결구조와 상이한 연결구조를 가지는 커넥터부를 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the flange portion of the present invention includes a connector portion having one end connected to the flange portion and the other end having a connection structure different from that of the flange portion.

본 발명의 검사장치는 상기 고니오미터 연결형 커넥터를 포함하는 것이 바람직하다.
The inspection apparatus of the present invention preferably includes the Goniometer connection type connector.

이와 같은 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터에 의하면, 경통 내부의 진공펌프에 의해 RF 플라즈마 클리닝 장치의 설정압력을 형성할 수 없는 경우에도 고니오미터 연결형 커넥터를 이용하여 진공펌프를 연결시켜 설정압력을 설정할 수 있고, 경통에 직접적으로 RF 플라즈마 클리닝 장치를 연결하지 않고 고니오미터 연결형 커넥터를 이용하여 고니오미터에 RF 플라즈마 클리닝 장치를 연결시킬 수 있으므로 고진공상태에서의 누출을 방지할 수 있으며, 기존의 검사장치의 구조를 변경시키지 않은 상태에서 기존의 고니오미터 구조를 그대로 이용할 수 있으므로 사용이 편리하고 경제적인 이점이 있다.
According to the goniometer connection type connector according to the present invention, even when the set pressure of the RF plasma cleaning apparatus cannot be formed by the vacuum pump inside the barrel, the vacuum pump is connected using the goniometer connection type connector to set the pressure. The RF plasma cleaning device can be connected to the goniometer by using the goniometer connection connector without connecting the RF plasma cleaning device directly to the barrel. The existing goniometer structure can be used as it is without changing the structure of the inspection device of the device, which is convenient and economical.

도 1은 종래기술에 의한 전자 현미경의 구조를 보인 구성도.
도 2는 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터가 설치된 전자 현미경을 개략적으로 보인 구성도.
도 3은 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터가 설치된 전자 현미경의 다른 실시예를 보인 구성도.
도 4는 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터의 바람직한 실시예를 보인 측면 사시도.
도 5는 도 4의 전면 사시도.
도 6은 도 4의 후면 사시도.
도 7은 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터가 전자현미경에 설치된 상태를 보인 설치 상태도.1 is a block diagram showing the structure of an electron microscope according to the prior art.
2 is a schematic view showing an electron microscope in which a goniometer-connected connector according to the present invention is installed.
Figure 3 is a block diagram showing another embodiment of the electron microscope equipped with a goniometer connection type connector according to the present invention.
Figure 4 is a side perspective view showing a preferred embodiment of the goniometer connected connector according to the present invention.
5 is a front perspective view of FIG. 4.
6 is a rear perspective view of FIG. 4.
7 is an installation state diagram showing a state in which the goniometer connection type connector according to the present invention is installed on the electron microscope.

이하에서는 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a preferred embodiment of the goniometer-connected connector according to the present invention will be described in more detail.

도 2 내지 도 7에는 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터의 바람직한 실시예가 도시되어 있다. 2 to 7 show a preferred embodiment of the goniometer connected connector according to the present invention.

본 발명의 고니오미터 연결형 커넥터는 투과전자현미경(TEM), 주사전자현미경(SEM) 또는 접속이온빔 장비(FIB)과 같이 경통 내부가 진공상태로 유지되는 검사장치에 사용될 수 있다.The goniometer connected connector of the present invention can be used in an inspection apparatus in which the inside of a barrel is maintained in a vacuum state, such as a transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), or a connected ion beam equipment (FIB).

도 2에는 RF 플라즈마 클리닝 장치가 경통의 일 측에 연결된 전자현미경이 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 내부가 진공상태로 유지되는 경통(20)이 구비되고, 상기 경통(20)의 상단에는 전자빔(또는 이온빔)을 생성하기 위한 빔 생성부(30)가 구비된다.2 shows an electron microscope in which an RF plasma cleaning device is connected to one side of the barrel. As shown in the drawing, a barrel 20 is provided, the inside of which is maintained in a vacuum state, and a beam generator 30 for generating an electron beam (or ion beam) is provided at an upper end of the barrel 20.

그리고, 상기 경통(20)의 일 측면에는 경통(20) 내부에서 발생하는 탄화수소 및 유기물 등을 제거하기 위한 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)가 구비된다. 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)는 'EVACTRON'이라는 상표명으로 XEI SCIENTIFIC 회사에 의해 생산되고 있다.In addition, an RF plasma cleaning device 40 is provided at one side of the barrel 20 to remove hydrocarbons and organic substances generated in the barrel 20. The RF plasma cleaning device 40 is produced by XEI SCIENTIFIC company under the trade name 'EVACTRON'.

상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)는 외부로부터 공기를 인입시켜 RF 플라즈마를 이용하여 산소 라디칼을 생성한 후, 이를 경통(20) 내부에 인입시켜 탄화수소를 H₂0, CO, CO₂로 변화시킴으로써 탄화수소를 제거한다.The RF plasma cleaning device 40 draws air from the outside to generate oxygen radicals using RF plasma, and then introduces it into the barrel 20 to change the hydrocarbon into H ₂ O, CO, CO ₂ . Remove it.

그리고, 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)에는 압력밸브가 구비되어 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)가 작동될 수 있는 설정압력인 0.4torr를 형성할 수 있다.In addition, the RF plasma cleaning device 40 may be provided with a pressure valve to form 0.4torr which is a set pressure at which the RF plasma cleaning device 40 may operate.

그리고, 상기 경통(20)의 하단에는 상기 경통(20) 내부를 진공상태로 만들거나 상기 경통(20) 내부에서 발생하는 H₂0, CO, CO₂ 등과 같은 기체를 외부로 배출하기 위한 예비진공 펌프(50)와 고진공 펌프(60)가 구비된다.And, the lower end of the barrel 20 to make the interior of the barrel 20 in a vacuum state or pre-vacuum for discharging the gas such as H ₂ O, CO, CO ₂ generated in the barrel 20 to the outside The pump 50 and the high vacuum pump 60 are provided.

상기 예비진공 펌프(50)는 상기 경통(20) 내부를 예비적으로 진공상태를 만들기 위한 것이고, 상기 고진공 펌프(60)는 ODP(Oil Diffusion Pump) 또는 TMP(Turbo Molecule Pump)와 같은 것으로 구성되는데, 상기 경통(20) 내부를 고진공상태로 만드는 역할을 한다. The prevacuum pump 50 is for preliminarily vacuuming the inside of the barrel 20, and the high vacuum pump 60 is configured such as an ODP (Oil Diffusion Pump) or TMP (Turbo Molecule Pump). , Serves to make the inside of the barrel 20 in a high vacuum state.

그리고, 상기 경통(20)의 일 측면에는 시편 홀더(specimen holder)를 장착시키고 상기 시편 홀더의 위치를 4축(X, Y, Z, tilt)으로 이동시키기 위한 고니오미터(70)가 구비된다.And, one side of the barrel 20 is provided with a goniometer 70 for mounting a specimen holder (specimen holder) and to move the position of the specimen holder in four axes (X, Y, Z, tilt) .

상기 시편 홀더는 일단에 구비되는 그리드에 시편을 안착시켜 상기 고니오미터(70)에 삽입한 후 영상을 관찰하기 위한 유닛이다. 상기 시편 홀더(41)는 상기 고니오미터(70)에 자유롭게 삽입되거나 제거될 수 있으며, 다양한 형태로 구성될 수 있다.The specimen holder is a unit for observing an image after placing the specimen on a grid provided at one end and inserting the specimen into the goniometer 70. The specimen holder 41 may be freely inserted into or removed from the goniometer 70 and may be configured in various forms.

상기 시편 홀더가 장착되는 고니오미터(70)에는 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터(100)가 연결된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)는 상기 고니오미터에 삽입될 수 있도록 시편 홀더와 같은 형태로 형성될 수 있다. 그리고, 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)는 RF 플라즈마 클리닝 장치(40) 또는 보조 진공펌프(80)와 연결될 수 있도록 구성된다.The goniometer 70 is mounted on the specimen holder is connected to the goniometer connector 100 according to the present invention. As shown in FIG. 4, the goniometer-connected connector 100 may be formed in a shape such as a specimen holder to be inserted into the goniometer. In addition, the goniometer-connected connector 100 is configured to be connected to the RF plasma cleaning device 40 or the auxiliary vacuum pump 80.

상기 보조 진공펌프(80)는 상기 경통(20) 내부를 진공상태로 형성하는 것을 보조하기 위한 것으로서, 상기 보조 진공펌프(80)와 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100) 사이의 연결을 선택적으로 차폐하는 진공밸브(81)가 구비될 수 있다.The auxiliary vacuum pump 80 is to assist in forming the inside of the barrel 20 in a vacuum state, and selectively shields the connection between the auxiliary vacuum pump 80 and the goniometer connection type connector 100. A vacuum valve 81 may be provided.

상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)에는 상기 고니오미터(70)에 시편 홀더가 삽입되기 위한 삽입홈(도시되지 않음) 내에 삽입되는 파이프부(101)가 구비된다. 상기 파이프부(101)는 상기 고니오미터(70)의 내부 형상에 대응되도록 형성되고, 그 내부가 비어있도록 형성된다.The goniometer connection type connector 100 is provided with a pipe portion 101 which is inserted into an insertion groove (not shown) for inserting a specimen holder into the goniometer 70. The pipe part 101 is formed to correspond to the internal shape of the goniometer 70, and the inside thereof is formed to be empty.

상기 파이프부(101)의 일측면에는 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)가 상기 고니오미터(70) 내에 고정되도록 하는 노치(103)가 구비될 수 있다. One side of the pipe portion 101 may be provided with a notch 103 for fixing the goniometer-connected connector 100 in the goniometer 70.

그리고, 상기 파이프부(101)의 일단에는 상기 고니오미터(70)에 형성된 상기 시편 홀더 삽입홈을 차폐하기 위한 드럼부(110)가 구비된다. 상기 드럼부(110)에도 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)를 고정시키기 위한 노치(103)가 구비될 수 있다.One end of the pipe part 101 is provided with a drum part 110 for shielding the specimen holder insertion groove formed in the goniometer 70. The drum 110 may also be provided with a notch 103 for fixing the Goniometer-connected connector 100.

상기 드럼부(110)의 일면에는 RF 플라즈마 클리닝 장치(40) 또는 보조 진공펌프(80)와 연결되기 위한 플랜지부(120)가 구비된다. 상기 플랜지부(120)는 RF 플라즈마 클리닝 장치(40) 또는 보조 진공펌프(80)와 연결될 수 있도록 형성되는데, 예를 들어 나사결합이나 볼베어링 결합 등으로 구성될 수 있다.One surface of the drum unit 110 is provided with a flange portion 120 to be connected to the RF plasma cleaning device 40 or the auxiliary vacuum pump (80). The flange portion 120 is formed to be connected to the RF plasma cleaning device 40 or the auxiliary vacuum pump 80, for example, may be composed of a screw coupling or a ball bearing coupling.

그리고, 상기 플랜지부(120)에는 일단이 상기 플랜지부(120)와 연결되고 타단은 상기 플랜지부(120)의 연결구조와 상이한 연결구조를 가지는 보조 커넥터부(130)가 더 구비될 수 있다. 상기 보조 커넥터부(130)는 서로 다른 연결구조를 가지는 구성요소를 결합시키기 위한 것으로서, 상기 플랜지부(120)의 연결구조와 상이한 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)와 보조 진공펌프(80)를 연결시키거나 상기 플랜지부(120)의 연결구조와 맞지 않는 연결구조를 가지는 외부접속장치를 연결시키기 위해 사용될 수 있다. 상기 보조 커넥터부(130)는 여러 가지 연결형태에 대응되도록 다양한 구조로 구성될 수 있다.In addition, the flange portion 120 may be further provided with an auxiliary connector 130 having one end connected to the flange portion 120 and the other end having a different connection structure from that of the flange portion 120. The auxiliary connector 130 is for coupling the components having different connection structures, and connects the RF plasma cleaning device 40 and the auxiliary vacuum pump 80 different from the connection structure of the flange part 120. Or it may be used to connect the external connection device having a connection structure that does not match the connection structure of the flange portion 120. The auxiliary connector 130 may be configured in various structures to correspond to various connection forms.

이하에서는 상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 고니오미터 연결형 커넥터의 작용을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the operation of the goniometer connection type connector according to the present invention having the configuration as described above in detail.

도 2에 도시된 전자 현미경은 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)가 경통(20)의 측면에 연결된 것으로서, 예비 진공펌프(50) 및 고진공 펌프(60)의 임계압력이나 고진공펌프(60)의 빠른 진공형성으로 인해 보조 진공펌프(80)가 필요한 전자 현미경이다.2 shows that the RF plasma cleaning device 40 is connected to the side of the barrel 20, and the critical pressure of the preliminary vacuum pump 50 and the high vacuum pump 60 or the rapid vacuum of the high vacuum pump 60 are shown. Due to the formation, an auxiliary vacuum pump 80 is an electron microscope required.

상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)는 경통(20)의 진공도가 0.4 torr로 유지되는 상태에서 클리닝을 시작하는데, 위와 같은 전자 현미경은 임계압력(예비 진공펌프(50)에서 고진공 펌프(60)로 전환되는 진공도)이 0.9 torr이기 때문에 펌프에 의해 경통(20) 내부를 배기시킨 후 다시 펌핑을 하여 설정압력(0.4 torr)을 만들 수 없다.The RF plasma cleaning device 40 starts cleaning while the vacuum degree of the barrel 20 is maintained at 0.4 torr, and the electron microscope is switched from the critical pressure (preliminary vacuum pump 50 to high vacuum pump 60). Since the degree of vacuum) is 0.9 torr, the inside of the barrel 20 may be exhausted by the pump and then pumped again, so that the set pressure (0.4 torr) cannot be made.

또한, 경통(20) 내부를 진공상태로 형성하기 위하여 예비 진공펌프(50)에 의해 저진공 상태를 형성한 후에, 고진공 펌프(60)에 의해 고진공 상태를 만든다. 그러나, 경통(20) 내부의 작은 공간으로 인해 고진공 펌프(60)에 의해 고진공 상태를 형성하기 위한 시간이 매우 빠르기 때문에, RF 플라즈마 클리닝 장치(40)의 압력밸브가 설정압력으로 맞추기 전에 고진공 펌프(60)에 의해 진공상태가 형성되므로 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)의 진공도인 0.4 torr를 제어할 수 없는 경우가 발생한다.In addition, after forming a low vacuum state by the preliminary vacuum pump 50 to form the inside of the barrel 20 in a vacuum state, a high vacuum state is created by the high vacuum pump 60. However, due to the small space inside the barrel 20, the time for forming the high vacuum state by the high vacuum pump 60 is very fast, so that the high vacuum pump (before the pressure valve of the RF plasma cleaning device 40 is set to the set pressure) Since the vacuum state is formed by (60), 0.4 torr, which is the degree of vacuum of the RF plasma cleaning apparatus 40, cannot be controlled.

따라서, 본 발명의 고니오미터 연결형 커넥터(100)를 이용하여 보조 진공펌프(80)를 상기 경통(20)에 연결함으로써 경통(20) 내부를 진공상태로 유지할 수 있다.Therefore, the inside of the barrel 20 can be maintained in a vacuum state by connecting the auxiliary vacuum pump 80 to the barrel 20 using the goniometer connection type connector 100 of the present invention.

위와 같은 전자 현미경의 클리닝 과정을 설명하면 아래와 같다.The cleaning process of the electron microscope described above is as follows.

먼저, 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)를 경통(20)의 측면에 연결한다. 그리고, 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)를 고니오미터(70)에 연결하여 상기 경통(20) 내부를 벤트(vent)시킨다.First, the RF plasma cleaning device 40 is connected to the side surface of the barrel 20. Then, the goniometer connection type connector 100 is connected to the goniometer 70 to vent the inside of the barrel 20.

그리고, 보조 진공펌프(80)를 상기 고니오미터(70)에 연결된 고니오미터 연결형 커넥터(100)에 연결하여 펌핑을 한다. 상기 보조 진공펌프(80)에 의해 펌핑된 상태에서 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)에 구비된 압력밸브를 이용하여 설정압력인 0.4torr를 맞춘다.Then, the auxiliary vacuum pump 80 is connected to the goniometer connected connector 100 connected to the goniometer 70 to pump. In the state of being pumped by the auxiliary vacuum pump 80, 0.4torr, which is a set pressure, is adjusted by using a pressure valve provided in the RF plasma cleaning device 40.

그리고, 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)에 의해 RF 플라즈마 클리닝을 실시한다. 이 과정에서 탄화수소가 H₂0, CO, CO₂ 로 변화됨으로써 클리닝 과정이 수행된다.Then, the RF plasma cleaning device 40 performs RF plasma cleaning. In this process, the hydrocarbon is changed to H ₂ O, CO, CO ₂ to perform the cleaning process.

상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)에 의해 클리닝이 완료되면, 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)의 작동을 정지시키고 진공밸브(81)를 차폐한다. 그리고, 고진공 펌프(60)를 이용하여 경통(20) 내부를 고진공 상태로 만든다. When the cleaning is completed by the RF plasma cleaning device 40, the operation of the RF plasma cleaning device 40 is stopped and the vacuum valve 81 is shielded. Then, the inside of the barrel 20 is made into a high vacuum state by using the high vacuum pump 60.

상기 경통(20) 내부가 고진공 상태로 형성되면, 고니오미터 연결형 커넥터(100)를 분리함으로써 클리닝을 종료한다.When the inside of the barrel 20 is formed in a high vacuum state, cleaning is terminated by removing the goniometer-connected connector 100.

그리고, 도 3에 도시된 전자 현미경은 예비 진공펌프(50) 및 고진공 펌프(60)에 의해 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)의 작동 압력을 형성할 수 있는 것으로서, 고진공에서의 누출문제를 고려하여 상기 경통(20)에 형성된 여분의 진공 포트에 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)를 연결하지 않고 고니오미터(70)에 연결하기 위한 일 실시예이다.In addition, the electron microscope shown in FIG. 3 is capable of forming an operating pressure of the RF plasma cleaning device 40 by the preliminary vacuum pump 50 and the high vacuum pump 60. The spare vacuum port formed in the barrel 20 is an embodiment for connecting to the goniometer 70 without connecting the RF plasma cleaning device 40.

따라서, 본 발명의 고니오미터 연결형 커넥터(100)를 이용하여 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)를 상기 경통(20)에 연결함으로써 경통(20) 내부를 클리닝할 수 있다.Therefore, the inside of the barrel 20 can be cleaned by connecting the RF plasma cleaning device 40 to the barrel 20 using the goniometer connection type connector 100 of the present invention.

먼저, 본 발명의 고니오미터 연결형 커넥터(100)를 고니오미터(70)에 삽입 연결하고, 상기 경통(20) 내부를 벤트시킨다. 그리고, 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)에 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)를 연결한다.First, the goniometer connection type connector 100 of the present invention is inserted and connected to the goniometer 70, and the inside of the barrel 20 is bent. The RF plasma cleaning device 40 is connected to the goniometer connector 100.

상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)가 연결되면, 예비진공 펌프(50)를 가동시켜 펌핑을 한다. 그리고, 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)의 압력밸브를 열어서 설정압력인 0.4torr를 맞춘다.When the RF plasma cleaning device 40 is connected, the prevacuum pump 50 is operated to pump. And the pressure valve of the said RF plasma cleaning apparatus 40 is opened, and 0.4torr which is set pressure is set.

그리고, 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)를 이용하여 경통(20) 내부를 클리닝한다. 클리닝 후, 상기 RF 플라즈마 클리닝 장치(40)의 압력밸브를 차폐하고, 상기 고진공 펌프(60)를 가동시켜 상기 경통(20) 내부를 고진공 상태로 형성한다.Then, the inside of the barrel 20 is cleaned using the RF plasma cleaning device 40. After the cleaning, the pressure valve of the RF plasma cleaning device 40 is shielded, and the high vacuum pump 60 is operated to form the inside of the barrel 20 in a high vacuum state.

상기 경통(20)이 고진공 상태로 형성되면, 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)를 제거함으로써 클리닝이 종료된다.When the barrel 20 is formed in a high vacuum state, cleaning is terminated by removing the goniometer-connected connector 100.

이와 같은 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주에서, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형이 가능함은 물론이고, 본 발명의 권리범위는 후술하는 특허청구범위에 기초하여 해석되어야 할 것이다.In the scope of the basic technical spirit of the present invention, many modifications are possible to those skilled in the art, and the scope of the present invention should be interpreted based on the claims which will be described later. .

부가적으로, 상기 고니오미터 연결형 커넥터(100)에는 RF 플라즈마 클리닝 장치 및 진공펌프 이외에도 경통 내부에 접속되기 위한 진공라인 또는 대물렌즈 조리개 등과 같은 다양한 외부 접속장치가 연결될 수 있다.
In addition, in addition to the RF plasma cleaning device and the vacuum pump, the Goniometer connection type connector 100 may be connected to various external connection devices such as a vacuum line or an objective lens aperture to be connected to the inside of the barrel.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
20 ; 경통 30 : 빔 생성부
40 : RF 플라즈마 클리닝 장치 50 : 예비 진공펌프
60 : 고진공 펌프 70 : 고니오미터
80 : 보조 진공펌프 100 : 고니오미터 연결형 커넥터
101 : 파이프부 103 : 노치
110 : 드럼부 120 : 플랜지부
130 : 보조 커넥터부* Description of the symbols for the main parts of the drawings *
20; Barrel 30: beam generation unit
40: RF plasma cleaning device 50: preliminary vacuum pump
60: high vacuum pump 70: goniometer
80: auxiliary vacuum pump 100: goniometer connection type connector
101: pipe section 103: notch
110: drum portion 120: flange portion
130: auxiliary connector

Claims

It includes a structure for connecting the inside of the barrel to the goniometer of the inspection device is maintained in a vacuum state, the external connection device, which is a vacuum pump or RF plasma cleaning device at one end,
A pipe part inserted into the goniometer; and
A flange part connected to the pipe part and including a structure connected to the vacuum pump or the RF plasma cleaning device,
A drum part is provided between the pipe part and the flange part,
The pipe portion or the drum portion is further provided with a notch
Goniometer connector.

delete

The method of claim 1,
The flange portion
It includes an auxiliary connector for connecting an external connection device having a connection structure that does not match the connection structure of the flange portion
Goniometer connector.

An inspection apparatus comprising a goniometer connected type connector according to claim 1.