KR101027092B1 - Esd 보호 디바이스 - Google Patents
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 105
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 81
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 60
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 6
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 4
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018100 Ni-Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018532 Ni—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000036039 immunity Effects 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01T—SPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
- H01T4/00—Overvoltage arresters using spark gaps
- H01T4/10—Overvoltage arresters using spark gaps having a single gap or a plurality of gaps in parallel
- H01T4/12—Overvoltage arresters using spark gaps having a single gap or a plurality of gaps in parallel hermetically sealed
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- H01T—SPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
- H01T4/00—Overvoltage arresters using spark gaps
- H01T4/10—Overvoltage arresters using spark gaps having a single gap or a plurality of gaps in parallel
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Abstract
Description
Claims (11)
- 세라믹 다층 기판;상기 세라믹 다층 기판의 내부에 형성된 공동부;상기 공동부 내에 간격을 두고 선단끼리가 대향하도록 배치된 대향부를 갖는 적어도 한 쌍의 방전 전극; 및상기 세라믹 다층 기판의 표면에 형성되어 상기 방전 전극과 접속되는 외부 전극을 갖는 ESD 보호 디바이스에 있어서:상기 세라믹 다층 기판은 상기 방전 전극이 제공된 표면에 있어서 적어도 상기 방전 전극의 상기 대향부 및 상기 대향부 사이의 부분에 접하여 배치되는 금속 재료와 세라믹 재료를 포함하는 혼합부를 구비한 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항에 있어서,상기 혼합부는 상기 대향부 및 상기 대향부 사이에만 접하여 배치된 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 방전 전극의 상기 대향부와 상기 혼합부가 겹치는 방향으로 투시되었을 때 상기 혼합부는 상기 공동부의 주변에 접해서 상기 주변보다도 내측에만 형성되 어 있는 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 혼합부에 포함되는 상기 세라믹 재료는 상기 세라믹 다층 기판의 1층 이상을 형성하는 세라믹 재료와 동일한 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 혼합부는 상기 금속 재료의 함유율이 10vol%이상, 50vol%이하인 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 방전 전극은 상기 세라믹 다층 기판의 외주면으로부터 간격을 두고 형성되고,상기 세라믹 다층 기판 내에 있어서 상기 방전 전극과 다른 평면에 형성되어 상기 세라믹 다층 기판의 내부로부터 상기 세라믹 다층 기판의 상기 외주면까지 연장되고, 상기 외부 전극에 접속되는 내부 전극; 및상기 세라믹 다층 기판 내에 있어서 상기 방전 전극과 상기 내부 전극 간을 접속하는 비아 전극을 더 구비한 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,한 쌍의 상기 방전 전극 중 한쪽은 그라운드 측에 접속되고, 다른 쪽은 회로 측에 접속되며;상기 한쪽의 상기 방전 전극의 상기 대향부의 폭이 상기 다른 쪽의 상기 방전 전극의 상기 대향부의 폭보다도 넓은 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,한 쌍의 상기 방전 전극 중 한쪽은 그라운드 측에 접속되고, 다른 쪽은 회로 측에 접속되며;상기 다른 쪽의 상기 방전 전극의 상기 대향부의 선단이 뾰족하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 7 항에 있어서,상기 그라운드 측에 접속되는 한쪽의 상기 방전 전극과 접속되는 상기 외부 전극의 전극 면적이 상기 회로 측에 접속되는 다른 쪽의 상기 방전 전극과 접속되는 상기 외부 전극의 전극 면적보다도 큰 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 세라믹 다층 기판의 복수층이 적층된 방향으로 시프팅되어 복수 쌍의 상기 방전 전극이 배치된 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 세라믹 다층 기판은 수축 억제층과 기재층이 교대로 적층된 무수축 기판인 것을 특징으로 하는 ESD 보호 디바이스.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2007-141142 | 2007-05-28 | ||
JP2007141142 | 2007-05-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090034305A KR20090034305A (ko) | 2009-04-07 |
KR101027092B1 true KR101027092B1 (ko) | 2011-04-05 |
Family
ID=40074787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020087027239A Active KR101027092B1 (ko) | 2007-05-28 | 2008-03-07 | Esd 보호 디바이스 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7633735B2 (ko) |
EP (1) | EP2061123B1 (ko) |
JP (1) | JP4247581B2 (ko) |
KR (1) | KR101027092B1 (ko) |
CN (1) | CN101542856B (ko) |
WO (1) | WO2008146514A1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150076077A (ko) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 티디케이가부시기가이샤 | 정전기 보호 부품 |
KR20150076080A (ko) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 티디케이가부시기가이샤 | 정전기 보호 부품 |
Families Citing this family (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2242154B1 (en) | 2008-02-05 | 2017-12-06 | Murata Manufacturing Co. Ltd. | Esd protection device |
JP5093345B2 (ja) * | 2008-05-08 | 2012-12-12 | 株式会社村田製作所 | Esd保護機能内蔵基板 |
CN102224649B (zh) * | 2008-11-26 | 2015-04-01 | 株式会社村田制作所 | Esd保护器件及其制造方法 |
WO2010061522A1 (ja) | 2008-11-26 | 2010-06-03 | 株式会社 村田製作所 | Esd保護デバイス |
JPWO2010061519A1 (ja) | 2008-11-26 | 2012-04-19 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイス及びその製造方法 |
KR101254212B1 (ko) * | 2008-12-10 | 2013-04-18 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | Esd 보호 디바이스 |
JP5246338B2 (ja) * | 2009-08-27 | 2013-07-24 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイスおよびその製造方法 |
EP2447959B1 (en) * | 2009-09-30 | 2019-01-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Esd protection device and method for manufacturing same |
CN102576981B (zh) * | 2009-09-30 | 2014-03-12 | 株式会社村田制作所 | Esd保护器件及其制造方法 |
CN102598260B (zh) | 2009-11-02 | 2015-05-06 | 株式会社村田制作所 | 电子元器件设备与封装基板 |
CN102754291B (zh) | 2010-02-04 | 2016-09-21 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置的制造方法及esd保护装置 |
JP5614315B2 (ja) * | 2010-02-15 | 2014-10-29 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
CN102299485B (zh) * | 2010-05-18 | 2013-09-18 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置的制造方法及esd保护装置 |
JP5590122B2 (ja) * | 2010-05-20 | 2014-09-17 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイス |
JP5088396B2 (ja) | 2010-05-20 | 2012-12-05 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイス及びその製造方法 |
WO2011152256A1 (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-08 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール |
JP5649391B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2015-01-07 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイス |
GB2497252A (en) * | 2010-09-29 | 2013-06-05 | Murata Manufacturing Co | ESD protection device and method of manufacturing thereof |
EP2626961B1 (en) * | 2010-09-30 | 2019-12-18 | TDK Corporation | Static-electricity countermeasure element |
TW201218564A (en) * | 2010-10-18 | 2012-05-01 | Walsin Technology Corp | Laminated electrostatic and surge protection device |
CN103270656B (zh) * | 2010-12-27 | 2015-04-01 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置及其制造方法 |
JP5459295B2 (ja) | 2011-03-14 | 2014-04-02 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイスおよびその製造方法 |
US8633562B2 (en) | 2011-04-01 | 2014-01-21 | Qualcomm Incorporated | Voltage switchable dielectric for die-level electrostatic discharge (ESD) protection |
US8724284B2 (en) | 2011-05-25 | 2014-05-13 | Tdk Corporation | Electrostatic protection component |
US8885324B2 (en) * | 2011-07-08 | 2014-11-11 | Kemet Electronics Corporation | Overvoltage protection component |
US9142353B2 (en) | 2011-07-08 | 2015-09-22 | Kemet Electronics Corporation | Discharge capacitor |
TWI488282B (zh) * | 2011-07-26 | 2015-06-11 | Lextar Electronics Corp | 具靜電放電保護之電子裝置 |
JP5660412B2 (ja) | 2011-08-29 | 2015-01-28 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイス |
JP5716835B2 (ja) * | 2011-09-14 | 2015-05-13 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイスおよびその製造方法 |
JP2013080694A (ja) | 2011-09-22 | 2013-05-02 | Tdk Corp | 静電気対策素子 |
JP2013145738A (ja) | 2011-12-12 | 2013-07-25 | Tdk Corp | 静電気対策素子 |
JP2013175443A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-09-05 | Tdk Corp | 静電気対策素子 |
CN204376195U (zh) | 2012-03-28 | 2015-06-03 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置 |
KR101888983B1 (ko) | 2012-06-08 | 2018-08-16 | 삼성전자주식회사 | 피시험 단말기에 대한 자동화 테스트 장치 및 방법 |
CN104541418B (zh) * | 2012-08-13 | 2016-09-28 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置 |
JP5692470B2 (ja) * | 2012-08-13 | 2015-04-01 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
WO2014034435A1 (ja) * | 2012-08-26 | 2014-03-06 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイスおよびその製造方法 |
CN204947322U (zh) | 2012-12-19 | 2016-01-06 | 株式会社村田制作所 | Esd保护器件 |
JP5954490B2 (ja) * | 2013-03-15 | 2016-07-20 | Tdk株式会社 | 静電気対策素子 |
CN105164875B (zh) * | 2013-05-08 | 2017-07-18 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置 |
WO2015002045A1 (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-08 | 株式会社村田製作所 | サージ保護デバイス、その製造方法、および、それを含む電子部品 |
JP5884950B2 (ja) | 2013-07-08 | 2016-03-15 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
US9293913B2 (en) * | 2013-08-01 | 2016-03-22 | Tdk Corporation | ESD protection component and method for manufacturing ESD protection component |
JP6311789B2 (ja) | 2014-06-24 | 2018-04-18 | 株式会社村田製作所 | 静電気放電保護デバイスおよびその製造方法 |
WO2016039021A1 (ja) | 2014-09-10 | 2016-03-17 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置およびその製造方法 |
JP6365205B2 (ja) | 2014-10-08 | 2018-08-01 | Tdk株式会社 | 静電気対策素子 |
WO2016080108A1 (ja) | 2014-11-19 | 2016-05-26 | 株式会社村田製作所 | Esd保護素子、およびesd保護素子付きコモンモードチョークコイル |
JP6406450B2 (ja) * | 2015-06-22 | 2018-10-17 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置およびesd保護装置の製造方法 |
WO2017002476A1 (ja) * | 2015-07-01 | 2017-01-05 | 株式会社村田製作所 | Esd保護デバイスおよびその製造方法 |
WO2017038238A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 株式会社村田製作所 | Esd保護素子 |
DE102015116278A1 (de) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | Epcos Ag | Überspannungsschutzbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Überspannungsschutzbauelements |
JP6222410B1 (ja) | 2016-03-15 | 2017-11-01 | 株式会社村田製作所 | Esd保護回路、差動伝送線路、コモンモードフィルタ回路、esd保護デバイスおよび複合デバイス |
DE102016108604A1 (de) * | 2016-05-10 | 2017-11-16 | Epcos Ag | Vielschichtbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Vielschichtbauelements |
KR101825695B1 (ko) * | 2016-05-16 | 2018-02-05 | 주식회사 모다이노칩 | 회로 보호 소자 |
KR102609147B1 (ko) * | 2016-05-30 | 2023-12-05 | 삼성전기주식회사 | 복합 전자 부품 |
KR102797227B1 (ko) * | 2016-05-30 | 2025-04-18 | 삼성전기주식회사 | 복합 전자 부품 |
JP6971594B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2021-11-24 | アルプスアルパイン株式会社 | 高周波モジュール |
KR102163418B1 (ko) * | 2018-11-02 | 2020-10-08 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 커패시터 |
US11178800B2 (en) * | 2018-11-19 | 2021-11-16 | Kemet Electronics Corporation | Ceramic overvoltage protection device having low capacitance and improved durability |
US11393635B2 (en) * | 2018-11-19 | 2022-07-19 | Kemet Electronics Corporation | Ceramic overvoltage protection device having low capacitance and improved durability |
TWI781418B (zh) * | 2019-07-19 | 2022-10-21 | 美商凱門特電子股份有限公司 | 具有低電容及改良耐用性的陶瓷過電壓保護裝置及其製造方法 |
JP7322925B2 (ja) * | 2021-06-23 | 2023-08-08 | Tdk株式会社 | 過渡電圧保護デバイス |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0246680A (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-16 | Okaya Electric Ind Co Ltd | サージ吸収素子 |
JPH08236260A (ja) * | 1995-02-27 | 1996-09-13 | Mitsubishi Materials Corp | チップ型サージアブソーバ及びその製造方法 |
JP2003297524A (ja) | 2002-03-29 | 2003-10-17 | Mitsubishi Materials Corp | サージアブソーバ及びその製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000173743A (ja) | 1998-12-09 | 2000-06-23 | Mitsubishi Materials Corp | チップ型サージアブソーバ及びその製造方法 |
JP2000311764A (ja) * | 1999-04-26 | 2000-11-07 | Tokin Corp | サージ吸収素子及びその製造方法 |
DE19931056B4 (de) * | 1999-07-06 | 2005-05-19 | Epcos Ag | Vielschichtvaristor niedriger Kapazität |
JP2001043954A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-16 | Tokin Corp | サージ吸収素子及びその製造方法 |
JP2005276666A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Mitsubishi Materials Corp | サージアブソーバ |
-
2008
- 2008-03-07 CN CN2008800003623A patent/CN101542856B/zh active Active
- 2008-03-07 JP JP2008534593A patent/JP4247581B2/ja active Active
- 2008-03-07 EP EP08721550.5A patent/EP2061123B1/en active Active
- 2008-03-07 WO PCT/JP2008/054132 patent/WO2008146514A1/ja active Application Filing
- 2008-03-07 KR KR1020087027239A patent/KR101027092B1/ko active Active
- 2008-11-20 US US12/274,391 patent/US7633735B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0246680A (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-16 | Okaya Electric Ind Co Ltd | サージ吸収素子 |
JPH08236260A (ja) * | 1995-02-27 | 1996-09-13 | Mitsubishi Materials Corp | チップ型サージアブソーバ及びその製造方法 |
JP2003297524A (ja) | 2002-03-29 | 2003-10-17 | Mitsubishi Materials Corp | サージアブソーバ及びその製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150076077A (ko) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 티디케이가부시기가이샤 | 정전기 보호 부품 |
KR20150076080A (ko) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | 티디케이가부시기가이샤 | 정전기 보호 부품 |
KR101629703B1 (ko) | 2013-12-26 | 2016-06-13 | 티디케이가부시기가이샤 | 정전기 보호 부품 |
KR101699705B1 (ko) | 2013-12-26 | 2017-01-25 | 티디케이가부시기가이샤 | 정전기 보호 부품 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101542856B (zh) | 2012-05-30 |
KR20090034305A (ko) | 2009-04-07 |
US20090067113A1 (en) | 2009-03-12 |
EP2061123A1 (en) | 2009-05-20 |
JPWO2008146514A1 (ja) | 2010-08-19 |
EP2061123A4 (en) | 2010-10-20 |
US7633735B2 (en) | 2009-12-15 |
EP2061123B1 (en) | 2014-12-03 |
WO2008146514A1 (ja) | 2008-12-04 |
CN101542856A (zh) | 2009-09-23 |
JP4247581B2 (ja) | 2009-04-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0105 | International application |
Patent event date: 20081106 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20100928 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20110318 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20110329 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20110330 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140303 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140303 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150302 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20150302 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160322 Year of fee payment: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160322 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170317 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170317 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180316 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180316 Start annual number: 8 End annual number: 8 |