KR101019554B1

KR101019554B1 - Probe and its manufacturing method

Info

Publication number: KR101019554B1
Application number: KR1020080114816A
Authority: KR
Inventors: 김헌수; 김유성; 임병직; 장현진
Original assignee: 주식회사 코디에스
Priority date: 2008-11-18
Filing date: 2008-11-18
Publication date: 2011-03-08
Anticipated expiration: 2028-11-18
Also published as: KR20100055911A

Abstract

본 발명은 프로브 및 프로브 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피검사체에 접촉시 탄성변형이 용이한 프로브에 관한 것이다. The present invention relates to a probe and a method for manufacturing a probe, and more particularly, to a probe that is easily elastically deformed upon contact with a test object.

본 발명에 의한 프로브는 피검사체에 형성되는 패드와 접촉하는 팁부; 일단 하부에 상기 팁부가 형성되며, 상기 팁부의 중심선에 직각인 방향으로 연장형성되는 제1빔부; 상기 제1빔부의 상부에서 상기 제1빔부와 나란하게 형성되며, 상기 제1빔부보다 길이가 짧은 제2빔부; 상기 제1빔부와 제2빔부의 일단 및 타단을 각각 연결하는 제1연결부와 제2연결부; 상기 제2연결부로부터 상방으로 연장형성되는 메인포스트; 및 상기 메인포스트로부터 연장형성되며, 기판과 전기적으로 연결되는 베이스;를 포함한다. Probe according to the present invention is a tip portion in contact with the pad formed on the test object; A first beam part formed at a lower end thereof and extending in a direction perpendicular to a center line of the tip part; A second beam part formed on the first beam part in parallel with the first beam part and shorter in length than the first beam part; First and second connecting portions connecting one end and the other end of the first beam portion and the second beam portion, respectively; A main post extending upward from the second connection portion; And a base extending from the main post and electrically connected to the substrate.

프로브. 빔부. 팁부. Probe. Beam part. Tip part.

Description

PROBE AND MENUFACTURING METHOD OF THE SAME

본 발명은 프로브 및 프로브 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피검사체에 접촉시 탄성변형이 용이한 프로브 및 그의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a probe and a method for manufacturing the probe, and more particularly, to a probe and a method for manufacturing the same, which is easily elastically deformed upon contact with a test subject.

반도체 집적회로와 같은 웨이퍼내의 수많은 칩(이하, '피검사체'라 한다.)은 그것이 사양서대로 제조되어 있는지 아닌지 전기적 특성 검사를 하는 EDS (Electrical Die Sorting:이하 'EDS' 라 한다) 공정이 있으며, 이러한 종류의 검사는 피검사체의 패드(Pad)에 각각 눌리는 복수의 프로브를 갖춘 프로브 카드, 프로브 블록 등, 전기적 접속장치를 이용하여 행해진다. 이러한 종류의 전기적 접속장치는, 피검사체의 패드와, 테스터를 전기적으로 접속하기 위해 이용된다. 어느 타입의 프로브도, 세라믹과 같은 배선 기판위에 프로브가 형성 및 기립되어 프로브의 선단 부위가 피검사체의 전극에 눌리면서 오버 드라이브가 프로브에 작용하고, 프로브는 탄성 변형에 의해 구부러진다.Many chips in a wafer such as semiconductor integrated circuits (hereinafter referred to as 'inspection') have an EDS (Electrical Die Sorting) process that checks electrical properties whether they are manufactured according to specifications. This kind of inspection is performed by using an electrical connection device such as a probe card having a plurality of probes pressed against the pad of the object to be examined, a probe block, and the like. This type of electrical connection device is used to electrically connect the test subject's pad and the tester. In any type of probe, a probe is formed and stood on a wiring board such as ceramic, and the overdrive acts on the probe while the tip portion of the probe is pressed against the electrode of the object under test, and the probe is bent by elastic deformation.

프로브는 켄틸레버 형상으로 2개의 빔부와 그들을 지지하는 메인포스트부와 다른쪽을 기판과 연결하는 베이스부로 나눠진다.The probe is divided into two beam portions, a main post portion supporting them, and a base portion connecting the other with the substrate in a cantilever shape.

그러나, 이들 종래의 프로브는 빔부에 대해서 일반적인 평행 연장선 또는 곡 선형태등에 지나지 않기 때문에, 오버 드라이브 양을 크게 하여 빔부의 탄성 변형시키려면, 최소한 적어도 한쪽 빔에서 파단이 발생하게 된다.However, since these conventional probes are only general parallel extension lines or curved shapes with respect to the beam part, in order to increase the overdrive amount to elastically deform the beam part, breakage occurs at least at least one beam.

특히, 집적회로용의 미세 마이크로 프로브의 경우, 면적대비 두께가 상당히 작기 때문에 기계적 강도가 약하고, 오버드라이브양을 크게 하여 빔부를 적당한 탄성변형 시키기 어렵다.In particular, in the case of the micro-micro probe for an integrated circuit, since the thickness is very small compared to the area, the mechanical strength is weak, and it is difficult to appropriately deform the beam part by increasing the overdrive amount.

따라서, 적절한 프로브포스와 적은 스크럽마크를 얻어 피검사체의 전극과 팁부를 양호한 전기적 연결시킬 수 없고, 팁부의 위치 정밀도를 높이지 않으면 않된다. Therefore, a proper probe force and a small scrub mark can be obtained, so that the electrode and the tip of the inspected object can be electrically connected well, and the positional accuracy of the tip must be increased.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 피검사체에 접촉시 탄성변형이 용이한 프로브 및 그의 제조방법을 제공함에 있다. The present invention has been made to solve the above-described problems, an object of the present invention to provide a probe and a method of manufacturing the elastic deformation is easy when contacting the subject.

위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 프로브는 피검사체에 형성되는 패드와 접촉하는 팁부; 일단 하부에 상기 팁부가 형성되며, 상기 팁부의 중심선에 직각인 방향으로 연장형성되는 제1빔부; 상기 제1빔부의 상부에서 상기 제1빔부와 나란하게 형성되며, 상기 제1빔부보다 길이가 짧은 제2빔부; 상기 제1빔부와 제2빔부의 일단 및 타단을 각각 연결하는 제1연결부와 제2연결부; 상기 제2연결부로부터 상방으로 연장형성되는 메인포스트; 및 상기 메인포스트로부터 연장형성되며, 기판과 전기적으로 연결되는 베이스;를 포함한다. In order to solve the above technical problem, the probe according to the present invention is a tip portion in contact with the pad formed on the test object; A first beam part formed at a lower end thereof and extending in a direction perpendicular to a center line of the tip part; A second beam part formed on the first beam part in parallel with the first beam part and shorter in length than the first beam part; First and second connecting portions connecting one end and the other end of the first beam portion and the second beam portion, respectively; A main post extending upward from the second connection portion; And a base extending from the main post and electrically connected to the substrate.

또한 상기 제2빔부의 길이를 상기 제1빔부보다 짧게 하기 위하여 상기 제1연결부는 단차지게 형성되는 것이 바람직하다. In addition, in order to shorten the length of the second beam portion than the first beam portion, the first connection portion is preferably formed stepped.

또한 상기 제2빔부의 길이를 상기 제1빔부보다 짧게 하기 위하여 상기 제1연결부는 곡면지게 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the first connection portion is preferably formed to be curved in order to shorten the length of the second beam portion than the first beam portion.

또한 상기 제2빔부의 길이를 상기 제1빔부보다 짧게 하기 위하여 상기 메인포스트는 사다리꼴형태인 것이 바람직하다. In addition, in order to shorten the length of the second beam portion than the first beam portion, the main post is preferably trapezoidal.

또한 상기 제1빔부의 폭은 상기 제2빔부의 폭보다 더 큰 것이 바람직하다. In addition, the width of the first beam portion is preferably larger than the width of the second beam portion.

또한 상기 제1빔부는 그 두께보다 폭이 더 큰 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the first beam portion is larger in width than its thickness.

또한 상기 베이스는 상기 기판과 접하는 면에 요철부가 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the base is preferably formed with an uneven portion on the surface in contact with the substrate.

또한 상기 베이스에는 두께를 관통하는 적어도 1 이상의 홀이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the base is preferably formed with at least one hole penetrating through the thickness.

또한 상기 메인포스트에는 두께를 관통하는 적어도 1 이상의 강도보강용 홀이 형성되는 것이 바람직하다. In addition, the main post is preferably formed with at least one or more strength reinforcing holes penetrating through the thickness.

또한 상기 팁부, 제1빔부, 제2빔부, 제1연결부와 제2연결부, 메인포스트 및 베이스는 금도금되는 것이 바람직하다. In addition, the tip portion, the first beam portion, the second beam portion, the first connection portion and the second connection portion, the main post and the base is preferably gold-plated.

또한 상기 팁부, 제1빔부, 제2빔부, 제1연결부와 제2연결부, 메인포스트 및 베이스는 일체형성되는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the tip part, the first beam part, the second beam part, the first connection part and the second connection part, the main post and the base are integrally formed.

또한 상기 팁부와 제1빔부는 일체형성되는 것이 바람직하다. In addition, the tip portion and the first beam portion is preferably formed integrally.

또한 상기 팁부는 피라미드형태인 것이 바람직하다. In addition, the tip portion is preferably in the form of a pyramid.

본 발명에 의한 피라미드형태의 팁부를 구비한 프로브의 제조방법은 몸체와 팁부를 일체로 형성한 후, 팁부의 양면을 연마가공 등의 기계적 가공에 의하여 피라미드형태로 형성하여 제조한다. According to the present invention, a method of manufacturing a probe having a pyramid-shaped tip part is formed by forming a body and a tip part integrally, and then forming both sides of the tip part into a pyramid shape by mechanical processing such as polishing.

본 발명에 의한 프로브의 다른 제조방법은 1) 팁부를 제외한 몸체의 평면형상인 제1층을 제조하는 단계; 2) 상기 제1층 상에, 상기 팁부와 몸체의 평면형상인 제2층을 제조하는 단계; 및 3) 상기 제2층 상에, 상기 팁부를 제외한 몸체의 평면형상인 제3층을 제조하는 단계;를 포함한다. Another method of manufacturing a probe according to the present invention comprises the steps of 1) manufacturing a first layer having a planar shape of a body except for a tip; 2) manufacturing a planar second layer on the first layer, the tip portion and the body; And 3) manufacturing a third layer having a planar shape on the second layer, except for the tip portion.

본 발명에 따르면, 피검사체에 접촉시 탄성변형에 유리한 효과가 있다. According to the present invention, there is an advantageous effect on elastic deformation upon contact with the inspected object.

또한 피라미드형태의 팁부를 용이하게 형성할 수 있는 효과도 있다. In addition, there is an effect that can easily form a pyramidal tip portion.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 프로브(100)의 구성 및 작용을 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described the configuration and operation of the probe 100 according to the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 의한 프로브(100)는 팁부(110)와, 제1빔부(120)와 제2빔부(130), 제1연결부(160)와 제2연결부(170), 메인포스트(140)와 베이스(150)를 포함한다. 1 and 2, the probe 100 according to the present invention includes a tip part 110, a first beam part 120, a second beam part 130, a first connection part 160, and a second connection part 170. ), The main post 140 and the base 150.

상기 팁부(110)는 피검사체에 형성되는 패드와 접촉하는 구성요소이며, 패드와 접촉시 작은 마크를 형성하기 위해 피라미드형태로 형성되어 있음을 알 수 있다. The tip portion 110 is a component in contact with the pad formed on the test object, it can be seen that it is formed in a pyramid shape in order to form a small mark in contact with the pad.

상기 제1빔부(120)는 일단 하부에 상기 팁부(110)가 일체로 형성되며, 상기 팁부(110)의 중심선에 직각인 방향으로 연장형성된다. 또한 상기 제2빔부(130)는 상기 제1빔부(120)의 상부에서 상기 제1빔부(120)와 나란하게 형성된다. The tip portion 110 is integrally formed at the lower end of the first beam part 120, and extends in a direction perpendicular to the center line of the tip portion 110. In addition, the second beam part 130 is formed in parallel with the first beam part 120 at the upper portion of the first beam part 120.

상기 제1빔부(120)는 피검사체의 패드에 접촉하여 자유롭게 탄성변형하도록 피검사체와 나란하게 형성되며, 제2빔부(130)는 프로브포스(Probe force)를 높이고, 스크럽마크(Scrub Mark, Contact Mark), 즉, 패드에 접촉시 탄성변형하면서 밀리는 양을 줄이는 기능을 한다. The first beam part 120 is formed in parallel with the object under test so as to freely elastically deform in contact with the pad of the test object, and the second beam part 130 increases the probe force and raises a scrub mark. Mark), ie, it reduces the amount of pushing while elastically deforming on contact with the pad.

상기 제1연결부(160)와 제2연결부(170)는 상기 제1빔부(120)와 제2빔부(130) 의 일단 및 타단을 각각 연결하는 구성요소이다. The first connector 160 and the second connector 170 are components that connect one end and the other end of the first beam part 120 and the second beam part 130, respectively.

상기 메인포스트(140)는 상기 제2연결부(170)로부터 상방으로 연장형성된다. The main post 140 extends upward from the second connection portion 170.

상기 베이스(150)는 및 상기 메인포스트(140)로부터 연장형성되며, 기판과 전기적으로 연결되는 것이다. The base 150 extends from the main post 140 and is electrically connected to the substrate.

특히, 상기 제1연결부(160)에 단차부(161)가 형성됨으로 인해, 상기 제2빔부(130)의 길이가 상기 제1빔부(120)보다 짧게 형성된 것을 알 수 있다. 이로 인해 탄성변형에 매우 유리한 구조가 된다. 보다 구체적으로 설명하면, 패드에 접촉시 팁부 끝단으로부터 발생된 스트레스가 제1연결부(160)로 전달되고, 제1연결부(160)는 단차부(161)가 형성되어 있기 때문에 기계적 강도를 높여 제2빔부(130)에 전달되는 스트레스의 양이 극히 줄어들어 탄성변형에 유리한 구조가 되는 것이다. In particular, since the stepped portion 161 is formed in the first connection portion 160, the length of the second beam portion 130 may be shorter than that of the first beam portion 120. This makes the structure very advantageous for elastic deformation. More specifically, the stress generated from the tip of the tip when contacting the pad is transmitted to the first connector 160, the first connector 160 has a stepped portion 161, so the mechanical strength is increased to the second The amount of stress transmitted to the beam unit 130 is extremely reduced, which is an advantageous structure for elastic deformation.

또한 상기 제2빔부(130)의 길이를 상기 제1빔부(120)보다 짧게 하기 위하여 상기 메인포스트(140)는 일변이 수직인 사다리꼴형태로 형성되어 있음을 알 수 있다. In addition, in order to shorten the length of the second beam unit 130 than the first beam unit 120, it can be seen that the main post 140 is formed in a trapezoidal shape in which one side is vertical.

또한 상기 제1빔부(120)의 폭은 상기 제2빔부(130)의 폭보다 더 큰 것이 바람직하다(d1>d2). In addition, the width of the first beam part 120 is preferably larger than the width of the second beam part 130 (d1> d2).

또한 상기 제1빔부(120)는 그 두께보다 폭이 더 큰 것이 바람직하다(d1>t1). In addition, the first beam part 120 is preferably larger in width than its thickness (d1> t1).

프로브가 피검사체에 형성되는 패드와 접촉 시 발생되는 적절한 프로브포스(Probe Force)와 작은 스크럽마크(Scrub Mark)를 위해서 두께를 크게하거나 작게하는 방법이 있으나, 미세 피치화(Pitch)에 대처하기 위해서는 두께를 크게하는 것은 한계가 있다. 또한, 두께를 작게하는 것은 약한 프로브포스와 더불어 휘어지는 현상이 발생하게 된다. 따라서, 정해진 두께에서 상기와 같이 제1,2빔부를 구성하고 있고, 팁을 포함하고 프로브 전체의 외형을 유지하는 제1빔부의 폭이 제2빔부의 폭 보다 작을 경우 제1빔부의 파손 및 변형이 용이하여 불량 발생이 빈번이 발생할 수 있다. 또한, 피검사체에 수직 접촉에 의해 움직이는 제1,2빔부는 수직 변형하도록 되어 있으나, 제1,2빔부의 두께는 폭보다 작을 경우 수직 운동 방향의 두께가 폭 보다 커야 프로브가 피검사체에 형성되는 패드와 접촉 시 발생되는 하중의 스트레스를 견디지 못하여, 탄성 변형부위 중 두께가 폭보다 작은 부위에서 집중하중에 의한 탄성구간 범위를 벗어나 항복강도 구간에 속하게 쉽다. 따라서, 파단 및 탄성 변형 불가 상태에 이르게 된다.In order to cope with the fine pitch, there is a method of increasing or decreasing the thickness for proper probe force and small scrub mark generated when the probe contacts the pad formed on the object under test. There is a limit to increasing the thickness. In addition, reducing the thickness causes a phenomenon that the warpage occurs with a weak probe force. Therefore, when the width of the first beam part including the tip and the width of the first beam part including the tip and maintaining the appearance of the entire probe is smaller than the width of the second beam part at the predetermined thickness, the first beam part may be damaged or deformed. It is easy to cause defects can occur frequently. In addition, the first and second beam parts moving by the vertical contact with the test object are vertically deformed. However, when the thickness of the first and second beam parts is smaller than the width, the thickness of the first and second beam parts is greater than the width so that the probe is formed on the test object. It is not able to withstand the stress of the load generated in contact with the pad, so it is easy to belong to the yield strength section beyond the elastic section due to the concentrated load in the region where the thickness is smaller than the width of the elastic deformation region. This leads to a state in which breakage and elastic deformation are impossible.

또한 상기 베이스(150)는 상기 기판과 접하는 면에 요철부(151)가 형성된다. 프로브를 기판에 전기적 연결을 위하여 솔더 페이스트가 담겨진 납조에 상기 베이스(150)를 디핑하게 되는데, 이 때, 요철부(151)에 솔더 페이스트가 충진되어 충분한 양의 페이스트를 갖게되어 결과적으로 기판에 견고하게 연결시킬 수 있다. In addition, the base 150 has an uneven portion 151 formed on a surface in contact with the substrate. In order to electrically connect the probe to the substrate, the base 150 is dipped into a solder bath containing solder paste. At this time, the uneven portion 151 is filled with the solder paste to have a sufficient amount of paste, and thus, the substrate is firmly attached to the substrate. Can be connected.

이와 같은 이유로 상기 베이스(150)에는 두께를 관통하는 적어도 1 이상의 홀(152)이 형성되어 있다. 상기 홀(152)에도 역시 솔더 페이스트가 충진되어 충분한 양의 페이스트를 갖게 된다. For this reason, at least one hole 152 penetrating the thickness is formed in the base 150. The hole 152 is also filled with solder paste to have a sufficient amount of paste.

한편, 상기 메인포스트(140)에는 두께를 관통하는 적어도 1 이상의 강도보강용 홀(141)이 형성되어 있는데, 이로 인해 프로브의 강도가 커진다. Meanwhile, at least one strength reinforcing hole 141 penetrating the thickness is formed in the main post 140, thereby increasing the strength of the probe.

도 3a 및 도 3b는 본 발명에 의한 프로브의 제조방법을 나타낸 것이다. 보다 구체적으로 설명하면, 팁부를 패드와 접촉시 작은 마크를 형성하기 위해 피라미드 형태로 형성하는 방법을 나타낸 것이다. 3A and 3B illustrate a method for manufacturing a probe according to the present invention. More specifically, it shows a method of forming the tip portion in the form of a pyramid to form a small mark in contact with the pad.

먼저, 상기 팁부를 포함한 제1빔부, 제2빔부, 제1연결부와 제2연결부, 메인포스트 및 베이스는 일체형성한 후(도 3a 참조), 상기 팁부를 샌딩처리하여 피라미드 형태로 가공하는 것이다(도 3b 참조). First, the first beam part, the second beam part, the first connection part and the second connection part, the main post, and the base including the tip part are integrally formed (see FIG. 3A), and the tip part is sanded to be processed into a pyramid shape ( 3b).

도 4를 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. It will be described in more detail with reference to FIG.

먼저, 기판(210)상에 접착력 향상을 위해 티타늄(Ti)으로 희생층(220)을 증착하고, 상기 희생층상에 금(Au)으로 제1도금층(230)을 형성한다(도 4(a)). First, the sacrificial layer 220 is deposited on the substrate 210 with titanium (Ti) to improve adhesion, and the first plating layer 230 is formed of gold (Au) on the sacrificial layer (FIG. 4A). ).

다음으로 상기 제1도금층상에 프로브의 평면형상에 대응되는 포토레지스트 패턴(240)을 형성하고(도 4(b)), 상기 포토레지스트 패턴에 전기도금법으로 금속물질(100)을 도금하여 프로브 본체를 형성한 후(도 4(c)), 상기 프로브 본체를 물리화학적 방법으로 평탄화한다(도 4(d)). Next, a photoresist pattern 240 corresponding to the planar shape of the probe is formed on the first plating layer (FIG. 4B), and the metal body 100 is plated on the photoresist pattern by an electroplating method to probe the main body. After forming (Fig. 4 (c)), the probe body is planarized by a physicochemical method (Fig. 4 (d)).

다음으로 상기 프로브 본체 상면에 금(Au)으로 제2도금층(250)을 형성한다(도 4(e)). Next, a second plating layer 250 is formed of gold (Au) on the upper surface of the probe main body (FIG. 4E).

다음으로 상기 포토레지스트 패턴 및 제1도금층 씨드(Seed)를 제거한다(도 4(f)). Next, the photoresist pattern and the first plating layer seed are removed (FIG. 4F).

다음으로 상기 희생층을 제거하여 상기 기판으로부터 상기 프로브 본체를 박리시켜 완성한다(도 4(g)). Next, the sacrificial layer is removed to complete the peeling of the probe body from the substrate (Fig. 4 (g)).

마지막으로, 팁부의 끝단을 연마하여 피라미드 형태로 형성함으로써 완성한다(도 4(h)). Finally, the end of the tip is polished to form a pyramid (figure 4 (h)).

도 5 내지 도 6o는 도 3a 내지 도 4와 다른 방법으로 프로브를 제조하는 방 법을 나타낸 것이다. 5 to 6o illustrate a method of manufacturing a probe in a different method from that of FIGS. 3a to 4.

도 5를 참조하면, 팁부를 제외한 몸체의 평면형상인 제1층(100a)을 제조한 후, 상기 제1층(100a) 상에, 상기 팁부와 몸체의 평면형상인 제2층(100b)을 제조하고, 마지막으로 상기 제2층(100b) 상에, 상기 팁부를 제외한 몸체의 평면형상인 제3층(100c)을 제조함으로써 프로브를 제조하는 것이다. Referring to FIG. 5, after the first layer 100a having a planar shape of the body except the tip part is manufactured, a second layer 100b having the planar shape of the tip part and the body is manufactured on the first layer 100a. Finally, the probe is manufactured by manufacturing the third layer 100c having the planar shape of the body except the tip part on the second layer 100b.

도 6a 내지 도 6n을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다. This will be described in more detail with reference to FIGS. 6A to 6N.

먼저, 기판(310)상에 접착력 향상을 위해 티타늄(Ti)으로 희생층(320)을 증착하고, 상기 희생층상에 금(Au)으로 제1도금층(330)을 형성한다(도 6(a)). First, a sacrificial layer 320 is deposited on titanium (Ti) to improve adhesion on the substrate 310, and a first plating layer 330 is formed of gold (Au) on the sacrificial layer (FIG. 6A). ).

다음으로 상기 제1도금층상에 팁부를 제외한 몸체의 평면형상에 대응되는 포토레지스트 패턴(340)을 형성하고(도 6(b)), 상기 포토레지스트 패턴에 전기도금법으로 금속물질을 도금하여 제1층(100a)을 형성한 후(도 6(c)), 상기 제1층(100a)을 물리화학적 방법으로 평탄화한다(도 6(d)). Next, a photoresist pattern 340 corresponding to the planar shape of the body except for the tip portion is formed on the first plating layer (FIG. 6 (b)), and a metal material is plated on the photoresist pattern by electroplating. After the layer 100a is formed (Fig. 6 (c)), the first layer 100a is planarized by a physicochemical method (Fig. 6 (d)).

다음으로 상기 제1층(100a)상에 제2희생층(350) 및 제2도금층(360)을 형성한다(도 6(e)). Next, a second sacrificial layer 350 and a second plating layer 360 are formed on the first layer 100a (FIG. 6E).

다음으로 상기 제2도금층상에 팁부를 포함한 몸체의 평면형상에 대응되는 포토레지스트 패턴(370)을 형성하고(도 6(f)), 상기 포토레지스트 패턴에 전기도금법으로 금속물질을 도금하여 제2층(100b)을 형성한 후(도 6(g)), 상기 제2층을 물리화학적 방법으로 평탄화한다(도 6(h)). Next, a photoresist pattern 370 corresponding to the planar shape of the body including the tip part is formed on the second plating layer (FIG. 6 (f)), and a metal material is plated on the photoresist pattern by an electroplating method. After the layer 100b is formed (Fig. 6 (g)), the second layer is planarized by a physicochemical method (Fig. 6 (h)).

다음으로 상기 제2층상에 팁부를 제외한 몸체의 평면형상에 대응되는 포토레지스트 패턴(380)을 형성하고(도 6(i)), 상기 포토레지스트 패턴에 전기도금법으로 금속물질을 도금하여 제3층(100c)을 형성한 후(도 6(j)), 상기 제3층을 물리화학적 방법으로 평탄화한다(도 6(k)).Next, a photoresist pattern 380 corresponding to the planar shape of the body except for the tip portion is formed on the second layer (FIG. 6 (i)), and a third layer is formed by plating a metal material on the photoresist pattern by an electroplating method. After forming (100c) (Fig. 6 (j)), the third layer is planarized by a physicochemical method (Fig. 6 (k)).

다음으로 제3층상에 제3도금층(390)을 형성하고(도 6(l)), 상기 포토레지스트 패턴, 제1도금층 및 제2도금층 씨드(Seed)를 제거한다(도 6(m)). Next, a third plating layer 390 is formed on the third layer (FIG. 6 (l)), and the photoresist pattern, the first plating layer, and the second plating layer seed are removed (FIG. 6 (m)).

마지막으로 상기 희생층을 제거하여 상기 기판으로부터 제1층 내지 제3층으로 형성된 프로브 본체를 박리시켜 완성한다(도 6(n)). Finally, the sacrificial layer is removed to complete the peeling of the probe body formed of the first to third layers from the substrate (Fig. 6 (n)).

이와 같이 형성함으로써, 팁부의 연마공정 등과 같은 별도의 공정 추가 없이 팁부의 끝단을 피라미드형태로 형성할 수 있는 것이다. By forming in this way, the tip portion of the tip portion can be formed in a pyramid shape without adding a separate process such as a polishing process of the tip portion.

도 1 및 도 2는 본 발명에 의한 프로브를 나타낸 것이다. 1 and 2 show the probe according to the present invention.

도 3a 및 도 3b, 도 4는 본 발명에 의한 프로브의 제조방법을 나타낸 것이다. 3A, 3B, and 4 illustrate a method of manufacturing a probe according to the present invention.

도 5 및 도 6은 본 발명에 의한 프로브의 다른 제조방법을 나타낸 것이다. 5 and 6 show another method for manufacturing a probe according to the present invention.

Claims

A tip part in contact with a pad formed on the object under test;

A first beam part formed at a lower end thereof and extending in a direction perpendicular to a center line of the tip part;

A second beam part formed on the first beam part in parallel with the first beam part and shorter in length than the first beam part;

First and second connecting portions connecting one end and the other end of the first beam portion and the second beam portion, respectively;

A main post extending upward from the second connection portion; And

A base extending from the main post and electrically connected to the substrate;

And the tip portion and the first beam portion are integrally formed, and the tip portion has a pyramid shape .

The method of claim 1,

And the first connection part is formed stepped to shorten the length of the second beam part than the first beam part.

The method of claim 1,

And the first connector is curved to make the length of the second beam portion shorter than the first beam portion.

The method of claim 1,

And the main post has a trapezoidal shape in order to shorten the length of the second beam portion than the first beam portion.

The method of claim 1,

And the width of the first beam portion is greater than the width of the second beam portion.

The method of claim 1,

And the first beam portion is larger in width than its thickness.

The method of claim 1,

The base is a probe, characterized in that the uneven portion is formed on the surface in contact with the substrate.

The method of claim 1,

And at least one hole formed in the base to penetrate through the thickness.

The method of claim 1,

And at least one strength reinforcing hole penetrating through the main post.

The method of claim 1,

And the tip part, the first beam part, the second beam part, the first connection part and the second connection part, the main post and the base are gold plated.

The method of claim 1,

And the tip part, the first beam part, the second beam part, the first connection part and the second connection part, the main post and the base are integrally formed.

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In the method of manufacturing a probe having a pyramidal tip,

After forming the body and the tip integrally, the both sides of the tip of the probe manufacturing method characterized in that to form a pyramid by mechanical processing.

The method of claim 14,

The mechanical process is a method for producing a probe, characterized in that the polishing process.

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