KR100987711B1

KR100987711B1 - 액정표시장치 및 제조방법

Info

Publication number: KR100987711B1
Application number: KR1020030081680A
Authority: KR
Inventors: 정진구
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2003-11-18
Filing date: 2003-11-18
Publication date: 2010-10-13
Anticipated expiration: 2023-11-18
Also published as: KR20050047879A

Abstract

본 발명은, 액정표시장치 제조방법에 있어서, 제1기판 상에 복수 색상영역의 컬러필터를 형성하는 단계와; 제2기판 상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계와; 상기 박막트랜지스터 상에 층간절연막을 형성하는 단계와; 상기 컬러필터에 있어서 복수 색상영역의 각 경계부에 대응하여 상기 층간절연막에 오목부를 형성하는 단계와; 상기 층간절연막 상에 화소전극을 형성하는 단계와; 상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 액정표시장치의 표시특성을 향상시킬 수 있다.

Description

액정표시장치 및 제조방법{Liquid crystal display and manufacturing Method thereof}

도 1a는 종래의 박막트랜지스터의 단면도다.

도 1b는 종래의 박막트랜지스터 상에 콘택홀 형성을 나타내는 도면,

도 2는 종래의 컬러필터 기판의 단면도,

도 3은 종래의 제1기판과 제2기판을 합착하여 액정층 형성을 나타내는 도면,

도 4a 내지 4d는 본 발명에 따라 제1기판 상에 컬러필터가 형성되는 과정을 나타내는 도면,

도 5a 내지 도 5f는 본 발명에 따라 제2기판 상에 박막트랜지스터가 형성되는 과정을 나타내는 도면,

도 6은 본 발명에 따른 액정 패널의 단면도이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

10 : 기판 15 : 마스크

20 : 컬러수지 30 : 컬러필터

40 : 단차부 50 : 대향전극

60 : 박막트랜지스터 70 : 게이트

75 : 게이트 절연막 80 : 채널부

90 : 데이터 전극 100 : 층간절연막

105 : 추가의 층간절연막 110 : 화소전극

120 : 오목부 130 : 콘택홀

190 : 액정셀 200 : 액정층

본 발명은, 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 컬러필터의 오버랩으로 형성된 단차부에 대응하는 박막트랜지스터 기판의 층간절연막에 오목부를 형성하여 액정배향의 틀어짐 현상을 개선한 것으로 고개구율과 화면의 잔상 및 회위(disclination) 등의 현상을 방지하는 액정표시장치 및 제조방법에 관한 것이다.

액정표시장치(Liquid Crystal Display)는 2개의 얇은 유리기판 사이에 액체와 고체의 중간 상인 액정을 주입해 전원 공급 시 액정분자의 배열을 변화시킴으로써 액정의 전기적-광학적 성질을 표시장치에 응용한 것이다.

도 1a 와 도 1b는 각각 종래의 박막트랜지스터의 단면도와 종래의 박막트랜지스터 상에 콘택홀 형성을 나타내는 도면이다.

도 1a에 도시된 바와 같이 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)(560)는 제2기판(510T) 상에 전류가 들어가는 소스(Source)(590s)와 전류가 나가는 드레인(Drain)(590d)과 전류 흐름의 차폐를 담당하는 게이트(Gate)(570)로 이루어 져 있다. 게이트(570) 전극 상에는 게이트 절연막(575)이 형성되어 있다.

게이트(570) 전극에 전압이 인가되면 반도체인 채널부(580)에서 전류가 흐를 수 있도록 채널이 형성되고, 데이터(Data)가 그 채널을 통과하여 드레인 전극(590d)에 전달한다.

도 1b에 도시된 바와 같이 박막트랜지스터(560)를 보호하기 위해 층간절연막(600)이 박막트랜지스터(560) 상에 형성된다. 여기서 층간절연막(560)으로부터 층간절연막(560) 하부에 있는 드레인(590d) 전극까지 구멍을 뚫어 콘택홀(630)을 형성한다.

콘택홀(630)은 층간절연막(560) 상에 형성되는 투명전도막(610)과 박막트랜지스터(560)를 연결하는 역할을 한다. 콘택홀(630)을 형성한 후 제1기판(510T) 전체에 투명전도성 물질을 형성하고, 포토마스크 기법을 사용하여 투명전도막(610)의 패턴을 형성한다. 여기서, 투명전도막(610)은 드레인(590d) 전극에 전달된 전압으로 추후에 형성될 액정셀(690)을 구동하여 빛의 투과를 온-오프(on-off) 시켜 화상을 구현하게 된다.

도 2는 종래의 컬러필터 기판의 단면도이다.

제1기판(510C)에는 RGB 색상의 컬러수지(520R,520G,520B)를 도포하고, 노광하여 컬러필터(530) 패턴을 형성한다. 일반적으로 컬러수지(520R,520G,520B)의 색상영역을 구획하는 블랙매트리스를 제1기판(510C)에 형성한 후, 컬러수지(520R,520G,520B)를 제1기판(510C) 상에 도포하고, 노광하여 컬러필터(530)를 형성하였다. 그리고 컬러필터(530) 상에 평탄화막(overcoat)을 형 성하여 제1기판(510C)을 평탄하게 하고 평탄화막 상에 대향전극(550)을 형성하였다.

그러나, 블랙매트릭스를 사용하게 되면 개구율이 떨어지는 단점이 있고, 블랙매트릭스의 패턴을 형성하는 공정이 더 필요하게 된다. 평탄화막을 생략할 경우 컬러필터(530)의 향상된 RGB 프로파일(profile)과 대향전극(550)의 면저항(sheet resistance)을 감소시킬 수 있다. 또한 블랙매트릭스와, 평탄화막을 사용하지 않고 컬러필터(530)를 형성하게 되면 재료비를 절감시킬 수 장점이 있다.

그래서 최근에는 컬러수지(520R,520G,520B)를 오버랩하는 방식으로 고개구율 컬러필터(530)를 형성하고자 하는 요구가 증가하고 있다. 도 2에 도시된 바와 같이 제1기판(510) 상에 RBG의 색상수지(520R,520G,520B)를 도포하고, 노광하여 컬러필터(530)를 형성한다. 이 때 RGB 색상수지(520R,520G,520B)의 색상 구획과 오정열(misalign)을 방지하기 위해 RBG 색상수지(520R,520G,520B)의 경계부를 오버랩하여 형성하게 된다. 이 과정에서 오버랩되는 색상영역의 경계부는 단차가 발생하게 된다.

도 3은 종래의 제1기판과 제2기판을 합착하여 액정층 형성을 나타내는 도면이다. 제1기판(510C)과 제2기판(510T)을 합착하여 두 기판(510C,510T) 사이에 액정층(700)을 형성한다. 액정층(700)의 액정은 박막트랜지스터(560)에 형성되어 있는 투명전도막(610)에 의해 전계를 받아 구동하게 된다.

여기서 액정은 유전성과 같은 액체의 성질과 장거리 질서(long range order)와 같은 결정체(고체)의 성질을 동시에 지니는, 액체와 고체의 중간 상태에 있는 물질을 말한다. 액정의 분자는 막대모양의 독특한 구조를 하고 있어 굴절율, 유전율, 전도성, 점성율 등의 물성값이 분자 장축에 평행한 방향과 수직한 방향에 따라 서로 다르게 나타나는 이방성의 성질을 갖게 되며, 이는 표시소자의 특성을 나타내기 위해서는 매우 중요한 물성이 된다.

액정의 광학적 이방성은 액정분자의 장축방향으로 진동하는 빛의 굴절율이 서로 다른 굴절율 이방성에 의하여 복굴절성을 나타내는 것을 말한다. 액정의 굴절율 이방성은 액정을 통과하는 빛의 편광 상태나 편광의 진동방향을 변화시키는 역할을 한다.

액정의 유전율 이방성은 액정분자의 장축방향과 장축에 수직인 방향의 유전율(Dielectric Constant)이 다른 성질을 말한다. 이로 인해 액정층(700)에 가해지는 전압의 세기에 따라 액정의 반응이 달라지게 되며, 결국 광학적 이방성에 의해 투과되는 빛의 양이 조절된다. 장축방향의 유전율이 단축보다 센 액정을 P형 액정, 장축방향의 유전율이 단축방향보다 약한 액정을 N형 액정이라 하며, 일반적으로는 P형 액정을 사용한다.

액정의 탄성계수는 액정이 외부의 힘에 의해 균일한 분자 배열이 변화되는 상태를 계량화한 값으로, 전압에 의하여 반응을 한 후 제자리로 돌아오는 힘의 세기를 나타낸다.

액정의 이러한 특성 때문에 상호 전극(550,610)의 거리에 영향을 받게 된다. 상호 전극(550,610)의 간격에 의해서 액정의 배열이 변화하기 때문에 화면의 잔상 및 회위가 발생하여 디스플레이 특성을 저하시키는 원인이 된다.

그리고 도 3에 도시된 바와 같이 제1기판(510C)에 컬러수지(520R,520G,520B)가 오버랩 되어 형성되어 있고, 제1기판(510C) 상에 컬러수지(520R,520G,520B)의 오버랩에 의해 생긴 단차부(540)로 인해 제1기판(510C)과 제2기판(510T)의 전극 간격이 일정하지 않게 된다. 이로 인해 액정배열의 틀어짐 현상이 발생하게 된다. 이에 따라 화면 상에 잔상이나 회위 등의 문제점등이 발생하였다.

이와 같이 종래의 컬러수지(520R,520G,520B)를 오버랩하여 컬러필터(530)를 형성함으로 제1기판(510C)과 제2기판(510T) 사이에 형성되는 액정층(700)의 간격이 일정하게 형성되지 않아 액정배열의 틀어짐 현상이 발생하게 되고, 액정표시장치의 표시특성 저하를 야기하는 문제점이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은, 제1기판(510C) 상에 오버랩 되어 형성된 컬러필터(530)와 제2기판(510T) 상에 형성된 박막트랜지스터(560)를 합착하여 액정층(700)을 형성하는데 있어서 액정배열의 틀어짐 현상을 개선하여 표시특성이 향상된 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 액정표시장치 제조방법에 있어서, 제1기판 상에 복수 색상영역의 컬러필터를 형성하는 단계와; 제2기판 상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계와; 상기 박막트랜지스터 상에 층간절연막을 형성하는 단계와; 상기 컬러필터에 있어서 복수 색상영역의 각 경계부에 대응하여 상기 층간절연막에 오목부를 형성하는 단계와; 상기 층간절연막 상에 화소전극을 형성하는 단계와; 상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는 것에 의해 달성된다.

여기서, 상기 오목부를 형성하는 단계 후 상기 층간절연막를 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하며, 열처리를 통해 층간절연막의 형성 각을 낮출 수 있어 화소전극 증착시 들뜸현상을 방지할 수 있고, 화소의 경계부에서 화소전극과 화소전극의 간격(separation)을 증가시켜 인접 불량을 줄일 수 있다.

또한, 상기 층간절연막에 상기 오목부를 형성하는 단계에 있어서, 상기 화소전극과 박막트랜지스터를 연결하는 콘택홀을 더 형성하는 것이 바람직하다.

여기서, 상기 오목부와 상기 콘택홀이 형성된 층간절연막 상에 추가의 층간절연막을 더 형성하는 단계와; 상기 콘택홀에 다중의 단차가 형성되도록 상기 추가의 층간절연막에 비아홀을 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.

한편으로, 액정표시장치에 있어서, 컬러필터가 형성된 제1기판과; 박막트랜지스터가 형성된 제2기판과; 상기 제2기판 상에 형성된 층간절연막과; 상기 층간절연막 상에 형성된 오목부와; 상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 형성된 액정층을 특징으로 하는 것에 의해 달성된다.

이하에서는, 일예로 액정표시장치에 사용되는 박막트랜지스터 상에 형성된 층간절연막에 오목부를 형성시켜 표시특성 향상을 위한 액정표시장치에 대하여 설명하도록 한다.

설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적인 실시예에서 설명한다.

이하에서는, 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.

도 6은 본 발명에 따른 액정 패널을 나타낸 단면도이다.

도 6에 도시된 바와 같이 컬러필터(30)는 제1기판(10C) 상에 컬러수지(20R,20G,20B)등의 재료를 사용하여 도포한다. 여기서 컬러수지(20R,20G,20B)는 세가지 기본색(R,G,B)의 염료나 안료를 포함하는 수지이다. 컬러필터(30)는 추후에 형성될 액정층(200)을 통과한 빛이 색깔을 갖도록 하는 역할을 한다.

여기서 컬러필터(30) 패턴을 형성할 때 컬러수지(20R,20G,20B)의 색상의 구획과 오정열을 막기 위해서 도 6에 도시된 바와 같이 각 컬러수지(20R,20G,20B)의 경계부에는 컬러수지(20R,20G,20B)를 오버랩하여 형성한다. 이렇게 오버랩하여 형성한 컬러수지(20R,20G,20B)로 인해 색상영역의 경계부에는 단차가 형성된다.

여기서 컬러필터(30) 상에 투명한 전기전도체 전극물질로 액정셀(190)에 전압을 형성해 주는 대향전극(50)을 형성할 수 있다.

도6 도시된 바와 같이, 박막트랜지스터(60)는 게이트(70) 전극과 데이터(90) 전극은 서로 직교하여 제2기판(10T) 상에 형성되고 게이트(70)의 신호와 데이터의 신호는 채널부(80)를 통해 추후에 형성될 화소전극(110)에서 반응하게 된다. 그리고 게이트 전극(70) 상에는 게이트 절연막(75)을 형성한다.

도 6에 도시된 바와 같이 형성된 박막트랜지스터(60) 상에 박막트랜지스터(60)를 보호하는 층간절연막(100)을 형성한다. 층간절연막(100)은 SiNx, 유기막 등의 물질로 형성할 수 있다.

여기서, 층간절연막(100)의 두께는 액정표시장치의 개구율, 신호잡음(cross talk), 투과율 등에 영향을 미치기 때문에 층간절연막(100)의 종류와 층간절연막(100) 두께는 원하는 특성 상황에 따라 선택하는 것이 바람직하다.

층간절연막(100) 상에는 화소전극(110)을 형성한다. 화소전극(110)은 투명하고 전기 전도성을 갖는 물질로 형성하며 박막트랜지스터(60)를 통하여 인가된 신호전압을 액정셀(190)에 가해주는 역할을 한다.

여기서 제1기판(10C)과 제2기판(10T) 사이에 액정층(200)이 형성된다. 액정층(200)은 박막트랜지스터(60)에 형성되어 있는 화소전극(110)에 의해 전계를 받아 구동을 하게 된다.

여기서 제1기판(10C)과 제2기판(10T)을 합착하고, 제1기판(10T) 상에 컬러필터(30) 경계부에 컬러수지(20R,20G,20B)가 오버랩 되어 형성되어 있기 때문에 오버랩된 경계부에 단차부(40)가 형성된다.

액정층(200)의 액정은 전계에 의해서 액정셀(190)을 구동하게 된다. 구동된 액정은 대향전극(50)과 화소전극(110)의 간격에 영향을 받게 된다. 전극 간격이 일정하게 형성되지 않는 경우에는 액정 배열의 비틀어짐 현상이 발생하여 표시특성 저하의 요인이 된다.

그래서, 제1기판(10C)과 제2기판(10T) 사이에 형성된 액정층(200)의 간격을 일정하게 형성하기 위해 층간절연막(100)에 오목부(120)를 형성한다. 제2기판(10T) 상에 오목부(120)는 제1기판(10C)의 단차부(40)에 대응하는 위치에 형성되어 액정셀(190)의 틀어짐 현상을 방지할 수 있도록 한다.

그리고 층간절연막(100) 상에 화소전극(110)을 형성한다. 여기서, 화소전극(110)과 데이터 신호를 받는 드레인 전극(90d)을 연결하기 위해서 콘택홀(130)을 더 형성한다.

그리고, 제1기판(10C)과 제2기판(10T) 사이에 형성된 액정층(200)의 액정은 액체와 같은 유동성을 갖는 유기분자인 액정이 결정과 같이 규칙적으로 배열된 상태의 것으로, 이 분자배열이 외부 전계에 의해 변화하는 성질을 이용하여 디스플레이 할 수 있도록 하는 역할을 한다.

여기서 액정의 간격은 제1기판(10C)의 화소전극(110)과 제2기판(10T)의 대향전극(50) 간격에 의해서 영향을 받기 때문에 양 전극(50,110)의 간격을 일정하게 형성하는 것이 바람직하다.

도 4a 내지 도4d는 제1기판 상에 컬러필터가 형성되는 과정을 나타내는 도면이다.

컬러필터(30)는 추후에 형성될 액정층(200)을 통과한 빛이 색깔을 갖도록 하는 역할을 한다. 도4a 내지 4d에 도시된 바와 같이 제1기판을 준비하고, 컬러수지(20R,20G,20B) 중에 레드색상의 수지(20R)를 도포하고 노광하여 레드의 컬러수지(20R)의 패턴을 형성한다. 그리고 그린(G)컬러수지(20G)를 도포하고 노광하여 그린의 컬러수지(20G)의 패턴을 형성하게 된다. 블루(20B)도 같은 방법으로 형성하게 된다.

컬러필터(30)의 컬러수지(20R,20G,20B)는 색깔이 있는 안료나 염료등을 사용한다. 그리고 컬러수지(20R,20G,20B)는 빛을 받은 영역이 경화되는 음성(negative) 반응 PR(photoresist)을 사용한다. 각 색상의 컬러수지(20R,20G,20B)는 색상의 경계부에서 색상의 구획 및 컬러수지(20R,20G,20B)의 오정렬에 의한 불량을 방지하기 위해 오버랩하여 형성한다.

도 5a 내지 도 5f는 본 발명에 따른 제2기판상에 박막트랜지스터가 형성하는 과정을 나타내는 도면이다.

도 5a에 도시된 바와 같이 제2기판(10T) 상에 게이트 전극(70)과 데이터 전극(90)과 채널부(80)를 형성한다. 게이트 전극(70)은 크롬과 알루미늄 합금 등을 사용하여 증착 후 식각하여 형성하고, 게이트 전극(70) 상에 PECVD로 게이트 절연막(75)을 제2기판(10T) 전체에 형성한다. 게이트 절연막(75) 상에 채널부(80)를 형성한다. 채널부(80)는 비정질 실리콘(a-Si)이나 폴리 실리콘(poly-Si) 등의 반도체 물질 등으로 PECVD 방법으로 형성할 수 있다. 데이터 전극(90)은 채널부(80) 상에 데이터 전극(90)물질을 증착하고, 식각하여 패턴을 형성한다. 데이터 전극(90) 물질로는 크롬, 몰리브덴, 알루미늄합금 등이 사용 될 수 있다.

도 5b에 도시된 바와 같이 박막트랜지스터(60) 상에 박막트랜지스터(60)를 보호하는 층간절연막(100)을 형성한다. 층간절연막(100)은 SiNx, 유기막 등으로 형성할 수 있다. 본 발명에서는 유기막을 일실시예로 설명한다.

도 5c에 도시된 바와 같이 유기막으로 형성된 층간절연막(100)은 제1기판(도 6 참조부호 10C) 상에 형성된 단차부(40)에 대응하는 위치에 단차부(40) 정도의 유기막을 노광하여 제1기판(10C)과 제2기판(10T)의 합착 시에 양 기판(10C,10T)의 간격을 일정하게 형성되도록 오목부(120)를 형성한다.

여기서, 오목부(120)를 노광하여 형성할 때에, 데이터 전극(90)과 화소전극(도 6 참조부호 110)을 연결하기 위한 콘택홀(130)을 더 형성할 수 있다.

도 5d에 도시된 바와 같이 추가의 층간절연막(100a)을 더 도포할 수 있다. 추가의 층간절연막(100a)을 도포하고, 도포된 추가의 층간절연막(100a)을 노광함으로서 콘택홀(130)에 계단식 프로파일을 형성하도록 할 수 있다. 추가의 층간절연막(100a)을 노광할 때는 노광량을 조절하여 비아 홀(135)을 형성할 수 있다.

도 5e에 도시된 바와 같이 계단식 프로파일은 노광한 후 형성된 층간절연막(100,100a)의 경사가 급격하여 콘택홀(130) 상에 형성될 화소전극(110) 물질이 유기막 상에 접촉이 되지 않아 발생하는 들뜸현상을 방지해 준다. 여기서 유기막을 여러번 도포하고 노광하여 계단식 프로파일을 다중으로 형성할 수 있음은 물론이다.

도 5e에 도시된 바와 같이 콘택홀(130)에 형성된 각이 급격하여 화소전극(110) 물질이 단락되는 현상이 발생할 수 있게 된다. 여기서, 유기막을 열처리하여 콘택홀(130)과 오목부(120)의 형성된 급경사를 낮출 수 있다. 열처리를 통해 경사를 낮추어 화소전극(110)이 단락되는 것을 방지할 수 있음은 물론이다.

도 5f에 도시된 바와 같이 층간절연막(100) 상에 투명전도성 물질을 증착하고 식각하여 화소전극(110)을 형성하되 오목부(120)에서는 화소전극(110)이 연결되지 않아야 한다. 오목부(120)는 화소전극(110)과 화소전극(110) 간의 간격(separation)(150)을 증가시켜 화소 간의 인접 불량을 개선할 수 있다.

도 6은 도시된 바와 같이 제1기판(10C)과 제2기판(10T)을 합착하여 양 기판 사이에 액정층(200)을 형성한다. 본 발명에 따라 형성된 제2기판(10T) 상에는 액정층(200)의 간격을 일정하게 형성하는 오목부(120)가 형성되어 있어 액정의 틀어짐 현상을 방지할 수 있다. 이에 따라 액정표시장치의 화면 상에 발생하는 잔상, 회위 등의 문제점을 해결할 수 있게 된다.

이와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 액정배열의 틀어짐 현상을 방지하는 오목부(120)를 형성함으로써 액정배열의 회위, 잔상 등의 문제점을 해결할 수 있으며 화소전극 간의 간격(150)을 넓혀 화소전극(110)과 화소전극(110) 간의 인접 불량을 해결할 수 있다. 또한 층간절연막(100) 상에 추가의 층간절연막(100a)을 도포하고 노광함으로써 콘택홀(130)에 계단식 프로파일로 형성하여 콘택홀(130)에서 발생하는 데이터(90) 전극과 화소전극(110)간에 접촉 불량을 개선할 수 있다. 또한 공정상에서 오목부(120)와 콘택홀(130)을 계단식 프로파일을 2중단차로 형성하는 경우, 도포하고 노광하는 공정은 종래의 공정과 비해 마스크를 사용하는 횟수가 증가하지 않고 형성할 수 있어 공정이 용이하고, 액정표시장치의 품질을 향상시킬 수 있다.

이와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 액정배열의 틀어짐 현상을 방지하는 오목부(120)를 형성함으로써 액정배열의 회위, 잔상 등의 문제점을 해결할 수 있으며 화소전극 간의 간격(150)을 넓혀 화소전극(110)과 화소전극(110) 간의 인접 불량을 해결할 수 있다. 또한 층간절연막(100) 상에 추가의 층간절연막(100a)을 도 포하고 노광함으로써 콘택홀(130)에 계단식 프로파일로 형성하여 콘택홀(130)에서 발생하는 데이터(90) 전극과 화소전극(110)간에 접촉 불량을 개선할 수 있다. 또한 공정상에서 오목부(120)와 콘택홀(130)을 계단식 프로파일을 2중단차로 형성하는 경우, 도포하고 노광하는 공정은 종래의 공정과 비해 마스크를 사용하는 횟수가 증가하지 않고 형성할 수 있어 공정이 용이하고, 액정표시장치의 품질을 향상시킬 수 있다.

Claims

액정표시장치 제조방법에 있어서,

제1기판 상에 컬러필터들을 형성하는 단계와;

제2기판 상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계와;

상기 박막트랜지스터 상에 층간절연막을 형성하는 단계와;

상기 컬러필터들의 경계부에 상기 컬러필터들의 오버랩에 의해 형성된 단차부에 대응하여 상기 층간절연막에 오목부를 형성하는 단계와;

상기 층간절연막 상에 화소전극을 형성하는 단계와;

상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
제 1항에 있어서,

상기 오목부를 형성하는 단계 후 상기 층간절연막를 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
제 1항에 있어서,

상기 층간절연막에 상기 오목부를 형성하는 단계에 있어서, 상기 화소전극과 박막트랜지스터를 연결하는 콘택홀을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
제 2항에 있어서,

상기 오목부와 상기 콘택홀이 형성된 층간절연막 상에 추가의 층간절연막을 더 형성하는 단계와;

상기 콘택홀에 다중의 단차가 형성되도록 상기 추가의 층간절연막에 비아홀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.
액정표시장치에 있어서,

컬러필터들이 형성된 제1기판과;

박막트랜지스터가 형성된 제2기판과;

상기 제2기판 상에 형성된 층간절연막과;

상기 층간절연막에서 상기 컬러필터들의 경계부에 상기 컬러필터들의 오버랩에 의해 형성된 단차부에 대응하여 형성된 오목부와;

상기 제1기판과 상기 제2기판 사이에 형성된 액정층을 특징으로 하는 액정표시장치.