KR100963674B1

KR100963674B1 - 균일한 표면 거칠기 및 저 리타데이션 값을 가지는 광확산필름 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR100963674B1
Application number: KR1020070125527A
Authority: KR
Inventors: 이진우; 임창규; 김방덕; 박선홍; 오세진
Original assignee: 제일모직주식회사
Priority date: 2007-12-05
Filing date: 2007-12-05
Publication date: 2010-06-15
Anticipated expiration: 2027-12-05
Also published as: KR20090058776A; TWI391712B; US8062730B2; CN101452093A; TW200933203A; CN101452093B; US20090147499A1

Abstract

균일한 표면 거칠기 및 저 리타데이션 값을 가지는 광확산 필름 및 그 제조방법이 개시되어 있다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 열가소성 수지로부터 형성되고, Ra 0.5~3㎛ 및 HDI (Height Distribution Index) 3~8㎛를 가지며 리타데이션(retardation) 값이 25nm 이하인 광확산 필름이 제공된다. 본 발명의 광확산 필름은 LCD TV 백라이트 내 표면 광원으로부터 나온 불균일한 빛을 효율적으로 산란, 투과시켜 최종 패널에서 균일한 휘도를 보이게 할 수 있다.

광확산 필름, 엠보, 샌드 블라스팅, HDI(Height Distribution Index), 리타데이션(Retardation)

Description

균일한 표면 거칠기 및 저 리타데이션 값을 가지는 광확산 필름 및 그 제조방법 {Light diffusion film with uniform surface roughness and low retardation value and method for manufacturing the same}

본 발명은 균일한 표면 거칠기 및 저 리타데이션 값을 가지는 광확산 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.

액정 표시 장치(LCD) 등의 디스플레이 장치에서는 확산 필름을 구비하는 것이 일반적이며, 상기 액정표시장치(LCD)용 광확산 필름은 백라이트 유닛 내에서 빛을 보내거나 확산시키는데 주로 사용된다.

광확산 필름은 관찰자에게 빛을 균일하게 분배시키고 도광에 의해 발생 가능한 결함을 감추면서 전체 광 투과율을 유지시키기 위해 사용되는 광범위한 종류의 제품을 일컫는다. 이러한 액정표시장치용 광확산 필름은 카네비게이션, 휴대폰, PDA, 디지털 카메라, 휴대용 TV, 캠코더 등의 소형용 또는 중대형의 노트북 PC, 데스크탑 용 모니터 등에 사용되고 있다.

현재 액정 디스플레이 백라이트 유닛용 광확산 필름 분야에서는 광원으로부터 나온 광이 확산층을 통과할 때 빛의 손실 없이 균일하게 확산되도록 하는 기능을 갖는 광확산 필름의 개발에 연구가 집중되고 있다.

이와 같은 광확산 필름의 개발에 있어서는, 고온다습 환경에서 코팅된 기재의 치수 안정성 결여, 코팅 공정 내구성 결여에 기인한 코팅 결함, 코팅층 상의 스크래치 문제, 표면 텍스쳐의 불균질 문제, 정전하 생성에 기인한 먼지 부착 및 이와 같은 결함에 의해 감소된 휘도 및 휘도 불균질 문제 등을 최소화할 것이 요구된다. 이를 위해서, 확산제 및 코팅공정 없이 확산층이 광확산 기능을 갖게 하거나 확산층의 광투과성 및 확산 균질성을 개선할 필요가 있다.

상기 광투과성 및 확산 균질성을 확보하기 위하여 필름 자체에 엠보 패턴을 형성하여 광원으로부터 나온 불균일한 빛을 효율적으로 산란, 투과시켜 최종 패널에서 균일한 휘도를 나타내게 하려는 연구가 수행되어 왔으나, 형성된 엠보 패턴의 불규칙성으로 인하여 균일한 광투과성 및 확산성 등의 광학 특성을 구현하거나 재현하는데 한계가 있었다. 또한, 종래의 광확산 필름은 Ra 값만으로 평가되어 표면 거칠기를 편차 없이 균일하게 조절하는데 어려움이 있다.

한편, 액정표시장치의 휘도를 높이기 위한 연구의 일환으로 백라이트 유닛 내 구성 필름의 리타데이션을 낮추려는 노력이 행해지고 있다. 제조 과정에서 광확산 필름 내부에 광학적인 왜곡이 남게 되면, 리타데이션 값이 높아지게 되는데 이는 휘도 저하의 큰 원인이 되기 때문이다.

낮은 리타데이션 값을 갖게 하기 위한 방법으로 다이에서 토출된 수지 냉각 롤의 온도를 Tg 이상의 온도로 유지하는 방법이 있으나, 이는 필름 표면의 엠보 형상 유지를 저해하게 되어 헤이즈 특성을 저하시킬 수 있다. 그 외에 냉각 롤과 이송 롤 사이에서 필름을 느슨하게 유지시켜 주는 방법도 소개되고는 있으나, 이로 인한 리타데이션 감소 효과는 미미한 수준이다.

본 발명의 목적은 균일한 표면 거칠기를 가지는 동시에 저 리타데이션 값을 가지는 광확산 필름 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여,

본 발명의 일 측면에 따르면,

열가소성 수지로부터 형성되고, Ra가 0.5~3㎛ 및 HDI가 3~8㎛인 균일한 표면거칠기를 가지며, 25nm 이하의 리타데이션 값을 가지는 광확산 필름을 제시할 수 있다.

또한, 본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 100~180㎛의 입자 직경을 가지는 연마재를 롤 표면에 4~12회 분사하여 샌드블라스팅 공정을 거친 롤을 열가소성 수지의 압출 공정의 냉각롤로 이용하는, 상기 광확산 필름의 제조방법을 제시할 수 있다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.

본 발명은 우수한 광학 특성을 발현하기 위하여 Ra 0.5~3㎛ 및 HDI 3~8㎛의 균일한 표면 거칠기를 가지며, 25nm 이하의 리타데이션 값을 가지는 광확산 필름에 관한 것이다.

상기 균일한 표면 거칠기를 가지는 광확산 필름은 본 발명자들이 개발한 샌드 블라스팅 공정을 거친 롤에 용융 수지를 압출시켜 제조된다. 본 발명자 등은 샌드 블라스팅 공정에서 사용되는 연마재의 입자 크기와 처리회수를 달리함으로써 이를 이용하여 압출 가공되는 필름의 균일한 표면 거칠기를 달성하여 우수한 전광선 투과율 및 헤이즈를 가지는 필름을 제조하였다.

본 발명에 따라 제조된 열가소성 수지 광확산 필름은 적어도 한 면의 표면에 광확산성이 우수한 엠보 패턴을 가진다. 상기와 같이 하여 제조된 필름의 엠보 수준은 종래의 Ra와 더불어, HDI (Height Distribution Index)로 평가할 수 있다.

HDI는 시편의 표면 거칠기 분석 시 표면 높이의 분포를 얻은 후 그 중 주 분포 구간의 길이로 정의한다. 도 3은 시편 표면의 높이 데이터들의 개별적 분포 결과를 보여준다. 도 3에서 x축은 표면의 개별 높이를 나타내고, y축은 해당 높이에서의 데이터 수(the number of data points)를 나타낸다. 본 발명에서 정의하는 HDI는 600×480㎛ 단위 면적 내에서, 가장 많은 분포를 갖는 높이의 20%에 해당하는 높이의 분포 구간 길이이며, 이는 표면 높이의 주 분포 구간으로 나타낼 수 있다.

본 발명에서 제공하는 광확산 필름은 Ra 0.5~3㎛, HDI 3~8㎛ 범위를 만족시 킴으로써 균일한 표면 거칠기를 가져 우수한 광학 특성을 달성할 수 있다.

Ra 및 HDI가 상기한 범위에 미달하는 경우 충분한 헤이즈가 어렵고, 상기 범위 초과시 전광선 투과율이 낮아지고, 필름 부분별 편차를 초래하게 되어 광확산 필름으로써 바람직하지 않다. 즉, Ra 및 HDI가 상기 범위 이내이어야 88% 이상의 우수한 전광선 투과율 및 70% 이상의 헤이즈, 바람직하게는 91% 이상의 전광선 투과율 및 80% 이상의 헤이즈를 달성할 수 있어, 광확산 필름으로 사용하기에 적합하다.

또한, 본 발명의 광확산 필름은 리타데이션 값이 25㎚ 이하를 만족하는 것으로, 리타데이션 값이 25nm를 초과하면 가시광선 영역에서의 빛 투과 손실이 커져 액정표시 장치 휘도를 저하시키게 되어 바람직하지 않다. 상기 리타데이션 값은 1~25㎚ 범위인 것이 보다 바람직하다.

리타데이션 값이 25㎚ 이하이며, 바람직한 헤이즈의 값을 가지는 열가소성 수지 광 확산 필름을 제조하기 위해서는, 도 2에 나타난 압출공정 설비의 제1번롤 (22)과 제2번롤 (23) 간 압력을 5~30 bar로 유지하고, 제1 냉각롤을 고무롤로 하는 것이 좋다.

제1번롤 (22)과 제2번롤 (23) 간 압력이 5 bar 보다 작으면 낮은 리타데이션 구현은 가능하지만 필름 표면에 엠보 패턴 형성이 부족해 충분한 헤이즈를 얻기 어려우며, 제1번롤(22)과 제2번롤(23) 간 압력이 30 bar를 초과하면, 필름이 받은 스트레스로 인해 광학적인 왜곡이 남게 되고 이로 인해 리타데이션 값이 25㎚를 초과할 수 있다.

또한, 제2번롤(23)의 온도는 사용되는 열가소성 수지의 유리전이온도(Tg)-40℃ 내지 Tg 범위로 설정하는 것이 바람직하다. 열가소성 수지의 Tg-40℃보다 낮으면 다이에서 토출된 수지가 롤과 접촉할 때 온도가 급격히 낮아져 롤 엠보 패턴이 필름 표면에 전사되기 어려울 뿐만 아니라 필름의 잔류 응력으로 인해 리타데이션 값이 높아진다. 또한, 사용되는 열가소성 수지의 Tg보다 높으면 다이에서 토출된 수지가 제2번롤(23)을 통과하면서 엠보 패턴이 유지되지 못하고 뭉개어지는 결과를 초래하게 된다.

본 발명의 광확산 필름은 두께 60~450㎛를 만족하는 것이 바람직하다. 두께가 60㎛ 미만일 경우 너무 얇기 때문에 컬이 발생하기 쉽고, 450㎛를 넘을 경우 백라이트 유닛의 두께가 커져 액정 표시 장치의 박형화 요구에 바람직하지 않을 수 있다. 또한 휘도향상 적층 필름의 상, 하면에 라미네이팅 시에도 두께 미달시 동일한 결과를 초래할 수 있다.

본 발명의 광확산 필름의 제조에 이용될 수 있는 수지로는 열가소성 수지가 바람직하다.

상기 열가소성 수지는 압출 성형이 가능한 임의의 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 예로써, 폴리아세탈 수지, 아크릴계 수지, 폴리카보네이트 수지, 스티렌계 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐계 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리올레핀 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리에테르설폰 수지, 폴리페닐렌 설피드 수지, 불소계 수지를 들 수 있다.

바람직하게는, 열가소성 수지 조성물의 물성 또는 적용되는 제품의 종류 등을 고려하여, 메타아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지 등의 투명 고분자 수지를 사용할 수 있다. 또한, 이들 수지를 둘 이상 공중합하거나 혼합하여 사용할 수도 있다.

도 1은 본 발명의 광확산 필름의 제조공정에 사용되는 냉각롤의 샌드블라스팅 공정에 이용되는 설비를 간략히 나타내는 도면이다. 11은 냉각롤을, 12는 연마재 분사 노즐을, 13은 노즐의 좌우 이동틀을, 14는 연마재 저장탱크를 나타낸다.

샌드블라스팅 공정에 있어서, 연마재의 종류 및 크기, 노즐의 직경, 노즐 이동 속도, 롤 회전 속도, 분사 압력, 처리회수 등이 표면 거칠기 형성에 영향을 주지만, 가장 크게 영향을 미치는 인자는 연마재의 크기 및 처리회수이다.

본 발명은 이들 인자의 조절을 통해 목표로 하는 Ra 및 HDI를 구현하였다.

상기 연마재로는 알루미늄 옥사이드(aluminum oxide), 글라스 비드(glass beads), 플라스틱 연마재(plastic blast media), 세라믹 비드(ceramic beads) 등을 사용할 수 있으며, 이 중 원하는 거칠기(roughness)를 구현하기 위해 알루미늄 옥사이드 또는 세라믹 비드를 사용하는 것이 바람직하다.

연마재 입자의 크기는 직경 100~180㎛가 바람직한데, 연마재 입자 직경이 100㎛미만이면 필름 표면의 Ra 및 HDI 값이 부족할 수 있고, 180㎛을 초과하면 원하는 Ra 및 HDI 값을 초과하는 결과를 초래할 수 있다.

또한, 롤 표면에 샌드 블라스팅하는 회수는 왕복 4~12회가 바람직하다. 처리 회수가 왕복 4회 미만이면 원하는 Ra 및 HDI 값의 범위를 초과하게 되고 필름 부분별 편차가 발생할 수 있으며, 왕복 12회를 초과하면, 원하는 Ra 및 HDI 값의 범위에 미치지 못하거나 연마재 사용량이 증가함으로써 고비용이 소요될 수 있다.

나머지 인자들은 노즐 직경 2~9㎜, 노즐 이동 속도 100~600㎜/분, 롤 회전 속도 10~50m/분, 분사 압력 0.2~1 MPa의 수준에서 운전될 수 있고, 경우에 따라서는 이 인자들의 범위 외 조건 변화를 통해 제한적인 범위 내에서 Ra 및 HDI 값을 구현시킬 수도 있다.

본 발명의 광확산 필름의 제조방법은 폴리싱 롤을 가진 압출 성형에 적용하는 것이 바람직하다. 도 2에 본 발명의 샌드 블라스팅 공정을 거친 롤을 일 구성요소로 적용한 압출공정 설비를 예시적으로 나타내었다. 21은 다이(die)를, 22, 23 및 24는 제1, 제2 및 제3의 냉각롤을 나타내는데, 이들은 고무롤 또는 스틸롤일 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 22가 실리콘 고무롤, 23이 샌드 블라스팅 처리된 스틸롤(steel roll), 그리고 24가 무처리 스틸롤인 경우를 예시하였지만 이에 한정되지 않는다. 다만, 22가 고무롤인 경우 필름의 위상차를 줄일 수 있고, 롤 수명을 증가시킬 수 있다는 점에서 더 바람직하다.

구체적으로, 본 발명에서는 필름의 엠보 패턴의 반대 형상을 갖도록 스틸 롤(23) 표면에 샌드 블라스팅 처리하여, 고무롤(22)로 협지하여 수지 용융물을 냉각하는 방법을 채용하여 표면 거칠기가 균일한 광확산 필름을 제조하였다. 한편, 고무롤(22)에도 샌드 블라스팅 또는 표면 코팅 등의 방법으로 무늬 또는 엠보 패턴을 부여할 수도 있다.

본 발명에 따르면, 필름의 표면에 균일한 거칠기 및 저 리타데이션 값을 부여함으로써 높은 헤이즈 및 전광선 투과율뿐만 아니라 향상된 휘도를 보이는 광확산 필름의 제조가 가능하다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.

[실시예 1~4]

도 2에 나타난 바와 같이, 표 1의 조건으로 샌드블라스팅 처리한 롤을 제2 냉각롤(23)로 적용한 압출기에 의하여, 폴리카보네이트 수지로부터 본 발명의 광확산 필름을 제조하였다. 도 1은 롤 표면의 샌드블라스팅 공정 시 주요 가공 변수인 연마재의 처리공정을 보여주는 도면이다.

폴리카보네이트 수지는 치메이 사 (Chimei) PC-110 그레이드를 사용하여 290℃로 설정한 T 다이로부터 토출량 23.4kg/시간으로 압출하였다. T 다이(Die)는 폭 600mm, 제1, 제2 및 제3 냉각롤은 각각 고무 롤(22), 샌드블라스팅 처리된 롤(23) 및 무처리 스틸 롤 (24)을 사용하였다. 이때 제1 냉각롤(22), 제2 냉각롤(23) 및 제3 냉각롤(24)의 온도는 표 1의 제2 냉각롤 기준으로, 제1 냉각롤 온도는 표 1의 제2 냉각롤 온도보다 5℃ 낮게, 제2 냉각롤은 표 1의 조건으로, 제3 냉각롤 온도는 표 1의 제2 냉각롤 온도보다 5℃ 높게 설정하였다. 제1 냉각롤과 제2 냉각롤 간 압력은 표 1의 조건으로 설정하였다.

상기와 같이 하여 얻어진 광학산 필름의 조도(Ra) 및 HDI의 분석은 Wyko사 profiler 분석기를 통해 얻었고, 5회 측정하여 평균값을 취하였다. 전광선 투과율과 헤이즈는 Nippon denshoku사 NDH 5000W-Hazemeter로 측정하였고, 리타데이션 값은 Oji scientific instruments 사의 Kobra-21ADH 장비, 휘도는 Eldim EZ-Contrast 장비로 측정되었다.

그 결과, 표 1에 나타난 바와 같이, 실시예의 방법으로 제조된 폴리카보네이트 광 확산 필름은 높은 헤이즈와 높은 전광선 투과율 뿐만 아니라 낮은 리타데이션 값과 그로 인한 양호한 휘도값을 나타내었다.

[비교예 1~2]

수지의 압출과정에서, 샌드 블라스팅 공정시 사용된 연마재의 직경의 차이를 다르게 하여 처리한 롤을 제2 냉각롤(23)로 사용한 것을 제외하고, 실시예의 방법과 동일하게 필름을 제조하였다(표 1 참조).

그 결과, 제조된 폴리카보네이트 광확산 필름은 기대하는 Ra 및 HDI 값 범위를 벗어났으며, 필름의 리타데이션 값은 양호하였으나 높은 헤이즈 또는 높은 전광 선 투과율을 보이지 않았다.

[비교예 3~4]

수지의 압출과정에서, 샌드 블라스팅 공정시 블라스팅 처리회수를 다르게 처리한 롤을 제2 냉각롤(23)로 사용한 것을 제외하고, 실시예의 방법과 동일하게 필름을 제조하였다(표 1 참조).

그 결과, 제조된 폴리카보네이트 광확산 필름은 기대하는 Ra 및 HDI 값 범위를 벗어났으며, 필름의 리타데이션 값은 양호하였으나 높은 헤이즈 또는 높은 전광선 투과율을 보이지 않았다.

[비교예 5]

필름 제조시 제 1 냉각롤과 제 2 냉각롤 간 압력을 3bar로 한 것을 제외하고 실시예의 방법과 동일하게 필름을 제조하였다(표 1 참조).

그 결과, 상기 제1 냉각롤과 제2 냉각롤 간의 낮은 압력으로 인하여, 제조된 필름의 Ra 값이 0.4㎛로 낮아져 충분한 헤이즈가 보여지지 않았다.

[비교예 6]

필름 제조시 제 1 냉각롤과 제 2 냉각롤 간 압력을 40bar로 한 것을 제외하고 실시예의 방법과 동일하게 필름을 제조하였다(표 1 참조).

그 결과, 상기 제1 냉각롤과 제2 냉각롤 간의 높은 압력으로 인하여, 제조된 필름의 리타데이션 값이 32nm로 높아져 휘도의 감소를 초래한 것을 알 수 있다.

[비교예 7]

필름 제조시 롤 온도를 50℃로 한 것을 제외하고 실시예의 방법과 동일하게 필름을 제조하였다(표 1 참조). 이로 인해 필름 표면에 충분히 엠보 패턴이 형성되지 않았고, 필름 내부의 잔류 응력으로 인해 56%의 헤이즈 및 29nm의 높은 리타데이션 값을 보였다. 이는 필름 표면이 급냉한 결과로 판단된다.

[비교예 8]

필름 제조시 롤 온도를 170℃로 한 것을 제외하고 실시예의 방법과 동일하게 필름을 제조하였다(표 1 참조). 이로 인해 필름 표면에 형성된 엠보 패턴이 유지되지 않고 뭉개져 0.4 ㎛의 낮은 Ra 값을 나타내었다. 이로 인해 59%의 헤이즈를 나타내었다.

[표 1]

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 샌드 블라스팅 공정에 사용되는 설비의 작동 관계를 나타내는 개략도이다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라 샌드 블라스팅 공정을 거친 롤을 일 구성요소로 적용한 압출공정 설비의 개략도이다.

도 3은 본 발명의 HDI를 정의하기 위한, 시편 표면의 높이 데이터들의 개별적 분포를 나타내는 그래프이다.

x축: 표면의 개별 높이, y축: 해당 높이에서의 데이터 수

Claims

단일층의 열가소성 수지로부터 형성되고, 조도(Ra)가 0.5~3㎛ 및 HDI(Height Distribution Index)가 3~8㎛인 균일한 표면거칠기를 가지며, 25nm 이하의 리타데이션(retardaiton) 값을 가지는 광확산 필름.
제1항에 있어서,

상기 광확산 필름은 두께가 60~450㎛인 광확산 필름.
제1항에 있어서,

상기 광확산 필름은 헤이즈가 70% 이상 및 전광선 투과율이 80% 이상인 광확산 필름.
제1항에 있어서,

상기 광확산 필름은 적어도 한 면에 엠보 패턴을 가지는 광확산 필름.
제1항에 있어서,

상기 열가소성 수지는 메타아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 시클로올레핀계 수지 및 폴리카보네이트계 수지로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상으로 이루어지는 광확산 필름.
100~180㎛의 입자 직경을 가지는 연마재를 롤 표면에 4~12회 분사하여 샌드블라스팅 공정을 거친 롤을 열가소성 수지의 압출 공정의 냉각롤로 이용하는, 제1항의 광확산 필름의 제조방법.
제6항에 있어서,

상기 연마재는 알루미늄 옥사이드(aluminum oxide), 글라스 비드(glass beads), 플라스틱 연마재(plastic blast media) 및 세라믹 비드(ceramic beads)로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 광확산 필름의 제조방법.
제6항에 있어서,

상기 롤은 고무롤 또는 스틸롤인, 광확산 필름의 제조방법.
제6항에 있어서,

제1 냉각롤과 제2 냉각롤 사이의 압력이 5~30 bar인, 광확산 필름의 제조방법.
제6항에 있어서,

제2 냉각롤의 온도가 상기 열가소성 수지의 Tg-40℃ 내지 Tg인, 광확산 필름의 제조방법.