KR100945725B1 - 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 장치 - Google Patents
탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100945725B1 KR100945725B1 KR1020090097616A KR20090097616A KR100945725B1 KR 100945725 B1 KR100945725 B1 KR 100945725B1 KR 1020090097616 A KR1020090097616 A KR 1020090097616A KR 20090097616 A KR20090097616 A KR 20090097616A KR 100945725 B1 KR100945725 B1 KR 100945725B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrode line
- electrolytic cell
- electrolyte
- anodizing
- degreasing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007743 anodising Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 41
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000004519 grease Substances 0.000 title 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 93
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims abstract description 57
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- -1 aluminum metals Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/16—Pretreatment, e.g. desmutting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/02—Heating or cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/16—Regeneration of process solutions
- C25D21/18—Regeneration of process solutions of electrolytes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/04—Tubes; Rings; Hollow bodies
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Description
Claims (7)
- 일정 용량의 전해액이 저수된 전해조(11);상기 전해조(11) 상부에 설치되고 일정 구간을 구획하기 위한 절연블록(21a-21g)이 결합된 제1전극라인(20); 상기 제1전극라인(20)과 대응되는 외측으로 일정 구간을 구획하기 위한 절연블록(24a-24g)이 결합된 제2전극라인(23); 상기 제1전극라인(20)의 내측으로 구동스프라켓(49)과 종동스프라켓(50)에 결합되고 복수의 이송블록(29)이 장착된 체인(28); 및 상기 제1전극라인(20)에 전기적으로 연결되고 전해액에 침지되는 도금대상물(33)을 고정 지지하는 행거(32)를 포함하는 도금장치(10);상기 도금장치(10)의 전해조(11)와 일체로 구비된 것으로, 상기 전해조(11) 일측에 전해조(11)보다 낮은 높이의 분리벽(65)이 설치되고, 도금장치(10)의 제1전극라인(20)과 제2전극라인(23)이 절연블록(21f, 24f)을 거쳐 연장되어 폐로로 연결되며, 분리벽(65)을 넘어오는 전해액으로부터 이물질을 분리하는 여과망(66)을 포함하는 탈지장치(60), 및상기 탈지장치(60)에서 탈지된 전해액을 흡입하여 송수관(72)을 통해 송수하는 모터펌프(70)와, 모터펌프(70)를 거쳐 송수된 전해액을 냉각시킨 후에 전해조(11)로 송수하는 열 교환기(71)를 포함하는 냉각장치를 포함하여 이루어진 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제1전극라인(20)은 도금장치(10)에서는 양극라인(20a-20f)이고 탈지장치(60)에서는 음극라인(20g)이며,상기 제2전극라인(23)은 도금장치(10)에서는 음극라인(23a-23f)이고, 탈지장치(60)에서는 양극라인(23g)인 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 전해조(11) 상단에 일정 간격으로 고정된 고정블록(27)에 고정되어 제2전극라인(23)을 지지하는 지지라인(26)과,상기 제2전극라인(23)과 지지라인(26) 사이에 거치되고 전해액에 침지되는 통전밴드(31)를 더 포함하는 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 전해조(11) 상부에 복수의 지지프레임(40)으로 고정되는 상부플레이트(41)와,상기 지지프레임(40) 사이에 장착되어 전해조(11) 내부의 감시와 가스의 외부방출을 차단하는 투명 덮개(42)와,상기 일정 구간으로 구획된 제1전극라인(20)의 해당 구간에 전원을 공급하는 양극판(22a-22f, 25g)과,상기 일정 구간으로 구획된 제2전극라인(23)의 해당 구간에 전원을 공급하는 음극판(22g, 25a-25f)과,상기 양극판(22a-22f, 25g)과 음극판(22g, 25a-25f)으로 인가되는 전원을 공급 및 제어하는 전원제어반(43)과,상기 전원제어반(43)에서 인가된 전원으로 회전력을 발생시키는 모터(46)와,상기 모터(46)의 회전축에 연결되어 회전속도를 감속시키는 감속기(47)와,상기 감속기(47)의 회전력을 구동스프라켓(49)으로 전달하는 동력전달부재(48), 및상기 전해조(11)에서 발생되는 가스를 흡입팬(51)의 구동으로 복수의 흡입공(45)을 통해 흡입하여 외부로 배출하는 덕트(42)를 더 포함하는 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2전극라인(23)에 면 접촉되고 행거(32)를 거치하며 이송블록(29)에 의해 제2전극라인(23)을 회전하는 거치대(30)를 더 포함하는 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치.
- (a) 일정 구간에 절연블록(21a-21g, 24a-24g, 34a-34g)으로 구획된 제1전극라인(20)에 접촉되는 거치대(30)에 복수의 도금대상물(33)이 고정된 행거(32)를 거치하여 전해액에 침지하는 단계;(b) 전원제어반(43)에서 모터(46)를 구동시켜 구동스프라켓(49)과 종동스프라켓(50)에 톱니 결합된 체인(28)을 회전시키는 단계;(c) 상기 도금대상물(33)이 탈지장치(60)로 투입되어 전원제어반(43)에서 제1전극라인(20)과 제2전극라인(23)에 교번(交番, alternation)으로 인가된 전원으로 도금대상물(33)의 표면에 묻어 있는 이물질이 분리되도록 하는 단계;(d) 상기 도금대상물(33)에서 탈지된 이물질을 여과망(66)을 거치면서 전해액과 분리하는 단계;(e) 상기 이물질이 분리된 전해액을 모터펌프(70)로 흡입하여 송수하는 단계;(f) 상기 모터펌프(70)에서 송수된 전해액을 일정 온도이하로 열 교환시켜 냉각하는 단계;(g) 상기 냉각된 전해액을 전해조(11)로 재투입하는 단계;(h) 상기 전원제어반(43)에서 제1전극라인(20)과 제2전극라인(23)에 전원을 인가하여 전해액에 침지된 도금대상물(33)에 아노다이징을 수행하는 단계;(i) 상기 아노다이징 도중에 전해액에서 발생되는 가스를 흡입팬(51)이 장착된 덕트(44)를 통해 흡입하여 배출시키는 단계; 및(j) 상기 아노다이징이 완료된 도금대상물(33)을 전해조(11)로부터 분리시키는 단계를 포함하여 이루어진 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법.
- 제6항에 있어서,상기 도금대상물(33)을 경질로 도금 처리하는 경우에는 전원제어반(43)에서 제1전극라인(20)과 제2전극라인(23)에 구획된 구간별로 연결 설치된 양극판(22a-22f, 25g)과 음극판(22g, 25a-25f)에 인가되는 전압 및 전류가 각각의 정류기를 통해 상이하게 인가되고,상기 도금대상물(33)을 연질로 도금 처리하는 경우에는 전원제어반(43)에서 제1전극라인(20)과 제2전극라인(23)에 구획된 구간별로 연결 설치된 양극판(22h)과 음극판(25h)에 인가되는 전압 및 전류가 동일한 정류기를 통해 동일하게 인가되는 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090097616A KR100945725B1 (ko) | 2009-10-14 | 2009-10-14 | 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090097616A KR100945725B1 (ko) | 2009-10-14 | 2009-10-14 | 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100945725B1 true KR100945725B1 (ko) | 2010-03-05 |
Family
ID=42182987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090097616A Active KR100945725B1 (ko) | 2009-10-14 | 2009-10-14 | 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100945725B1 (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101017575B1 (ko) | 2010-11-22 | 2011-02-28 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리용 양극레일의 스파크 방지장치 |
KR101040101B1 (ko) | 2010-11-22 | 2011-06-09 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 자동화 처리시스템 및 그 처리방법 |
KR101169960B1 (ko) * | 2012-01-16 | 2012-08-06 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리 장치 |
KR101423024B1 (ko) * | 2014-03-26 | 2014-07-29 | 손치호 | 전해액 자동 분석을 통한 약품 투입 기능을 갖는 금속의 아노다이징 처리 시스템 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4377461A (en) | 1981-09-23 | 1983-03-22 | Napco, Inc. | Tab plater for circuit boards or the like |
JPH02217498A (ja) * | 1989-02-17 | 1990-08-30 | Shinmei Kogyo Kk | メッキ処理システム |
KR100892995B1 (ko) * | 2008-10-20 | 2009-04-10 | 손치호 | 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 시스템 |
-
2009
- 2009-10-14 KR KR1020090097616A patent/KR100945725B1/ko active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4377461A (en) | 1981-09-23 | 1983-03-22 | Napco, Inc. | Tab plater for circuit boards or the like |
JPH02217498A (ja) * | 1989-02-17 | 1990-08-30 | Shinmei Kogyo Kk | メッキ処理システム |
KR100892995B1 (ko) * | 2008-10-20 | 2009-04-10 | 손치호 | 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 시스템 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101017575B1 (ko) | 2010-11-22 | 2011-02-28 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리용 양극레일의 스파크 방지장치 |
KR101040101B1 (ko) | 2010-11-22 | 2011-06-09 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 자동화 처리시스템 및 그 처리방법 |
KR101169960B1 (ko) * | 2012-01-16 | 2012-08-06 | 주식회사 삼원알텍 | 금속의 아노다이징 처리 장치 |
KR101423024B1 (ko) * | 2014-03-26 | 2014-07-29 | 손치호 | 전해액 자동 분석을 통한 약품 투입 기능을 갖는 금속의 아노다이징 처리 시스템 |
WO2015147395A1 (ko) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | 손치호 | 전해액 자동 분석을 통한 약품 투입 기능을 갖는 금속의 아노다이징 처리 시스템 |
CN106133202A (zh) * | 2014-03-26 | 2016-11-16 | 孙治镐 | 具有利用电解液自动分析的药品投入功能的金属的阳极氧化处理系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100892995B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 시스템 | |
KR101040101B1 (ko) | 금속의 아노다이징 자동화 처리시스템 및 그 처리방법 | |
KR100958368B1 (ko) | 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치 | |
KR101169960B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리 장치 | |
KR100945725B1 (ko) | 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 방법 및 그 장치 | |
KR101637382B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리 시스템 | |
KR101048013B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리용 래크 | |
KR101608862B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리장치 | |
KR101635786B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리용 전극레일의 스파크 방지 시스템 | |
CN117026350A (zh) | 一种电镀液循环过滤系统及其工作方法 | |
KR101215478B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리용 양극레일의 스파크 방지 시스템 | |
CN1382232A (zh) | 用于电解处理相互分开的板材块和箔材块的可导电表面的方法和装置以及该方法的应用 | |
KR101017575B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리용 양극레일의 스파크 방지장치 | |
JP5410154B2 (ja) | めっき付銅条材の製造方法及び製造装置 | |
JP2009114475A (ja) | 電解銅粉製造用電極及び電解銅粉製造用アノード | |
KR101114887B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생되는 금속성 불순물 제거용 여과장치 | |
CN110528054B (zh) | 一种pcb板不停槽电沉积镍的装置和方法 | |
JP2000017499A (ja) | 帯状金属板の電解装置 | |
EP1347081B1 (en) | A plating method and apparatus with fixed immersed plating tool | |
CN1262690C (zh) | 用于向待电解处理工件供电的载体和电解处理工件的方法 | |
JP2001131796A (ja) | 電気銅めっき装置ならびに前記装置を使用した銅めっき方法 | |
KR101244166B1 (ko) | 금속의 아노다이징 처리과정에서 발생하는 금속성 불순물 흡착용 필터 | |
KR101179309B1 (ko) | 전해액 챔버를 사용한 표면 산화공정장치를 이용한 산화막 형성방법 및 그 기록매체 | |
CN211394656U (zh) | 一种金属粉体集成一体化电积装置 | |
RU2523655C1 (ru) | Анод для установок гальванического нанесения покрытий на непрерывно движущуюся стальную полосу |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20091014 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
PA0302 | Request for accelerated examination |
Patent event date: 20091015 Patent event code: PA03022R01D Comment text: Request for Accelerated Examination Patent event date: 20091014 Patent event code: PA03021R01I Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20091110 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20100218 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20100226 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20100226 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130325 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20130325 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140225 Year of fee payment: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140225 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150225 Year of fee payment: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20150225 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160325 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160325 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170323 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170323 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180425 Year of fee payment: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180425 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190225 Year of fee payment: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190225 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200226 Year of fee payment: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200226 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220210 Start annual number: 13 End annual number: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20221229 Start annual number: 14 End annual number: 14 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240130 Start annual number: 15 End annual number: 15 |