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KR100943723B1 - Probe card - Google Patents

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KR100943723B1
KR100943723B1 KR1020080018192A KR20080018192A KR100943723B1 KR 100943723 B1 KR100943723 B1 KR 100943723B1 KR 1020080018192 A KR1020080018192 A KR 1020080018192A KR 20080018192 A KR20080018192 A KR 20080018192A KR 100943723 B1 KR100943723 B1 KR 100943723B1
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guide block
printed circuit
circuit board
alignment
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김홍찬
이재익
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윌테크놀러지(주)
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Abstract

접촉 패드에 대한 프로브의 접촉 신뢰성이 향상된 프로브 카드가 제공된다.A probe card is provided which improves the contact reliability of the probe with respect to the contact pad.

회로 패턴이 형성되어 있는 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드는 상기 인쇄 회로 기판 하에 위치하는 제 1 가이드 블록 및 제 2 가이드 블록을 포함하는 프로브 기판, 및 리드부, 탄성부, 프로브 본체부, 프로브 정렬부 및 프로브 팁부를 포함하는 프로브를 포함한다.A probe card including a printed circuit board having a circuit pattern formed thereon includes a probe substrate including a first guide block and a second guide block positioned under the printed circuit board, and a lead portion, an elastic portion, a probe body portion, and a probe alignment. A probe comprising a portion and a probe tip portion.

프로브 카드, 프로브 기판, 프로브 Probe card, probe board, probe

Description

프로브 카드{PROBE CARD}Probe Card {PROBE CARD}

본 발명은 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 프로브 기판에 의해 정렬되는 프로브를 포함하는 프로브 카드에 관한 것이다.The present invention relates to a probe card comprising a printed circuit board, and more particularly to a probe card comprising a probe aligned by a probe substrate.

일반적으로 반도체 디바이스는 웨이퍼(wafer) 상에 회로 패턴 및 검사를 위한 접촉 패드를 형성하는 패브리케이션(fabrication) 공정과 회로 패턴 및 접촉 패드가 형성된 웨이퍼를 각각의 반도체 칩으로 조립하는 어셈블리(assembly) 공정을 통해서 제조된다.In general, semiconductor devices have a fabrication process of forming contact pads for circuit patterns and inspections on a wafer, and an assembly process of assembling wafers having circuit patterns and contact pads into respective semiconductor chips. It is manufactured through.

페브리케이션 공정과 어셈블리 공정 사이에는 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드에 전기 신호를 인가하여 웨이퍼의 전기적 특성을 검사하는 검사 공정이 수행된다. 이 검사 공정은 웨이퍼의 불량을 검사하여 어셈블리 공정 시 불량이 발생한 웨이퍼의 일 부분을 제거하기 위해 수행하는 공정이다.Between the fabrication process and the assembly process, an inspection process is performed in which an electrical signal is applied to the contact pads formed on the wafer to inspect the electrical properties of the wafer. This inspection process is performed to inspect a defect of a wafer and to remove a portion of a wafer in which a defect occurs during an assembly process.

검사 공정 시에는 웨이퍼에 전기적 신호를 인가하는 테스터라고 하는 검사 장비와 웨이퍼와 테스터 사이의 인터페이스 기능을 수행하는 프로브 카드라는 검사 장비가 주로 이용된다. 이 중에서 프로브 카드는 테스터로부터 인가되는 전기 신호 를 수신하는 인쇄 회로 기판 및 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드와 접촉하는 복수개의 프로브를 포함한다.In the inspection process, inspection equipment called a tester for applying an electrical signal to a wafer and probe equipment for performing an interface function between the wafer and the tester are mainly used. Among them, the probe card includes a printed circuit board that receives an electrical signal applied from a tester and a plurality of probes in contact with contact pads formed on the wafer.

이하, 도 1을 참조하여 종래의 프로브 카드를 설명한다.Hereinafter, a conventional probe card will be described with reference to FIG. 1.

도 1은 종래의 프로브 카드를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a conventional probe card.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 프로브 카드(10)는 웨이퍼 척(20)에 안착되어 있는 웨이퍼(30) 상에 형성된 접촉 패드(31)에 접촉하여 웨이퍼(30)를 검사하며, 인쇄 회로 기판(11), 프로브(12) 및 프로브 지지부(13)를 포함한다.As shown in FIG. 1, the conventional probe card 10 contacts the contact pad 31 formed on the wafer 30 seated on the wafer chuck 20 to inspect the wafer 30, and a printed circuit. And a substrate 11, a probe 12, and a probe support 13.

인쇄 회로 기판(11)의 상면에는 회로 패턴(11a)이 형성되어 있으며, 회로 패턴(11a)은 인쇄 회로 기판(11)과 수직을 이루는 프로브(12)에 연결되어 프로브(12)에 검사 공정을 위한 전기적 신호를 보내준다.A circuit pattern 11a is formed on the upper surface of the printed circuit board 11, and the circuit pattern 11a is connected to the probe 12 perpendicular to the printed circuit board 11 to perform an inspection process on the probe 12. Send electrical signal for

프로브(12)는 회로 패턴(11a)에 연결되어 있고, 프로브 카드(10)의 하강 또는 웨이퍼 척(20)의 상승에 의해 접촉 패드(31)에 접촉하여 회로 패턴(11a)으로부터 공급된 전기적 신호를 접촉 패드(31)에 전달한다.The probe 12 is connected to the circuit pattern 11a and is in contact with the contact pad 31 by the lowering of the probe card 10 or the rise of the wafer chuck 20 to supply an electrical signal supplied from the circuit pattern 11a. Is transmitted to the contact pad 31.

프로브 지지부(13)에는 프로브(12)를 지지하는 관통홀(13a)이 형성되어 있으며, 상기 관통홀(13a)은 프로브(12)가 안정적으로 상하 운동을 하도록 도와준다.Probe support portion 13 is formed with a through hole (13a) for supporting the probe 12, the through hole (13a) helps the probe 12 to move up and down stably.

한편, 웨이퍼(30) 상에 형성된 접촉 패드(31) 표면에는 산화막(32)이 형성되어 있을 수 있다. 검사 공정 시 프로브(12)는 상기 산화막(32)을 관통하여 접촉 패드(31)와 접촉해야 한다.Meanwhile, an oxide film 32 may be formed on the surface of the contact pad 31 formed on the wafer 30. During the inspection process, the probe 12 must contact the contact pad 31 through the oxide layer 32.

그런데, 관통홀(13a)의 제 1 너비(L₁)와 프로브(12)의 제 2 너비(L₂)가 실질적으로 동일할 경우, 검사 공정 시 프로브 카드(10)의 하강 또는 웨이퍼 척(20) 의 상승에 의해 프로브(12)가 실질적으로 수직 방향으로 운동을 하게 되어 프로브(12)에 인가되는 압력은 수직 방향으로 집중되어 프로브(12)가 산화막(32)을 관통한 후, 접촉 패드(31)에 손상을 일으켜 검사 공정에 의한 웨이퍼(30)의 불량이 발생할 수 있다.However, when the first width L 너비 of the through hole 13a and the second width L2 of the probe 12 are substantially the same, the lowering of the probe card 10 or the wafer chuck 20 during the inspection process may occur. As the probe 12 moves upward in a substantially vertical direction, the pressure applied to the probe 12 is concentrated in the vertical direction so that the probe 12 penetrates through the oxide film 32 and then the contact pad 31 This may cause damage to the wafer 30 due to the inspection process.

상기와 같은 웨이퍼(30)의 불량을 억제하기 위해, 관통홀(13a)의 제 1 너비(L₁)를 프로브(12)의 제 2 너비(L₂)보다 크게 형성할 경우, 검사 공정 시 프로브(12)가 산화막(32)과 접촉하는 동시에 프로브(12)의 제 2 너비(L₂)와 관통홀(13a)의 제 1 너비(L₁)의 차이에 의해 프로브(12)가 산화막(32) 표면에서 미끄러지게 된다. 상기와 같은 프로브(12)의 미끄러짐에 의해 프로브(12)에 인가되는 압력은 분산되며, 산화막(32)에 스크럽(scrub)이 발생하면서 프로브(12)는 안정적으로 접촉 패드(31)와 접촉하게 된다.In order to suppress the defect of the wafer 30 as described above, when the first width L₁ of the through hole 13a is made larger than the second width L2 of the probe 12, the probe 12 during the inspection process Is in contact with the oxide film 32 and the probe 12 slides on the surface of the oxide film 32 due to the difference between the second width L2 of the probe 12 and the first width L 너비 of the through hole 13a. You lose. The pressure applied to the probe 12 is dispersed by the sliding of the probe 12 as described above, and a scrub is generated in the oxide film 32 so that the probe 12 stably contacts the contact pad 31. do.

그런데, 상기와 같이 관통홀(13a)의 제 1 너비(L₁)를 프로브(12)의 제 2 너비(L₂)보다 크게 형성하면, 최초 프로브 지지부(13)에 의해 정렬되는 프로브(12)의 위치의 오차가 크게 되며, 이에 의해, 검사 공정 시 최초 프로브(12) 위치의 오차에 따른 검사 불량이 발생할 수 있다.However, when the first width L 의 of the through hole 13a is formed to be larger than the second width L ₂ of the probe 12 as described above, the position of the probe 12 aligned by the first probe support 13 is determined. In this case, an error of P is increased, whereby an inspection defect may occur due to an error of the position of the first probe 12 during the inspection process.

최근에, 고 집적 반도체 칩의 수요가 증가함에 따라서, 패브리케이션 공정에 의해 웨이퍼(30)에 형성되는 반도체 회로 패턴이 고 집적하게 되며, 이에 의해, 이웃하는 접촉 패드(31)간의 간격, 즉 피치(pitch)가 매우 좁게 형성되고 있다.In recent years, as the demand for high integrated semiconductor chips increases, the semiconductor circuit patterns formed on the wafer 30 by the fabrication process become highly integrated, whereby the intervals, or pitches, between adjacent contact pads 31 are increased. (pitch) is formed very narrowly.

이러한, 미세 피치의 접촉 패드(31)가 형성된 웨이퍼(30)를 검사할 시 상기와 같은 최초 프로브(12) 위치의 오차에 따른 검사 불량이 자주 발생하는 문제점이 있다.When inspecting the wafer 30 on which the fine pitch contact pads 31 are formed, inspection defects often occur due to the error of the position of the first probe 12 as described above.

본 발명의 일 실시예는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로써, 최초 프로브의 위치를 정렬하는 동시에 프로브에 인가되는 압력을 분산시켜 웨이퍼 상에 형성되어 있는 미세 피치를 가진 접촉 패드에 대한 프로브의 접촉 신뢰성을 향상시킬 수 있는 프로브 카드를 제공하는 것을 목적으로 한다.One embodiment of the present invention is to solve the above-described problems, the contact of the probe to the contact pad having a fine pitch formed on the wafer by dispersing the pressure applied to the probe while aligning the position of the initial probe It is an object of the present invention to provide a probe card capable of improving reliability.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 제 1 측면은 회로 패턴이 형성되어 있는 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 있어서, 상기 인쇄 회로 기판 하에 위치하는 제 1 가이드 블록 및 상기 제 1 가이드 블록과 마주하여 제 1 너비를 가지는 정렬 슬릿을 형성하며, 상기 정렬 슬릿 내부 표면에 위치하도록 경사면을 가지는 제 1 높이의 함몰된 정렬홈을 포함하는 제 2 가이드 블록을 포함하는 프로브 기판, 및 상기 제 1 가이드 블록의 상면에 위치하는 리드부, 상기 리드부로부터 연장되어 상기 정렬 슬릿 상에 위치하는 탄성부, 상기 탄성부로부터 연장되어 상기 정렬 슬릿 내부에 위치하며, 상기 정렬 슬릿의 상기 제 1 너비보다 작은 제 2 너비를 가지는 프로브 본체부, 상기 프로브 본체부로부터 상기 정렬홈 방향으로 돌출되어 상기 경사면과 대응하여 상기 정렬홈의 경사면에 지지되는 경사부를 가지며, 상기 제 1 높이보다 작은 제 2 높이를 가지는 프로브 정렬부 및 상기 프로브 본체부로부터 연장되어 적어도 일부가 상기 프로브 기판의 하면 외부로 노출되는 프로브 팁부를 포함하는 프로브를 포함하는 프로브 카드를 제공한다.As a technical means for achieving the above technical problem, a first aspect of the present invention is a probe card comprising a printed circuit board having a circuit pattern, the first guide block and the first guide block located under the printed circuit board A probe substrate comprising a second guide block forming an alignment slit having a first width facing the first guide block, the second guide block comprising a recessed alignment groove of a first height having an inclined surface to be located on the inner surface of the alignment slit, and A lead portion positioned on an upper surface of the first guide block, an elastic portion extending from the lead portion and positioned on the alignment slit, and extending from the elastic portion and positioned inside the alignment slit, the first portion of the alignment slit A probe body portion having a second width smaller than the width, protruding in the direction of the alignment groove from the probe body portion For example, an inclined portion supported on the inclined surface of the alignment groove in correspondence with the inclined surface, the probe alignment portion having a second height smaller than the first height, and extending from the probe main body portion, at least a portion of the inclined surface of the alignment groove extends out of the lower surface of the probe substrate. Provided is a probe card comprising a probe comprising a probe tip exposed.

상기 프로브 정렬부의 상기 경사부는 상기 프로브의 상승 시 상기 경사면과 이격될 수 있다.The inclined portion of the probe alignment portion may be spaced apart from the inclined surface when the probe is raised.

상기 탄성부는 상기 리드부로부터 상기 정렬 슬릿 상까지 절곡 연장되어 있는 반원 형상의 탄성 지지부 및 상기 정렬 슬릿 상에 위치한 상기 탄성 지지부의 단부로부터 상기 프로브 본체부까지 절곡 연장되어 있는 원 형상의 탄성 운동부를 포함할 수 있다.The elastic portion includes a semicircular elastic support portion that is bent from the lead portion onto the alignment slit and a circular elastic movement portion that is bent from the end of the elastic support portion located on the alignment slit to the probe body portion. can do.

상기 탄성 지지부는 상기 제 2 가이드 블록 방향으로 돌출된 고정부를 포함하며, 상기 제 2 가이드 블록은 상기 고정부가 결합하는 함몰된 고정홈을 더 포함할 수 있다.The elastic support part may include a fixing part protruding in the direction of the second guide block, and the second guide block may further include a recessed fixing groove to which the fixing part is coupled.

상기 프로브는 상기 프로브 본체부로부터 수평 방향으로 돌출 연장되는 하나 이상의 프로브 돌출부를 더 포함할 수 있다.The probe may further include one or more probe protrusions protruding in a horizontal direction from the probe body portion.

상기 프로브 팁부는 상기 정렬 슬릿의 상기 제 1 너비와 상기 프로브 본체부의 제 2 너비 사이의 크기인 제 3 너비를 가질 수 있다.The probe tip portion may have a third width that is a size between the first width of the alignment slit and the second width of the probe body portion.

상기 제 1 가이드 블록은 상기 제 1 가이드 블록의 상기 상면에 형성된 고정 슬릿을 포함하며, 상기 리드부의 적어도 일부는 상기 고정 슬릿 내에 장착될 수 있다.The first guide block may include a fixing slit formed on the upper surface of the first guide block, and at least a part of the lead portion may be mounted in the fixing slit.

상기 제 1 가이드 블록은 상기 고정 슬릿으로부터 하측으로 함몰되어 있는 결합홈을 더 포함하며, 상기 프로브는 상기 리드부로부터 돌출되어 상기 결합홈에 위치하는 리드 고정부를 더 포함할 수 있다.The first guide block may further include a coupling groove recessed downward from the fixing slit, and the probe may further include a lead fixing portion protruding from the lead portion and positioned in the coupling groove.

상기 프로브는 상기 리드부로부터 상기 인쇄 회로 기판 방향으로 연장되어 있는 인터페이스부를 더 포함할 수 있다.The probe may further include an interface part extending from the lead part toward the printed circuit board.

상기 인터페이스부는 스프링 구조물을 포함할 수 있다.The interface unit may include a spring structure.

상기 인터페이스부는 상기 인쇄 회로 기판의 상기 회로 패턴과 직접 연결되어 있을 수 있다.The interface unit may be directly connected to the circuit pattern of the printed circuit board.

상기 인쇄 회로 기판 상에 위치한 제 1 보강판을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a first reinforcing plate positioned on the printed circuit board.

상기 인쇄 회로 기판과 상기 프로브 기판 사이에 위치하며, 상기 인터페이스부가 관통하는 제 2 보강판을 더 포함할 수 있다.The display device may further include a second reinforcing plate positioned between the printed circuit board and the probe substrate and penetrating through the interface unit.

상기 인쇄 회로 기판과 상기 프로브 기판 사이에 위치하며 공간 변환 패턴을 포함하는 공간 변환기 및 상기 공간 변환기와 상기 인쇄 회로 기판 사이에 위치하며 상기 인쇄 회로 기판의 상기 회로 패턴과 상기 공간 변환기의 상기 공간 변환 패턴을 연결하는 인터포저를 더 포함하며, 상기 인터페이스부는 상기 공간 변환 패턴과 전기적으로 연결되어 있을 수 있다.A space converter located between the printed circuit board and the probe substrate and including a space conversion pattern and between the space converter and the printed circuit board and located between the circuit pattern of the printed circuit board and the space converter The apparatus may further include an interposer for connecting the interface unit, and the interface unit may be electrically connected to the spatial transformation pattern.

상기 공간 변환기의 상기 공간 변환 패턴은 상기 인쇄 회로 기판과 마주하는 상기 공간 변환기의 상면에 형성되어 있으며, 상기 인터페이스부는 상기 공간 변환기를 관통하여 상기 상면에 형성된 공간 변환 패턴과 연결될 수 있다.The space conversion pattern of the space converter may be formed on an upper surface of the space converter facing the printed circuit board, and the interface unit may be connected to a space conversion pattern formed on the upper surface through the space converter.

상기 공간 변환기는 상기 공간 변환 패턴과 전기적으로 연결되는 관통홀을 더 포함하고, 상기 인터페이스부의 상부 단부는 상기 관통홀과 접촉할 수 있다.The space converter may further include a through hole electrically connected to the space conversion pattern, and an upper end of the interface unit may contact the through hole.

상기 관통홀의 내부 표면은 도전성 물질로 코팅되어 있을 수 있다.The inner surface of the through hole may be coated with a conductive material.

상기 공간 변환기와 상기 프로브 기판 사이에 위치하며, 상기 인터페이스부 를 감싸는 인터페이스 기판을 더 포함하며, 상기 인터페이스 기판은 접지되어 있을 수 있다.The interface substrate may be disposed between the space converter and the probe substrate and surround the interface unit. The interface substrate may be grounded.

전술한 본 발명의 과제 해결 수단의 일부 실시예 중 하나에 의하면, 프로브 기판 및 프로브 기판에 구조적으로 장착 및 정렬되는 프로브를 포함함으로써, 최초 프로브의 위치를 정렬하는 동시에 프로브에 인가되는 압력을 분산시켜 웨이퍼 상에 형성되어 있는 미세 피치를 가진 접촉 패드에 대한 프로브의 접촉 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.According to one embodiment of the above-described problem solving means of the present invention, by including the probe substrate and the probe structurally mounted and aligned on the probe substrate, by aligning the position of the original probe and at the same time to distribute the pressure applied to the probe There is an effect of improving the contact reliability of the probe with respect to a contact pad having a fine pitch formed on the wafer.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재와 "상에" 또는 "상부에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a member is located "on" or "upper" with another member, this includes not only when one member is in contact with another member but also when another member is present between the two members. . In addition, when a part is said to "include" a certain component, this means that it may further include other components, without excluding other components unless otherwise stated.

이하, 도 2 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드를 설명한다.Hereinafter, a probe card according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 8.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 분해 사시도이고, 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 프로브 및 프로브 기판의 확대도이고, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에서 프로브 기판에 장착되어 있는 프로브를 도시한 사시도이고, 도 5는 도 2의 Ⅴ-Ⅴ를 따른 단면도이고, 도 6은 도 5의 A부분의 확대도이며, 도 7 및 도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에서 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드에 대한 프로브의 수직 운동을 설명하기 위한 도면이다.2 is an exploded perspective view of a probe card according to a first embodiment of the present invention, FIG. 3 is an enlarged view of a probe and a probe substrate of the probe card according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 5 is a perspective view illustrating a probe mounted on a probe substrate in the probe card according to the first embodiment, FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 2, and FIG. 6 is an enlarged view of part A of FIG. 5, and FIG. 7. 8 is a view for explaining the vertical movement of the probe with respect to the contact pad formed on the wafer in the probe card according to the first embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)는 인쇄 회로 기판(100), 제 1 보강판(200), 제 2 보강판(300), 프로브 기판(400) 및 프로브(500)를 포함한다.As shown in FIG. 2, the probe card 1000 according to the first embodiment of the present invention may include a printed circuit board 100, a first reinforcement plate 200, a second reinforcement plate 300, and a probe substrate 400. ) And probe 500.

인쇄 회로 기판(100)은 대략 원판 형상으로 형성되며, 상면 및 상면과 대향하는 하면을 가지고 있다. 상면에는 검사 공정을 위한 프로브 회로 패턴(미도시)이 형성되어 있다. 인쇄 회로 기판(100)은 고 집적 웨이퍼를 검사하기 위해 인쇄 회로 기판(100) 내에서 인쇄 회로 기판(100) 상면으로부터 하면까지 배선을 통해 피치 변환이 수행될 수 있다. 인쇄 회로 기판(100)은 검사 공정을 위한 테스터와 연결되어 있을 수 있다. 인쇄 회로 기판(100) 상에는 제 1 보강판(200)이 장착되어 있다.The printed circuit board 100 is formed in a substantially disk shape and has an upper surface and a lower surface opposing the upper surface. The probe circuit pattern (not shown) for the inspection process is formed on the upper surface. The printed circuit board 100 may be pitch-transformed through wires from the top surface to the bottom surface of the printed circuit board 100 in the printed circuit board 100 to inspect the high integrated wafer. The printed circuit board 100 may be connected to a tester for an inspection process. The first reinforcement plate 200 is mounted on the printed circuit board 100.

제 1 보강판(200)은 인쇄 회로 기판(100) 상에 위치하고 있으며, 인쇄 회로 기판(100)을 외부의 충격 등으로부터 보강하는 역할을 한다. 인쇄 회로 기판(100) 을 사이에 두고 제 1 보강판(200)과 대향하여 제 2 보강판(300)이 장착되어 있다.The first reinforcement plate 200 is positioned on the printed circuit board 100, and serves to reinforce the printed circuit board 100 from an external impact or the like. The second reinforcement plate 300 is mounted to face the first reinforcement plate 200 with the printed circuit board 100 interposed therebetween.

제 2 보강판(300)은 인쇄 회로 기판(100) 및 후술할 프로브 기판(400) 사이에 위치하고 있다. 제 2 보강판(300)의 중심 부분에는 후술할 프로브(500)가 관통하는 개구부(310)가 형성되어 있다. 제 2 보강판(300)은 프로브 기판(400)을 외부의 충격 등으로부터 보강하는 역할을 한다. 즉, 제 2 보강판(300)은 프로브 기판(400)의 자체적인 유동을 억제하여, 프로브 기판(400)에 장착되는 복수개의 프로브(500)가 웨이퍼의 접촉 패드에 균일하게 접촉하도록 한다.The second reinforcement plate 300 is positioned between the printed circuit board 100 and the probe substrate 400 to be described later. An opening 310 through which the probe 500 to be described later penetrates is formed in the center portion of the second reinforcing plate 300. The second reinforcement plate 300 serves to reinforce the probe substrate 400 from external impact. That is, the second reinforcement plate 300 suppresses its own flow of the probe substrate 400 such that the plurality of probes 500 mounted on the probe substrate 400 uniformly contact the contact pads of the wafer.

도 3에 도시된 바와 같이, 프로브 기판(400)은 프로브(500)를 사이에 두고 인쇄 회로 기판(100) 하에 위치하고 있으며, 세라믹 등의 절연성 물질로 형성되어 있다. 프로브 기판(400)은 제 1 가이드 블록(410) 및 제 1 가이드 블록(410)과 마주하는 제 2 가이드 블록(420)을 포함한다.As shown in FIG. 3, the probe substrate 400 is positioned under the printed circuit board 100 with the probe 500 interposed therebetween, and is formed of an insulating material such as ceramic. The probe substrate 400 includes a first guide block 410 and a second guide block 420 facing the first guide block 410.

제 1 가이드 블록(410)은 정렬 슬릿(411), 고정 슬릿(412) 및 결합홈(413)을 포함한다.The first guide block 410 includes an alignment slit 411, a fixing slit 412, and a coupling groove 413.

정렬 슬릿(411)은 제 2 가이드 블록(420)을 마주하는 면에 그루브(groove) 형태로 형성되어 있으며, 제 1 가이드 블록(410)과 제 2 가이드 블록(420)이 접촉하여 정렬 슬릿(411)의 개구된 부분이 막히게 된다. 정렬 슬릿(411)은 제 1 너비(W₁, 도 7에 도시)를 가진다.The alignment slit 411 is formed in a groove shape on a surface facing the second guide block 420, and the first guide block 410 and the second guide block 420 contact each other to align the slit 411. The open part of) is blocked. The alignment slit 411 has a first width W '(shown in FIG. 7).

고정 슬릿(412)은 제 1 가이드 블록(410)의 상면에 그루브 형태로 형성되어 있다.The fixing slit 412 is formed in a groove shape on the upper surface of the first guide block 410.

결합홈(413)은 고정 슬릿(412)으로부터 하측으로 함몰되어 형성되어 있다. 결합홈(413)과 고정 슬릿(412)는 서로 단차를 이루고 있다.The coupling groove 413 is recessed downward from the fixing slit 412. The coupling groove 413 and the fixed slit 412 form a step with each other.

서로 마주하고 있는 제 1 가이드 블록(410)의 사이에는 제 2 가이드 블록(420)이 위치하고 있다.The second guide block 420 is positioned between the first guide block 410 facing each other.

제 2 가이드 블록(420)은 정렬홈(421) 및 고정홈(422)을 포함한다.The second guide block 420 includes an alignment groove 421 and a fixing groove 422.

정렬홈(421)은 정렬 슬릿(411)의 내부 표면에 위치하도록 정렬 슬릿(411)에 대응하여 위치하고 있다. 정렬홈(421)은 경사면(421a)을 가지며, 제 2 가이드 블록(420)으로부터 제 1 높이(H₁, 도 7에 도시)를 가지도록 함몰되어 있다.The alignment groove 421 is positioned corresponding to the alignment slit 411 so as to be located on the inner surface of the alignment slit 411. The alignment groove 421 has an inclined surface 421a and is recessed to have a first height H '(shown in FIG. 7) from the second guide block 420.

고정홈(422)은 제 1 가이드 블록(410)의 상면의 상측 방향으로 돌출된 제 2 가이드 블록(420)의 상부에 위치하고 있으며, 제 2 가이드 블록(420)으로부터 함몰되어 형성되어 있다.The fixing groove 422 is positioned above the second guide block 420 protruding in the upper direction of the upper surface of the first guide block 410 and is recessed from the second guide block 420.

다른 실시예에서, 정렬 슬릿(411)은 제 1 가이드 블록(410)을 마주하는 제 2 가이드 블록(420)의 일 면에 형성될 수 있다.In another embodiment, the alignment slit 411 may be formed on one surface of the second guide block 420 facing the first guide block 410.

도 4에 도시된 바와 같이, 프로브(500)는 제 1 가이드 블록(410)의 정렬 슬릿(411), 고정 슬릿(412) 및 고정홈(422)에 의해 제 1 가이드 블록(410)에 장착되어 있다.As shown in FIG. 4, the probe 500 is mounted to the first guide block 410 by the alignment slit 411, the fixing slit 412, and the fixing groove 422 of the first guide block 410. have.

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 프로브(500)는 리드부(510), 리드 고정부(520), 탄성부(530), 프로브 본체부(540), 프로브 정렬부(550), 프로브 돌출부(560), 프로브 팁부(570) 및 인터페이스부(580)를 포함한다.As shown in FIGS. 5 and 6, the probe 500 includes a lead part 510, a lead fixing part 520, an elastic part 530, a probe body part 540, a probe alignment part 550, and a probe. And a protrusion 560, a probe tip 570, and an interface 580.

리드부(510)는 막대 형상으로 제 1 가이드 블록(410)의 상면에 형성된 고정 슬릿(412) 내에 장착되어 있다. 리드부(510)는 프로브(500)를 제 1 가이드 블 록(410)에 장착시키는 역할을 한다.The lead part 510 is mounted in the fixed slit 412 formed on the upper surface of the first guide block 410 in a rod shape. The lead unit 510 serves to mount the probe 500 to the first guide block 410.

리드 고정부(520)는 리드부(510)로부터 제 1 가이드 블록(410)의 결합홈(413) 방향으로 돌출되어 결합홈(413)에 위치하고 있다. 리드 고정부(520)는 고정 슬릿(412) 내에 장착되어 있는 리드부(510)의 유동을 억제하는 역할을 한다.The lead fixing part 520 protrudes from the lead part 510 in the direction of the coupling groove 413 of the first guide block 410 and is located in the coupling groove 413. The lead fixing part 520 serves to suppress the flow of the lead part 510 mounted in the fixing slit 412.

탄성부(530)는 리드부(510)로부터 연장되어 리드부(510)의 단부에 위치하고 있으며, 탄성 지지부(531) 및 탄성 운동부(532)를 포함한다.The elastic part 530 extends from the lead part 510 and is positioned at an end of the lead part 510, and includes an elastic support part 531 and an elastic movement part 532.

탄성 지지부(531)는 리드부(510)로부터 정렬 슬릿(411) 상까지 반원 형상으로 절곡 연장되어 있다. 탄성 지지부(531)는 후술할 탄성 운동부(532)의 탄성 운동을 지지하는 역할을 한다. 탄성 지지부(531)는 탄성 지지부(531)로부터 제 2 가이드 블록(420)의 고정홈(422) 방향으로 돌출된 고정부(531a)를 포함한다. 고정부(531a)는 제 2 가이드 블록(420)의 고정홈(422)에 결합되어 탄성 지지부(531)를 고정시키는 역할을 한다.The elastic support 531 extends bent in a semicircular shape from the lead portion 510 to the alignment slit 411. The elastic support part 531 supports the elastic motion of the elastic motion part 532 which will be described later. The elastic support part 531 includes a fixing part 531a protruding from the elastic support part 531 in the direction of the fixing groove 422 of the second guide block 420. The fixing part 531a is coupled to the fixing groove 422 of the second guide block 420 and serves to fix the elastic support part 531.

탄성 운동부(532)는 정렬 슬릿(411) 상에 위치한 탄성 지지부(531)의 단부로부터 후술할 프로브 본체부(540)까지 원 형상으로 절곡 연장되어 있다. 탄성 운동부(532)의 일부는 고정 슬릿(412) 내에 위치하고 있으며, 프로브 본체부(540)가 탄성을 가지도록 한다.The elastic motion portion 532 extends bent in a circular shape from the end of the elastic support portion 531 located on the alignment slit 411 to the probe body portion 540 to be described later. A portion of the elastic movement portion 532 is located in the fixed slit 412, so that the probe body portion 540 is elastic.

프로브 본체부(540)는 탄성 운동부(532)로부터 연장되어 정렬 슬릿(411) 내부에 위치하고 있다. 프로브 본체부(540)는 정렬 슬릿(411)의 제 1 너비(W₁, 도 7에 도시)보다 작은 제 2 너비(W₂, 도 7에 도시)를 가지고 있다.The probe body portion 540 extends from the elastic movement portion 532 and is located inside the alignment slit 411. The probe body 540 has a second width W 2 (shown in FIG. 7) that is smaller than the first width W ′ (shown in FIG. 7) of the alignment slit 411.

프로브 정렬부(550)는 프로브 본체부(540)로부터 제 2 가이드 블록(420)의 정렬홈(421) 방향으로 돌출되어 있다. 프로브 정렬부(550)는 정렬홈(421)의 경사면(421a)에 대응하는 경사부(551)를 가지며, 정렬홈(421)의 제 1 높이(H₁, 도 7에 도시)보다 작은 제 2 높이(H₂, 도 7에 도시)를 가지고 있다. 프로브 정렬부(550)는 제 2 가이드 블록(420)의 정렬홈(421)에 의해 지지되어 프로브(500)의 정렬 위치를 정한다.The probe alignment unit 550 protrudes from the probe body 540 in the direction of the alignment groove 421 of the second guide block 420. The probe alignment unit 550 has an inclined portion 551 corresponding to the inclined surface 421a of the alignment groove 421, and has a second height smaller than the first height H ′ (shown in FIG. 7) of the alignment groove 421. (H 2, shown in FIG. 7). The probe alignment unit 550 is supported by the alignment groove 421 of the second guide block 420 to determine the alignment position of the probe 500.

프로브 돌출부(560)는 프로브 본체부(540)로부터 제 2 가이드 블록(420) 방향으로 돌출되어 있다. 즉, 프로브 돌출부(560)는 프로브 본체부(540)로부터 수평 방향으로 돌출되어 있다. 프로브 돌출부(560)는 제 2 가이드 블록(420)의 표면에 의해 가이드되어 프로브(500)의 상하 운동을 가이드한다.The probe protrusion 560 protrudes from the probe body 540 in the direction of the second guide block 420. That is, the probe protrusion 560 protrudes from the probe main body 540 in the horizontal direction. The probe protrusion 560 is guided by the surface of the second guide block 420 to guide the vertical movement of the probe 500.

프로브 팁부(570)는 프로브 본체부(540)로부터 연장되어 일부가 프로브 기판(400)의 하면 외부로 노출되어 있다. 프로브 팁부(570)는 정렬 슬릿(411)의 제 1 너비(W₁, 도 7에 도시)와 프로브 본체부(540)의 제 2 너비(W₂, 도 7에 도시) 사이의 크기인 제 3 너비(W₃, 도 7에 도시)를 가지고 있다. 프로브 팁부(570)는 검사 공정 시 웨이퍼에 형성된 접촉 패드와 접촉하는 역할을 한다.The probe tip part 570 extends from the probe main body part 540 and a part of the probe tip part 570 is exposed to the outside of the lower surface of the probe substrate 400. The probe tip portion 570 is a third width (W 2, shown in FIG. 7) of the first width W ′ (shown in FIG. 7) of the alignment slit 411 and the second width (W 2, shown in FIG. 7) of the probe body portion 540 ( W 3, shown in FIG. 7). The probe tip portion 570 is in contact with the contact pad formed on the wafer during the inspection process.

인터페이스부(580)는 리드부(510) 또는 탄성부(530)로부터 인쇄 회로 기판(100) 방향으로 연장되어 있다. 인터페이스부(580)는 제 2 보강판(300)의 개구부(310) 및 인쇄 회로 기판(100)을 관통하여 인쇄 회로 기판(100)에 형성되어 있는 프로브 회로 패턴과 직접 연결하고 있다.The interface part 580 extends from the lead part 510 or the elastic part 530 toward the printed circuit board 100. The interface unit 580 is directly connected to the probe circuit pattern formed on the printed circuit board 100 through the opening 310 of the second reinforcing plate 300 and the printed circuit board 100.

다른 실시예에서, 프로브 돌출부(560)는 복수개로 형성될 수 있다.In other embodiments, the probe protrusion 560 may be formed in plural.

이하, 도 7 및 도 8을 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드 에서 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드에 대한 프로브의 상하 운동을 설명한다.Hereinafter, the up and down motion of the probe with respect to the contact pad formed on the wafer in the probe card according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8.

도 7에 도시된 바와 같이, 검사 공정을 위해 산화막(32)이 형성된 접촉 패드(31)가 형성되어 있는 웨이퍼(30) 상에 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)의 프로브(500)가 위치하고 있다.As shown in FIG. 7, the probe of the probe card 1000 according to the first embodiment of the present invention is formed on a wafer 30 on which a contact pad 31 having an oxide film 32 is formed for an inspection process. 500) is located.

최초, 접촉 패드(31) 상에 프로브(500)를 정렬할 때, 프로브(500)에 형성되어 있는 프로브 정렬부(550)의 경사부(551)가 제 2 가이드 블록(420)에 형성되어 있는 정렬홈(421)의 경사면(421a)에 지지되어 있으며, 프로브 팁부(570)의 제 3 너비(W₃, 도 7에 도시)가 정렬 슬릿(411)의 제 1 너비(W₁, 도 7에 도시)와 프로브 본체부(540)의 제 2 너비(W₂, 도 7에 도시) 사이의 크기를 가지고 있기 때문에 정렬하고자 하는 정확한 위치에 프로브 팁부(570)가 정렬된다. 이에 의해, 검사 공정 시 최초 프로브(500) 위치의 오차에 따른 검사 불량을 억제할 수 있다. 특히, 미세 피치(pitch)의 접촉 패드(31)가 형성된 웨이퍼(30)를 검사할 때, 상기와 같이 최초 프로브(500) 위치의 오차에 따른 검사 불량이 억제된다.Initially, when aligning the probe 500 on the contact pad 31, the inclined portion 551 of the probe alignment portion 550 formed in the probe 500 is formed in the second guide block 420. Supported by the inclined surface 421a of the alignment groove 421, the third width W₃ of the probe tip 570 (shown in FIG. 7) is the first width W ′ of the alignment slit 411 (shown in FIG. 7). And the probe tip portion 570 is aligned at the correct position to be aligned because it has a size between the second width W 2 and the probe main body portion 540. As a result, the inspection failure due to the error of the position of the first probe 500 during the inspection process can be suppressed. In particular, when inspecting the wafer 30 on which the fine pitch contact pads 31 are formed, inspection defects due to the error of the position of the first probe 500 are suppressed as described above.

다음, 도 8에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(30)의 상승 또는 프로브 카드(1000)의 하강에 의해 프로브 팁부(570)가 접촉 패드(31)의 산화막(32)에 접촉하여 프로브 팁부(570)가 상승하게 되면, 정렬홈(421)의 경사면(421a)에 지지되어 있던 프로브 정렬부(550)의 경사부(551)가 정렬홈(421)의 경사면(421a)과 이격되어 정렬홈(421)의 상측 방향으로 상승하게 된다. 이에 의해, 프로브 팁부(570)가 정렬홈(421)에 대응하는 위치로 상승하여 프로브 팁부(570)가 정렬홈(421) 방향으로 이동하면서 산화막(32) 표면에 접촉하고 있던 프로브 팁부(570)가 산화막(32) 표면에 서 미끄러지게 된다. 상기와 같은 프로브 팁부(570)의 미끄러짐에 의해 프로브 팁부(570)에 인가되는 압력은 분산되며, 산화막(32)에 스크럽(scrub)이 발생하면서 프로브 팁부(570)는 안정적으로 접촉 패드(31)와 접촉하게 된다. 이에 의해, 프로브 팁부(570)에 집중되는 압력에 의한 접촉 패드(31)의 손상이 억제되어 검사 공정에 의한 웨이퍼(30) 불량이 억제된다.Next, as shown in FIG. 8, the probe tip portion 570 contacts the oxide film 32 of the contact pad 31 by the rising of the wafer 30 or the lowering of the probe card 1000. When is raised, the inclined portion 551 of the probe alignment portion 550 supported on the inclined surface 421a of the alignment groove 421 is spaced apart from the inclined surface 421a of the alignment groove 421 to align the groove. Will rise in the upward direction. As a result, the probe tip portion 570 is raised to a position corresponding to the alignment groove 421 so that the probe tip portion 570 is in contact with the surface of the oxide film 32 while moving in the direction of the alignment groove 421. Is slipped on the surface of the oxide film 32. The pressure applied to the probe tip 570 is dispersed by the sliding of the probe tip 570 as described above, and a scrub is generated in the oxide film 32 while the probe tip 570 stably contacts the contact pad 31. Contact with. Thereby, the damage of the contact pad 31 by the pressure concentrated in the probe tip part 570 is suppressed, and the defect of the wafer 30 by an inspection process is suppressed.

또한, 상기와 같은 프로브(500)의 상하 운동 시 탄성부(530)에 압력이 인가되는데, 탄성부(530)가 탄성 지지부(531) 및 탄성 운동부(532)를 포함하여 압력이 인가되는 부분의 넓어지기 때문에 탄성부(530)에 집중되는 압력에 의해 발생할 수 있는 탄성 한계에 의한 탄성부(530)의 변형이 억제된다.In addition, when the vertical movement of the probe 500 as described above, the pressure is applied to the elastic portion 530, the elastic portion 530 of the portion to which the pressure is applied, including the elastic support 531 and the elastic movement portion 532. Since it is widened, deformation of the elastic portion 530 due to the elastic limit that may occur due to the pressure concentrated on the elastic portion 530 is suppressed.

또한, 프로브 본체부(540)의 제 2 너비(W₂, 도 7에 도시)가 정렬 슬릿(411)의 제 1 너비(W₁, 도 7에 도시)보다 작기 때문에, 상기와 같은 프로브(500)의 상하 운동 시 정렬 슬릿(411)과 프로브(500)간의 간섭이 억제되어 프로브 기판(400) 또는 프로브(500) 자체의 변형이 억제된다.In addition, since the second width W 2 (shown in FIG. 7) of the probe body 540 is smaller than the first width W ′ (shown in FIG. 7) of the alignment slit 411, the probe 500 as described above. During the vertical movement, interference between the alignment slit 411 and the probe 500 is suppressed, so that deformation of the probe substrate 400 or the probe 500 itself is suppressed.

또한, 프로브 돌출부(560)가 프로브 기판(400)의 정렬 슬릿(411)의 내부에 있는 제 2 가이드 블록(420)의 표면에 의해 상기와 같은 프로브(500)의 상하 운동을 가이드하기 때문에, 프로브(500)의 상하 운동 시 프로브(500)가 의도되지 않은 방향으로 이동하는 것이 억제된다.In addition, since the probe protrusion 560 guides the vertical movement of the probe 500 as described above by the surface of the second guide block 420 inside the alignment slit 411 of the probe substrate 400, the probe It is suppressed that the probe 500 moves in an unintended direction during the vertical movement of the 500.

이상과 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)는 접촉 패드에 대한 프로브(500)의 접촉 신뢰성이 향상된다.As described above, the probe card 1000 according to the first embodiment of the present invention has improved contact reliability of the probe 500 with respect to the contact pad.

이하, 도 9 및 도 10를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드 를 설명한다.Hereinafter, a probe card according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

도 9는 본 발명이 제 2 실시예에 따른 프로브 카드의 분해 사시도이며, 도 10는 도 9의 Ⅹ-Ⅹ을 따른 단면도이다.9 is an exploded perspective view of a probe card according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG. 9.

이하, 제 1 실시예와 구별되는 특징적인 부분만 발췌하여 설명하며, 설명이 생략된 부분은 제 1 실시예에 따른다. 그리고, 본 발명의 제 2 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 동일한 구성요소에 대하여는 동일한 참조번호를 사용하여 설명한다.Hereinafter, only the characteristic parts distinguished from the first embodiment will be described and described, and the descriptions thereof will be omitted according to the first embodiment. In addition, in the second embodiment of the present invention, for the convenience of description, the same components will be described using the same reference numerals.

도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드(2000)는 인쇄 회로 기판(100), 제 1 보강판(200), 제 2 보강판(300), 프로브 기판(400), 프로브(500), 공간 변환기(600) 및 인터포저(700)를 포함한다.9 and 10, the probe card 2000 according to the second embodiment of the present invention may include a printed circuit board 100, a first reinforcement plate 200, a second reinforcement plate 300, and a probe. Substrate 400, probe 500, spatial transducer 600, and interposer 700.

공간 변환기(600)는 인쇄 회로 기판(100)과 제 2 보강판(300) 사이에 위치하고 있으며, 피치 변환을 위해 형성된 공간 변환 패턴(미도시) 및 공간 변환기(600)를 관통하는 관통홀(610)을 포함하고 있다. 공간 변환 패턴(미도시)은 인쇄 회로 기판(100)과 마주하는 공간 변환기(600)의 상면에 형성되어 있으며, 프로브(500)의 인터페이스부(580)는 제 2 보강판(300)의 개구부(310) 및 공간 변환기(600)의 관통홀(610)을 관통하여 공간 변환 패턴(미도시)에 직접 연결되어 있다.The space converter 600 is positioned between the printed circuit board 100 and the second reinforcement plate 300, and has a through hole 610 penetrating through the space conversion pattern (not shown) and the space converter 600 formed for pitch conversion. ) Is included. The space conversion pattern (not shown) is formed on an upper surface of the space converter 600 facing the printed circuit board 100, and the interface portion 580 of the probe 500 may have an opening ( 310 and a through hole 610 of the space converter 600 are directly connected to a space conversion pattern (not shown).

인터포저(700)는 일 단부가 인쇄 회로 기판(100)의 프로브 회로 패턴(미도시)과 연결되어 있으며, 타 단부가 공간 변환기(600)의 공간 변환 패턴과 연결되어 있다. 인터포저(700)는 검사 공정을 위해 인쇄 회로 기판(100)의 프로브 회로 패턴(미도시)을 거친 전기 신호를 공간 변환기(600)의 공간 변환 패턴(미도시)으로 전달하는 역할을 한다.One end of the interposer 700 is connected to a probe circuit pattern (not shown) of the printed circuit board 100, and the other end thereof is connected to a space conversion pattern of the space converter 600. The interposer 700 transmits an electrical signal that passes through a probe circuit pattern (not shown) of the printed circuit board 100 to a space conversion pattern (not shown) of the space converter 600 for the inspection process.

이상과 같은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브 카드(2000)는 피치 변환을 수행하는 공간 변환기(600)를 포함하기 때문에 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)에 비해 미세 피치를 가진 접촉 패드가 형성된 고 집적 웨이퍼를 검사하는데 바람직하다.Since the probe card 2000 according to the second embodiment of the present invention includes the space transducer 600 for performing the pitch conversion, the contact with the fine pitch is smaller than the probe card 1000 according to the first embodiment. It is desirable to inspect the pads formed high integration wafer.

이하, 도 11 및 도 12를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브 카드를 설명한다.Hereinafter, a probe card according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 11 and 12.

도 11은 본 발명이 제 3 실시예에 따른 프로브 카드의 분해 사시도이며, 도 12는 도 11의 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따른 단면도이다.11 is an exploded perspective view of a probe card according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line II-XIII of FIG.

이하, 제 1 실시예 및 제 2 실시예와 구별되는 특징적인 부분만 발췌하여 설명하며, 설명이 생략된 부분은 제 1 실시예 및 제 2 실시예에 따른다. 그리고, 본 발명의 제 3 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 동일한 구성요소에 대하여는 동일한 참조번호를 사용하여 설명한다.Hereinafter, only characteristic parts distinguished from the first embodiment and the second embodiment will be described and described, and the descriptions thereof will be omitted according to the first embodiment and the second embodiment. In addition, in the third embodiment of the present invention, for the convenience of description, the same components will be described using the same reference numerals.

도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브 카드(3000)는 인쇄 회로 기판(100), 제 1 보강판(200), 제 2 보강판(300), 프로브 기판(400), 프로브(500), 공간 변환기(600), 인터포저(700) 및 인터페이스 기판(800)을 포함한다.As illustrated in FIGS. 11 and 12, the probe card 3000 according to the third embodiment of the present invention may include a printed circuit board 100, a first reinforcement plate 200, a second reinforcement plate 300, and a probe. The substrate 400 includes a probe 500, a space converter 600, an interposer 700, and an interface substrate 800.

공간 변환기(600)의 관통홀(610) 내부에는 도전성 물질이 코팅되어 있으며, 상기 도전성 물질은 공간 변환기(600)의 공간 변환 패턴(미도시)과 연결되어 있다.A conductive material is coated in the through hole 610 of the space converter 600, and the conductive material is connected to a space conversion pattern (not shown) of the space converter 600.

인터페이스 기판(800)은 공간 변환기(600)와 프로브 기판(400) 사이에 위치 하며, 제 2 보강판(300)에 형성된 개구부(310) 내에 위치하고 있다. 인터페이스 기판(800)에는 공간 변환기(600)의 관통홀(610)에 대응하는 위치에 접지홀(810)이 형성되어 있으며, 접지홀(810) 내부 표면에는 전자파 차폐 또는 접지 등의 기능을 수행하는 도전성 물질이 코팅되어 있다.The interface substrate 800 is positioned between the space converter 600 and the probe substrate 400 and is located in the opening 310 formed in the second reinforcement plate 300. The ground board 810 is formed at a position corresponding to the through hole 610 of the space converter 600 on the interface board 800, and the inner surface of the ground hole 810 performs a function such as electromagnetic shielding or grounding. The conductive material is coated.

프로브(500)의 인터페이스부(580)는 스프링 구조물(581)을 포함하고 있으며, 인터페이스 기판(800)의 접지홀(810)을 관통하여 공간 변환기(600)의 관통홀(610)에 삽입되어 있다. 인터페이스부(580)는 공간 변환기(600)의 관통홀(610) 내부에 코팅되어 있는 도전성 물질을 통해 공간 변환기(600)의 공간 변환 패턴(미도시)과 연결되어 있다. 스프링 구조물(581)은 코일형 스프링 또는 판형 스프링 등의 탄성을 가지는 구조물이며, 인터페이스부(580)의 단부가 탄성적으로 공간 변환기(600)의 관통홀(610) 내부 표면에 코팅된 도전성 물질과 접촉하도록 한다.The interface unit 580 of the probe 500 includes a spring structure 581 and is inserted into the through hole 610 of the space converter 600 through the ground hole 810 of the interface substrate 800. . The interface unit 580 is connected to a space conversion pattern (not shown) of the space converter 600 through a conductive material coated in the through hole 610 of the space converter 600. The spring structure 581 is a structure having elasticity such as a coiled spring or a plate spring, and an end portion of the interface portion 580 elastically coated on the inner surface of the through hole 610 of the space transducer 600. Make contact.

이상과 같은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브 카드(3000)는 프로브(500)의 인터페이스부(580)가 탄성적으로 공간 변환기(600)의 관통홀(610) 내부에 접촉하여 관통홀(610)을 통해 공간 변환 패턴(미도시)과 연결되기 때문에, 프로브 카드(3000)의 제조 시 인터페이스부(580)의 단부를 솔더링 방법을 이용해 공간 변환기(600)의 공간 변환 패턴에 연결시킬 필요가 없다. 이에 의해, 프로브 카드(3000)의 제조 방법이 간단해지며, 검사 공정 시 프로브 카드(3000) 자체에 인가될 수 있는 충격에 의해 프로브(500)의 인터페이스부(580)가 공간 변환기(600)의 공간 변환 패턴(미도시)으로부터 이격되어 발생하는 프로브(500)와 공간 변환기(600) 사이의 단선이 억제된다.In the probe card 3000 according to the third embodiment of the present invention as described above, the interface part 580 of the probe 500 elastically contacts the inside of the through hole 610 of the space transducer 600. Since it is connected to the space conversion pattern (not shown) through 610, it is necessary to connect the end of the interface unit 580 to the space conversion pattern of the space converter 600 using a soldering method in manufacturing the probe card 3000. none. As a result, the method of manufacturing the probe card 3000 is simplified, and the interface unit 580 of the probe 500 is moved by the impact that may be applied to the probe card 3000 itself during the inspection process. Disconnection between the probe 500 and the space transducer 600, which are generated while being spaced apart from the space transformation pattern (not shown), is suppressed.

또한, 프로브(500)의 인터페이스부(580)가 전자파 차폐 또는 접지 등의 기능을 수행하는 도전성 물질이 코팅된 인터페이스 기판(800)의 접지홀(810)을 관통하기 때문에, 검사 공정 시 프로브(500)의 인터페이스부(580)를 통해 접촉 패드로 전달되는 전기 신호에 의해 발생하는 전자파에 의한 간섭이 억제된다. 이에 의해, 검사 공정 시 프로브 카드(3000)의 프로브(500)에서 발생하는 전자파에 의한 검사 오류가 억제된다.In addition, since the interface unit 580 of the probe 500 penetrates through the ground hole 810 of the interface substrate 800 coated with a conductive material that performs a function such as electromagnetic shielding or grounding, the probe 500 during the inspection process. Interference due to electromagnetic waves generated by electrical signals transmitted to the contact pads through the interface unit 580 of the N-axis is suppressed. Thereby, the inspection error by the electromagnetic wave which generate | occur | produces in the probe 500 of the probe card 3000 at the inspection process is suppressed.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The foregoing description of the present invention is intended for illustration, and it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be easily modified in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the above description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

도 1은 종래의 프로브 카드를 도시한 단면도이고,1 is a cross-sectional view showing a conventional probe card,

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 분해 사시도이고,2 is an exploded perspective view of a probe card according to a first embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 프로브 및 프로브 기판의 확대도이고,3 is an enlarged view of a probe and a probe substrate of the probe card according to the first embodiment of the present invention,

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에서 프로브 기판에 장착되어 있는 프로브를 도시한 사시도이고,4 is a perspective view illustrating a probe mounted on a probe substrate in the probe card according to the first embodiment of the present invention;

도 5는 도 2의 Ⅴ-Ⅴ를 따른 단면도이고,5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 2,

도 6은 도 5의 A부분의 확대도이고,6 is an enlarged view of a portion A of FIG. 5,

도 7 및 도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에서 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드에 대한 프로브의 수직 운동을 설명하기 위한 도면이고,7 and 8 are views for explaining the vertical movement of the probe with respect to the contact pad formed on the wafer in the probe card according to the first embodiment of the present invention,

도 9는 본 발명이 제 2 실시예에 따른 프로브 카드의 분해 사시도이고,9 is an exploded perspective view of a probe card according to a second embodiment of the present invention;

도 10는 도 9의 Ⅹ-Ⅹ을 따른 단면도이고,10 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG. 9,

도 11은 본 발명이 제 3 실시예에 따른 프로브 카드의 분해 사시도이며,11 is an exploded perspective view of a probe card according to a third embodiment of the present invention;

도 12는 도 11의 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따른 단면도이다.12 is a cross-sectional view taken along the line II-XIII of FIG. 11.

Claims (18)

회로 패턴이 형성되어 있는 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 있어서,A probe card comprising a printed circuit board having a circuit pattern formed thereon, 상기 인쇄 회로 기판 하에 위치하는 제 1 가이드 블록 및A first guide block located under the printed circuit board; 상기 제 1 가이드 블록과 마주하여 제 1 너비를 가지는 정렬 슬릿을 형성하며, 상기 정렬 슬릿 내부 표면에 위치하도록 경사면을 가지는 제 1 높이의 함몰된 정렬홈을 포함하는 제 2 가이드 블록A second guide block forming an alignment slit having a first width facing the first guide block, the second guide block including a recessed alignment groove of a first height having an inclined surface to be located on the inner surface of the alignment slit 을 포함하는 프로브 기판 및Probe substrate comprising a 상기 제 1 가이드 블록의 상면에 위치하는 리드부,A lead part positioned on an upper surface of the first guide block, 상기 리드부로부터 연장되어 상기 정렬 슬릿 상에 위치하는 탄성부,An elastic portion extending from the lead portion and positioned on the alignment slit, 상기 탄성부로부터 연장되어 상기 정렬 슬릿 내부에 위치하며, 상기 정렬 슬릿의 상기 제 1 너비보다 작은 제 2 너비를 가지는 프로브 본체부,A probe body portion extending from the elastic portion and positioned inside the alignment slit and having a second width smaller than the first width of the alignment slit, 상기 프로브 본체부로부터 상기 정렬홈 방향으로 돌출되어 상기 경사면과 대응하여 상기 정렬홈의 경사면에 지지되는 경사부를 가지며, 상기 제 1 높이보다 작은 제 2 높이를 가지는 프로브 정렬부 및A probe alignment portion protruding from the probe body in the direction of the alignment groove and having an inclination portion supported on the inclined surface of the alignment groove corresponding to the inclined surface and having a second height smaller than the first height; 상기 프로브 본체부로부터 연장되어 적어도 일부가 상기 프로브 기판의 하면 외부로 노출되는 프로브 팁부A probe tip part extending from the probe main body part and at least partially exposed to the outside of the bottom surface of the probe substrate 를 포함하는 프로브Probe comprising 를 포함하는 프로브 카드.Probe card comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프로브 정렬부의 상기 경사부는,The inclined portion of the probe alignment portion, 상기 프로브의 상승 시 상기 경사면과 이격되는 것인 프로브 카드.And a probe card spaced apart from the inclined surface when the probe is raised. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탄성부는,The elastic portion, 상기 리드부로부터 상기 정렬 슬릿 상까지 절곡 연장되어 있는 반원 형상의 탄성 지지부 및A semicircular elastic support portion that is bent and extended from the lead portion to the alignment slit; 상기 정렬 슬릿 상에 위치한 상기 탄성 지지부의 단부로부터 상기 프로브 본체부까지 절곡 연장되어 있는 원 형상의 탄성 운동부A circular elastic movement portion that is bent and extends from an end of the elastic support portion located on the alignment slit to the probe body portion 를 포함하는 프로브 카드.Probe card comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 탄성 지지부는 상기 제 2 가이드 블록 방향으로 돌출된 고정부를 포함하며,The elastic support portion includes a fixing portion protruding in the direction of the second guide block, 상기 제 2 가이드 블록은 상기 고정부가 결합하는 함몰된 고정홈을 더 포함 하는 프로브 카드.The second guide block further comprises a recessed fixing groove to which the fixing portion is coupled. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프로브는,The probe, 상기 프로브 본체부로부터 수평 방향으로 돌출 연장되는 하나 이상의 프로브 돌출부를 더 포함하는 프로브 카드.And at least one probe protrusion protruding in a horizontal direction from the probe body. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프로브 팁부는 상기 정렬 슬릿의 상기 제 1 너비와 상기 프로브 본체부의 제 2 너비 사이의 크기인 제 3 너비를 가지는 것인 프로브 카드.And the probe tip portion has a third width that is a size between the first width of the alignment slit and the second width of the probe body portion. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 가이드 블록은,The first guide block, 상기 제 1 가이드 블록의 상기 상면에 형성된 고정 슬릿을 포함하며,A fixing slit formed on the upper surface of the first guide block, 상기 리드부의 적어도 일부는 상기 고정 슬릿 내에 장착되는 것인 프로브 카드.At least a portion of the lid portion is mounted in the fixing slit. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 1 가이드 블록은,The first guide block, 상기 고정 슬릿으로부터 하측으로 함몰되어 있는 결합홈을 더 포함하며,Further comprising a coupling groove recessed downward from the fixing slit, 상기 프로브는,The probe, 상기 리드부로부터 돌출되어 상기 결합홈에 위치하는 리드 고정부를 더 포함하는 프로브 카드.And a lead fixing part protruding from the lead part and positioned in the coupling groove. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프로브는,The probe, 상기 리드부로부터 상기 인쇄 회로 기판 방향으로 연장되어 있는 인터페이스부를 더 포함하는 프로브 카드.The probe card further comprises an interface portion extending from the lead portion toward the printed circuit board. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 인터페이스부는,The interface unit, 스프링 구조물을 포함하는 것인 프로브 카드.A probe card comprising a spring structure. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 인터페이스부는 상기 인쇄 회로 기판의 상기 회로 패턴과 직접 연결되어 있는 것인 프로브 카드.And the interface portion is directly connected with the circuit pattern of the printed circuit board. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 인쇄 회로 기판 상에 위치한 제 1 보강판을 더 포함하는 프로브 카드.And a first reinforcement plate positioned on the printed circuit board. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 인쇄 회로 기판과 상기 프로브 기판 사이에 위치하며,Located between the printed circuit board and the probe substrate, 상기 인터페이스부가 관통하는 제 2 보강판을 더 포함하는 프로브 카드.And a second reinforcing plate penetrating the interface unit. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 인쇄 회로 기판과 상기 프로브 기판 사이에 위치하며, 공간 변환 패턴을 포함하는 공간 변환기 및A space converter positioned between the printed circuit board and the probe substrate and including a space conversion pattern; 상기 공간 변환기와 상기 인쇄 회로 기판 사이에 위치하며, 상기 인쇄 회로 기판의 상기 회로 패턴과 상기 공간 변환기의 상기 공간 변환 패턴을 연결하는 인터포저를 더 포함하며,Located between the space converter and the printed circuit board, further comprising an interposer connecting the circuit pattern of the printed circuit board and the space conversion pattern of the space converter, 상기 인터페이스부는 상기 공간 변환 패턴과 전기적으로 연결되어 있는 것인 프로브 카드.And the interface portion is electrically connected to the space conversion pattern. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 공간 변환기의 상기 공간 변환 패턴은 상기 인쇄 회로 기판과 마주하는 상기 공간 변환기의 상면에 형성되어 있으며,The space conversion pattern of the space converter is formed on an upper surface of the space converter facing the printed circuit board, 상기 인터페이스부는 상기 공간 변환기를 관통하여 상기 상면에 형성된 공간 변환 패턴과 연결되는 것인 프로브 카드.And the interface unit is connected to the space conversion pattern formed on the upper surface through the space converter. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 공간 변환기는 상기 공간 변환 패턴과 전기적으로 연결되는 관통홀을 더 포함하고,The space transducer further includes a through hole electrically connected to the space transformation pattern. 상기 인터페이스부의 상부 단부는 상기 관통홀과 접촉하는 것인 프로브 카드.And the upper end of the interface portion is in contact with the through hole. 제 16 항에 있어서.The method of claim 16. 상기 관통홀의 내부 표면은 도전성 물질로 코팅되어 있는 것인 프로브 카드.And an inner surface of the through hole is coated with a conductive material. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 공간 변환기와 상기 프로브 기판 사이에 위치하며, 상기 인터페이스부를 감싸는 인터페이스 기판을 더 포함하며,An interface substrate positioned between the space transducer and the probe substrate and surrounding the interface unit; 상기 인터페이스 기판은 접지되어 있는 것인 프로브 카드.And the interface substrate is grounded.
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