[go: up one dir, main page]

KR100878919B1 - 진동형 회절 광변조기 - Google Patents

진동형 회절 광변조기 Download PDF

Info

Publication number
KR100878919B1
KR100878919B1 KR1020040030158A KR20040030158A KR100878919B1 KR 100878919 B1 KR100878919 B1 KR 100878919B1 KR 1020040030158 A KR1020040030158 A KR 1020040030158A KR 20040030158 A KR20040030158 A KR 20040030158A KR 100878919 B1 KR100878919 B1 KR 100878919B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
voltage
vibration
piezoelectric
micromirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR1020040030158A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050104760A (ko
Inventor
윤상경
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020040030158A priority Critical patent/KR100878919B1/ko
Publication of KR20050104760A publication Critical patent/KR20050104760A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100878919B1 publication Critical patent/KR100878919B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0808—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more diffracting elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
    • B81C1/00134—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems comprising flexible or deformable structures
    • B81C1/00142—Bridges
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0858—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N1/00—Electrostatic generators or motors using a solid moving electrostatic charge carrier
    • H02N1/002—Electrostatic motors
    • H02N1/006—Electrostatic motors of the gap-closing type
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80—Constructional details
    • H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
    • H10N30/853—Ceramic compositions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

본 발명은 진동형 회절 광변조기에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 일련의 마이크로미러 픽셀 유닛의 하단에 진동을 위한 마이크로 액추에이터가 구비되어 고정된 화소수로 복수개의 화소를 구현할 수 있는 진동형 회절 광변조기에 관한 것이다.
본 발명의 진동형 회절 광변조기는, 인가되는 전압에 따라 입사된 광을 회절시켜 피사체로 전달하는 다수의 액추에이팅 셀로 구성되는 마이크로미러 픽셀 유닛; 상기 마이크로미러 픽셀 유닛을 지지하는 기판; 및 상기 기판에 고정되어 인가되는 전압에 따라 소정 주파수에서 상기 기판을 진동시키는 마이크로액추에이터를 포함하는 것을 특징으로 한다.
광변조기, 진동, 화소

Description

진동형 회절 광변조기 {Vibrating diffractive Optical Modulator}
도 1은 종래 기술의 정전기 방식 격자 광 변조기를 도시하는 도면.
도 2는 종래 기술의 정전기 방식 격자 광 변조기가 변형되지 않는 상태에서 입사광을 반사시키는 것을 도시하는 도면.
도 3은 종래 기술의 격자 광 변조기가 정전기력에 의해 변형된 상태에서 입사광을 회절시키는 것을 도시하는 도면.
도 4는 종래 개선된 기술에 따른 컬럼형 정전기 방식 회절격자 광 밸브의 측면도.
도 5는 종래 개선된 기술에 따른 단일 디스플레이 엘리먼트에 해당하는 6개의 가늘고 긴 엘리먼트를 포함하는 GLV(Grating Light Velve) 일부의 평면도.
도 6은 종래 개선된 기술에 따른 변형되지 않은 상태에서 입사광을 반사시키는 6개의 가늘고 긴 엘리먼트를 포함하는 GLV의 디스플레이 엘리먼트의 정면도.
도 7은 종래 개선된 기술에 따른 정전기력에 의해 변형된 상태에서 입사광을 회절시키는 6개의 가늘고 긴 엘리먼트를 교대로 가진 GLV의 디스플레이 엘리먼트의 정면도.
도 8a 내지 도 8c는 종래 개선된 기술의 일실시예에 따른 변형되지 않은 압전 재료를 가지고 있는 다양한 형태의 함몰부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러의 측면도.
도 9a 내지 도 9c는 종래 개선된 기술의 일실시예에 따른 변형된 후의 압전 재료를 가지고 있는 다양한 형태의 함몰부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러의 측면도.
도 10a는 및 도 10b는 함몰부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러가 동일 또는 다른 치수로 교대로 배치된 디스플레이 엘리멘트의 정면도이며, 도 10c는 함몰부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러가 일정 폭을 가지면서 배치된 디스플레이 엘리멘트의 정면도.
도 11a 내지 도 11c는 변형되지 않은 압전 재료를 가지고 있는 다양한 형태의 돌출부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러의 측면도.
도 12a 내지 도 12c 변형된 후의 압전 재료를 가지고 있는 다양한 형태의 돌출부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러의 측면도.
도 13a 및 도 13b는 돌출부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러가 동일 또는 다른 폭으로 교대로 배치된 디스플레이 엘리멘트의 정면도이며, 도 13c는 도출부를 가진 회절형 박막 압전 마이크로 미러가 일정폭을 가지면서 배치된 디스플레이 엘리멘트의 정면도.
도 14a 및 도 14b는 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 진동형 회절 광변조기의 엘리멘트의 사시도 및 절단면도이다.
도 15는 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 진동형 회절 광변조기의 엘리먼트의 절단면도이다.
도 16은 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 진동형 회절 광변조기의 엘리먼트의 절단면도이다.
도 17은 본 발명의 바람직한 제4 실시예에 따른 진동형 회절 광변조기의 엘리먼트의 절단면도이다.
도 18a 및 도 18b는 본 발명에 따른 진동형 회절 광변조기의 반사 동작시의 진동을 설명하는 도면이다.
도 19a 및 도 19b는 본 발명에 따른 진동형 회절 광변조기의 회절 동작시의 진동을 설명하는 도면이다.
도 20a 및 도 20b는 본 발명에 따른 진동형 회절 광변조기에 의한 피사체의 동작을 설명하는 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1401,1501,1601,1701 : 상부전극 1402,1502,1602,1702 : 압전재료층
1403,1503,1603,1703 : 하부전극 1404,1504,1604,1704 : 액추에이팅 셀
1405,1505,1605,1705 : 절연층 1406,1506,1606,1706 : 기판
1407 : 압전소자 1408 : 전극
1507,1507' ; 상부전극 1508,1508' : 하부전극
1607,1607' : 전자석용 코일 1608,1608': 영구자석
1707 : 압전소자 1708 : 불변소자
1711 : 지지부
1409,1509,1609,1709 : 마이크로액추에이터
1410,1510,1610,1710 : 마이크로미러 픽셀 유닛
본 발명은 진동형 회절 광변조기에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 일련의 마이크로미러 픽셀 유닛의 하단에 진동을 위한 마이크로 액추에이터가 구비되어 고정된 화소수로 복수개의 화소를 구현할 수 있는 진동형 회절 광변조기에 관한 것이다.
일반적으로, 광신호처리는 많은 데이타 양과 실시간 처리가 불가능한 기존의 디지탈 정보처리와는 달리 고속성과 병렬처리 능력, 대용량의 정보처리의 장점을 지니고 있으며, 공간 광변조이론을 이용하여 이진위상 필터 설계 및 제작, 광논리게이트, 광증폭기 등과 영상처리 기법, 광소자, 광변조기 등의 연구가 진행되고 있다. 이중 공간 광변조기는 광메모리, 광디스플레이, 프린터, 광인터커넥션, 홀로그램 등의 분야에 사용되며, 이를 이용한 표시장치의 개발 연구가 진행되고 있다.
이러한 공간 광변조기로는 일예로 도 1에 도시된 바와 같은 반사형 변형 가능 격자 광변조기(10)이다. 이러한 광변조기(10)는 블룸 등의 미국특허번호 제 5,311,360호에 개시되어 있다. 광변조기(10)는 반사 표면을 가지며 기판(16) 상부에 부유(suspended)하는 다수의 일정하게 이격하는 변형 가능 반사형 리본(18)을 포함한다. 절연층(11)이 실리콘 기판(16)상에 증착된다. 다음으로, 희생 이산화실리콘 막(12) 및 저응력 질화실리콘 막(14)의 증착이 후속한다. 질화실리콘 막(14)은 리본(18)으로부터 패터닝되고 이산화실리콘 막(12)의 일부가 에칭되어 리본(18)이 질화물 프레임(20)에 의해 이산화실리콘 막(12)상에 유지되도록 한다. 단일 파장 λ0를 가진 광을 변조시키기 위해, 광변조기는 리본(18)의 두께와 이산화실리콘 막(12)의 두께가 λ0/4가 되도록 설계된다.
리본(18)상의 반사 표면(22)과 기판(16)의 반사 표면 사이의 수직 거리 d로 한정된 이러한 광변조기(10)의 격자 진폭은 리본(18)(제 1 전극으로서의 역할을 하는 리본(18)의 반사 표면(22))과 기판(16)(제 2 전극으로서의 역할을 하는 기판(16) 하부의 전도막(24)) 사이에 전압을 인가함으로써 제어된다. 변형되지 않은 상태에서, 즉, 어떠한 전압도 인가되지 않은 상태에서, 격자 진폭은 λ0/2와 같고, 리본과 기판으로부터 반사된 광 사이의 전체 경로차는 λ0와 같아서, 이러한 반사광에 위상을 보강시킨다. 따라서, 변형되지 않은 상태에서, 광변조기(10)는 평면거울로서 광을 반사한다. 변형되지 않은 상태가 입사광과 반사광을 도시하는 도 2에 20으로서 표시된다.
적정 전압이 리본(18)과 기판(16) 사이에 인가될 때, 정전기력이 리본(18)을 기판(16) 표면 방향으로 다운(down) 위치로 변형시킨다. 다운 위치에서, 격자 진폭은 λ0/4와 같게 변한다. 전체 경로차는 파장의 1/2이고, 변형된 리본(18)으로부터 반사된 광과 기판(16)으로부터 반사된 광이 상쇄 간섭을 하게 된다. 이러한 간섭의 결과, 변조기는 입사광(26)을 회절시킨다. 변형된 상태가 +/- 회절모드(D+1, D-1)로 회절된 광을 도시하는 도 3에 각각 28과 30으로 표시된다.
리본(18) 하부에 공간을 형성하는데 사용되는 습식 공정 동안 그리고 광변조기(10)의 동작 동안 리본(18)과 기판(16) 사이의 부착이 이러한 장치에서 큰 문제점인 것으로 판명되었다.
이러한 문제점을 해결하기 위한 개선된 종래 기술로는 실리콘 라이트 머신즈사의 국내 출원번호 10-2000-7014798의 "2차원 이미지를 형성하기 위해 입사광 빔을 변조시키는 방법 및 장치"가 있다.
개시된 "2차원 이미지를 형성하기 위해 입사광 빔을 변조시키는 방법 및 장치"에 있어 회절격자 광 밸브는 반사표면을 각각 가진 다수의 가늘고 긴 엘리먼트를 포함한다. 가늘고 긴 엘리먼트는 기판 상부에서 상호 평행하고, 지지되는 단부를 가지며 인접 반사 표면의 열(GLV 어레이)을 형성하도록 정렬한다. 가늘고 긴 엘리먼트는 디스플레이 엘리먼트에 따라 그룹을 형성한다. 각각의 그룹이 교대하여 기판에 대해 전압을 인가함으로써 변형된다. 각각의 변형된 가늘고 긴 엘리먼트의 거의 평면인 중심부는 각각의 변형되지 않은 엘리먼트의 중심부로부터 미리 설정된 거리로 실질적으로 평행하다. 미리 설정된 거리는 변형되지 않은 반사표면과 기판 사이의 거리의 1/3 내지 1/4로 선택되어 변형된 가늘고 긴 엘리먼트가 기판의 표면과 접촉하지 않도록 한다. 기판과의 접촉을 방지함으로써 가늘고 긴 엘리먼트가 기판과 부착되는 것이 방지된다. 추가로, 미리 설정된 거리를 제한함으로써 가늘고 긴 엘리먼트를 변형시키는 히스테리시스를 방지한다.
도 4는 개선된 종래 기술에 따른 변형되지 않은 상태에서 GLV의 가늘고 긴 엘리먼트(100)의 측단면도를 도시한다. 도 4에서, 가늘고 긴 엘리먼트(100)는 그 단부에 의해 기판(구성층 포함) 표면 상에 부유된다. 도 4에서 도면부호 102는 에어 스페이스를 나타낸다.
도 5은 6개의 가늘고 긴 엘리먼트(100)를 포함하는 GLV의 일부의 평면도를 도시한다. 가늘고 긴 엘리먼트(100)는 동일한 폭을 가지며 서로에 대해 평행하게 배치된다. 가늘고 긴 엘리먼트(100)는 작은 스페이스로 서로에 대해 분리되고, 이에 따라 각각의 가늘고 긴 엘리먼트(100)가 다른 엘리먼트에 대해 선택적으로 변형될 수 있도록 한다.
도 6은 변형되지 않은 가늘고 긴 엘리먼트(100)를 가진 디스플레이 엘리먼트(100)의 정면도를 도시한다. 도 6에 도시된 도면은 도 4에 도시된 선 A-A'를 따라 절취한 것이다. 변형되지 않는 상태는 도전체층(106)에 대해 각각의 가늘고 긴 엘리먼트(100)상의 바이어스를 이퀄라이징함으로써 선택된다. 가늘고 긴 엘리먼트(100)의 반사 표면이 실질적으로 공동-평탄(co-planar)하기 때문에, 가늘고 긴 엘리먼트(100)에 입사하는 광은 반사된다.
도 7은 변형된 가늘고 긴 엘리먼트(100)가 교대로 배치된 디스플레이 엘리먼트(200)의 정면도를 도시한다. 도 7에서 도시된 도면은 도 4에 도시된 선 A-A'를 따라 절취한 것이다. 실질적으로 제거되지 않은 가늘고 긴 리본(100)이 인가된 바이어스 전압에 의해 원하는 위치에 유지된다. 이동하는 가늘고 긴 리본(100)내 변형된 상태는 도전체층(106)에 대해 가늘고 긴 엘리먼트(100)에 교대로 구동 전압을 인가함으로써 달성된다. 수직 거리 d1은 대략적으로 평면이 중심부에 대해 거의 일정하고, 이에 따라 GLV의 격자 진폭을 한정한다. 격자 진폭 d1은 구동된 가늘고 긴 엘리먼트(100)상의 구동 전압을 조정함으로써 조정될 수 있다. 이는 최적의 콘트라스트 비로 GLV의 정밀한 튜닝을 가능케 한다.
그러나, 실리콘 라이트 머신즈사의 광변조기는 마이크로 미러의 위치 제어를 위해서 정전기 방식을 이용하는데, 이의 경우 동작 전압이 비교적 높으며(보통 30V 내외) 인가전압과 변위의 관계가 선형적이지 않은 등의 단점이 있어 결과적으로 광을 조절하는데 신뢰성이 높지 않는 단점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위한 국내 특허출원번호 제 P2003-077389호에는 박막 압전 광변조기 및 그 제조방법이 개시되어 있다.
도 8a 내지 8c는 개선된 기술에 따른 함몰형 박막 압전 광변조기의 절단면도이다.
도 8a를 참조하면, 개선된 기술의 일실시예에 따른 함몰형 박막 압전 광변조기는 입사되는 빛을 반사하여 회절시키기 위한 마이크로 미러층(1015a)을 가지며 실리콘 기판(1001a)의 함몰부에 부유하는 엘리멘트(1010a)를 포함한다.
이러한 엘리멘트(1010a)는 도 10a에 도시된 바와 같이 일정한 폭을 가지며 다수가 일정하게 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 엘리멘트(1010a)는 도 10b에 도시된 바와 같이 서로 다른 폭을 가지며 교번하여 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 엘리멘트(1010a)는 도 10c에 도시된 바와 같이 일정간격(거의 엘리멘트(1010a)의 폭과 같은 거리)을 두고 이격되어 위치할 수 있으며 이 경우에 실리콘 기판(1001a)의 상면의 전부에 마이크로 미러층(1020)이 적층되어 입사된 빛을 반사하여 회절시킨다.
실리콘 기판(1001a)은 엘리멘트(1010a)에 에어 스페이스를 제공하기 위하여 함몰부를 구비하고 있으며, 절연층(1002a)이 상부 표면에 증착되어 있고, 함몰부의 양측에 엘리멘트(1010a)의 단부가 부착되어 있다.
엘리멘트(1010a)는 막대 형상을 하고 있으며 중앙부분이 실리콘 기판(1001a)의 함몰부에 이격되어 위치하도록 양끝단의 하면이 각각 실리콘 기판(1001a)의 함몰부를 벗어난 양측지역에 부착되어 있고, 마이크로 미러층(1015a)가 상부에 적층되어 있으며, 실리콘 기판(1001a)의 함몰부에 위치한 부분이 상하로 이동가능한 하부지지대(1011a)를 포함한다.
또한, 엘리멘트(1010a)는 하부지지대(1011a)에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(1012a)와, 하부전극층(1012a)에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(1013a)와, 압전 재료층(1013a)에 적층되어 있으며 압전재료층(1013a)에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(1014a)와, 상부전극층(1014a)에 적층되어 있으며 입사되는 빔을 반사하여 회절시키기 위한 마이크로 미러층(1015a)를 포함하고 있다.
엘리멘트(1010a)는 상부전극층(1013a)와 하부전극층(1012a)에 전압이 인가되는 경우에 도 9a에 도시된 바와 같이 아래로 다운되어 입사되는 빛을 반사하여 회절시킬 수 있게 된다.
그리고, 도 8b 및 9b를 참조하면, 압전재료층(1013b, 1013b')이 양측면에 위치하여 상하 구동력을 발생하고 있음을 알 수 있으며, 도 8c 및 9c를 참조하면 압전재료층(1013c)이 중앙 부위에 위치하여 상하 구동력을 발생하고 있음을 알 수 있다.
도 11a 내지 11c 는 개선된 기술에 따른 돌출형 박막 압전 광변조기의 절단면도이다.
도 11a를 참조하면, 개선된 기술의 일실시예에 따른 돌출형 박막 압전 광변조기는 함몰형 박막 압전 광변조기와 달리 엘리멘트(2010a)의 하부지지대(2011a)가 실리콘 기판(2001a)으로부터 돌출되어 에어 스페이스를 제공하며, 그 결과 엘리멘트(2010a)는 상하로 이동가능하다.
즉, 엘리멘트(2010a)는 입사되는 빛을 반사하여 회절시키기 위한 마이크로 미러층(2015a)을 가지며 실리콘 기판(2001a)의 도출부에 부유하여 상하로 이동가능하다.
이러한 엘리멘트(2010a)는 도 13a에 도시된 바와 같이 일정한 폭을 가지며 다수가 일정하게 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 엘리멘트(2010a)는 도 13b에 도시된 바와 같이 서로 다른 폭을 가지며 교번하여 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 엘리멘트(2010a)는 도 13c에 도시된 바와 같이 일정간격(거의 엘리멘트(2010a)의 폭과 같은 거리)을 두고 이격되어 위치할 수 있으며 이 경우에 실리콘 기판(2001a)의 상면의 전부에 마이크로 미러층(2020)이 적층되어 입사된 빛을 반사하여 회절시킨다.
엘리멘트(2010a)의 하부지지대(2011a)는 엘리멘트(2010a)에 에어 스페이스를 제공하기 위하여 돌출되어 있으며, 양측의 단부가 실리콘 기판(2001a)에 부착되어 있다.
엘리멘트(2010a)는 막대 형상을 하고 있으며 중앙부분이 실리콘 기판(2001a)으로부터 돌출하여 이격되어 위치하고 양끝단의 하면이 각각 실리콘 기판(2001a)에 부착되어 있고, 마이크로 미러층(2015a)가 상부에 적층되어 있으며, 실리콘 기판(2001a)의 함몰부에 위치한 부분이 상하로 이동가능한 하부지지대(2011a)를 포함한다.
또한, 엘리멘트(2010a)는 하부지지대(2011a)에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(2012a)와, 하부전극층(2012a)에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(2013a)와, 압전 재료층(2013a)에 적층되어 있으며 압전재료층(2013a)에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(2014a)와, 상부전극층(2014a)에 적층되어 있으며 입사되는 빔을 반사하여 회절시키기 위한 마이크로 미러층(2015a)를 포함하고 있다.
엘리멘트(2010a)는 상부전극층(2013a)와 하부전극층(2012a)에 전압이 인가되는 경우에 도 12a에 도시된 바와 같이 아래로 다운되어 입사되는 빛을 반사하여 회절시킬 수 있게 된다.
그리고, 도 11b 및 12b를 참조하면, 압전재료층(2013b, 2013b')이 양측면에 위치하여 상하 구동력을 발생하고 있음을 알 수 있으며, 도 11c 및 12c를 참조하면 압전재료층(2013c)이 중앙 부위에 위치하여 상하 구동력을 발생하고 있음을 알 수 있다.
한편, 블름, 삼성전기 등의 특허에서 기술한 종류의 광변조기는 이미지를 디스플레이하기 위한 구조물을 형성하기 위하여 이용될 수 있다. 그리고, 이때 최소 인접한 2개의 엘리멘트가 하나의 화소를 형성할 수 있다. 물론, 3개를 하나의 픽셀로 하거나, 4개를 하나의 픽셀로 하거나, 6개를 하나의 픽셀로 할 수도 있다. 회절광만을 검출하는 광학 시스템을 디스플레이가 가질 경우, 리본 등의 엘리멘트에 전압이 인가되지 않아 리본등이 상부 위치를 유지할 때 화소는 어두운 상태, 즉 오프되며 리본등에 전압이 인가되어 리본등이 기판으로 하방향으로 당겨질 때 화소는 밝은 상태 즉, 온된다. 디스플레이 시스템을 설계하는 가장 중요한 문제는 어두운 화소와 밝은 화소 사이의 대비도(contrast ratio)이다. 또한, 디스플레이 시스템을 설계하는 가장 중요한 문제는 최근의 전자제품의 소형화와 고집적화의 경향에 비추어 보았을 때 초소형화와 고집적화를 달성하는 것이다.
그러나, 블름, 삼성전기 등의 특허에서 기술한 종류의 광변조기는 소형화를 달성하는데 일정한 한계를 가지고 있다. 즉, 광변조기의 엘리멘트의 폭은 아무리 작게 하여도 3um 이하로 할 수 없으며, 엘리멘트와 엘리멘트의 간격은 0.5um이하로 작게할 수 없는 한계가 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 일련의 마이크로미러 픽셀 유닛의 하단에 진동을 위한 마이크로 액추에이터가 구비되어 고정된 화소수로 복수개의 화소를 구현할 수 있는 진동형 회절 광변조기를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 진동형 회절 광 변조기는, 인가되는 전압에 따라 입사된 광을 회절시켜 피사체로 전달하는 다수의 액추에이팅 셀로 구성되는 마이크로미러 픽셀 유닛; 상기 마이크로미러 픽셀 유닛을 지지하는 기판; 및 상기 기판에 고정되어 인가되는 전압에 따라 소정 주파수에서 상기 기판을 진동시키는 마이크로액추에이터를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세히 설명한다.
도 14a 및 도 14b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 진동형 회절 광변조기의 엘리멘트의 사시도 및 절단면도이다.
도14a 및 14b에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 진동형 광 변조기는, 인가되는 전압에 따라 입사된 광을 회절시켜 피사체로 전달하는 소정수의 액추에이팅 셀(1404)로 구성된 마이크로미러 픽셀 유닛(1410), 상기 마이크로미러 픽셀 유닛(1410)을 지지하는 기판(1406), 및 상기 기판에 고정되어 인가되는 전압에 따라 소정 주파수에서 상기 기판을 진동시키는 마이크로액추에이터(1409)로 구성된다.
상기 다수의 액추에이팅 셀(1404)은 각각 전압을 인가하기 위한 상부 전극층(1401), 하부 전극층(1403) 및 인가된 전압에 따라 수축 또는 팽창하는 압전 재료층(1402)으로 구성되고, 외부로부터 인가되는 구동 전원에 의해 상하로 구동된다. 상기 상부 전극층(1401)은 전압을 인가하는 동시에 광을 반사시키는 마이크로미러 역할도 한다. 상기 액추에이팅 셀(1404)은 소정 수 예컨대 4개가 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1410)을 형성하며 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1410)은 피사체의 한 픽셀을 스캐닝하게 된다.
상기 기판(1406)은 액추에이팅 셀(1404)을 지지하며, 중앙 부분에 에어 스페이스를 제공하기 위한 함몰부(1400)가 형성되어 있다. 또한, 상기 기판은 상기 하부 전극(1403)과 상기 기판을 절연하기 위한 절연층(1405)을 구비한다.
마이크로미러 픽셀 유닛(1410)을 구성하는 액추에이팅 셀(1404)에 상부 전극(1401) 및 하부 전극(1403)을 통해 전압이 인가된다. 마이크로미러 픽셀 유닛(1410) 중 전압이 인가된 액추에이팅 셀은 그 압전 재료층(1402)의 수축 또는 팽창하여, 액추에이팅 셀들 간에 편차가 생기게 되고, 결과적으로 입사되는 단일빔을 회절시킬 수 있게 된다.
즉, 상기 마이크로미러 픽셀 유닛(1410)을 구동시켜 입사되는 단일빔 형태의 광을 회절시켜 예컨대 0차, +1차, -1차 및 고차의 회절계수를 갖는 회절빔을 생성시킨다.
또한, 상기 액추에이팅 셀(1404)은 상기 반사면으로 동작하는 상부 전극(1401)상에 입사되는 입사광의 반사효율을 극대화 하기위해 상부 전극(1401) 위에 별도의 마이크로 미러층을 더 포함하여 구성할 수 있다. 이 경우 상부 전극(1401)은 단지 전압인가의 역할만을 하게 된다.
하부 전극(1403)은 박막 구조의 액추에이팅 셀(1404)을 구성하는 소정의 기 판 상에 형성되어 외부로부터 인가되는 구동전압을 압전재료층(1402)에 제공하는 역할을 수행한다.
압전재료층(1402)은 외부로부터 인가되는 구동 전원에 연동하여 발생하는 압전 현상에 의하여 상·하 방향 또는 좌.우 방향으로 길이가 변화하는 소정의 압전재료, 보다 구체적으로는, PzT, PNN-PT, ZnO. Pb, Zr 또는 타이타늄 등의 압전/전왜 재료를 습식(스크린 프린팅, 졸-겔 코팅(Sol-Gel coting) 등) 및 건식 방법(스퍼터링, 증착(Evaporation), 기상증착(Vapor Deposition) 등)을 통하여 0.01~20.0㎛ 범위로 상기 하부 전극(1402)상에 형성된다.
상부 전극(1401)은 상기 압전 재료층(1402)의 상부에 형성되어 광원으부터 입사되는 입사광에 대한 반사 및 회절을 수행하는 것으로서, 보다 구체적으로는 Pt, Ta/Pt, Ni, Au, Al, RuO2 등의 전극재료를 스퍼터링 또는 증착 방법을 통하여 0.01~3㎛ 범위로 형성된다.
이때, 상부 전극(1401)은 외부로부터 입력되는 광신호에 대한 반사 및 회절을 수행하는 마이크로 미러로서 동작하거나, 또는 상기 광신호에 대한 반사 및 회절을 더욱 강화 시키기 위하여 소정의 광반사 물질인 Al, Au, Ag, Pt, Au/Cr로 구성된 마이크로 미러를 더 포함하여 구성될 수 도 있다.
액추에이팅 셀(1404)의 압전 재료층(1402)의 두께를 두껍게 하면, 즉 압전 재료층(1402)이 후막 구조인 경우에는 기판(1406)에 밀착된 구조로 형성될 수 있다.
압전 재료층(1402)이 후막 구조인 경우에는, 하부 전극(1403)은 후막 구조의 액추에이팅 셀(1404)을 구성하는 기판(1406)상에 Pt, Ta/Pt, Ni, Au, Al, RuO2 등의 전극 재료에 대한 스퍼터링 또는 증착방법에 의하여 형성시킨다.
여기서, 기판(1406) 상에 박막 구조를 갖는 액추에이팅 셀(1404)의 압전 재료층(1402)을 지지하기 위하여 하부 전극(1403) 밑에 하부 지지층을 추가로 포함할 수 있으며, 이 때 하부 지지층은 SiO2, Si3N4, Si, ZrO2, Al2O3 등의 재료로 구성되며 증착에 의해 형성한다.
도14a 및 도14b에서 마이크로 액추에이터(1409)는 압전 구동 방식에 의한 것으로서 압전 재료층(1407) 및 상기 압전 재료층(1407) 내에 형성된 지그재그로 형성된 전극(1408)을 포함한다. 상기 전극(1408)에 전압이 인가되면 인가된 전압에 비례하여 압전 재료층(1407)은 축소 또는 팽창된다. 압전 재료층(1407)의 강한 전압이 인가되는 곳과 적은 전압이 인가된 곳의 수축 또는 팽창 정도가 다르기 때문에 결과적으로 기판(1406)이 휘게 된다. 또한, 인가되는 전압을 제거하면 기판(1406)이 다시 펴지게 된다. 이와 같은 원리로 전압을 일정한 주파수로 인가 및 제거하게 되면 기판(1406) 및 마이크로미러 픽셀 유닛(1410)이 진동하게 된다.
이와 같은 진동에 의해 도18a,18b, 도19a,19b 및 도20a,20b에 도시된 바와 같이 하나의 마이크로 픽셀 유닛으로 2개 이상의 마이크로 픽셀 유닛의 역할을 대체할 수 있다.
도 15는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 정전 구동에 의한 진동형 회절 광변조기의 절단면도이다.
도15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 진동형 회절 광 변조기는, 인가되는 전압에 따라 입사된 광을 회절시켜 피사체로 전달하는 소정수의 액추에이팅 셀(1504)로 구성된 마이크로미러 픽셀 유닛(1510), 상기 마이크로미러 픽셀 유닛을 지지하는 기판(1506), 및 상기 기판에 고정되어 인가되는 전압에 따라 소정 주파수에서 상기 기판을 진동시키는 마이크로액추에이터(1509')로 구성된다.
상기 다수의 액추에이팅 셀(1504)은 각각 전압을 인가하기 위한 상부 전극층(1501), 하부 전극층(1503) 및 인가된 전압에 따라 수축 또는 팽창하는 압전 재료층(1502)으로 구성되고, 외부로부터 인가되는 구동 전원에 의해 상하로 구동된다. 상기 상부 전극층(1501)은 전압을 인가하는 동시에 광을 반사시키는 마이크로미러 역할도 한다. 상기 액추에이팅 셀(1504)은 소정 수 예컨대 4개가 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1510)을 형성하며 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1510)은 피사체의 한 픽셀을 스캐닝하게 된다.
상기 기판(1506)은 상기 액추에이팅 셀(1504)을 지지하며, 중앙 부분에 에어 스페이스를 제공하기 위한 함몰부(미도시)가 형성되어 있다. 또한, 상기 기판(1506)은 상기 하부 전극(1503)과 상기 기판을 절연하기 위한 절연층(1505)을 구비한다.
마이크로미러 픽셀 유닛(1510)을 구성하는 액추에이팅 셀(1504)에는 상부 전극(1501) 및 하부 전극(1503)을 통해 전압이 인가된다. 픽셀 유닛(1510) 중 전압이 인가된 액추에이팅 셀은 그 압전 재료층(1502)의 수축 또는 팽창하여, 액추에이팅 셀들 간에 편차가 생기게 되고, 결과적으로 입사되는 단일빔을 회절시킬 수 있게 된다.
즉, 상기 마이크로미러 픽셀 유닛(1510)을 구동시켜 입사되는 단일빔 형태의 광을 회절시켜 예컨대 0차, +1차, -1차 및 고차의 회절계수를 갖는 회절빔을 생성시킨다.
도15에서, 마이크로 액추에이터(1509')는 기판(1506)의 측면에 형성된 상부 전극(1507,1507') 및 하부 전극(1508,1508')으로 구성된다. 상부 전극(1507,1507') 및 하부 전극(1508,1508')의 각각에 도15에 도시된 바와 같은 극성의 정전압이 형성되도록 전압이 인가되면, 좌측에는 상부 전극(1507) 및 하부 전극 (1508) 사이에 척력이 작용하고, 우측의 상부 전극(1507') 및 하부 전극(1508') 사이에는 인력이 작용하여 결과적으로 마이크로 액추에이터(1509)는 상하로 휘게 된다. 이러한 전압을 빠른 주기로 가하였다가 끊어주기를 반복하면 마이크로 액추에이터(1509)는 진동하게 되고, 그에 고정된 기판(1506)도 그와 같은 속도로 진동하게 된다.
이와 같은 진동에 의해 도18a,18b, 도19a,19b 및 도20a,20b에 도시된 바와 같이 하나의 마이크로 픽셀 유닛으로 2개의 마이크로 픽셀 유닛의 역할을 대체할 수 있다.
도16에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 진동형 회절 광변조기는, 인가되는 전압에 따라 입사된 광을 회절시켜 피사체로 전달하는 소정수의 액추에이팅 셀(1604)로 구성된 마이크로미러 픽셀 유닛(1610), 상기 마이크로미러 픽셀 유닛을 지지하는 기판(1606), 및 상기 기판에 고정되어 인가되는 전압에 따라 소정 주파수에서 상기 기판을 진동시키는 마이크로액추에이터(1609)로 구성된다.
상기 다수의 액추에이팅 셀(1604)은 각각 전압을 인가하기 위한 상부 전극층(1601), 하부 전극층(1603) 및 인가된 전압에 따라 수축 또는 팽창하는 압전 재료층(1602)으로 구성되고, 외부로부터 인가되는 구동 전원에 의해 상하로 구동된다. 상기 상부 전극층(1601)은 전압을 인가하는 동시에 광을 반사시키는 마이크로미러 역할도 한다. 상기 액추에이팅 셀(1604)은 소정 수 예컨대 4개가 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1610)을 형성하며 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1610)은 피사체의 한 픽셀을 스캐닝하게 된다.
상기 기판(1606)은 상기 액추에이팅 셀(1604)을 지지하며, 중앙 부분에 에어 스페이스를 제공하기 위한 함몰부(미도시)가 형성되어 있다. 또한, 상기 기판은 상기 하부 전극(1603)과 상기 기판을 절연하기 위한 절연층(1605)을 구비한다.
마이크로미러 픽셀 유닛(1610)을 구성하는 액추에이팅 셀(1604)에 상부 전극(1601) 및 하부 전극(1603)을 통해 전압이 인가된다. 마이크로미러 픽셀 유닛(1610) 중 전압이 인가된 액추에이팅 셀은 그 압전 재료층(1602)의 수축 또는 팽창에 의해 이동하여, 액추에이팅 셀들 간에 편차가 생기게 되고, 결과적으로 입사되는 단일빔을 회절시킬 수 있게 된다.
즉, 상기 마이크로미러 픽셀 유닛(1610)을 구동시켜 입사되는 단일빔 형태의 광을 회절시켜 예컨대 0차, +1차, -1차 및 고차의 회절계수를 갖는 회절빔을 생성시킨다.
도16에서, 마이크로 액추에이터(1609,1609')는 기판(1606)의 측면에 형성된 전자석용 코일(1607,1607') 및 상기 전자석용 코일(1607,1607')과 소정 거리만큼 이격된 영구 자석(1608,1608')으로 구성된다. 상기 전자석용 코일(1607)의 끝단에 N극이 형성되고, 전자석용 코일(1607')의 끝단에는 N극이 형성되도록 전류를 인가해 주면 기판(1606)이 우측으로 이동하고, 전자석용 코일(1607,1607') 각각의 끝단에 그와 반대의 극성이 형성되도록 전류를 인가해 주면 기판(1606)이 좌측으로 이동한다. 이와 같이 전류 방향을 빠른 속도로 바꾸어 주면 기판(1606)이 좌우로 진동하게 된다.
이와 같은 진동에 의해 도18a,18b, 도19a,19b 및 도20a,20b에 도시된 바와 같이 하나의 마이크로 픽셀 유닛으로 2개의 마이크로 픽셀 유닛의 역할을 대체할 수 있다.
도17에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 진동형 회절 광변조기는, 인가되는 전압에 따라 입사된 광을 회절시켜 피사체로 전달하는 소정수의 액추에이팅 셀(1704)로 구성된 마이크로미러 픽셀 유닛(1710), 상기 마이크로미러 픽셀 유닛을 지지하는 기판(1706), 및 상기 기판에 고정되어 인가되는 전압에 따라 소정 주파수에서 상기 기판을 진동시키는 마이크로액추에이터(1709)로 구성된다.
상기 다수의 액추에이팅 셀(1704)은 각각 전압을 인가하기 위한 상부 전극층(1701), 하부 전극층(1703) 및 인가된 전압에 따라 수축 또는 팽창하는 압전 재료층(1702)으로 구성되고, 외부로부터 인가되는 구동 전원에 의해 상하로 구동된다. 상기 상부 전극층(1701)은 전압을 인가하는 동시에 광을 반사시키는 마이크로미러 역할도 한다. 상기 액추에이팅 셀(1704)은 소정 수 예컨대 4개가 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1710)을 형성하며 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛(1710)은 피사체의 한 픽셀을 스캐닝하게 된다.
상기 기판(1706)은 상기 액추에이팅 셀(1704)을 지지하며, 중앙 부분에 에어 스페이스를 제공하기 위한 함몰부가 형성되어 있다. 또한, 상기 기판은 상기 하부 전극(1703)과 상기 기판을 절연하기 위한 절연층(1705)을 구비한다.
마이크로미러 픽셀 유닛(1710)을 구성하는 액추에이팅 셀(1704)에 상부 전극(1701) 및 하부 전극(1703)을 통해 전압이 인가된다. 픽셀 유닛(1710) 중 전압이 인가된 액추에이팅 셀은 그 압전 재료층(1702)의 수축 또는 팽창에 의해 이동하여, 액추에이팅 셀들 간에 편차가 생기게 되고, 결과적으로 입사되는 단일빔을 회절시킬 수 있게 된다.
즉, 상기 마이크로미러 픽셀 유닛(1710)을 구동시켜 입사되는 단일빔 형태의 광을 회절시켜 예컨대 0차, +1차, -1차 및 고차의 회절계수를 갖는 회절빔을 생성시킨다.
마이크로 액추에이터(1709)는 압전 소자(1707) 및 불변 소자(1708)로 구성된 압전 진동자와 상기 압전 진동자를 지지하는 지지부(1711)로 구성된다.
기판(1706)은 상기 압전 진동자에 의해 상기 지지부(1711)에 고정된다. 미도시된 전극을 통해 상기 압전 소자(1707)에 소정의 전압이 인가되면 인가 전압에 따라 압전 소자(1707)의 길이가 늘어나거나 줄어들려고 하지만 불변소자(1708)는 그 길이가 변화하지 않기 때문에 압전 진동자가 좌우로 진동하게 된다. 이 진동에 의해 기판(1706)은 도17의 화살표 방향으로 진동을 하게 된다.
도 18a 및 도 18b는 본 발명에 따른 광변조기의 반사 동작시의 진동을 설명하는 도면이다.
도18a는 광변조기가 반사기로서 동작하는 경우 즉 액추에이팅 셀이 구동되지 않아 입사되는 광을 반사하는 경우를 나타낸다. 도18b는 도18a의 광변조기의 진동 액추에이터가 구동되어 기판에 변위가 발생한 경우를 나타낸다. 도18a의 반사된 광이 스캐닝되는 위치가 기판의 변위에 의해 변경된다. 기판이 진동함으로써 교대로 도18a 및 도18b에 도시된 상태에 있게 된다. 또한, 기판이 진동하는 변위 크기를 조절함으로써 반사된 광이 스캐닝되는 위치를 변경할 수 있다.
도 19a 및 도 19b는 본 발명에 따른 광 변조기의 회절 동작시의 진동을 설명하는 도면이다.
도19a는 광변조기가 회절기로서 동작하는 경우 즉 액추에이팅 셀이 구동되어 0차 및 ±1차 광을 출력하는 경우를 나타낸다. 도19b는 도19a의 광변조기의 마이크로 액추에이터가 구동되어 기판에 변위가 발생한 경우를 나타낸다. 도19a의 회절된 광이 스캐닝되는 위치가 기판의 움직임, 즉 변위에 의해 변경된다. 기판이 진동함으로써 교대로 도19a 및 도19b에 도시된 상태에 있게 된다. 또한, 기판이 진동하는 변위 크기를 조절함으로써 회절광이 향하는 위치를 변경할 수 있다.
이와 같이 기판을 진동시키게 되면 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛으로 2개의 마이크로미러 픽셀 유닛을 커버할 수 있으므로 필요한 마이크로미러 픽셀 유닛의 수를 줄일 수 있다.
즉, 도18a 또는 도19a에서 반사 또는 회절된 광과 도18b 또는 도19b에서 반사 또는 회절된 광은 기판 및 마이크로미러 픽셀 유닛의 진동 속도가 빠르기 때문에 그 변화를 인간의 육안으로 식별할 수 없다. 즉, 인간의 육안은 마이크로미러 픽셀 유닛의 진동시에 서로 다른 두 위치에 남는 잔상을 고정적으로 머물러 있는 상으로 인식하게 되므로, 입사되는 광을 2개의 마이크로미러 픽셀 유닛으로 각각 다른 위치로 스캐닝하는 것과 동일한 결과를 갖게 된다.
도 20a 및 도 20b는 본 발명에 따른 진동형 회절 광 변조기에 의한 스캐닝 동작을 설명하는 도면이다.
도20a와 같이 예컨대, 1280×720개의 픽셀로 구성된 화면을 스캐닝하는 경우, 종방향으로 놓인 1280개의 픽셀 어레이를 스캐닝하기 위해서는 종래에는 4개의 액추에이팅 셀로 구성된 마이크로미러 픽셀 유닛이 1280개가 필요하지만, 본 발명에 따른 진동형 회절 광변조기에 의하면 마이크로 액추에이터에 의해 그 절반인 640개 또는 그 이하의 마이크로미러 픽셀 유닛을 가진 광변조기에 의해서도 그와 같은 스캐닝을 수행할 수 있다. 즉, 광변조기의 하나의 마이크로미러 픽셀 유닛을 진동시킴으로써 2개 또는 그 이상의 마이크로미러 픽셀 유닛을 커버할 수 있다.
또한, 기판의 진동 방향을 바꾸어 주면 도20b와 같이 횡방향으로 놓인 720개의 마이크로미러 픽셀 유닛을 스캐닝하는데 360개 또는 그 이하의 마이크로미러 픽셀 유닛을 가진 광변조기에 의해서 스캐닝을 수행할 수 있다.
한편, 도 14a 및 14b, 도 15 내지 도17에서 설명한 바와 같이 진동형 회절 광변조기는 국내 특허출원번호 제 P2003-077389호, 박막 압전 광변조기 및 그 제조방법에 개시되어 있는 돌출형 박막 압전 광변조기에도 적용가능하다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 광변조기에 요구되는 픽셀의 수를 급격히 감소시켜 광변조기의 소형화가 가능하도록 하며, 그 결과 비용 절감의 효과를 가져오도록 하는 효과가 있다.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 광변조기를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.

Claims (5)

  1. 인가되는 전압에 따라 입사된 광을 회절시켜 피사체로 전달하는 다수의 액추에이팅 셀로 구성되는 마이크로미러 픽셀 유닛;
    상기 마이크로미러 픽셀 유닛을 지지하는 기판; 및
    상기 기판에 고정되어 인가되는 전압에 따라 소정 주파수에서 상기 기판을 진동시키는 마이크로액추에이터를 포함하며,
    상기 액추에이팅 셀은,
    리본 형상으로 형성되어 있으며 상기 기판에 양끝이 부착되어 있고, 압전 전압을 제공하기 위한 하부 전극층;
    상기 하부 전극층에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층; 및
    상기 압전 재료층에 적층되어 있으며 상기 압전 재료층에 압전 전압을 제공하고, 반사면을 포함하여 상기 압전 재료층의 상하 구동력에 의해 상하로 이동하여 입사되는 입사광을 회절시키는 상부 전극층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 진동형 회절 광변조기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 마이크로 액추에이터는 압전소자 및 상기 압전 소자에 전압을 인가하기 위한 상부 전극 및 하부 전극을 포함하는 진동형 회절 광변조기.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 마이크로 액추에이터는 상기 기판의 하단에 배치된 전극들을 포함하고, 상기 전극들에 인가되는 전압에 따라 진동하는 것을 특징으로 하는 진동형 회절 광변조기.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 마이크로 액추에이터는 상기 기판의 하단에 배치된 전자석용 코일; 및
    상기 전자석용 코일과 인력 또는 척력을 발생시키는 영구자석을 포함하며,
    상기 전자석용 코일에 인가되는 전압에 따라 진동하는 것을 특징으로 하는 진동형 회절 광변조기.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 중앙 부분에 에어 스페이스를 제공하기 위한 함몰부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진동형 회절 광변조기.
KR1020040030158A 2004-04-29 2004-04-29 진동형 회절 광변조기 Expired - Fee Related KR100878919B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040030158A KR100878919B1 (ko) 2004-04-29 2004-04-29 진동형 회절 광변조기

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040030158A KR100878919B1 (ko) 2004-04-29 2004-04-29 진동형 회절 광변조기

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050104760A KR20050104760A (ko) 2005-11-03
KR100878919B1 true KR100878919B1 (ko) 2009-01-15

Family

ID=37282240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040030158A Expired - Fee Related KR100878919B1 (ko) 2004-04-29 2004-04-29 진동형 회절 광변조기

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100878919B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990008170A (ko) * 1996-02-26 1999-01-25 야스카와 히데아키 광변조 디바이스, 표시 장치 및 전자 기기
JP2000338847A (ja) * 1999-05-28 2000-12-08 Sony Corp ホログラム記録再生装置
JP2002323674A (ja) 2001-04-24 2002-11-08 Sony Corp 投影映像装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990008170A (ko) * 1996-02-26 1999-01-25 야스카와 히데아키 광변조 디바이스, 표시 장치 및 전자 기기
JP2000338847A (ja) * 1999-05-28 2000-12-08 Sony Corp ホログラム記録再生装置
JP2002323674A (ja) 2001-04-24 2002-11-08 Sony Corp 投影映像装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050104760A (ko) 2005-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6379510B1 (en) Method of making a low voltage micro-mirror array light beam switch
US6681063B1 (en) Low voltage micro-mirror array light beam switch
JP5493735B2 (ja) 偏向ミラー、光走査装置、画像形成装置、および画像投影装置
JP4335114B2 (ja) マイクロミラーデバイス
JP2001215317A (ja) 順応型回折格子装置を具備した空間光変調器
KR100645640B1 (ko) 회절형 박막 압전 마이크로 미러 및 그 제조 방법
JP4361458B2 (ja) オープンホールを基盤とする回折光変調器
JP5585478B2 (ja) 光偏向用ｍｅｍｓ素子
KR20060031452A (ko) 디지탈 마이크로 블레이즈 회절격자 광변조기
KR20050118104A (ko) 하이브리드 광변조기
KR100878919B1 (ko) 진동형 회절 광변조기
JP2008058974A (ja) 回折型光変調器
US20060077526A1 (en) Open hole-based diffractive light modulator
KR100861623B1 (ko) 진동형 회절 광변조기
US6977765B1 (en) Diffractive light modulator using cantilevers
Koh et al. A 2-D MEMS scanning mirror using piezoelectric PZT beam actuators
KR100827314B1 (ko) 열처리에 의해 평탄면을 가지는 멤스 소자 및 광변조기제조 방법
KR100832646B1 (ko) 오픈홀 기반의 회절 광변조기
KR100632548B1 (ko) 대칭 형상의 캔티레버를 이용한 회절형 광변조기
KR100815341B1 (ko) 피쉬본 회절형 광변조기
KR100443368B1 (ko) 미소 평판 구동 장치
KR100632547B1 (ko) 캔티레버를 이용한 회절형 광변조기
KR100815349B1 (ko) 콘트라스트가 개선된 회절형 광변조기
KR100878921B1 (ko) 임베디드 회절 광변조기
KR100861055B1 (ko) 복수의 구동 소자를 가진 광변조기 소자

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20040429

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20070131

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20040429

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20080429

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20081020

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20090108

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20090108

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee