[go: up one dir, main page]

KR100869116B1 - Simplified rubbing facility and rubbing device for two rubbing processes - Google Patents

Simplified rubbing facility and rubbing device for two rubbing processes Download PDF

Info

Publication number
KR100869116B1
KR100869116B1 KR1020020050565A KR20020050565A KR100869116B1 KR 100869116 B1 KR100869116 B1 KR 100869116B1 KR 1020020050565 A KR1020020050565 A KR 1020020050565A KR 20020050565 A KR20020050565 A KR 20020050565A KR 100869116 B1 KR100869116 B1 KR 100869116B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
rubbing
roller
substrate
head
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR1020020050565A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040018657A (en
Inventor
정환경
유정민
임권호
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020020050565A priority Critical patent/KR100869116B1/en
Publication of KR20040018657A publication Critical patent/KR20040018657A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100869116B1 publication Critical patent/KR100869116B1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D13/00—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor
    • B24D13/02—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor acting by their periphery
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

2회의 러빙 방법을 수행하는 단순화된 구조를 가지는 러빙 설비가 도시되어 있다. 본 발명의 러빙 설비는 1개의 러빙 헤드와 2개의 러빙 롤러를 가지거나 또는 2개의 러빙 헤드와 2개의 러빙 롤러를 가지고 2회의 러빙을 수행한다. 러빙 스테이지에 흡착된 기판이 2개의 러빙 롤러를 연속적으로 거치므로 2번의 러빙을 할 경우 기판의 회전에 의한 러빙 각도의 틀어짐에 따른 러빙 불량이 발생하는 것을 방지한다. 또한, 전체 러빙 설비를 단순화함으로써 러빙 설비의 유지, 보수 및 관리에 따른 비용 및 시간을 줄일 수 있는 효과가 있다.

Figure R1020020050565

러빙 설비, 러빙, 공정, 러빙 롤러, 러빙 불량

A rubbing facility is shown with a simplified structure for carrying out two rubbing methods. The rubbing facility of the present invention performs two rubbings with one rubbing head and two rubbing rollers or with two rubbing heads and two rubbing rollers. Since the substrate adsorbed on the rubbing stage passes through the two rubbing rollers continuously, the rubbing failure is prevented when the rubbing angle is caused by the rotation of the substrate when the rubbing is performed twice. In addition, it is possible to reduce the cost and time due to the maintenance, maintenance and management of the rubbing facility by simplifying the entire rubbing facility.

Figure R1020020050565

Rubbing equipment, rubbing, process, rubbing roller, rubbing failure

Description

2회 러빙 공정을 위한 단순화된 러빙 설비 및 러빙 장치{SIMPLE RUBBING EQUIPMENT FOR PERFORMING TWO RUBBING PROCESS AND RUBBING APPARATUS}SIMPLE RUBBING EQUIPMENT FOR PERFORMING TWO RUBBING PROCESS AND RUBBING APPARATUS}

도 1은 종래 2회 러빙 공정을 수행하기 위한 러빙 설비를 개략적으로 나타낸 개념도이다. 1 is a conceptual diagram schematically showing a rubbing facility for performing a conventional two times rubbing process.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 2회 러빙 공정을 수행하기 위한 단순화된 러빙 설비를 개략적으로 나타낸 개념도이다. FIG. 2 is a conceptual diagram schematically illustrating a simplified rubbing facility for performing the two rubbing processes according to the first embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 2회 러빙 공정을 수행하기 위한 단순화된 러빙 설비를 개략적으로 나타낸 개념도이다. 3 is a conceptual diagram schematically illustrating a simplified rubbing facility for performing a two times rubbing process according to a second embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of the drawings>

10 : 러빙 스테이지(rubbing stage)10: rubbing stage

200, 300 : 러빙 설비 200, 300: rubbing equipment

30a, 30b, 230, 330 : 러빙 장치 30a, 30b, 230, 330: rubbing device

20a, 20b, 220a, 220b, 320 : 러빙 헤드(rubbing head)20a, 20b, 220a, 220b, 320: rubbing head

212a, 212b, 312a, 312b : 러빙 롤러(rubbing roller)
212a, 212b, 312a, 312b: rubbing roller

본 발명은 배향홈(align groove) 형성용 러빙 설비 및 러빙 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전체 러빙 설비를 단순화하여 2회의 러빙 방법을 수행할 수 있는 러빙 설비 및 러빙 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a rubbing device and a rubbing device for forming an alignment groove, and more particularly, to a rubbing device and a rubbing device capable of performing two rubbing methods by simplifying the entire rubbing device.

최근 들어 급속한 기술 개발이 이루어지고 있는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device)는 액정(Liquid Crystal)의 전기-광학적인 특성을 이용하여 디스플레이를 수행한다. Recently, the liquid crystal display device (Liquid Crystal Display device), which has been rapidly developed technology to perform the display by using the electro-optical characteristics of the liquid crystal (Liquid Crystal).

이때, 액정의 전기-광학적인 특성은 전계가 가해지지 않았을 때에는 광을 투과시키지 않고, 액정에 소정 전계가 가해졌을 때에는 전계에 대응하여 광을 투과시키는 "광셔터" 특성을 의미한다. In this case, the electro-optical characteristic of the liquid crystal means a "light shutter" characteristic that transmits light in response to an electric field when a predetermined electric field is applied to the liquid crystal without transmitting light when no electric field is applied.

이와 같이 정의된 액정이 무질서하게 배열될 경우 액정이 갖아야할 "광셔터"특성을 갖지 못하게 되어 결과적으로 디스플레이가 불가능하며, 액정이 일정한 배열 규칙을 갖도록 해야만 전계의 변화에 따라서 액정을 통과하는 광량을 조절할 수 있다. If the liquid crystals defined in this way are arranged in an orderly manner, the liquid crystals do not have the "light shutter" characteristics that the liquid crystals must have, and as a result, display is impossible. Can be adjusted.

이와 같이 액정이 갖아야 하는 일정한 배열 규칙은 통상 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT) 기판 및 컬러 필터(color filter) 기판에 형성된 폴리이미드(polyimide) 박막에 일정 방향으로 뻗은 배향홈(align groove)을 형성함으로 얻어진다. 즉, TFT 기판과 칼라필터 기판에 폴리이미드제를 코팅하여 경화시켜 준 다음, 액정 분자가 일정한 방향으로 배열할 수 있게 끔 약 1 ~ 2mm의 모근 길이를 갖는 부드러운 벨벳(velvet)류의 천으로 상기 기판을 문질러 주는 러 빙 공정을 통하여, As such, the regular alignment rule that the liquid crystal should have is usually performed by aligning grooves extending in a predetermined direction on a polyimide thin film formed on a thin film transistor (TFT) substrate and a color filter substrate. Obtained by forming. That is, the polyimide agent is coated on the TFT substrate and the color filter substrate to cure, and then the soft velvet-like cloth having a hair root length of about 1 to 2 mm is arranged so that the liquid crystal molecules can be aligned in a predetermined direction. Through the rubbing process to rub the substrate,

이 경우, 일정한 러빙 강도를 얻기 위해 1회 러빙을 실시하는 경우와 2회 러빙을 실시하는 경우 동일한 러빙 강도를 얻기 위해 필요한 러빙 공정 조건이 달라진다. 예를 들어, 동일한 러빙 강도가 얻어지는 경우에도 1회 러빙을 실시할 경우의 러빙 섬유(rubbing pile)의 두께, 스테이지의 이동 속도, 러빙 롤러(rubbing roller)의 회전 속도 등은 2회 러빙을 실시하는 경우에 비하여 약 2배가 요구된다. 러빙 섬유(rubbing pile)의 두께, 스테이지의 이동 속도 및 러빙 롤로의 회전 속도 등이 2배가 되면 러빙 불량이 발생할 가능성이 증가한다. In this case, the rubbing process conditions necessary for obtaining the same rubbing strength when the one rubbing is performed and the two rubbings are performed to obtain a constant rubbing strength are different. For example, even when the same rubbing strength is obtained, the thickness of the rubbing pile, the moving speed of the stage, the rotational speed of the rubbing roller, and the like when the rubbing is performed once is performed twice. About twice as much as the case is required. When the thickness of the rubbing pile, the moving speed of the stage, and the rotation speed to the rubbing roll are doubled, the probability of rubbing failure increases.

따라서, 1회의 러빙을 실시하는 것보다 2번으로 나누어 러빙을 실시하는 것이 바람직하다. Therefore, it is preferable to perform rubbing dividing into two rather than performing rubbing once.

2회 러빙을 통해 필요한 러빙 강도(rubbing strength)를 얻기 위하여 종래에는 상류 러빙 장치와 하류 러빙 장치를 별도로 구성하여 2회 러빙을 실시하는 방법을 사용하였다. In order to obtain the required rubbing strength through two rubbings, a method of performing two rubbings by separately configuring an upstream rubbing device and a downstream rubbing device has been used.

이와 같은 상하류 러빙 장치를 사용한 2회 러빙 방법은 도 1에 도시된 바와 같은 러빙 설비(100)에 의하여 수행된다. The two times rubbing method using the up and down rubbing device is performed by the rubbing facility 100 as shown in FIG.

도 1은 종래 2회 러빙 공정을 수행하기 위한 러빙 설비(100)를 개략적으로 나타낸 개념도이다. 1 is a conceptual diagram schematically showing a rubbing facility 100 for performing a conventional two times rubbing process.

도 1을 참조하면, 종래 러빙 설비(100)는 상류 러빙 장치(30a)와 하류 러빙 장치(30b)로 나뉘어진다. Referring to FIG. 1, the conventional rubbing facility 100 is divided into an upstream rubbing device 30a and a downstream rubbing device 30b.

상류 러빙 공정과 하류 러빙 공정에 있어서 각각의 러빙 섬유(rubbing pile) 의 두께, 스테이지의 이동 속도 및 러빙 롤로의 회전 속도 등의 공정 조건은 동일하며, 사용되는 장비도 동일하다. 즉, 상류 러빙 장치(30a)와 하류 러빙 장치(30b)는 동일한 장비를 사용한다. In the upstream rubbing process and the downstream rubbing process, the process conditions such as the thickness of each rubbing pile, the moving speed of the stage, and the rotating speed to the rubbing roll are the same, and the equipment used is the same. That is, the upstream rubbing device 30a and the downstream rubbing device 30b use the same equipment.

러빙 스테이지(10)는 도면에는 도시되지 않았지만, 예를 들어 스테이지 몸체, 로딩/언로딩 핀, 기판 고정용 진공홀 등으로 구성되며, 러빙하고자 하는 기판-예를 들어 박막 트랜지스터 기판(TFT 기판) 등-은 러빙 스테이지(10)에 안착된 후 상류와 하류의 러빙 장치(30a, 30b)를 각각 거치면서 기판에 배향홈이 형성된다. Although not shown in the drawing, the rubbing stage 10 is composed of, for example, a stage body, a loading / unloading pin, a substrate fixing vacuum hole, and the like to be rubbed, for example, a thin film transistor substrate (TFT substrate) and the like. After being seated on the rubbing stage 10, an alignment groove is formed in the substrate while passing through the upstream and downstream rubbing devices 30a and 30b, respectively.

이와 같은 구성을 갖는 러빙 스테이지(10)의 위쪽에는 러빙 장치(30a, 30b)가 설치된다. 러빙 장치(30a)는 상하 왕복 운동을 하는 러빙 헤드(20a), 지지대(14a)를 통하여 러빙 헤드(20a)와 연결되는 러빙 롤러(12a), 러빙 섬유(rubbing pile)(18a)가 심어져 러빙 롤러(12a) 외주면에 감긴 러빙 천(16a), 롤러 회전 장치(미도시) 및 롤러 왕복 운동 장치(미도시) 등으로 구성된다. The rubbing devices 30a and 30b are provided above the rubbing stage 10 having such a configuration. The rubbing device 30a is provided with a rubbing roller 12a and a rubbing pile 18a which are connected to the rubbing head 20a through a rubbing head 20a and a support 14a which vertically reciprocate. And a rubbing cloth 16a wound around the outer circumferential surface of the roller 12a, a roller rotating device (not shown), a roller reciprocating device (not shown), and the like.

구체적으로, 러빙 롤러(12a)의 표면에는 러빙 섬유(pile)가 심어진 러빙 천(16a)이 감겨진 상태에서 러빙 롤러(12a)의 단부에는 러빙 롤러(12a)를 회전시키는 롤러 회전 장치가 설치된다. 또한, 롤러 회전 장치는 다시 롤러 왕복 운동 장치에 설치된다. 이와 같은 구성에 의하여 러빙 장치(30a)는 러빙 스테이지(10)의 상면에서 회전하면서 왕복 운동이 가능해진다. 이와 같은 구성을 갖는 러빙 장치(30a) 및 러빙 스테이지(10)의 사이에는 기판이 개재되어 러빙 장치(30a)와 기판의 마찰에 의하여 배향홈이 형성된다.Specifically, a roller rotating device for rotating the rubbing roller 12a is installed at the end of the rubbing roller 12a in a state in which a rubbing cloth 16a on which rubbing fibers are planted is wound on the surface of the rubbing roller 12a. . Further, the roller rotating device is again installed in the roller reciprocating motion device. This configuration allows the rubbing device 30a to reciprocate while rotating on the upper surface of the rubbing stage 10. A substrate is interposed between the rubbing device 30a and the rubbing stage 10 having such a configuration so that an alignment groove is formed by friction between the rubbing device 30a and the substrate.

상류 러빙 장치(30a)와 하류 러빙 장치(30b)는 동일한 공정 조건에서 동일 한 장비를 사용하여 러빙이 이루어지므로 중간 정렬부(40)를 설치한다. 중간 정렬부(40)는 상류 러빙 장치(30a)에 의해 1차 배향홈이 형성된 기판이 로버트 암(robert arm)과 같은 기판 이송 장치에 의해 하류 러빙 장치(30b)로 이송되는 과정에서 기판의 회전등에 의하여 상하류에서의 러빙 각도가 틀어지는 것을 방지하기 위하여 기판이 일정한 방향을 유지하도록 해준다. 그 결과, 하류 러빙 장치(30b)에서는 상류 러빙 장치(30a)에서와 동일한 조건에서 기판에 배향홈을 형성한다.  Since the upstream rubbing device 30a and the downstream rubbing device 30b are made with the same equipment under the same process conditions, the intermediate alignment part 40 is installed. The intermediate alignment part 40 rotates the substrate while the substrate having the primary alignment groove formed by the upstream rubbing device 30a is transferred to the downstream rubbing device 30b by a substrate transfer device such as a robert arm. In order to prevent the rubbing angle from shifting up and down by the back and the like, the substrate is kept in a constant direction. As a result, in the downstream rubbing device 30b, the alignment grooves are formed in the substrate under the same conditions as in the upstream rubbing device 30a.

하류 정렬부(50)는 제1 및 제2 러빙 롤러(212a, 212b)에 의해 배향홈이 형성된 기판이 로버트 암(robert arm)과 같은 기판 이송 장치에 의해 후속 공정 라인으로 이동하는 과정에서 기판을 정렬시킨다. The downstream alignment unit 50 moves the substrate in the process of moving the substrate having the alignment grooves formed by the first and second rubbing rollers 212a and 212b to a subsequent process line by a substrate transfer device such as a Robert arm. Align it.

그러나, 이와 같은 구성을 갖는 종래 러빙 설비(100)는 상류 및 하류 러빙 장치를 동일한 장치를 사용하므로 상류 또는 하류 러빙 장치 중 어느 하나에라도 오류가 생긴 경우에는 전체 러빙 공정에 문제가 생기게 된다. 그 결과, 상류 및 하류 러빙 장치의 유지, 보수 등의 관리비용이 요구되는 문제점이 있다. However, the conventional rubbing facility 100 having such a configuration causes problems in the entire rubbing process when an error occurs in either the upstream or downstream rubbing device because the upstream and downstream rubbing devices use the same device. As a result, there is a problem that management costs such as maintenance and repair of upstream and downstream rubbing devices are required.

또한, 중간 정렬부(40)의 장비 설계상 마진(margin)으로 인하여 상류 러빙 장치(110)와 하류 러빙 장치(120)에서의 러빙 각도에 미세한 차이를 형성한다. 그러므로, 중간 정렬부(40) 등의 장비 설계상 미소한 오류가 있는 경우에도 러빙 불량이 발생하여 그 결과 액정 표시 장치에 잔상, 시야각 불량을 유발하고, 기판을 파손시킬 우려가 있다.In addition, due to the margin in the equipment design of the intermediate alignment unit 40, a slight difference is formed in the rubbing angle in the upstream rubbing device 110 and the downstream rubbing device 120. Therefore, even when there is a slight error in equipment design of the intermediate alignment unit 40 or the like, rubbing failure occurs, resulting in afterimages and poor viewing angles in the liquid crystal display, and there is a risk of damaging the substrate.

또한, 상류 및 하류에서 별도의 러빙이 이루어지므로 중간 반송 장비와 중간 정렬 유닛이 더 필요해진다. 중간 반송 장비와 중간 정렬 유닛의 추가에 따라 상류 및 하류 러빙 장치뿐만 아니라 중간 반송 장비와 중간 정렬 유닛의 소프트웨어적인 또는 하드웨어적인 고장 발생의 기회가 증가하고 그 결과 러빙 설비의 유지 보수에 더 많은 시간 및 비용 등이 소요된다. 또한, 러빙 설비 전체의 공정 라인의 길이가 길어지고, 러빙 설비 가격이 상승하며, 전체 러빙 시간이 길어지는 문제가 있다. In addition, separate rubbing takes place upstream and downstream, further requiring intermediate conveying equipment and an intermediate alignment unit. The addition of the intermediate conveying equipment and the intermediate sorting unit increases the chance of software or hardware failure of the intermediate conveying equipment and the intermediate sorting unit, as well as the upstream and downstream rubbing devices, resulting in more time and It costs money. In addition, there is a problem that the length of the process line of the entire rubbing facility becomes long, the rubbing facility price increases, and the overall rubbing time becomes long.

따라서, 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 전체 러빙 설비를 단순화하여 러빙 설비의 유지 및 관리 비용을 줄일 수 있는 러빙 설비를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention for solving the above conventional problems is to provide a rubbing facility that can reduce the maintenance and management costs of the rubbing facility by simplifying the entire rubbing facility.

또한, 본 발명의 목적은 2회의 러빙 공정을 연속적으로 진행할 경우 러빙 불량 발생 가능성을 줄일 수 있는 러빙 장치를 제공함에 있다. In addition, it is an object of the present invention to provide a rubbing device that can reduce the possibility of rubbing failure when two consecutive rubbing processes are carried out continuously.

이와 같은 본 발명의 목적을 구현하기 위한 러빙 설비는 기판이 안착되는 러빙 스테이지 및 러빙 장치를 포함한다. 러빙 장치는 i) 상기 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 상기 러빙 스테이지에 대하여 제1 수직 방향의 왕복 운동을 하는 제1 러빙 헤드, ii) 상기 제1 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러, iii) 상기 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 상기 러빙 스테이지에 대하여 제2 수직 방향의 왕복 운동을 하는 제2 러빙 헤드 및 iv) 상기 제2 러빙 헤드의 바닥면에 장착되어 상기 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 포 함한다. A rubbing device for realizing the object of the present invention includes a rubbing stage and a rubbing device on which a substrate is mounted. The rubbing device includes: i) a first rubbing head that reciprocates in a first vertical direction with respect to the rubbing stage to perform a rubbing process on the substrate, and ii) is positioned to face a bottom surface of the first rubbing head in a predetermined direction. A first rubbing roller for forming a first alignment groove in the substrate loaded on the rubbing stage while rotating in a rotational direction; and iii) performing a reciprocating motion in a second vertical direction with respect to the rubbing stage in order to proceed with a rubbing process on the substrate. A second rubbing head and iv) a second rubbing roller mounted on a bottom surface of the second rubbing head to form a second alignment groove in the substrate loaded on the rubbing stage while rotating in the predetermined direction.

또한, 본 발명의 목적을 구현하기 위한 러빙 설비는 기판이 안착되는 러빙 스테이지 및 러빙 장치를 포함하며, 러빙 장치는 i) 상기 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 상기 러빙 스테이지에 대하여 제1 수직 방향의 왕복 운동을 하는 러빙 헤드, ii) 상기 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러 및 iii) 상기 제1 러빙 롤러에 대향하도록 상기 러빙 헤드의 바닥면에 장착되어 상기 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 포함할 수 있다. In addition, the rubbing device for realizing the object of the present invention includes a rubbing stage and a rubbing device on which the substrate is seated, the rubbing device includes: i) a first vertical direction with respect to the rubbing stage in order to proceed with the rubbing process on the substrate; A rubbing head having a reciprocating motion, ii) a first rubbing roller positioned to face the bottom surface of the rubbing head and rotating in a predetermined direction so that a first alignment groove is formed in the substrate loaded on the rubbing stage; and iii) the It may include a second rubbing roller mounted on the bottom surface of the rubbing head to face the first rubbing roller to form a second alignment groove in the substrate loaded on the rubbing stage while rotating in the predetermined direction.

또한, 본 발명의 목적을 구현하기 위한 러빙 장치는 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 수직 방향의 왕복 운동을 하는 러빙 헤더와, 제1 지지대를 이용하여 상기 러빙 헤드와 연결되고 상기 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 러빙 스테이지에 로딩된 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러와, 제2 지지대를 이용하여 상기 러빙 헤드와 연결되고 상기 러빙 헤드의 바닥면 및 상기 제1 러빙 롤러에 대향하도록 위치하여 상기 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 포함한다.In addition, the rubbing device for realizing the object of the present invention is connected to the rubbing head using a rubbing header and a first support for performing a reciprocating motion in the vertical direction to proceed the rubbing process on the substrate and the bottom surface of the rubbing head A first rubbing roller which is positioned to face the first rotation groove so as to be formed in the substrate loaded on the rubbing stage while rotating in a predetermined direction, and connected to the rubbing head using a second support, and a bottom surface of the rubbing head; And a second rubbing roller positioned to face the first rubbing roller so as to form a second alignment groove in the substrate loaded on the rubbing stage while rotating in the predetermined direction.

또한, 본 발명의 목적을 구현하기 위한 러빙 장치는 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 제1 수직 방향의 왕복 운동을 하는 제1 러빙 헤더와, 제1 지지대를 이용하여 상기 제1 러빙 헤드와 연결되고 상기 제1 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도 록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러와, 상기 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 제2 수직 방향의 왕복 운동을 하는 제2 러빙 헤드와, 제2 지지대를 이용하여 상기 제2 러빙 헤드와 연결되고 상기 제2 러빙 헤드의 바닥면 및 상기 제1 러빙 롤러와 대향하도록 위치하여 상기 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 포함한다.
In addition, the rubbing device for realizing the object of the present invention is connected to the first rubbing head using a first rubbing header and a first support for performing a reciprocating motion in a first vertical direction to proceed with the rubbing process on the substrate and A first rubbing roller positioned to face the bottom surface of the first rubbing head to rotate in a predetermined direction so that a first alignment groove is formed on the substrate loaded on the rubbing stage, and to perform a rubbing process on the substrate A second rubbing head having a second reciprocating motion in a second vertical direction, the second rubbing head being connected to the second rubbing head using a second support, and positioned to face a bottom surface of the second rubbing head and the first rubbing roller; And a second rubbing roller which rotates in a direction to form a second alignment groove in the substrate loaded on the rubbing stage.

이하, 본 발명의 일실시예에 의한 배향홈 형성용 러빙 설비(200)의 보다 구체적인 실시예 및 실시예의 독특한 작용 및 효과를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the unique operation and effects of the more specific embodiment and the embodiment of the rubbing facility for forming the alignment groove according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 2회 러빙 공정을 수행하기 위한 단순화된 러빙 설비(200)를 개략적으로 나타낸 개념도이다. 2 is a conceptual diagram schematically illustrating a simplified rubbing facility 200 for performing a two times rubbing process according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 러빙 설비(200)는 러빙 스테이지(rubbing stage)(10), 러빙 장치(230) 및 정렬부(240)로 구성된다. 러빙 장치(230)는 제1 러빙 헤드(220a), 제1 러빙 롤러(212a) 및 제2 러빙 롤러(212b) 등으로 이루어진다. 즉, 본 발명의 제1 실시예에 따른 러빙 설비(200)는 종래의 러빙 설비에서 중간 정렬부를 제거한 것이다. Referring to FIG. 2, the rubbing device 200 according to the first embodiment of the present invention includes a rubbing stage 10, a rubbing device 230, and an alignment unit 240. The rubbing device 230 includes a first rubbing head 220a, a first rubbing roller 212a, a second rubbing roller 212b, and the like. That is, the rubbing facility 200 according to the first embodiment of the present invention is to remove the intermediate alignment portion in the conventional rubbing facility.

러빙 스테이지(10)는 도면에는 도시되지 않았지만, 예를 들어 스테이지 몸체, 로딩/언로딩 핀, 기판 고정용 진공홀 등으로 구성되며, 러빙하고자 하는 기판은 러빙 스테이지(10)에 안착된 후 제1 및 제2 러빙 롤러(212a, 212b)를 각각 거치 면서 기판에 배향홈이 형성된다. 여기서 기판은 예를 들어, 폴리이미드막이 형성되어 있는 상태의 C/F(color filter) 기판 또는 박막 트랜지스터(TFT) 기판이 될 수 있다. Although the rubbing stage 10 is not shown in the drawing, for example, the stage body, a loading / unloading pin, a substrate fixing vacuum hole, and the like, and the substrate to be rubbed is placed on the rubbing stage 10 after the first stage. And an alignment groove is formed in the substrate while passing through the second rubbing rollers 212a and 212b, respectively. The substrate may be, for example, a C / F (color filter) substrate or a thin film transistor (TFT) substrate in which a polyimide film is formed.

제1 러빙 롤러(212a)와 제2 러빙 롤러(212b)는 동일한 장치이므로 이하 제1 러빙 롤러(212a)에 대해서만 설명하고 제2 러빙 롤러(212b)에 대해서는 자세한 설명을 생략한다.Since the first rubbing roller 212a and the second rubbing roller 212b are the same apparatus, only the first rubbing roller 212a will be described below, and the detailed description of the second rubbing roller 212b will be omitted.

이와 같은 구성을 갖는 러빙 스테이지(10)의 위쪽에 제1 및 제2 러빙 롤러(212a, 212b)가 상호 평행하게 설치된다. The first and second rubbing rollers 212a and 212b are installed in parallel with each other above the rubbing stage 10 having the above configuration.

구체적으로, 제1 러빙 롤러(212a)의 외주면에 제1 러빙 섬유(218a)가 심어진 제1 러빙 천(216a)이 감겨지고, 제1 러빙 롤러(212a)는 제1 러빙 헤드(220a)의 하부에 제1 지지대(214a)를 통하여 장착된다. 제1 러빙 헤드(220a)는 제1 러빙 롤러(212a)를 상하로 왕복 운동시키는 롤러 왕복 운동 장치 및 롤러 회전 장치에 연결된다. 즉, 제1 러빙 헤드(220a)는 제1 러빙 롤러(212a)를 장착한 채 제1 러빙 롤러(212a)를 상하로 왕복 운동시키는 역할을 한다. Specifically, the first rubbing cloth 216a in which the first rubbing fiber 218a is planted is wound around the outer circumferential surface of the first rubbing roller 212a, and the first rubbing roller 212a is lower than the first rubbing head 220a. It is mounted through the first support 214a. The first rubbing head 220a is connected to a roller reciprocating device and a roller rotating device for reciprocating the first rubbing roller 212a up and down. That is, the first rubbing head 220a serves to reciprocate the first rubbing roller 212a up and down while the first rubbing roller 212a is mounted.

이와 같은 구성에 의하여 제1 러빙 롤러(212a)는 러빙 스테이지(10)의 상면에서 회전하면서 왕복 운동이 가능해진다. 이와 같은 구성을 갖는 제1 러빙 롤러(212a) 및 러빙 스테이지(10)의 사이에는 기판이 개재되어 제1 러빙 롤러(212a)와 기판의 마찰에 의하여 배향홈이 형성된다.By such a configuration, the first rubbing roller 212a is capable of reciprocating while rotating on the upper surface of the rubbing stage 10. A substrate is interposed between the first rubbing roller 212a and the rubbing stage 10 having such a configuration so that an alignment groove is formed by friction between the first rubbing roller 212a and the substrate.

상기 제1 실시예에 따른 러빙 설비(200)에서는 각각의 제1 러빙 롤러(212a)와 제2 러빙 롤러(212b)가 각각 독립적으로 동작이 가능하며, 필요에 따라 1개의 러빙 롤러만을 사용할 수도 있다.In the rubbing device 200 according to the first embodiment, each of the first rubbing roller 212a and the second rubbing roller 212b may operate independently, and only one rubbing roller may be used as necessary. .

정렬부(240)는 종래의 하류 정류부(50)와 유사한 기능을 수행한다. 즉, 정렬부(240)는 제1 및 제2 러빙 롤러(212a, 212b)에 의해 배향홈이 형성된 기판이 로버트 암(robert arm)과 같은 기판 이송 장치에 의해 후속 공정 라인으로 이동하는 과정에서 기판이 일정한 방향을 유지하도록 갖도록 해준다. Alignment 240 performs a function similar to conventional downstream rectifier 50. That is, the alignment unit 240 is a substrate in the process of moving the substrate formed with the alignment groove by the first and second rubbing rollers (212a, 212b) to a subsequent process line by a substrate transfer device such as robert arm (robert arm) To keep it in a constant direction.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 2회 러빙 공정을 수행하기 위한 단순화된 러빙 설비를 개략적으로 나타낸 개념도이다. 3 is a conceptual diagram schematically illustrating a simplified rubbing facility for performing a two times rubbing process according to a second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 러빙 설비(300)는 러빙 스테이지(rubbing stage)(10), 러빙 장치(330) 및 정렬부(340)로 구성된다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 러빙 장치(330)는 1개의 러빙 헤드(320)와 제1 및 제2 러빙 롤러(312a, 312b) 등으로 구성된다. 즉, 본 발명의 제2 실시예에 따른 러빙 설비(300)는 1개의 러빙 헤드를 사용한다는 점이 제1 실시예에 따른 러빙 설비(200)와의 차이점이다. Referring to FIG. 3, the rubbing device 300 according to the second embodiment of the present invention includes a rubbing stage 10, a rubbing device 330, and an alignment unit 340. The rubbing device 330 according to the second embodiment of the present invention includes one rubbing head 320 and first and second rubbing rollers 312a and 312b. In other words, the rubbing device 300 according to the second embodiment of the present invention is different from the rubbing device 200 according to the first embodiment in that one rubbing head is used.

러빙하고자 하는 기판은 러빙 스테이지(10)에 안착된 후 제1 및 제2 러빙 롤러(312a, 312b)를 각각 거치면서 기판에 배향홈이 형성된다. 제1 러빙 롤러(312a)와 제2 러빙 롤러(312b)는 동일한 구성요소로 이루어진 동일한 장치이므로 이하 제1 러빙 롤러(312a)에 대해서만 설명하고 제2 러빙 롤러(312b)에 대해서는 자세한 설명을 생략한다.After the substrate to be rubbed is seated on the rubbing stage 10, an alignment groove is formed in the substrate while passing through the first and second rubbing rollers 312a and 312b, respectively. Since the first rubbing roller 312a and the second rubbing roller 312b are the same device made of the same components, only the first rubbing roller 312a will be described below, and the detailed description of the second rubbing roller 312b will be omitted. .

러빙 스테이지(10)의 위쪽에 제1 및 제2 러빙 롤러(312a, 312b)가 러빙 헤드(320)의 하부면에 상호 평행하게 장착된다. 즉, 제1 러빙 롤러(312a)와 제2 러 빙 롤러(312b)는 상호 이격된 상태에서 러빙 헤드(320)의 하부면에 서로 평행하게 배치된다. First and second rubbing rollers 312a and 312b are mounted on the lower surface of the rubbing head 320 in parallel with each other above the rubbing stage 10. That is, the first rubbing roller 312a and the second rubbing roller 312b are disposed parallel to each other on the lower surface of the rubbing head 320 in a state of being spaced apart from each other.

구체적으로, 제1 러빙 롤러(312a)의 외주면에 제1 러빙 섬유(318a)가 심어진 제1 러빙 천(316a)이 감겨진 상태에서 제1 러빙 롤러(312a)는 러빙 헤드(320)의 하부에 제1 지지대(314a)를 통하여 장착된다. 러빙 헤드(320)는 제1 러빙 롤러(312a)를 상하로 왕복 운동시키는 롤러 왕복 운동 장치 및 롤러 회전 장치에 연결된다. 즉, 러빙 헤드(320)는 제1 러빙 롤러(312a)를 장착한 채 제1 러빙 롤러(312a)를 상하로 왕복 운동시키는 역할을 한다. Specifically, in a state in which the first rubbing cloth 316a in which the first rubbing fiber 318a is planted is wound on the outer circumferential surface of the first rubbing roller 312a, the first rubbing roller 312a is located below the rubbing head 320. It is mounted through the first support 314a. The rubbing head 320 is connected to a roller reciprocating device and a roller rotating device for reciprocating the first rubbing roller 312a up and down. That is, the rubbing head 320 serves to reciprocate the first rubbing roller 312a up and down while the first rubbing roller 312a is mounted.

이와 같은 구성에 의하여 제1 러빙 롤러(312a)는 러빙 스테이지(10)의 상면에서 회전하면서 왕복 운동이 가능해진다. 이와 같은 구성을 갖는 제1 러빙 롤러(312a) 및 러빙 스테이지(10)의 사이에는 기판이 개재되어 제1 러빙 롤러(312a)와 기판의 마찰에 의하여 배향홈이 형성된다. By such a configuration, the first rubbing roller 312a can be reciprocated while rotating on the upper surface of the rubbing stage 10. A substrate is interposed between the first rubbing roller 312a and the rubbing stage 10 having such a configuration so that an alignment groove is formed by friction between the first rubbing roller 312a and the substrate.

상기 제2 실시예에 따른 러빙 설비(200)에서는 각각의 제1 러빙 롤러(312a)와 제2 러빙 롤러(312b)가 상호 연동하여 동시에 하강하면서 러빙이 이루어지며, 필요에 따라 1개의 러빙 롤러만을 러빙 헤드에 부착하여 1회 러빙 방법에도 사용할 수도 있다.In the rubbing device 200 according to the second embodiment, the rubbing is performed while the first rubbing rollers 312a and the second rubbing rollers 312b interlock with each other simultaneously, and only one rubbing roller is needed as needed. It can also be attached to the rubbing head and used for a single rubbing method.

정렬부(340)는 도 2의 정렬부(240)와 동일한 기능을 수행한다. The alignment unit 340 performs the same function as the alignment unit 240 of FIG. 2.

본 발명에서는 종래의 중간 정렬부(40) 및 하류 러빙 공정을 제거한 채로 2회 러빙 방법을 수행한다. 그 결과, 러빙 스테이지에 흡착된 기판이 2개의 롤러를 연속적으로 거치므로 종래의 상류 러빙 장치와 하류 러빙 장치를 사용할 경우 상류 러빙 장치에서의 러빙 각도와 하류 러빙 장치에서의 러빙 각도가 서로 상이하게되는 현상을 방지할 수 있다. In the present invention, the rubbing method is performed twice while removing the conventional intermediate alignment unit 40 and the downstream rubbing process. As a result, since the substrate adsorbed on the rubbing stage passes through the two rollers continuously, when the conventional upstream rubbing device and the downstream rubbing device are used, the rubbing angle in the upstream rubbing device and the rubbing angle in the downstream rubbing device are different from each other. The phenomenon can be prevented.

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 본 발명에서는 종래의 상류 및 하류 러빙 장치를 가지고 2회 러빙을 실시하는 러빙 설비에 있어서 기판을 일정한 방향으로 유지하기 위한 중간 정렬부 및 하류 러빙 공정을 제거한 단순화된 러빙 장치를 사용하여 2회 러빙 공정을 수행한다. As described in detail above, in the present invention, a rubbing device having a conventional upstream and downstream rubbing device, which performs two rubbings, removes the intermediate alignment portion and the downstream rubbing process for maintaining the substrate in a constant direction. The device is used to perform two rubbing processes.

러빙 스테이지에 흡착된 기판이 2개의 롤러를 연속적으로 거치므로 2번의 러빙을 할 경우 발생할 수 있는 러빙 각도의 어긋남을 방지하고 러빙 불량이 발생하는 것을 방지함으로써 액정 표시 장치에 잔상, 시야각 불량이 발생하는 것을 막을 수 있는 효과가 있다. Since the substrate adsorbed on the rubbing stage passes through two rollers in succession, the afterimage and viewing angle defects occur in the liquid crystal display by preventing misalignment of the rubbing angle that may occur when two rubbings are performed and preventing rubbing defects from occurring. There is an effect that can be prevented.

또한, 전체 러빙 설비를 단순화함으로써 러빙 설비의 유지, 보수 및 관리에 따른 비용 및 시간을 줄일 수 있는 효과가 있다. In addition, it is possible to reduce the cost and time due to the maintenance, maintenance and management of the rubbing facility by simplifying the entire rubbing facility.

Claims (6)

기판이 안착되는 러빙 스테이지; 및A rubbing stage on which the substrate is seated; And i) 상기 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 상기 러빙 스테이지에 대하여 수직 방향으로 왕복 운동을 하는 제1 러빙 헤드, ii) 상기 제1 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러, iii) 상기 제1 러빙 헤드와 연동하여 작동하며, 상기 러빙 스테이지에 대하여 상기 수직 방향의 왕복 운동을 하는 제2 러빙 헤드 및 iv) 상기 제2 러빙 헤드의 바닥면에 장착되어 상기 제1 러빙 롤러의 회전 방향과 동일한 방향으로 회전하면서 상기 제1 배향홈 위에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 가지는 러빙 장치를 포함하는 러빙 설비.i) a first rubbing head reciprocating in a vertical direction with respect to the rubbing stage in order to perform a rubbing process on the substrate, ii) the rubbing while being positioned to face the bottom surface of the first rubbing head and rotating in a predetermined direction A first rubbing roller for forming a first alignment groove in the substrate loaded on the stage; iii) a second rubbing head which operates in conjunction with the first rubbing head and performs a reciprocating motion in the vertical direction with respect to the rubbing stage And iv) a rubbing device mounted on a bottom surface of the second rubbing head, the second rubbing roller having a second alignment groove formed on the first alignment groove while rotating in the same direction as the rotation direction of the first rubbing roller. Rubbing equipment comprising a. 삭제delete 기판이 안착되는 러빙 스테이지; 및A rubbing stage on which the substrate is seated; And i) 상기 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 상기 러빙 스테이지에 대하여 수직 방향의 왕복 운동을 하는 러빙 헤드, ii) 상기 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 상기 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러 및 iii) 상기 제1 러빙 롤러와 이격된 상태로 상기 러빙 헤드의 바닥면에 장착되어 상기 제1 러빙 롤러와 동일한 방향으로 회전하면서 상기 제1 배향홈 위에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 가지는 러빙 장치를 포함하는 러빙 설비.i) a rubbing head which performs a reciprocating motion in a vertical direction with respect to the rubbing stage in order to proceed with the rubbing process on the substrate, and ii) the rubbing head which is positioned to face the bottom surface of the rubbing head and is rotated in a predetermined direction, A first rubbing roller for forming a first alignment groove in the substrate; and iii) a first rubbing roller mounted on a bottom surface of the rubbing head while being spaced apart from the first rubbing roller, and rotating in the same direction as the first rubbing roller. A rubbing device comprising a rubbing device having a second rubbing roller that allows a first alignment groove to be formed over the first alignment groove. 삭제delete 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 수직 방향의 왕복 운동을 하는 러빙 헤드; A rubbing head that performs a reciprocating motion in a vertical direction to advance a rubbing process on a substrate; 제1 지지대를 이용하여 상기 러빙 헤드와 연결되고 상기 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 러빙 스테이지에 로딩된 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러; 및A first rubbing roller connected to the rubbing head using a first support and positioned to face the bottom surface of the rubbing head to rotate in a predetermined direction so that a first alignment groove is formed in the substrate loaded on the rubbing stage; And 제2 지지대를 이용하여 상기 러빙 헤드와 연결되고, 상기 제1 러빙 롤러와 이격된 상태로 상기 러빙 헤드의 바닥면에 위치하여 상기 제1 러빙 롤러와 동일한 방향으로 회전하면서 상기 제1 배향홈 위에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 포함하는 러빙 장치.A second supporter connected to the rubbing head and positioned on the bottom surface of the rubbing head while being spaced apart from the first rubbing roller to rotate in the same direction as the first rubbing roller, 2. A rubbing device including a second rubbing roller to allow an alignment groove to be formed. 기판에 러빙 공정을 진행하기 위하여 수직 방향의 왕복 운동을 하는 제1 러빙 헤드; A first rubbing head that performs a reciprocating motion in a vertical direction to perform a rubbing process on a substrate; 제1 지지대를 이용하여 상기 제1 러빙 헤드와 연결되고 상기 제1 러빙 헤드의 바닥면에 대향하도록 위치하여 소정 방향으로 회전하면서 러빙 스테이지에 로딩된 상기 기판에 제1 배향홈이 형성되도록 하는 제1 러빙 롤러;A first alignment groove which is connected to the first rubbing head using a first support and is positioned to face the bottom surface of the first rubbing head so that a first alignment groove is formed in the substrate loaded on the rubbing stage while rotating in a predetermined direction; Rubbing rollers; 상기 제1 러빙 헤드와 연동하여 작동하며, 상기 수직 방향의 왕복 운동을 하는 제2 러빙 헤드; 및A second rubbing head operating in association with the first rubbing head and performing reciprocating motion in the vertical direction; And 제2 지지대를 이용하여 상기 제2 러빙 헤드와 연결되고, 상기 러빙 헤드의 바닥면에 위치하여 상기 제1 러빙 롤러와 동일한 방향으로 회전하면서 상기 제1 배향홈 위에 제2 배향홈이 형성되도록 하는 제2 러빙 롤러를 포함하는 러빙 장치.A second alignment groove which is connected to the second rubbing head using a second support and is positioned on the bottom surface of the rubbing head so that a second alignment groove is formed on the first alignment groove while rotating in the same direction as the first rubbing roller; 2 A rubbing device including a rubbing roller.
KR1020020050565A 2002-08-26 2002-08-26 Simplified rubbing facility and rubbing device for two rubbing processes Expired - Fee Related KR100869116B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020050565A KR100869116B1 (en) 2002-08-26 2002-08-26 Simplified rubbing facility and rubbing device for two rubbing processes

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020050565A KR100869116B1 (en) 2002-08-26 2002-08-26 Simplified rubbing facility and rubbing device for two rubbing processes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040018657A KR20040018657A (en) 2004-03-04
KR100869116B1 true KR100869116B1 (en) 2008-11-17

Family

ID=37323875

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020050565A Expired - Fee Related KR100869116B1 (en) 2002-08-26 2002-08-26 Simplified rubbing facility and rubbing device for two rubbing processes

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100869116B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101320497B1 (en) * 2006-12-26 2013-10-22 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus for rubbing and method thereof

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05142542A (en) * 1991-11-20 1993-06-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Rubbing orientation treatment of liquid crystal display element
JPH05210101A (en) * 1992-01-31 1993-08-20 Canon Inc Production of ferroelectric liquid crystal element
JPH05313168A (en) * 1992-05-13 1993-11-26 Canon Inc Device for rubbing and method therefor
JPH07120763A (en) * 1993-10-22 1995-05-12 Sintokogio Ltd Rubbing device for oriented film of liquid crystal display element
JP2000019520A (en) * 1998-06-26 2000-01-21 Alps Electric Co Ltd Rubbing device
KR20000014703A (en) * 1998-08-24 2000-03-15 김영환 Liquid crystal orientation device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05142542A (en) * 1991-11-20 1993-06-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Rubbing orientation treatment of liquid crystal display element
JPH05210101A (en) * 1992-01-31 1993-08-20 Canon Inc Production of ferroelectric liquid crystal element
JPH05313168A (en) * 1992-05-13 1993-11-26 Canon Inc Device for rubbing and method therefor
JPH07120763A (en) * 1993-10-22 1995-05-12 Sintokogio Ltd Rubbing device for oriented film of liquid crystal display element
JP2000019520A (en) * 1998-06-26 2000-01-21 Alps Electric Co Ltd Rubbing device
KR20000014703A (en) * 1998-08-24 2000-03-15 김영환 Liquid crystal orientation device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040018657A (en) 2004-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20100203793A1 (en) Method and apparatus of forming alignment layer for liquid crystal display device
US20090294386A1 (en) Roll stocker and method for fabricating liquid crystal display device using the same
KR101376657B1 (en) Rubbing method and method of fabricating liquid crystal display device using the same
US7929092B2 (en) Roll printing device, rolling printing method and method for manufacturing liquid crystal display device using the same
KR100869116B1 (en) Simplified rubbing facility and rubbing device for two rubbing processes
JPH0973087A (en) Orientation treating device of substrate for liquid crystal display element and rubbing cloth as well as liquid crystal display element
CN102455547B (en) Rubbing device
KR100939612B1 (en) Rubbing device of alignment film
US20110292332A1 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device
US7528925B2 (en) Roll printing device, roll printing method, and method of fabricating liquid crystal display device using the same
US7932977B2 (en) Roll stocker and method for fabricating liquid crystal display device using the same
JP2002287151A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
KR101103811B1 (en) Rotary Display Panel Cleaner
KR101427011B1 (en) Device for rubbing liquid crystal display
TW201323941A (en) Method for producing pattern phase difference film
EP1701205B1 (en) Method of forming alignment layer for liquid crystal display and liquid crystal display fabricated using the same
JP2009156926A (en) Optical film
US8717522B2 (en) Method for fabricating liquid crystal display panel using the same
KR100245052B1 (en) Liquid crystal display alignment layer and method of processing alignment
KR101189148B1 (en) Rubbing device of an alignment layer for liquid crystal display device
JPH09105939A (en) Formation of oriented film of liquid crystal display element and apparatus therefor
US9268174B2 (en) Rubbing device and rubbing method
KR20030019664A (en) Aparatus for rubbing for liquid crystal display
KR20000021353A (en) Method for orientating liquid crystal
JPH04285913A (en) Formation of liquid crystal oriented film

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20020826

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20070705

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20020826

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20080428

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20081031

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20081111

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20081112

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20111017

Start annual number: 4

End annual number: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121015

Year of fee payment: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20121015

Start annual number: 5

End annual number: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131031

Year of fee payment: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20131031

Start annual number: 6

End annual number: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141030

Year of fee payment: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20141030

Start annual number: 7

End annual number: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151030

Year of fee payment: 8

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20151030

Start annual number: 8

End annual number: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee

Termination category: Default of registration fee

Termination date: 20170821