[go: up one dir, main page]

KR100855070B1 - Roll patterning device - Google Patents

Roll patterning device Download PDF

Info

Publication number
KR100855070B1
KR100855070B1 KR1020080026948A KR20080026948A KR100855070B1 KR 100855070 B1 KR100855070 B1 KR 100855070B1 KR 1020080026948 A KR1020080026948 A KR 1020080026948A KR 20080026948 A KR20080026948 A KR 20080026948A KR 100855070 B1 KR100855070 B1 KR 100855070B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
roll
stage
axis
mask
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR1020080026948A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
변창완
신관우
김용태
박성언
Original Assignee
주식회사 디씨엔
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 디씨엔 filed Critical 주식회사 디씨엔
Priority to KR1020080026948A priority Critical patent/KR100855070B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100855070B1 publication Critical patent/KR100855070B1/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

A roll patterning apparatus is provided to align correctly a roll and a mask by moving a supporting plate including the mask and a light source lamp to a stage. A roll(100) as a patterning target is loaded into a chuck(10). A roll motor(20) is formed to rotate the roll. A supporting plate(30) is formed at one side of the roll to support a mask(200). A light source lamp(300) is installed at the supporting plate. The light source lamp is installed at an opposite side of the roll on the basis of the mask. A stage(40) is formed to move the mask in x, y, and z axis directions with respect to the roll. The chuck includes a first and second chucks(11,12) which are positioned at both ends of a longitudinal direction of the roll.

Description

롤 패터닝 장치 {ROLL PATTERING DEVICE}Roll Patterning Device {ROLL PATTERING DEVICE}

본 발명은 롤 패터닝 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 복수의 롤들을 교체하여 반복적으로 패터닝 하는 경우, 롤들의 곡면을 동일하게 패터닝하는 롤 패터닝 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a roll patterning apparatus, and more particularly, to a roll patterning apparatus for patterning the curved surface of the rolls in the case of repeatedly patterning by replacing a plurality of rolls.

리소그래피(lithography) 방법은 반도체 기판을 패터닝하는 방법이다. 리소그래피 방법은 집적회로의 미세 패턴을 형성하는 기술이다.Lithography is a method of patterning a semiconductor substrate. Lithographic methods are techniques for forming fine patterns in integrated circuits.

예를 들면, 리소그래피 방법은 빛을 이용한 포토리소그래피 방법, 전자빔을 이용한 전자빔 리소그래피 방법, 및 X-선을 이용한 X선 리소그래피 방법으로 분류된다.For example, lithography methods are classified into photolithography methods using light, electron beam lithography methods using electron beams, and X-ray lithography methods using X-rays.

포토리소그래피 방법은 자외선을 노광원으로 이용하며, 선택적으로 자외선을 투과시키는 포토 마스크를 사용한다.The photolithography method uses ultraviolet light as an exposure source and optionally uses a photo mask that transmits ultraviolet light.

포토리소그래피 방법은 감광액을 기판에 도포하여 감광막을 형성하는 공정, 패턴이 그려진 마스크(mask)에 자외선을 통과시켜 감광막을 노광하는 공정, 및 감광막 중에서 노광된 부분을 현상(development)하는 공정을 포함한다.The photolithography method includes a process of forming a photoresist film by applying a photoresist to a substrate, exposing the photoresist film by passing ultraviolet rays through a mask on which a pattern is drawn, and developing a exposed portion of the photoresist film. .

패턴 형성의 대상이 되는 기판은 웨이퍼 또는 LCD 글래스와 같은 평면으로 형성된다. 따라서 종래의 노광장치는 평면 기판을 노광하도록 구성되고, 곡면을 패터닝 하는데 적절하지 못하였다.The substrate targeted for pattern formation is formed in a plane such as a wafer or LCD glass. Therefore, the conventional exposure apparatus is configured to expose a planar substrate and was not suitable for patterning curved surfaces.

그러나 최근 기술 동향은 유연한(flexible) 기판을 패터닝하거나, 대량 생산을 위한 롤 투 롤(roll-to-roll) 연속 공정으로 인쇄한다. 이로 인하여, 곡면에 미세 패턴을 형성한 롤이 필요하고, 롤의 곡면을 패터닝하는 장치가 요구된다.Recent technological trends, however, are printing patterned flexible substrates or printing in roll-to-roll continuous processes for mass production. For this reason, the roll which formed the fine pattern in the curved surface is needed, and the apparatus which patterns the curved surface of a roll is calculated | required.

종래의 노광장치는 마스크와 기판 사이에 좁은 간격을 형성하므로 마스크 아래에 평면 기판의 두께보다 큰 직경의 곡면을 가지는 롤의 장착을 어렵게 한다. 또한 마스크 아래에 롤을 장착하더라도 롤이 고정되어 있으므로, 롤의 일부만이 패터닝 된다.The conventional exposure apparatus forms a narrow gap between the mask and the substrate, making it difficult to mount a roll having a curved surface with a diameter larger than the thickness of the planar substrate under the mask. In addition, since a roll is fixed even if a roll is mounted under a mask, only a part of roll is patterned.

또한, 롤을 장착하여 수동으로 회전시키는 경우, 롤의 회전 속도의 불균일로 인하여, 롤의 곡면이 불균일하게 패터닝된다. 우연히 하나의 롤을 균일하게 패터닝했다고 하더라도 복수의 롤들을 교체하면서 반복적으로 패터닝하는 경우, 복수 롤들의 곡면들이 동일하게 패터닝되지 않는다.In addition, when the roll is mounted and manually rotated, the curved surface of the roll is unevenly patterned due to the nonuniformity of the rotational speed of the roll. Even if accidentally patterning one roll uniformly, when repeatedly patterning while replacing the plurality of rolls, curved surfaces of the plurality of rolls are not patterned identically.

본 발명은 복수의 롤들을 교체하여 반복적으로 패터닝 하는 경우, 롤들의 곡면을 동일하게 패터닝하는 롤 패터닝 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a roll patterning device for patterning the curved surface of the rolls in the case of repeatedly patterning by replacing a plurality of rolls.

본 발명의 일 실시예에 따른 롤 패터닝 장치는, 패터닝 대상 롤을 장착하는 연동척, 상기 롤을 회전시키는 롤 모터, 상기 롤의 일측에서 마스크를 지지하고, 상기 마스크를 기준으로 상기 롤의 반대측에 제공되는 광원 램프를 장착하는 지지대, 및 상기 롤에 대하여 상기 마스크를 x, y, z축 방향으로 이동시키는 스테이지를 포함할 수 있다.Roll patterning device according to an embodiment of the present invention, the interlocking chuck for mounting the patterning target roll, the roll motor for rotating the roll, support the mask on one side of the roll, on the opposite side of the roll on the basis of the mask It may include a support for mounting the light source lamp provided, and a stage for moving the mask in the x, y, z-axis direction with respect to the roll.

상기 연동척은 상기 롤의 길이 방향 양단에 제공되어 상기 롤의 양단을 잡아주는 제1 연동척과 제2 연동척을 포함할 수 있다.The linkage chuck may include a first linkage chuck and a second linkage chuck provided at both ends of the roll in the longitudinal direction to hold both ends of the roll.

상기 지지대는 상기 광원 램프의 자외선을 상기 마스크로 통과시키면서 상기 마스크를 지지하도록 중앙에 관통부를 형성하는 제1 지지부재와, 상기 제1 지지부재를 지지하면서 상기 광원 램프를 장착하는 제2 지지부재를 포함할 수 있다.The support may include a first support member forming a through portion at a center thereof to support the mask while passing ultraviolet rays of the light source lamp through the mask, and a second support member for mounting the light source lamp while supporting the first support member. It may include.

상기 제1 지지부재와 상기 제2 지지부재는, 상기 제2 지지부재 상에서 상기 제1 지지부재를 상기 y축 방향으로 이동시키는 슬라이드 레일로 결합될 수 있다.The first support member and the second support member may be coupled to a slide rail for moving the first support member in the y-axis direction on the second support member.

상기 제2 지지부재는 상기 마스크를 향하여 자외선을 조사하는 상기 광원 램프를 장착하는 램프 가이드를 구비할 수 있다.The second support member may include a lamp guide for mounting the light source lamp for irradiating ultraviolet rays toward the mask.

상기 지지대는 상기 롤과 상기 마스크의 얼라인을 확인하는 비전 카메라를 구비할 수 있다.The support may include a vision camera to check the alignment of the roll and the mask.

상기 스테이지는 상기 지지대에 연결되어 상기 지지대를 상기 z축 방향으로 승강시키는 z스테이지, 상기 z스테이지에 연결되어 상기 z스테이지를 상기 x축 방향으로 이동시키는 x스테이지, 및 상기 x스테이지에 연결되어 상기 x스테이지를 상기 y축 방향으로 이동시키는 y스테이지를 포함할 수 있다.The stage is connected to the support and the z stage for elevating the support in the z-axis direction, the x stage is connected to the z stage to move the z stage in the x-axis direction, and the x stage is connected to the x It may include a y stage for moving the stage in the y-axis direction.

상기 z스테이지는, 상기 x스테이지 상에 상기 z축 방향으로 설치되는 제1 z축부재, 상기 제1 z축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 z축부재, 상기 제1 z축 부재에 z나선홈에 결합되는 z리드 스크류, 및 상기 z리드 스크류를 구동시키는 z모터를 포함할 수 있다.The z stage is a first z-axis member installed on the x stage in the z-axis direction, a second z-axis member coupled to the first z-axis member by a slide rail, and a z spiral on the first z-axis member. A z lead screw coupled to the groove, and a z motor for driving the z lead screw.

상기 x스테이지는, 상기 z스테이지와 y스테이지 사이에서 상기 x축 방향으로 설치되는 제1 x축부재, 상기 제1 x축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 x축부재, 상기 제1 x축부재에 x나선홈에 결합되는 x리드 스크류, 및 상기 x리드 스크류를 구동시키는 x모터를 포함할 수 있다.The x stage, the first x-axis member installed in the x-axis direction between the z stage and the y stage, the second x-axis member coupled to the first x-axis member by a slide rail, the first x-axis member An x lead screw coupled to the x helix groove, and the x motor for driving the x lead screw.

상기 y스테이지는, 상기 x스테이지 하에 상기 y축 방향으로 설치되는 제1 y축부재, 상기 제1 y축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 y축부재, 상기 제1 y축부재에 y나선홈에 결합되는 y리드 스크류, 및 상기 y리드 스크류를 구동시키는 y모터를 포함할 수 있다.The y stage is a first y-axis member installed in the y-axis direction under the x stage, a second y-axis member coupled to the first y-axis member by a slide rail, and a y spiral groove in the first y-axis member. It may include a y lead screw coupled to, and a y motor for driving the y lead screw.

상기 제2 x축부재와 상기 제1 y축부재는 일체로 형성되거나 일체로 결합될 수 있다.The second x-axis member and the first y-axis member may be integrally formed or integrally coupled.

상기 마스크는 상기 롤 아래에 설치될 수 있다. 상기 지지대는 상기 마스크 아래에 설치되고, 상기 스테이지는 상기 지지대 아래에 설치될 수 있다.The mask may be installed under the roll. The support may be installed under the mask, and the stage may be installed under the support.

이와 같이 본 발명의 일 실시예에 의하면, 패터닝 대상 롤을 연동척으로 장착하여 롤 모터로 회전시키면서, 마스크 및 광원 램프를 장착한 지지대를 스테이지로 이동시키므로, 롤과 마스크를 얼라인을 정확하게 하고, 또한 롤들을 교체하면서 반복적으로 패터닝 하는 경우에도, 복수 롤들의 곡면을 동일하게 패터닝하는 효과가 있다.As described above, according to one embodiment of the present invention, since the support on which the mask and the light source lamp are mounted is moved to the stage while the roll to be patterned is mounted by the interlocking chuck and rotated by the roll motor, the roll and the mask are aligned correctly. In addition, even in the case of repeatedly patterning while replacing the rolls, there is an effect of equally patterning the curved surface of the plurality of rolls.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 롤 패터닝 장치의 분해 사시도이고, 도2는 도1의 롤 패터닝 장치의 단면도이다.1 is an exploded perspective view of a roll patterning device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of the roll patterning device of FIG.

도1 및 도2를 참조하면, 롤 패터닝 장치는 롤(100)의 곡면에 마스크(200)의 패턴을 전사할 수 있고, 또한 복수의 롤들(100)을 반복적으로 패터닝하는 경우에도 각 롤(100)의 곡면에 패턴을 동일하게 형성할 수 있도록 구성된다.1 and 2, the roll patterning apparatus may transfer the pattern of the mask 200 to the curved surface of the roll 100, and also in case of repeatedly patterning the plurality of rolls 100, each roll 100. It is configured to form the pattern on the curved surface of the same).

예를 들면, 일 실시예에 따른 롤 패터닝 장치는 연동척(10)과 롤 모터(20)와 광원 램프(300)와 지지대(30) 및 스테이지(40)를 포함한다. 연동척(10)은 패터닝 대상의 곡면을 가지는 롤(100)을 장착하여 회전시키며, 회전되는 롤(100)의 센터링을 용이하게 한다.For example, the roll patterning apparatus according to the embodiment includes a linkage chuck 10, a roll motor 20, a light source lamp 300, a support 30, and a stage 40. The interlock chuck 10 mounts and rotates a roll 100 having a curved surface to be patterned, and facilitates centering of the roll 100 to be rotated.

롤(100)은 직경과 길이를 가지며, 연동척(10)에 장착되어, 연동척(10)과 함께 회전할 때, 일단에서 처짐이 방지되어야 정밀한 패터닝이 가능하다. 이를 위하여, 연동척(10)은 서로 마주하여 배치되는 제1 연동척(11)과 제2 연동척(12)으로 형성된다.The roll 100 has a diameter and a length, and is mounted to the interlock chuck 10, and when rotating together with the interlock chuck 10, sagging at one end is prevented to enable precise patterning. To this end, the interlock chuck 10 is formed of a first interlock chuck 11 and a second interlock chuck 12 disposed to face each other.

제1 연동척(11)과 제2 연동척(12)은 롤(100)의 길이 방향 양단에 제공되어, 롤(100)의 양단을 각각 잡아주고, 롤(100)과 함께 회전한다.The first linkage chuck 11 and the second linkage chuck 12 are provided at both ends of the length direction of the roll 100 to hold both ends of the roll 100, respectively, and rotate together with the roll 100.

롤 모터(20)는 롤(100)의 일측에 제공되어 제1 연동척(11) 및 제2 연동척(12) 중 하나에 연결되고, 연결된 연동척(100)을 회전시킨다. 본 실시예에서 롤 모터(20)는 제1 연동척(11)에 연결되어, 제1 연동척(11)을 회전시킨다. 롤 모터(20)의 구동에 따라 제1 연동척(11)과 제2 연동척(12) 및 이들에 장착되는 롤(100)이 일체로 회전한다.The roll motor 20 is provided on one side of the roll 100 and is connected to one of the first interlock chuck 11 and the second interlock chuck 12, and rotates the linked interlock chuck 100. In this embodiment, the roll motor 20 is connected to the first link chuck 11 to rotate the first link chuck 11. As the roll motor 20 is driven, the first link chuck 11, the second link chuck 12, and the rolls 100 mounted thereon rotate integrally.

제1 연동척(11)과 제2 연동척(12)은 별도로 구비되는 프레임(미도시)에 회전 가능하게 장착되고, 또한 롤 모터(20)는 제1 연동척(11)을 회전시킬 수 있도록 프레임에 장착된다.The first interlocking chuck 11 and the second interlocking chuck 12 are rotatably mounted to a frame (not shown) provided separately, and the roll motor 20 can rotate the first interlocking chuck 11. It is mounted on the frame.

마스크(200) 및 광원 램프(300)는 롤(100)의 위 아래 또는 앞뒤에 설치될 수 있으나, 본 실시예에서는 롤(100)의 아래에 설치되어 있다.The mask 200 and the light source lamp 300 may be installed above, below, or before and after the roll 100, but in the present embodiment, the mask 200 and the light source lamp 300 may be installed below the roll 100.

따라서 마스크(200) 및 광원 램프(300)를 지지하는 지지대(30)는 마스크(200) 아래에 설치되고, 지지대(30)를 이동시키는 스테이지(40)는 지지대(30) 아래에 설치된다.Therefore, the support 30 for supporting the mask 200 and the light source lamp 300 is installed under the mask 200, and the stage 40 for moving the support 30 is installed under the support 30.

상하 방향으로 설치되는 구조, 즉 마스크(200)와 광원 램프(300) 및 이들을 지지하고 이동시키는 지지대(30)와 스테이지(40)가 패터닝 대상 롤(100)의 아래에 설치됨에 따라, 롤 패터닝 장치에서 전체적인 진동이 줄어들고, 안정된 구조가 형성될 수 있다.The roll patterning apparatus is installed in the vertical direction, that is, the mask 200 and the light source lamp 300 and the support 30 and the stage 40 for supporting and moving the mask 200 are installed under the patterning target roll 100. In the overall vibration is reduced, a stable structure can be formed.

지지대(30)는 롤(100)의 아래에 롤(100)과 나란하게 설치되며, 롤(100) 아래 에 근접하여 제공되는 마스크(200)를 지지한다. 또한 지지대(30)는 마스크(200)를 기준으로 롤(100)의 반대측에 제공되는 광원 램프(300)를 장착한다.The support 30 is installed parallel to the roll 100 under the roll 100, and supports the mask 200 provided in close proximity to the bottom of the roll 100. In addition, the support 30 mounts the light source lamp 300 provided on the opposite side of the roll 100 based on the mask 200.

따라서 광원 램프(300)에서 조사되는 자외선은 마스크(200)의 패턴을 통하여 롤(100)에 조사되어, 롤(100)의 곡면을 마스크(200) 패턴과 동일한 패턴으로 노광한다.Therefore, the ultraviolet rays emitted from the light source lamp 300 are irradiated onto the roll 100 through the pattern of the mask 200 to expose the curved surface of the roll 100 in the same pattern as the mask 200 pattern.

예를 들면, 지지대(30)는 마스크(200)에 대응하여 마스크(200)를 지지하는 제1 지지부재(31)와, 광원 램프(300)에 대응하여 광원 랜프(300)를 지지하는 제2 지지부재(32)로 구성된다.For example, the support 30 may include a first support member 31 for supporting the mask 200 in response to the mask 200, and a second support for the light source lamp 300 in response to the light source lamp 300. It is composed of a support member (32).

제1 지지부재(31)는 마스크(200)를 지지하도록 중앙에 관통부(31a)를 형성한다. 관통부(31a)는 광원 램프(300)에서 조사되는 자외선을 제1 지지부재(31)에서 통과시켜, 마스크(200)에 이르게 한다.The first support member 31 forms a through portion 31a at the center thereof to support the mask 200. The penetrating portion 31a passes the ultraviolet rays emitted from the light source lamp 300 through the first support member 31 to reach the mask 200.

제1 지지부재(31)는 관통부(31a) 외곽에 형성되는 위치 고정부재(33)를 구비한다. 위치 고정부재(33)는 관통부(31a)에 대하여 제1 지지부재(31)에 놓여지는 마스크(200)의 위치를 고정시킨다.The first support member 31 has a position fixing member 33 formed outside the through part 31a. The position fixing member 33 fixes the position of the mask 200 placed on the first supporting member 31 with respect to the penetrating portion 31a.

제2 지지부재(32)는 광원 램프(300)를 지지하면서 광원 램프(300)를 관통부(31a)에 대응시킨다.The second support member 32 supports the light source lamp 300 to correspond to the penetrating portion 31a while supporting the light source lamp 300.

도3은 광원 램프 및 램프 가이드의 사시도이고, 도4는 도3의 Ⅳ-Ⅳ 선에 따른 단면도이다.3 is a perspective view of a light source lamp and a lamp guide, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 3.

도3 및 도4를 참조하면, 제2 지지부재(32)는 마스크(200)를 향하여 자외선을 조사하는 광원 램프(300)를 장착하는 램프 가이드(34)를 구비한다. 램프 가이 드(34)는 광원 램프(300)에서 조사되는 자외선을 직선 상태로 집속하여 마스크(200)로 조사시킬 수 있도록 상방을 향하여 개방되는 구조로 형성된다.3 and 4, the second support member 32 includes a lamp guide 34 for mounting a light source lamp 300 for irradiating ultraviolet rays toward the mask 200. The lamp guide 34 is formed to have a structure that is open upward to focus the ultraviolet light emitted from the light source lamp 300 in a straight state to irradiate the mask 200.

광원 램프(300)에서 조사되어 램프 가이드(34)를 통하여 마스크(200)로 조사되는 자외선은 직선 상태로 형성되어 롤(100)의 곡면에 길이 방향을 따라 직선으로 조사되어, 롤(100)의 곡면을 직선 상태로 노광한다.Ultraviolet rays irradiated from the light source lamp 300 and irradiated to the mask 200 through the lamp guide 34 are formed in a straight state to be irradiated in a straight line along the longitudinal direction to the curved surface of the roll 100, The curved surface is exposed in a straight line state.

따라서 광원 램프(300)에서 램프 가이드(34)를 통하여 조사되어, 마스크(200)를 통과하는 자외선은 롤(100)의 곡면에서 회절되지 않는다.Therefore, the ultraviolet light emitted from the light source lamp 300 through the lamp guide 34 and passing through the mask 200 is not diffracted at the curved surface of the roll 100.

제1 지지부재(31)와 제2 지지부재(32)는 슬라이드 레일(35)로 결합되어 롤(100)의 길이 방향(x축 방향)에 직교하는 방향(y축 방향)으로 상대 이동될 수 있다.The first support member 31 and the second support member 32 may be coupled to the slide rail 35 to be relatively moved in a direction orthogonal to the length direction (x-axis direction) of the roll 100 (y-axis direction). have.

슬라이드 레일(35)은 제2 지지부재(32) 상에서 제1 지지부재(31)를 y축 방향으로 이동시킴에 따라, 마스크(200)에 대한 광원 램프(300)의 얼라인을 용이하게 한다.The slide rail 35 facilitates alignment of the light source lamp 300 with respect to the mask 200 by moving the first support member 31 in the y-axis direction on the second support member 32.

스테이지(40)는 롤(100)에 대하여 마스크(200)를 x, y, z축 방향으로 이동시킬 수 있도록 형성된다. z축 방향은 롤(100)에 대한 높이 방향을 의미한다.The stage 40 is formed to move the mask 200 in the x, y, and z axis directions with respect to the roll 100. The z-axis direction means the height direction with respect to the roll 100.

예를 들면, 스테이지(40)는 지지대(30)에 연결되어, 지지대(30)를 이동시킴에 따라, 롤(100)에 대하여 마스크(200)와 광원 램프(300)를 얼라인시킬 수 있도록 구성된다.For example, the stage 40 is connected to the support 30 so that the mask 200 and the light source lamp 300 can be aligned with respect to the roll 100 as the support 30 moves. do.

스테이지(40)는 z스테이지(41), x스테이지(42) 및 y스테이지(43)를 포함하여 형성된다. z스테이지(41)는 지지대(30)에 연결되어 지지대(30)를 z축 방향으로 승 강시키킨다. x스테이지(42)는 z스테이지(41)에 연결되어 z스테이지(41)를 x축 방향으로 이동시킨다. y스테이지(43)는 x스테이지(42)에 연결되어 x스테이지(42)를 y축 방향으로 이동시킨다.The stage 40 is formed including the z stage 41, the x stage 42 and the y stage 43. The z stage 41 is connected to the support 30 to raise and lower the support 30 in the z-axis direction. The x stage 42 is connected to the z stage 41 to move the z stage 41 in the x axis direction. The y stage 43 is connected to the x stage 42 to move the x stage 42 in the y axis direction.

도5는 도1의 스테이지에서 z스테이지의 Ⅴ-Ⅴ 선에 따른 단면도이고, 도6은 도5의 Ⅵ-Ⅵ 선에 따른 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of the z stage in the stage of FIG. 1, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of FIG.

도5 및 도6을 참조하면, z스테이지(41)는 제1 z축부재(411), 제2 z축부재(412), z리드 스크류(413) 및 z모터(414)를 포함한다.5 and 6, the z stage 41 includes a first z axis member 411, a second z axis member 412, a z lead screw 413, and a z motor 414.

제1 z축부재(411)는 x스테이지(42) 상에서 z축 방향으로 설치되어 지지대(30)의 제2 지지부재(32)에 연결된다. 제1 z축부재(411)의 승강에 따라 제2 지지부재(32) 및 지지대(30)가 z축 방향으로 승강하여, 마스크(200)와 롤(100)의 간격을 조절한다.The first z-axis member 411 is installed in the z-axis direction on the x stage 42 and connected to the second support member 32 of the support 30. As the first z-axis member 411 moves up and down, the second support member 32 and the support stand 30 move up and down in the z-axis direction to adjust the gap between the mask 200 and the roll 100.

제2 z축부재(412)는 제1 z축부재(411)에 슬라이드 레일(415) 결합된다. 제2 z축부재(412)는 제1 z축부재(411)의 승강을 지지한다. 제2 z축부재(412)는 x스테이지(42)에 고정되어, x스테이지(42)와 일체로 x축 방향으로 이동된다.The second z-axis member 412 is coupled to the slide rail 415 to the first z-axis member 411. The second z-axis member 412 supports the lifting of the first z-axis member 411. The second z-axis member 412 is fixed to the x-stage 42 and moved integrally with the x-stage 42 in the x-axis direction.

z리드 스크류(413)는 제1 z축부재(411)의 z나선홈(411a)에 결합되고, z모터(414)는 z리드 스크류(413)에 연결된다. z모터(414)의 구동에 따라, z리드 스크류(413)가 구동되고, 이에 z나선홈(411a)으로 결합된 제1 z축부재(411)가 승강된다.The z lead screw 413 is coupled to the z spiral groove 411 a of the first z axis member 411, and the z motor 414 is connected to the z lead screw 413. As the z motor 414 is driven, the z lead screw 413 is driven, and the first z axis member 411 coupled to the z spiral groove 411 a is lifted.

도7은 도1의 x스테이지의 Ⅶ-Ⅶ 선에 따른 단면도이고, 도8은 도7의 Ⅷ-Ⅷ 선에 따른 단면도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 1, and FIG. 8 is a cross sectional view taken along the line VII-VII of FIG.

도7 및 도8을 참조하면, x스테이지(42)는 제1 x축부재(421), 제2 x축부재(422), x리드 스크류(423) 및 x모터(424)를 포함한다.7 and 8, the x stage 42 includes a first x axis member 421, a second x axis member 422, an x lead screw 423, and an x motor 424.

제1 x축부재(421)는 z스테이지(41)와 y스테이지(43) 사이에서 x축 방향으로 설치된다. 제1 x축부재(421)는 z스테이지(41)의 제2 z축부재(412)에 고정 연결된다. 제1 x축부재(421)의 x축 방향 이동에 따라, 제2 z축부재(412)가 x축 방향으로 이동되어, 마스크(200)와 롤(100)이 x축 방향으로 얼라인된다.The first x-axis member 421 is installed in the x-axis direction between the z stage 41 and the y stage 43. The first x-axis member 421 is fixedly connected to the second z-axis member 412 of the z stage 41. As the first x-axis member 421 moves in the x-axis direction, the second z-axis member 412 is moved in the x-axis direction so that the mask 200 and the roll 100 are aligned in the x-axis direction.

제2 x축부재(422)는 제1 x축부재(421)에 슬라이드 레일(425)로 결합된다. 제2 x축부재(422)는 제1 x축부재(421)의 이동을 지지한다. 제2 x축부재(422)는 y스테이지(43)에 결합된다.The second x-axis member 422 is coupled to the first x-axis member 421 as a slide rail 425. The second x-axis member 422 supports the movement of the first x-axis member 421. The second x-axis member 422 is coupled to the y stage 43.

x리드 스크류(423)는 제1 x축부재(421)의 x나선홈(421a)에 결합되고, x모터(424)는 x리드 스크류(423)에 연결된다. x모터(424)의 구동에 따라, x리드 스크류(423)가 구동되고, 이에 x나선홈(421a)으로 결합된 제1 x축부재(421)가 이동된다.The x lead screw 423 is coupled to the x spiral groove 421 a of the first x axis member 421, and the x motor 424 is connected to the x lead screw 423. As the x motor 424 is driven, the x lead screw 423 is driven, and the first x axis member 421 coupled to the x spiral groove 421 a is moved.

도9는 도1의 y스테이지의 Ⅸ-Ⅸ 선에 따른 단면도이고, 도10은 도9의 Ⅹ-Ⅹ 선에 따른 단면도이다.FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of the y stage of FIG. 1, and FIG. 10 is a cross sectional view taken along the line VII-VII of FIG.

도9 및 도10을 참조하면, y스테이지(43)는 제1 y축부재(431), 제2 y축부재(432), y리드 스크류(433) 및 y모터(434)를 포함한다. 9 and 10, the y stage 43 includes a first y-axis member 431, a second y-axis member 432, a y lead screw 433, and a y motor 434.

제1 y축부재(431)는 x스테이지(42) 아래에서 y축 방향으로 설치된다. 제1 y축부재(431)는 제2 x축부재(422)에 고정 연결된다. 제1 y축부재(431)의 y축 방향 이동에 따라 제2 x축부재(422)가 y축 방향으로 이동되어, 마스크(200)와 롤(100)이 y축 방향으로 얼라인된다.The first y-axis member 431 is installed in the y-axis direction below the x stage 42. The first y-axis member 431 is fixedly connected to the second x-axis member 422. As the first y-axis member 431 moves in the y-axis direction, the second x-axis member 422 is moved in the y-axis direction so that the mask 200 and the roll 100 are aligned in the y-axis direction.

제2 y축부재(432)는 제1 y축부재(431)에 슬라이드 레일(435)로 결합된다. 제2 y축부재(432)는 제1 y축부재(431)의 이동을 지지한다. 제2 y축부재(432)는 바닥에 놓여지고, 롤 패터닝 장치의 베이스를 형성한다.The second y-axis member 432 is coupled to the first y-axis member 431 as a slide rail 435. The second y-axis member 432 supports the movement of the first y-axis member 431. The second y-axis member 432 is placed on the bottom and forms the base of the roll patterning device.

y리드 스크류(433)는 제1 y축부재(431)의 y나선홈(431a)에 결합되고, y모터(434)는 y리드 스크류(433)에 연결된다. y모터(434)의 구동에 따라, y리드 스크류(433)가 구동되고, 이에 y나선홈(431a)으로 결합된 제1 y축부재(431)가 이동된다.The y lead screw 433 is coupled to the y helix groove 431a of the first y axis member 431, and the y motor 434 is connected to the y lead screw 433. As the y motor 434 is driven, the y lead screw 433 is driven, and the first y axis member 431 coupled to the y spiral groove 431a is moved.

스테이지(40)에서, 제2 x축부재(422)와 제1 y축부재(431)는 일체로 형성되거나, 별도로 형성되어 일체로 결합될 수 있다.In the stage 40, the second x-axis member 422 and the first y-axis member 431 may be integrally formed or separately formed and combined.

한편, 지지대(30)에는 롤(100)과 마스크(200)의 얼라인을 확인하기 위한 비전 카메라(50)가 설치될 수 있다. 비전 카메라(50)는 제2 지지부재(32) 상에서 형광 램프(300)의 양측에 각각 장착된다.On the other hand, the support 30 may be provided with a vision camera 50 for checking the alignment of the roll 100 and the mask 200. The vision camera 50 is mounted on both sides of the fluorescent lamp 300 on the second support member 32, respectively.

지지대(30)에 마스크(200)를 놓고, 스테이지(40)를 x,y,z축 방향으로 이동시켜 롤(100)에 대하여 마스크(200)를 얼라인할 때, 비전 카메라(50)는 롤(100)에 대한 마스크(200)의 위치를 확인하면서 얼라인 작업을 가능하게 한다.When the mask 200 is placed on the support 30 and the stage 40 is moved in the x, y, z axis directions to align the mask 200 with respect to the roll 100, the vision camera 50 rolls. Alignment is enabled while checking the position of the mask 200 relative to 100.

도11은 도1의 롤 패터닝 장치를 제어하는 블록도이다.FIG. 11 is a block diagram of controlling the roll patterning apparatus of FIG. 1.

도11을 참조하면, 비전 카메라(50)는 별도로 구비되는 제어부(51)에 연결된다. 비전 카메라(50)의 신호는 제어부(51)에 연결되는 스테이지(40)를 자동으로 제어하여 롤(100)에 대한 마스크(200)의 얼라인 작업을 가능하게 하고, 롤 모터(20) 를 제어하여 롤(100)의 회전 속도를 제어할 수 있게 한다.Referring to FIG. 11, the vision camera 50 is connected to a controller 51 provided separately. The signal of the vision camera 50 automatically controls the stage 40 connected to the control unit 51 to enable alignment of the mask 200 with respect to the roll 100, and to control the roll motor 20. To control the rotational speed of the roll 100.

또한 비전 카메라(50)의 신호는 표시장치(52)에 표시되고, 이를 보면서 스테이지(40)를 수동 조작하여, 롤(100)에 대한 마스크(200)의 얼라인 작업을 가능하게 한다.In addition, the signal of the vision camera 50 is displayed on the display device 52, and while performing the manual operation of the stage 40, the alignment of the mask 200 with respect to the roll 100 is possible.

이와 같이, 일 실시예에 따른 롤 패터닝 장치는, 패터닝 대상 롤(100)을 연동척(10)에 장착하고, 마스크(200)와 광원 램프(300)를 스테이지(40)로 이동시키며, 롤 모터(20)로 롤(100)을 회전시키면서 롤(100)을 패터닝한다.As described above, the roll patterning apparatus according to the embodiment mounts the patterning target roll 100 on the linkage chuck 10, moves the mask 200 and the light source lamp 300 to the stage 40, and the roll motor. The roll 100 is patterned while rotating the roll 100 by 20.

따라서 스테이지(40)는 제어부(51)에 의하여 제어되어 롤(100)과 마스크(200)와의 간격을 일정하게 하고, 롤 모터(20)에 의하여 롤(100)의 회전 속도를 제어하므로 교체되는 복수의 롤들(100)은 곡면에는 마스크(200)의 패턴이 동일하게 반복적으로 전사된다.Therefore, the stage 40 is controlled by the control unit 51 to make the interval between the roll 100 and the mask 200 constant, and control the rotational speed of the roll 100 by the roll motor 20 to replace the plurality The rolls 100 may be repeatedly transferred to the curved surface in the same manner as the pattern of the mask 200.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 롤 패터닝 장치의 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view of a roll patterning device according to an embodiment of the present invention.

도2는 도1의 롤 패터닝 장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of the roll patterning device of FIG.

도3은 광원 램프 및 램프 가이드의 사시도이다.3 is a perspective view of a light source lamp and a lamp guide;

도4는 도3의 Ⅳ-Ⅳ 선에 따른 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 3.

도5는 도1의 스테이지에서 z스테이지의 Ⅴ-Ⅴ 선에 따른 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line VV of the z stage in the stage of FIG.

도6은 도5의 Ⅵ-Ⅵ 선에 따른 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line VI-VI of FIG. 5.

도7은 도1의 x스테이지의 Ⅶ-Ⅶ 선에 따른 단면도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII of the x stage of FIG.

도8은 도7의 Ⅷ-Ⅷ 선에 따른 단면도이다.8 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 7.

도9는 도1의 y스테이지의 Ⅸ-Ⅸ 선에 따른 단면도이다.9 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of the y stage of FIG.

도10은 도9의 Ⅹ-Ⅹ 선에 따른 단면도이다.10 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 9.

도11은 도1의 롤 패터닝 장치를 제어하는 블록도이다.FIG. 11 is a block diagram of controlling the roll patterning apparatus of FIG. 1.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 롤 200 : 마스크100: roll 200: mask

300 : 광원 램프 10 : 연동척300: light source lamp 10: interlock chuck

11, 12 : 제1, 제2 연동척 20 : 롤 모터11, 12: 1st, 2nd interlock chuck 20: roll motor

30 : 지지대 40 : 스테이지30: support 40: stage

31, 32 : 제1, 제2 지지부재 31a : 관통부31, 32: 1st, 2nd support member 31a: Through part

33 : 위치 고정부재 34 : 램프 가이드33: position fixing member 34: lamp guide

35 : 슬라이드 레일 41, 42, 43 : z,x,y스테이지35: slide rails 41, 42, 43: z, x, y stage

411, 412 : 제1, 제2 z축부재 411a, 421a, 431a : z,x,y나선홈411, 412: First and second z-axis members 411a, 421a, 431a: z, x, y spiral groove

413, 423, 433 : z,x,y리드 스크류 414, 424, 434 : z,x,y모터413, 423, 433: z, x, y lead screw 414, 424, 434: z, x, y motor

415, 425, 435 : 슬라이드 레일 421, 422 : 제1, 제2 x축부재415, 425, 435: slide rails 421, 422: first and second x-axis members

431, 432 : 제1, 제2 y축부재 50 : 비전 카메라431, 432: first and second y-axis member 50: vision camera

51 : 제어부 52 : 표시장치51 control unit 52 display device

Claims (13)

패터닝 대상 롤을 장착하는 연동척;An interlock chuck for mounting a patterning target roll; 상기 롤을 회전시키는 롤 모터;A roll motor for rotating the roll; 상기 롤의 일측에서 마스크를 지지하고, 상기 마스크를 기준으로 상기 롤의 반대측에 제공되는 광원 램프를 장착하는 지지대; 및A support for supporting a mask on one side of the roll and mounting a light source lamp provided on an opposite side of the roll with respect to the mask; And 상기 롤에 대하여 상기 마스크를 x, y, z축 방향으로 이동시키는 스테이지를 포함하는 롤 패터닝 장치.And a stage for moving said mask in x, y, z-axis directions relative to said roll. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 연동척은,The interlock chuck, 상기 롤의 길이 방향 양단에 제공되어 상기 롤의 양단을 잡아주는 제1 연동척과 제2 연동척을 포함하는 롤 패터닝 장치.Roll patterning device comprising a first linkage chuck and a second linkage chuck provided on both ends of the roll in the longitudinal direction to hold both ends of the roll. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 지지대는,The support is, 상기 광원 램프의 자외선을 상기 마스크로 통과시키면서 상기 마스크를 지지하도록 중앙에 관통부를 형성하는 제1 지지부재와,A first support member forming a through portion at a center thereof to support the mask while passing ultraviolet rays of the light source lamp through the mask; 상기 제1 지지부재를 지지하면서 상기 광원 램프를 장착하는 제2 지지부재를 포함하는 롤 패터닝 장치.And a second support member for mounting the light source lamp while supporting the first support member. 제3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 제1 지지부재와 상기 제2 지지부재는,The first support member and the second support member, 상기 제2 지지부재 상에서 상기 제1 지지부재를 상기 y축 방향으로 이동시키는 슬라이드 레일로 결합되는 롤 패터닝 장치.Roll patterning device coupled to the slide rail for moving the first support member in the y-axis direction on the second support member. 제3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 제2 지지부재는,The second support member, 상기 마스크를 향하여 자외선을 조사하는 상기 광원 램프를 장착하는 램프 가이드를 구비하는 롤 패터닝 장치.And a lamp guide for mounting the light source lamp for irradiating ultraviolet rays toward the mask. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 지지대는,The support is, 상기 롤과 상기 마스크의 얼라인을 확인하는 비전 카메라를 구비하는 롤 패터닝 장치.Roll patterning device comprising a vision camera for checking the alignment of the roll and the mask. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 스테이지는,The stage, 상기 지지대에 연결되어 상기 지지대를 상기 z축 방향으로 승강시키는 z스테이지,A z stage connected to the support for elevating the support in the z-axis direction; 상기 z스테이지에 연결되어 상기 z스테이지를 상기 x축 방향으로 이동시키는 x스테이지, 및An x stage connected to the z stage to move the z stage in the x-axis direction, and 상기 x스테이지에 연결되어 상기 x스테이지를 상기 y축 방향으로 이동시키는 y스테이지를 포함하는 롤 패터닝 장치.And a y stage connected to the x stage to move the x stage in the y-axis direction. 제7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 z스테이지는,The z stage, 상기 x스테이지 상에 상기 z축 방향으로 설치되는 제1 z축부재,A first z-axis member installed in the z-axis direction on the x stage; 상기 제1 z축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 z축부재,A second z-axis member coupled to the first z-axis member by a slide rail; 상기 제1 z축부재에 z나선홈에 결합되는 z리드 스크류, 및A z-lead screw coupled to a z spiral groove on the first z-axis member, and 상기 z리드 스크류를 구동시키는 z모터를 포함하는 롤 패터닝 장치.Roll patterning device comprising a z motor for driving the z lead screw. 제7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 x스테이지는,The x stage, 상기 z스테이지와 y스테이지 사이에서 상기 x축 방향으로 설치되는 제1 x축부재,A first x-axis member installed in the x-axis direction between the z stage and the y stage, 상기 제1 x축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 x축부재,A second x-axis member coupled to the first x-axis member by a slide rail; 상기 제1 x축부재에 x나선홈에 결합되는 x리드 스크류, 및An x-lead screw coupled to the x spiral groove on the first x-axis member, and 상기 x리드 스크류를 구동시키는 x모터를 포함하는 롤 패터닝 장치.Roll patterning device comprising a x motor for driving the x lead screw. 제7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 y스테이지는,The y stage, 상기 x스테이지 하에 상기 y축 방향으로 설치되는 제1 y축부재,A first y-axis member installed in the y-axis direction under the x stage; 상기 제1 y축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 y축부재,A second y-axis member coupled to the first y-axis member by a slide rail, 상기 제1 y축부재에 y나선홈에 결합되는 y리드 스크류, 및A y lead screw coupled to the y spiral groove on the first y axis member, and 상기 y리드 스크류를 구동시키는 y모터를 포함하는 롤 패터닝 장치.Roll patterning device comprising a y motor for driving the y lead screw. 제7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 x스테이지는,The x stage, 상기 z스테이지와 y스테이지 사이에서 상기 x축 방향으로 설치되는 제1 x축부재,A first x-axis member installed in the x-axis direction between the z stage and the y stage, 상기 제1 x축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 x축부재,A second x-axis member coupled to the first x-axis member by a slide rail; 상기 제1 x축부재에 x나선홈에 결합되는 x리드 스크류, 및An x-lead screw coupled to the x spiral groove on the first x-axis member, and 상기 x리드 스크류를 구동시키는 x모터를 포함하고,It includes an x motor for driving the x lead screw, 상기 y스테이지는,The y stage, 상기 x스테이지 하에 상기 y축 방향으로 설치되는 제1 y축부재,A first y-axis member installed in the y-axis direction under the x stage; 상기 제1 y축부재에 슬라이드 레일로 결합되는 제2 y축부재,A second y-axis member coupled to the first y-axis member by a slide rail, 상기 제1 y축부재에 y나선홈에 결합되는 y리드 스크류, 및A y lead screw coupled to the y spiral groove on the first y axis member, and 상기 y리드 스크류를 구동시키는 y모터를 포함하며,It includes a y motor for driving the y lead screw, 상기 제2 x축부재와 상기 제1 y축부재는 일체로 형성되거나 일체로 결합되는 롤 패터닝 장치.And the second x-axis member and the first y-axis member are integrally formed or integrally coupled. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 마스크는 상기 롤 아래에 설치되는 롤 패터닝 장치.And the mask is installed under the roll. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 지지대는 상기 마스크 아래에 설치되고,The support is installed under the mask, 상기 스테이지는 상기 지지대 아래에 설치되는 롤 패터닝 장치.The stage is roll patterning device is installed under the support.
KR1020080026948A 2008-03-24 2008-03-24 Roll patterning device Expired - Fee Related KR100855070B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080026948A KR100855070B1 (en) 2008-03-24 2008-03-24 Roll patterning device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080026948A KR100855070B1 (en) 2008-03-24 2008-03-24 Roll patterning device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100855070B1 true KR100855070B1 (en) 2008-08-29

Family

ID=39878853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080026948A Expired - Fee Related KR100855070B1 (en) 2008-03-24 2008-03-24 Roll patterning device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100855070B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101111691B1 (en) 2009-11-23 2012-02-14 주식회사 디씨엔 Pattern Roll Forming Equipment
KR101607578B1 (en) 2015-01-22 2016-03-30 충남대학교산학협력단 Apparatus for lithography and mask aligner

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002365810A (en) * 2001-06-12 2002-12-18 Nsk Ltd Division sequential proximity exposure system
JP2003031646A (en) * 2001-07-16 2003-01-31 Nikon Corp Stage unit and aligner
KR20040020895A (en) * 2001-09-10 2004-03-09 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Inkjet deposition apparatus and method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002365810A (en) * 2001-06-12 2002-12-18 Nsk Ltd Division sequential proximity exposure system
JP2003031646A (en) * 2001-07-16 2003-01-31 Nikon Corp Stage unit and aligner
KR20040020895A (en) * 2001-09-10 2004-03-09 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Inkjet deposition apparatus and method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101111691B1 (en) 2009-11-23 2012-02-14 주식회사 디씨엔 Pattern Roll Forming Equipment
KR101607578B1 (en) 2015-01-22 2016-03-30 충남대학교산학협력단 Apparatus for lithography and mask aligner

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6630419B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI440982B (en) Metrology tool, system comprising a lithographic apparatus and a metrology tool, and a method for determining a parameter of a substrate
TWI714048B (en) Substrate carrier, method of patterning a plurality of substrates and processing system
KR101256791B1 (en) Exposure apparatus
JP5017354B2 (en) Lithographic apparatus provided with gas pressure means for controlling the planar position of the patterning device in a non-contact manner
US7019816B2 (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
KR100855070B1 (en) Roll patterning device
TWI460554B (en) Reticle assembly, a lithographic apparatus, the use in a lithographic process, and a method to project two or more image fields in a single scanning movement of a lithographic process
US9529275B2 (en) Lithography scanner throughput
CN102540575A (en) Exposing device and exposing method
KR20200088529A (en) Inspection system for extreme ultra violet lithography pellicle
CN109844644A (en) proximity exposure method
JP2008191404A (en) Substrate carrying device, stage device and pattern forming apparatus
JP2020046681A (en) Exposure apparatus
JP4376227B2 (en) Projection apparatus for lithographic apparatus
JP4570630B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4669833B2 (en) Lithographic apparatus
JP5304017B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP6631655B2 (en) Exposure apparatus, flat panel display manufacturing method, and device manufacturing method
KR20060129772A (en) Reticle arm and exposure apparatus having same
KR20050017444A (en) Apparatus for exposing a semiconductor substrate having multi-transfer
JPH1083950A (en) Aligner
KR20050003517A (en) A exposure apparatus
KR20080054642A (en) Twin scan exposure equipment and its exposure method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20080324

PA0201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
PA0302 Request for accelerated examination

Patent event date: 20080325

Patent event code: PA03022R01D

Comment text: Request for Accelerated Examination

Patent event date: 20080324

Patent event code: PA03021R01I

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20080528

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20080821

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20080822

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20080825

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20110822

Start annual number: 4

End annual number: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120822

Year of fee payment: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20120822

Start annual number: 5

End annual number: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130612

Year of fee payment: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20130612

Start annual number: 6

End annual number: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee

Termination category: Default of registration fee

Termination date: 20150709