KR100843379B1 - 광경로차를 이용한 광변조기 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 광원으로부터 출사된 광을 분할하여 출사하고, 반사광을 수광하여 대상 물체로 입사시키기 위한 빔 스플릿터;상기 빔 스플릿터로부터 입사된 광을 상하로 구동되는 다수의 구동 픽셀을 이용하여 광경로의 길이를 변화시키며 상기 빔 스플릿터로 반사하기 위한 구동 픽셀 어레이; 및상기 빔 스플릿터로부터 입사된 광을 상기 빔 스플릿터로 반사하는 반사 수단을 포함하며,상기 구동 픽셀 어레이의 해당 구동 픽셀로부터 반사되는 반사광과 그에 대응하는 상기 반사 수단으로부터 반사되는 반사광의 광경로차로 인하여 보강 또는 상쇄 간섭이 일어나는 것을 특징으로 하며,상기 구동픽셀 어레이의 상기 구동 픽셀은 기판과, 상기 기판에 의해 지지되며 상기 기판에 이격되어 구동공간을 확보하며 양측에 전압이 인가되면 상기 기판으로부터 멀어지거나 가까워지는 압전 재료층을 구비하여 입사광을 반사시키는 엘리멘트를 포함하여 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
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- 광원으로부터 출사된 광을 분할하여 출사하고, 반사광을 수광하여 대상 물체로 입사시키기 위한 빔 스플릿터;상기 빔 스플릿터로부터 입사된 광을 상하로 구동되는 다수의 구동 픽셀을 이용하여 광경로의 길이를 변화시키며 상기 빔 스플릿터로 반사하기 위한 구동 픽셀 어레이; 및상기 빔 스플릿터로부터 입사된 광을 상기 빔 스플릿터로 반사하는 반사 수단을 포함하며,상기 구동 픽셀 어레이의 해당 구동 픽셀로부터 반사되는 반사광과 그에 대응하는 상기 반사 수단으로부터 반사되는 반사광의 광경로차로 인하여 보강 또는 상쇄 간섭이 일어나는 것을 특징으로 하며,상기 구동픽셀 어레이의 상기 구동 픽셀은 기판과, 상기 기판에 적층되어 있으며 양측에 전압이 인가되면 수축 팽창하여 외부에 노출된 반사면이 상기 기판으로부터 멀어지거나 가까워지는 압전 재료층을 구비하여 입사광을 반사시키는 엘리멘트를 포함하여 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
- 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 반사 수단은 고정 미러인 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
- 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 반사 수단은 구동 픽셀 어레이인 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
- 광원으로부터 출사된 광을 두개의 편광으로 분리하여 서로 다른 방향으로 입사시키고 각각의 반사광을 대상 물체로 입사시키기 위한 편광 분리기;상기 편광 분리기로부터 입사된 광을 상하로 구동되는 다수의 픽셀을 이용하 여 광경로의 길이를 변화시키며 상기 편광 분리기로 반사하기 위한 구동 픽셀 어레이;상기 편광 분리기와 상기 구동 픽셀 어레이 사이에 위치하여 상기 구동 픽셀 어레이로부터 입사된 편광을 변환하여 상기 편광 분리기로 출사하는 제 1 편광 변환기;상기 편광 분리기로부터 입사된 편광을 상기 편광 분리기로 반사하는 반사 수단; 및상기 편광 분리기와 상기 반사 수단 사이에 위치하여 상기 반사 수단으로부터 입사된 편광을 변환하여 상기 편광 분리기로 출사하는 제2 편광 변환기를 포함하며,상기 구동 픽셀 어레이의 해당 픽셀로부터 반사되는 반사 편광과 그에 대응하는 상기 반사 수단으로부터 반사되는 반사 편광의 광경로차로 인하여 보강 또는 상쇄 간섭이 일어나는 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
- 제 8 항에 있어서,상기 편광 분리기는 격자 편광자인 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
- 제 8 항에 있어서,상기 구동 픽셀 어레이는 반사형 광변조기인 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
- 제 8 항에 있어서,상기 구동 픽셀 어레이는 회절형 광변조기인 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
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- 제 8 항 내지 제 13 항중 어느 한 항에 있어서,상기 반사 수단은 고정 미러인 것을 특징으로 하는 광경로차를 이용한 광변조기.
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US6721475B1 (en) * | 2000-12-22 | 2004-04-13 | Cheetah Omni, Llc | Apparatus and method for providing gain equalization |
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---|---|---|---|---|
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KR19990008170A (ko) * | 1996-02-26 | 1999-01-25 | 야스카와 히데아키 | 광변조 디바이스, 표시 장치 및 전자 기기 |
US6188477B1 (en) | 1998-05-04 | 2001-02-13 | Cornell Research Foundation, Inc. | Optical polarization sensing apparatus and method |
US6721475B1 (en) * | 2000-12-22 | 2004-04-13 | Cheetah Omni, Llc | Apparatus and method for providing gain equalization |
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