KR100810435B1 - Centering guide with wafer slip prevention means - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼 검사장비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼 검사장비의 예비정렬(pre-align) 테이블에서 정렬작업을 하기 전에 웨이퍼의 중심을 잡아주는 센터링 가이드에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer inspection apparatus, and more particularly, to a centering guide for centering a wafer prior to alignment in a pre-align table of the wafer inspection apparatus.
이에 본 발명은, 카세트 캐리어, 로봇 아암, 익스체인지 챔버 및 건 챔버를 포함하고, 상기 익스체인지 챔버 내에 예비정렬 테이블이 구비된 웨이퍼 검사장비에 있어서, 상기 익스체인지 챔버 내에 예비정렬 테이블의 좌우에 대향 배치되어 서로 다른 방향으로 이동할 수 있고, 각각의 대향면은 웨이퍼의 테두리 형상에 맞도록 오목하게 만곡져 이루어지는 좌·우측 가이드 블록; 및 상기 좌·우측 가이드 블록 각각의 하단에 부착되어 상기 좌·우측 가이드 블록 각각의 오목한 대향면보다 상기 예비정렬 테이블 쪽으로 더 돌출 되게 형성되는 웨이퍼 안착단과, 상기 좌·우측 가이드 블록에 부착되는 각각의 웨이퍼 안착단의 대향면에 부착되고 상기 예비정렬 테이블을 향해 하향 경사지게 형성되는 슬립방지 턱을 포함하여 구성되는 웨이퍼 슬립 방지수단을 포함하여 상기 예비정렬 테이블에 놓여지는 웨이퍼의 중심을 잡아주는 것을 특징으로 하는 센터링 가이드를 제공한다.Accordingly, the present invention is a wafer inspection equipment including a cassette carrier, a robot arm, an exchange chamber and a gun chamber, and a pre-alignment table is provided in the exchange chamber, wherein the pre-alignment table in the exchange chamber is disposed opposite to each other. Left and right guide blocks which can move in different directions, and each opposing surface is concave and curved to conform to the edge shape of the wafer; And a wafer seating end attached to a lower end of each of the left and right guide blocks to protrude more toward the preliminary alignment table than a concave opposing surface of each of the left and right guide blocks, and each wafer attached to the left and right guide blocks. And a wafer slip prevention means attached to an opposite surface of the seating end and configured to include a slip prevention jaw formed to be inclined downward toward the preliminary alignment table to hold the center of the wafer placed on the preliminary alignment table. Provide a centering guide.
웨이퍼, 슬립, 센터링 가이드, 검사장비Wafer, Slip, Centering Guide, Inspection Equipment
Description
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 웨이퍼 슬립 방지수단을 구비한 센터링 가이드를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view showing a centering guide having a wafer slip prevention means according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 센터링 가이드의 우측 가이드 블록을 도시한 정면도이다.2 is a front view showing a right guide block of the centering guide according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 센터링 가이드의 우측 가이드 블록을 도시한 평면도이다.3 is a plan view showing a right guide block of the centering guide according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 센터링 가이드의 작동을 설명하기 위한 단면도이다.Figure 4 is a cross-sectional view for explaining the operation of the centering guide according to an embodiment of the present invention.
도 5는 종래의 센터링 가이드가 장착된 웨이퍼 검사장비를 도시한 개략도이다.Figure 5 is a schematic diagram showing a wafer inspection equipment equipped with a conventional centering guide.
도 6은 종래의 센터링 가이드를 도시한 사시도이다.6 is a perspective view illustrating a conventional centering guide.
도 7은 종래의 센터링 가이드의 작동을 설명하기 위한 단면도이다.7 is a cross-sectional view for explaining the operation of the conventional centering guide.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10: 센터링 가이드 12a, 12b: 좌·우측 가이드 블록10:
14a, 14b: 웨이퍼 안착단 16a, 16b: 슬립 방지턱
14a, 14b:
18: 예비정렬 테이블 W: 웨이퍼18: pre-alignment table W: wafer
본 발명은 웨이퍼 검사장비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼 검사장비의 예비정렬(pre-align) 테이블에서 정렬작업을 하기 전에 웨이퍼의 중심을 잡아주는 센터링 가이드에 관한 것이다. The present invention relates to a wafer inspection apparatus, and more particularly, to a centering guide for centering a wafer prior to alignment in a pre-align table of the wafer inspection apparatus.
일반적으로 웨이퍼 검사공정은 반도체 소자의 생산공정 가운데 하나로 웨이퍼 상태로서는 최후공정이 된다. 이러한 웨이퍼 검사공정에서는 웨이퍼 상에 형성된 반도체 소자에 대하여 전기적인 특성과 기능상의 특성을 측정하여 양품과 불량을 판단하는 등의 검사과정을 수행하게 되며, 이를 위하여 로봇 아암(arm)을 이용하여 카세트 캐리어(cassette carrier)로부터 웨이퍼를 꺼내 익스체인지 챔버(exchange chamber)내에서 정렬(align)시킨 다음 건 챔버(gun chamber) 내에서 웨이퍼를 검사하게 된다.In general, the wafer inspection process is one of the production processes of the semiconductor device, and the wafer inspection process is the last process. In the wafer inspection process, the inspection process such as determining the quality and defects by measuring the electrical and functional characteristics of the semiconductor elements formed on the wafer is performed. For this purpose, a cassette carrier is used by a robot arm. The wafer is removed from the cassette carrier, aligned in an exchange chamber and then inspected in a gun chamber.
도 5는 종래의 센터링 가이드가 장착된 웨이퍼 검사장비를 도시한 개략도이고, 도 6은 종래의 센터링 가이드를 상세히 도시한 사시도이다.Figure 5 is a schematic diagram showing a wafer inspection equipment equipped with a conventional centering guide, Figure 6 is a perspective view showing in detail a conventional centering guide.
도 5에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 검사장비(60)는 크게 카세트 캐리어(61), 로봇 아암(65), 익스체인지 챔버(72) 및 건 챔버(80)로 구성된다.As shown in FIG. 5, the
웨이퍼를 검사하기 위하여 먼저 카세트 캐리어(61) 내에 저장된 웨이퍼를 로봇 아암(65)으로 집어서 익스체인지 챔버(72) 내로 이동시키고, 이동된 웨이퍼는 예비정렬 테이블(76) 위에 놓여지게 된다.In order to inspect the wafer, the wafer stored in the
이렇게 놓여진 웨이퍼는 상기 로봇 아암(65)이 카세트 캐리어(61)에서 집은 그대로 올려놓기 때문에 통상 그 중심이 틀어져서 놓이게 된다.Since the
이와 같이 웨이퍼의 중심이 틀어지게 되면 검사과정에서 결함(defect)이나 티끌(particle)에 대한 데이터를 정확하게 얻을 수 없는 바, 그러한 데이터의 신뢰성이 떨어질 뿐만 아니라 심한 경우 검사(review) 자체가 불가능해지는 경우도 있다.If the center of the wafer is distorted as described above, data on defects or particles cannot be obtained accurately during the inspection process, and the reliability of such data is not only degraded, but also the inspection itself is impossible in severe cases. There is also.
따라서, 도 6에서 도시한 바와 같이 상기 예비정렬 테이블(76)에 놓인 웨이퍼(W)의 중심을 잡아주기 위해서 센터링 가이드(74)가 예비정렬 테이블(76)의 양쪽에서 상기 웨이퍼(W)를 가운데를 향해 밀어주고, 다시 제자리로 돌아가 웨이퍼(W)가 예비정렬 할 수 있는 공간을 만들어 주게 된다. Thus, as shown in FIG. 6, the
예비정렬 테이블(76)은 360°회전하면서 상기 웨이퍼를 정렬(align)시킨 다음 익스체인지 챔버(72)에서 건 챔버(80)로 넘겨 웨이퍼 검사를 실시한다. 검사를 마친 웨이퍼는 다시 익스체인지 챔버(72) 내로 들어와서 다시 정렬작업을 실시하며 이 때에도 웨이퍼의 중심을 잡아 주어야 한다.The pre-alignment table 76 aligns the wafer while rotating 360 ° and then passes it from the
그런데, 상기와 같은 웨이퍼 검사장비(60)의 센터링 가이드(74)를 이용하여 웨이퍼(W)의 중심잡기 과정을 수행할 경우에 웨이퍼의 슬립(slip) 현상이 많이 발생하는 문제점이 있다.However, when the centering process of the wafer W is performed by using the
이것은 웨이퍼(W)의 에지(edge)부분의 처짐 현상에 기인한 것으로, 상기 웨이퍼의 에지가 센터링 가이드(74)에 제대로 걸리지 못하여, 도 7에서 보는 바와 같 이 한쪽 끝이 센터링 가이드(74)의 밑으로 들어가고 다른 쪽 끝은 들려져서 센터링 가이드(74)의 상단에 걸쳐지게 되는 것이다.This is due to the deflection of the edge portion of the wafer (W), the edge of the wafer is not properly caught in the
상기한 바와 같이 슬립이 발생하게 될 때 웨이퍼는 표면에 긁힘(scratch)이 생기고, 심한 경우에는 파단되기도 한다.As described above, when the slip occurs, the wafer is scratched on the surface, and in some cases, the wafer is broken.
또한, 챔버 내에서 발생한 고장이므로 상기 챔버 자체를 개방하여 수리해야하는 관계로 챔버 내에 오염이 발생할 수 있고, 웨이퍼가 파손될 경우 이러한 챔버 내부에 손상이 가해지기도 한다.In addition, since the failure occurred in the chamber, since the chamber itself needs to be opened and repaired, contamination may occur in the chamber, and damage to the inside of the chamber may be caused when the wafer is broken.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 그 목적은 슬립 방지수단을 구비함으로써 예비정렬을 위한 중심잡기 과정에서 웨이퍼의 슬립으로 인한 긁힘 또는 파단을 방지할 수 있는 웨이퍼 슬립 방지수단을 구비한 센터링 가이드를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, the object of the present invention is to provide a slip prevention means, the wafer slip prevention means that can prevent the scratch or fracture due to the slip of the wafer during the centering process for pre-alignment It is to provide a centering guide having.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 카세트 캐리어, 로봇 아암, 익스체인지 챔버 및 건 챔버를 포함하고, 상기 익스체인지 챔버 내에 예비정렬 테이블이 구비된 웨이퍼 검사장비에 있어서,In order to achieve the above object, the present invention, in the wafer inspection equipment including a cassette carrier, a robot arm, an exchange chamber and a gun chamber, a pre-alignment table is provided in the exchange chamber,
상기 익스체인지 챔버 내에 예비정렬 테이블의 좌우에 대향 배치되어 서로 다른 방향으로 이동할 수 있고, 각각의 대향면은 웨이퍼의 테두리 형상에 맞도록 오목하게 만곡져 이루어지는 좌·우측 가이드 블록; 및 상기 좌·우측 가이드 블록 각각의 하단에 부착되어 상기 좌·우측 가이드 블록 각각의 오목한 대향면보다 상 기 예비정렬 테이블 쪽으로 더 돌출 되게 형성되는 웨이퍼 안착단과, 상기 좌·우측 가이드 블록에 부착되는 각각의 웨이퍼 안착단의 대향면에 부착되고 상기 예비정렬 테이블을 향해 하향 경사지게 형성되는 슬립방지 턱을 포함하여 구성되는 웨이퍼 슬립 방지수단을 포함하여 상기 예비정렬 테이블에 놓여지는 웨이퍼의 중심을 잡아주는 것을 특징으로 하는 센터링 가이드를 제공한다.Left and right guide blocks disposed opposite to the left and right sides of the pre-alignment table in the exchange chamber and moving in different directions, each of the opposing surfaces being concave and curved to match the edge shape of the wafer; And a wafer seating end attached to a lower end of each of the left and right guide blocks to protrude more toward the pre-alignment table than the concave opposing surface of each of the left and right guide blocks, and each of the left and right guide blocks. And a wafer slip prevention means attached to an opposite surface of the wafer seating end and configured to include a slip prevention jaw formed to be inclined downward toward the preliminary alignment table to hold the center of the wafer placed on the preliminary alignment table. Provide a centering guide.
여기서, 상기 웨이퍼 슬립 방지수단은 세라믹류 또는 스테인레스강을 재료로 제조될 수 있다.Here, the wafer slip prevention means may be made of ceramics or stainless steel material.
또한, 상기 슬립방지 턱은 하향 경사면이 수평면과 이루는 각도가 35°내지 55°의 범위에 속하도록 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the anti-slip jaw is preferably formed such that the angle of the downward inclined surface and the horizontal plane is in the range of 35 ° to 55 °.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 센터링 가이드를 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 센터링 가이드의 우측 가이드 블록을 도시한 정면도이며, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 센터링 가이드의 우측 가이드 블록을 도시한 평면도이다.1 is a perspective view showing a centering guide according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a front view showing a right guide block of the centering guide according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is an embodiment of the present invention It is a top view which shows the right guide block of the centering guide which concerns on an example.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 센터링 가이드(10)는 좌측 가이드 블록(12a)과 우측 가이드 블록(12b)이 예비정렬 테이블(18)을 중심으로 그 좌우에 대향 배치된다.As shown in FIG. 1, in the
상기 좌·우측 가이드 블록(12a,12b)은 상기 예비정렬 테이블(18)에 놓여지는 웨이퍼(W)의 중심을 잡아주기 위하여 서로 반대방향으로, 즉 중심을 향해 모이 거나 중심에서 멀어지는 방향으로 이동 가능하다.The left and right guide blocks 12a and 12b may be moved in opposite directions, ie, toward or away from the center, in order to grasp the center of the wafer W placed on the preliminary alignment table 18. Do.
또한, 상기 좌·우측 가이드 블록(12a,12b)의 각각의 대향면은 웨이퍼(W)의 에지(edge)와 접촉하는 부분으로, 상기 웨이퍼(W)의 테두리 형상에 맞도록 오목하게 만곡져 이루어지는 것이 바람직하다.In addition, the opposing surfaces of the left and right guide blocks 12a and 12b are in contact with an edge of the wafer W, and are concavely curved to conform to the edge shape of the wafer W. It is preferable.
이렇게 형성되는 센터링 가이드(10)의 좌·우측 가이드 블록(12a,12b) 각각의 하단에는 웨이퍼 슬립 방지수단이 구비되는 바, 상기 웨이퍼 슬립 방지수단은 웨이퍼 안착단(14a,14b)과 슬립 방지턱(16a,16b)을 포함하여 이루어진다.The lower end of each of the left and right guide blocks 12a and 12b of the centering
이 때, 상기 웨이퍼 안착단(14a,14b)은 상기 센터링 가이드(10)의 좌·우측 가이드 블록 각각의 오목한 대향면보다 중심쪽-상기 예비정렬 테이블(18)쪽-으로 더 돌출 되게 형성된다. 이렇게 돌출된 부분에 웨이퍼(W)가 살짝 걸치게 된다. 따라서, 상기 웨이퍼 안착단(14a,14b)의 돌출된 부분의 윗면은 상기 예비정렬 테이블(18) 윗면과 동일한 높이로 형성되거나, 그보다 더 낮게 형성되는 것이 바람직하다.At this time, the wafer seating ends 14a, 14b are formed to protrude more toward the center side-toward the preliminary alignment table 18-than the concave opposing surfaces of the left and right guide blocks of the
상기 웨이퍼 안착단(14a,14b)의 돌출부의 돌출된 정도(d)는 웨이퍼의 크기에 따라 달라질 수 있으나, 대략 0.04 내지 0.2㎜의 범위에 속하도록 형성되어 웨이퍼(W) 면에 손상을 주지 않도록 하는 것이 바람직하다. 돌출된 정도(d)가 0.04㎜ 미만일 경우에는 웨이퍼(W)의 슬립현상 발생 시 상기 웨이퍼(W)가 상기 돌출부에 걸치는 면적이 적어서 예비정렬 테이블(18) 위에 수평으로 놓이기 어려운 문제점이 있고, 0.2㎜를 초과할 경우에는 상기 센터링 가이드의 좌·우측 가이드 블록(12a,12b)이 다시 양쪽으로 멀어질 때 웨이퍼(W)와 상기 돌출부간의 마찰로 인하여 맞추어 놓은 웨이퍼(W)의 정렬이 틀어지는 문제점이 있다.The projecting degree d of the protrusions of the
또한, 상기 웨이퍼 안착단(14a,14b)의 두께(h)는 대략 1 내지 3㎜의 범위에 속하도록 형성될 수 있다. 웨이퍼 슬립현상 발생 시 이 웨이퍼(W)의 틀어지는 높이가 통상 1㎜ 정도 벗어나기 때문에, 두께(h)가 1㎜ 미만일 경우에는 이러한 슬립현상에 대처할 수 없는 문제점이 있고, 3㎜ 초과일 경우에는 익스체인지 챔버 내의 공간이 부족하게 되어 상기 센터링 가이드(10)의 움직임을 제한하게 되는 문제점이 있다.In addition, the thickness h of the
상기 슬립 방지턱(16a,16b)은 상기 좌·우측 가이드 블록에 부착되는 각각의 웨이퍼 안착단(14a,14b)의 대향면에 부착되고, 중심쪽-예비정렬 테이블(18)쪽-을 향해 하향 경사지게 형성된다.The
특히, 상기 슬립방지 턱은 하향 경사면이 수평면과 이루는 각도(θ)가 35°내지 55°의 범위에 속하도록 형성되는 것이 바람직하다. 각도(θ)가 35°미만일 경우에는 상기 웨이퍼 안착단(14a,14b)가 고정된 상태에서 상대적으로 상기 슬립 방지턱(16a,16b)이 길어져야 하는 바, 웨이퍼(W)와 슬립 방지턱(16a,16b)간의 간격이 줄어들므로 웨이퍼 슬립현상 발생 시 이 웨이퍼(W)를 끌어올릴 수 있는 공간이 줄어드는 문제점이 있고, 55°초과일 경우에는 웨이퍼 슬립현상 발생 시 웨이퍼(W)가 웨이퍼 안착단(14a,14b)으로 이동하기 어렵고, 이 때 좌·우측 가이드 블록이 무리하게 이동하면서 웨이퍼(W)의 에지에 직접적으로 충격을 가하게 되는 문제점이 있다.In particular, the anti-slip jaw is preferably formed such that the angle (θ) of the downward inclined surface is in the range of 35 ° to 55 °. When the angle θ is less than 35 °, the
한편, 상기 웨이퍼 안착단(14a,14b)과 슬립 방지턱(16a,16b)을 포함하여 구 성되는 웨이퍼 슬립 방지수단은 세라믹류의 재료로 제조될 수 있으며, 또한 스테인레스강을 재료로 제조될 수도 있다.On the other hand, the wafer slip prevention means including the wafer seating end (14a, 14b) and the slip prevention jaw (16a, 16b) may be made of a ceramic material, or may be made of stainless steel material. .
뿐만 아니라, 상기 슬립 방지턱(16a,16b)과 웨이퍼 안착단(14a,14b)은 동일한 재료로 일체로 제조될 수 있으며, 또한 서로 다른 재료로 별개로 제조되어 합체하는 것도 가능하다.In addition, the slip prevention jaw (16a, 16b) and the wafer seating end (14a, 14b) may be integrally made of the same material, it is also possible to be separately manufactured and merged with different materials.
본 발명에 따른 센터링 가이드(10)의 작동을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the operation of the centering
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 센터링 가이드의 작동을 설명하기 위한 단면도이다.Figure 4 is a cross-sectional view for explaining the operation of the centering guide according to an embodiment of the present invention.
로봇 아암(미도시)에 의해 집어진 웨이퍼(W)가 예비정렬 테이블(18)에 놓이게 되면, 상기 예비정렬 테이블(18)의 좌·우측에 벌어져 있던 센터링 가이드(10)의 좌·우측 가이드 블록(12a,12b)이 중심쪽을 향해 서서히 이동한다.When the wafer W picked up by the robot arm (not shown) is placed on the preliminary alignment table 18, the left and right guide blocks of the centering
이 때, 여러 공정을 거치면서 불균형적인 표면을 가지게 되는 웨이퍼(W)는 자칫 처지게 쉬운데, 상기 웨이퍼 슬립 방지수단의 슬립 방지턱(16a,16b)이 상기 웨이퍼(W)의 에지를 받쳐주면서 종래기술의 문제점인 웨이퍼(W)가 가이드 블록(12a,12b)의 밑으로 들어가는 것을 방지할 수 있게 된다.In this case, the wafer W having an unbalanced surface through various processes is easily liable to fall, and the
센터링 가이드(10)의 좌·우측 가이드 블록(12a,12b)이 점점 좁혀지다가, 상기 가이드 블록(12a,12b)의 만곡진 대향면에 상기 웨이퍼(W)의 에지가 접하는 순간 다시 원래의 위치로 벌어져 이동한다.The left and right guide blocks 12a and 12b of the centering
이 때, 상기 웨이퍼 슬립 방지수단의 웨이퍼 안착단(14a,14b)에 웨이퍼(W)가 순간적으로 살짝 걸쳐지면서 수평을 이루는데 도움을 준다. At this time, the wafer W is instantaneously slightly spread over the wafer seating ends 14a and 14b of the wafer slip preventing means, and helps to level the wafer.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 센터링 가이드에 의하면, 웨이퍼 슬립 방지수단을 구비함으로써 예비정렬을 위한 중심잡기 과정에서 웨이퍼의 슬립으로 인한 긁힘 또는 파단을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the centering guide according to the present invention, by providing a wafer slip prevention means, it is possible to prevent scratches or fractures due to slip of the wafer during the centering process for preliminary alignment.
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KR20000020064A (en) * | 1998-09-17 | 2000-04-15 | 윤종용 | Method for centering semiconductor wafer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20030080548A (en) | 2003-10-17 |
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Legal Events
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