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KR100809915B1 - 포물면 반사기 또는 대응하는 타원면/쌍곡면 쌍의반사기를 사용하는 집속 및 수집용 광학 시스템 - Google Patents

포물면 반사기 또는 대응하는 타원면/쌍곡면 쌍의반사기를 사용하는 집속 및 수집용 광학 시스템 Download PDF

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KR100809915B1
KR100809915B1 KR1020017016902A KR20017016902A KR100809915B1 KR 100809915 B1 KR100809915 B1 KR 100809915B1 KR 1020017016902 A KR1020017016902 A KR 1020017016902A KR 20017016902 A KR20017016902 A KR 20017016902A KR 100809915 B1 KR100809915 B1 KR 100809915B1
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케네쓰 케이. 리
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웨이비엔, 인코포레이티드
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Abstract

집속 및 수집용 광학 시스템은 시준용 반사기(30)와 집속용 반사기(40)를 포함한다. 상기 시준용 반사기(30)는 초점(36)과 광축(38)을 지니는 순환하는 포물면의 일부분을 포함한다. 상기 집속용 반사기(40)는 초점(46)과 광축(48)을 지니는 순환하는 포물면을 포함한다. 상기 시준용 반사기(30)의 초점(36)에 배치된 전자기 방사선 소스선의 시준된 비임을 발생시킨다. 상기 집속용 반사기(40)는 상기 시준된 비임을 수용하도록 배치되어, 그것을 상기 집속용 반사기(40)의 초점(46)에 배치된 타겟(60)을 향하여 집속시킨다.

Description

포물면 반사기 또는 대응하는 타원면/쌍곡면 쌍의 반사기를 사용하는 집속 및 수집용 광학 시스템{CONDENSING AND COLLECTING OPTICAL SYSTEM USING PARABOLIC REFLECTORS OR A CORRESPONDING ELLIPSOID/HYPERBOLOID PAIR OF REFLECTORS}
본 출원은 2000년 3월 29일자 미국특허 가출원 제60/192,879호, 2000년 1월 28일자 미국특허 가출원 제60/178,700호 및 1999년 7월 1일자 미국특허 가출원 제60/141,832호의 내용을 우선권을 주장하며, 상기 출원의 내용은 본 발명에 참고로 포함된다.
본 발명은 전자기 방사선을 수집하고 집속시키기 위한 시스템에 관한 것이며, 특히, 방사선 소스로부터 방사된 방사선을 수집하고, 그 수집된 방사선을 타겟상으로 집속시키기 위하여 포물면 반사기를 합체하는 시스템에 관한 것이다.
단일 화이버 또는 화이버 번들, 또는 투광기(projector)의 균질화기에 대한 출력부와 같은 표준 도파관(waveguide)내로 전자기 방사선을 수집하고, 집속시키며, 결합시키는 시스템의 기능적 목적은 타겟에서 전자기 방사선의 밝기를 최대화하는 것(다시 말하면, 선속 강도를 최대화하는 것)이다. 종래기술에서는, 구면, 타원면, 및 포물면 반사기를 포함하는 소위 축-상 반사기(on-axis reflector) 시스 템 및 구면, 환상 및 타원면 반사기를 포함하는 축-외 반사기 시스템을 사용한다. 타겟이 전자기 방사선 소스의 아크 간극(arc gap)의 크기와 같은 크기를 지닐 경우, 축-외 반사기 시스템은 타겟에서 축상 반사기 시스템보다 더 높은 효율과 밝기를 달성함으로써, 화이버 광학 타겟에 의해 수집될 수 있는 광의 양을 최대화한다. 전자기 방사선의 아크 간극보다 훨씬 더 큰 크기를 지니는 타겟에 대하여는, 축상 반사기 시스템과 축외 반사기 시스템 모두가 방사선 소스로부터 도파관내로 방사선을 수집하고, 집속시키며, 결합하는데 효과적이다.
축상 반사기 시스템의 단점은, 그 축상 반사기 시스템이 방사선을 방사선 소스로부터, 방사된 방사선의 방향에 좌우되는 보다 큰 이미지내로 본질적으로 방향변경함으로써, 방사선 소스가 비간섭성으로 될 경우 방사선을 가능한 한 가장 작은 점으로 집중시키는 목적을 좌절시킨다는 것이다. 예를들면, 공지된 축상 타원면 시스템은, 전자기 방사선의 방사각도에 따라, 2내지 8의 범위의 배율을 발생시킨다. 그렇게 다양하게 확대된 방사선 빔은 서로 겹쳐짐으로써, 수집된 이미지의 일그러짐 및 확대를 초래한다.
더욱이, 타원면 수집 및 집속 시스템은 평행한(다시 말하면, 시준된) 방사선 비임을 발생시키지 않는다. 이것이 한가지 단점이 될 수 있는데, 그 이유는, 시준된 비임이 필요할 경우 수집된 방사선의 여과를 용이하게 할 수 있기 때문이다.
공지된 축상 포물면 시스템에 있어서, 반사된 비임의 발산은 또한 방사선 소스로부터의 방사 각도에 따른다. 더욱이, 그러한 시스템은 하나 이상의 초점 렌즈를 필요로 하는데, 상기 초점렌즈는 완전한 조건하에서 일그러진 이미지를 발생시 키며, 실제로는, 이미지의 크기를 증대시키며 밝기 또는 선속 강도를 감소시키는 매우 일탈된 이미지를 발생시킨다. 또한, 축상 시스템의 출력은 향상 순환적으로 대칭이므로, 비-원형 타겟에 대하여 부적절할 수 있다.
미국특허 제4,757,431호는, 작은 타겟을 조명하는 최대 선속 강도와 그 작은 타겟에 의해 수집될 수 있는 선속 강도의 양을 향상시키는 축외 구면 오목 반사기를 사용하는 개선된 집속 및 수집 시스템을 개시한다. 상기 시스템은, 축외 오목 반사기가 타원면으로 되는 미국특허 제5,414,600호, 및 축외 오목 반사기가 환상으로 되는 미국특허 제5,430,634호 보다 더 개선된 것이다. 상기 미국특허 제5,430,634호에 개시된 환상 시스템이 비점수차(astigmatism ; 非點收差)를 보정하며, 상기 미국특허 제5,414,600호의 타원면 시스템이 상기 미국특허 제4,757,431호의 구면 반사기 보다 더 정확한 결합을 제공하지만, 상기 각각의 시스템들은 고도로 만곡된 반사면상에 광학적 코팅의 적용을 필요로 한다. 상기 만곡된 반사면에 광학적 코팅의 적용은 비용이 많이 들며, 균일한 코팅 두께를 달성하는 것이 어렵다. 더욱이, 그러한 시스템에 있어서는, 소스 이미지(source image)가 비교적 작은 공간에서 소스로부터 타겟까지 직접적으로 집속됨으로써, 필터 및 감쇄기와 같은 다른 광학 요소들의 삽입을, 공간의 부족으로 인하여, 어렵게 한다.
분광학 분야에 있어서는, 전자기 방사선을 시험중인 샘플의 매우 작은 점으로 집속시킨 후, 그 샘플에 의해 반사된 방사선을 수집하는 것이 필요하다. 이러한 목적으로 축외 포물면 반사기가 사용되어 왔다. 미국특허 제3,986,767호는, 평행한 비임이 축외 포물면을 사용하여 시험중인 샘플 상의 작은 점으로 직접 집속되 는 시스템을 제시한다. 미국 재특허 제32,912호는, 포물면을 사용함으로써, 광이 하나의 반사 포물면을 사용하는 시험하의 샘플 상으로 집속되며, 동일한 초점으로부터의 광이 제2의 반사 포물면을 사용하여 수집되는 것을 제시한다. 미국특허 제4,473,295호는 반사 포물면들을 사용하여 시험하의 샘플 상으로, 또한 시험하의 샘플로부터의 방사선을 집속 및 수집하기 위한 또 다른 형태의 시스템을 개시한다.
미국특허 제5,191,393호와, 대응하는 유럽특허 제0 401 351 B1호는 소형의 광학 측정을 실시하기 위하여 광이 청정실(cleanroom) 외측의 위치로부터 청정실 내측의 위치까지 전달되는 시스템을 개시한다. 광을 수집 및 전달하기 위한 상기 특허에 개시된 구성 중 하나는 하나의 아크 램프, 2개의 포물면 반사기, 단일 화이버 타겟, 및 불필요한 파장을 여과하여 제거하기 위한 투과성 이색 필터를 포함한다. 제1의 포물면 반사기가 소스로부터 반사되는 여과반사기의 광을 수집하여, 시준된 비임을 발생시킨다. 그 시준된 비임은 제2의 포물면 반사기에 충돌하기 전에 하나 이상의 부가적인 필터를 통과할 수 있는데, 상기 제2의 포물면 반사기는 상기 시준된 비임을 단일 화이버 타겟 내로 수집하고 집속시킨다. 그러나, 상기 언급된 특허들 중 어느 것도, 타겟에서 최소의 일그러짐으로 최대의 선속 강도를 얻을 수 있도록 소스와 집속된 이미지 사이의 단위 배율을 이루기 위한 시스템을 개시하지는 않는다.
그러므로, 본 발명의 목적은, 포물면 반사기를 사용하여 전자기 방사선을 수집하고 집속시킴으로써 타겟에서 상기 집속된 방사선 비임의 선속 강도를 최대화하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 태양에 따르면, 전자기 방사선을 수집하고 집속시키기 위한 개선된 시스템은 포물면 반사기를 사용하며, 소스 이미지와 타겟에 집속된 이미지 사이에 단위 배율, 또는 거의 단위 배율을 달성함으로써, 타겟에서 최대의 집속 강도를 발생시킨다. 특히, 본 발명은 전자기 방사선의 소스로부터의 전자기 방사선을 수집하고, 상기 소스에 의해 방사된 전자기 방사선의 적어도 일부가 조명되는 타겟상으로 상기 수집된 방사선을 집속시키기 위한 광학장치에 관한 것이다. 그 장치는 시준용 반사기와 집속용 반사기를 포함한다. 상기 시준용 반사기는 순환하는 포물면의 적어도 일부분을 포함하며, 광축(optical axe) 및 상기 광축상의 초점을 지닌다. 상기 시준용 반사기의 초점에 인접하게 배치된 소스는 상기 광축에 평행한 방향으로 상기 시준용 반사기로부터 반사된 방사선의 시준된 광선을 발생시킨다. 상기 집속용 반사기는 순환하는 포물면의 적어도 일부분을 포함하며, 광축 및 상기 광축상의 초점을 지닌다. 상기 집속용 반사기는, 상기 시준용 반사기로부터 반사된 방사선의 시준된 광선이 상기 집속용 반사기에 의해 반사되어, 상기 집속용 반사기의 초점에 인접하게 배치된 타겟을 향하여 집속되도록 상기 시준용 반사기에 관한여 배치되고 배향된다. 상기 시준용 반사기와 상기 집속용 반사기는 약간 다른 형상을 지니거나 또는 실질적으로 동일한 크기와 형상을 지니며, 상호간에 광학적으로 대략 대칭을 배향됨으로써, 상기 시준용 반사기의 표면부분에 의해 반사된 방사선의 각각의 광선이, 상기 집속용 반사기의 대응하는 표면부분에 의해 실질적으로 단위 배율을 이루도록 상기 타겟을 향하여 반사될 수 있다.
재귀-반사기(retro-reflector)가 상기 시준용 반사기와 함께 사용되어, 상기 시준용 반사기로부터 이격되는 방향으로 상기 소스에 의해 방사된 방사선을 포획하여, 상기 포획된 방사선을 상기 소스(다시 말하면, 상시 시준용 반사기의 초점)을 통하여 상기 시준용 반사기를 향해 재귀 반사시킴으로써, 그곳으로부터 반사된 시준된 광선의 강도를 증대시킬 수 있다.
상기 시준 및 집속용 반사기들은, 그것들 각각의 광축들이 동일직선상에 정렬되는 대향하는 관계로 정렬될 수 있거나, 또는 상기 시준 및 집속용 반사기들은 서로에 관하여 일정한 각도로 정렬된 광축들을 갖도록 정렬될 수 있으며, 이 경우에는, 방향변경용 반사기가 사용되어, 상기 시준용 반사기에 의해 반사된 시준된 광선을 상기 집속용 반사기를 향하여 방향변경시킨다.
선택적으로, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기는 이들 중 하나가 실질적으로 타원면 형상을 지니고 이들 중 다른 하나는 대응하는 실질적으로 쌍곡면 형상을 지니는 타원면/쌍곡면의 쌍을 포함하는데, 상기 타원면/쌍곡면 쌍의 각 반사기는 서로에 대하여 대응하는 크기와 광학적 배향을 지님으로써, 상기 시준용 반사기의 표면부분에 의해 반사된 방사선의 각 광선이 상기 집속용 반사기의 대응하는 표면부분에 의해 타겟을 향해 반사되어, 바람직하게는 상기 타겟에 집속된 이미지와 상기 소스 사이에 대략 단위 배율을 달성한다. 적용에 따라서, 1보다 크거나 작은 배율, 즉 약 0.5 내지 약 5의 배율이 사용되어 감소한 밝기를 가져올 수 있다.
필터 등의 다른 광학 요소들이 시준용 반사기와 집속용 반사기 사이에 정렬될 수 있다.
본 발명의 실시예들이 첨부도면을 참고하여 설명되는데, 다양한 첨부도면에서 동일한 구성요소 또는 특징부는 동일한 참조번호로 표시된다.
도1은 본 발명에 따른 집속 및 수집 광학 시스템의 실시예의 횡단면으로 제시된 개략도이다.
도2는 본 발명에 따른 집속 및 수집 광학 시스템의 사시도이다.
도3은 본 발명의 집속 및 수집 광학 시스템의 변형 실시예의 횡단면으로 제시된 개략도이다.
도4는 본 발명의 집속 및 수집 광학 시스템의 다른 변형 실시예의 횡단면으로 제시된 개략도이다.
도5A는 본 발명의 집속 및 수집 광학 시스템의 또 다른 변형 실시예의 횡단면으로 제시된 개략도이다.
도5B는 도5A의 실시예의 선 A-A 로 지시된 방향에서 본 단면도이다.
도6은 본 발명의 집속 및 수집 광학 시스템의 또 다른 변형 실시예의 사시도이다.
도7A는 도6의 실시예의 선 A-A 로 지시된 방향에서 취해진 횡단면으로 제시된 개략도이다.
도7B는 도6의 실시예의 선 B-B 의 방향에서 취해진 횡단면으로 제시된 개략 도이다.
도8A내지 도8F는 본 발명의 실시예들에 사용될 수 있는 다수의 다각형 도파관 타겟의 횡단면 개략도이다.
도9는 본 발명에 사용될 수 있는 원형 횡단면 도파관 타겟의 개략도이다.
도10A는 본 발명의 한가지 실시예에 따른 증가하는 테이퍼의 도파관 타겟을 제시하는 개략 측면도이다.
도10B본 발명의 다른 실시예에 따른 감소하는 테이퍼의 도파관 타겟을 제시하는 개략 측면도이다.
이제, 도면을 참조하여, 본 발명의 예시적인 실시예들이 설명될 것이다. 이 실시예들은 본 발명의 원리를 설명하는 것이며, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 받아들여지지 말아야 한다.
본 발명의 대표적인 실시예를 제시하는 도1을 참고하면, 본 발명은 후술되는 4개의 주요 구성부품으로 결합되어 있다:
1. 전자기 소스
상기 전자기 소스(20)는 덮개(22)를 지니는 광 소스로 되는 것이 바람직하다. 상기 소스(20)은 크세논 램프, 금속-할라이드 램프, HID 램프, 또는 수은 램프와 같은 아크 램프를 포함하는 것이 가장 바람직하다. 일정한 용도를 위해, 아래에서 보다 상세하게 설명되는 바와 같이, 시스템이 램프의 비-불투명 필라멘트를 수용하도록 변형되는 경우, 필라멘트 램프, 예를들면, 할로겐 램프가 사용될 수 있 다.
2. 시준용 반사기
상기 시준용 반사기(30)는 광축(38) 및 초점(36)을 지니는 순환하는 포물면의 일부분을 포함한다. 도2에 제시된 실시예에 있어서, 시준용 반사기(30)는 순환하는 포물면의 제1의 사분면(32)과 제2의 사분면(34)을 포함한다. 변형적으로 시준용 반사기(30)는 순환하는 포물면의, 대략, 단일의 사분면을 포함할 수 있다. 상기 시준용 반사기(30)는 반사성 코팅(예를들면, 알루미늄 또는 은)을 지니는 것이 바람직하며, 그 표면은 고도의 광택을 낸다. 일정한 용도를 위해, 상기 시준용 반사기(30)는 파장-선택성 다층 유전 코팅으로 피복된 유리로 제조될 수 있다. 예를들면, 가시 파장에서만 높은 반사율을 갖는 콜드 코팅(cold coating)이 가시광선용으로 사용될 수 있다. 소스(20)이 상기 시준용 반사기의 초점(36)에 배치될 경우, 상기 반사기(30)와 접촉하는 전자기 방사선은 상기 반사기(30)의 광축(38)에 평행하게 시준된 비임으로서 반사될 것이다. 소스(20)이 아크 램프일 경우, 그 아크 간극은 상기 시준용 반사기(30)의 초점거리에 비하여 작게 되는 것이 바람직하다.
3. 집속용 반사기
상기 집속용 반사기(40)는 광축(48)과 초점(46)을 지니는 순환하는 포물면의 일부분을 포함한다. 도2에 제시된 바와 같이, 집속용 반사기(40)는 순환하는 포물면의 제1의 사분면(42)과 제2의 사분면(44)을 포함한다. 변형적으로, 집속용 반사기(40)는 순환하는 포물면의, 대략, 단일의 사분면을 포함할 수 있다. 상기 집속 용 반사기(40)는 상기 시준용 반사기(30)와 약간 다른 형상으로 되거나, 또는 상기 시준용 반사기(30)와 실질적으로 동일한 크기 및 실질적으로 동일한 형상으로 될 수 있다. 예를들면, 상기 시준용 반사기(30)가 순환하는 포물면의 단일의 사분면을 포함할 경우, 상기 집속용 반사기(40)는 순환하는 동일한 포물면의 실질적으로 단일의 사분면으로 되어야 한다.
상기 집속용 반사기(40)는 상기 시준용 반사기(30)에 의해 반사되는 시준된 전자기 방사선이 상기 집속용 반사기(40)의 포물표면에 충돌한 후, 상기 집속용 반사기(40)의 초점을 향해 집속되도록 배치되고, 배향된다. 상기 시준용 반사기(30)와 집속용 반사기(40) 사이의 단위 배율(다시 말하면, 소스와 실질적으로 동일한 크기로 되는 집속된 이미지)을 달성하기 위하여, 상기 시준용 반사기(30)의 표면부분에 의해 반사되고 시준된 전자기 방사선의 각각의 광선은, 상기 집속용 반사기(40)의 대응하는 표면부분에 의해 반사되고 집속되어, 가능한한 최대의 밝기로 되는 초점(46)에서 초점을 이루는 것이 중요하다. 본 명세서에 있어서, 시준용 반사기(30)의 표면 부분에 의해 시준된 전자기 방사선의 각각의 광선이 집속용 반사기(40)의 대응하는 표면부분에 의해 집속되도록 시준용 반사기(30)와 집속용 반사기(40)를 서로에 관하여 배향하고 배치한다는 것은, 상기 반사기들을 서로에 관하여 “광학적 대칭”상태로 배치하는 것으로 이해될 것이다.
4. 타겟
상기 타겟(60)은 가능한 한 가장 높은 강도의 조명을 필요로 하는 작은 물체이다. 적절한 실시예에 있어서, 상기 타겟(60)은 단일 코어 광학 화이버, 용융된 광학 화이버 번들, 화이버 번들, 또는 균질화기와 같은 도파관이다. 예를들면, 광학 화이버의 기단부와 같은 타겟의 입력단이 집속용 반사기(40)의 초점에 배치되어 집속용 반사기(40)에 의해 반사된 전자기 방사선의 집속된 광선을 그곳에서 수용한다.
위에서 언급된 바와 같이, 타겟(60)은 도파관으로 될 수 있으며, 또한 도8A 내지 도8F에 제시된 바와 같은 다각형 횡단면, 또는 도9에 제시된 바와 같은 원형 횡단면으로 될 수 있다. 또한, 타겟(60)은 도10A에 제시된 바와 같은 증가하는 테이퍼의 도파관, 또는 도10B에 제시된 바와 같은 감소하는 테이퍼의 도파관으로 될 수도 있다.
상기 타겟과 소스가 본 발명의 수집 및 집속 시스템과 밀접하게 관련되지만, 그것의 보다 넓은 태양에 따르면, 본 발명은 서로에 관하여 광학적 대칭으로 되도록 정렬되는 실질적으로 동일한 크기 및 형상의 2개의 포물면 반사기의 사용에 관한 것이다.
계속하여 상기 수집 및 집속 시스템을 설명하면, 도 1에 제시된 배치에 있어서, 시준용 반사기(30)와 집속용 반사기(40)는 서로를 향하여 오목하게 되도록 서로에 관하여 대향 관계로 배치된다. 도 1의 배치에 있어서, 각각의 광축(38,48)이 동일 직선상에 있도록 하고, 또한 시준용 반사기(30)의 반사면이 집속용 반사기(40)의 대응하는 반사면과 대향 관계로 되어 단위 배율을 이루도록 상기 시준용 반사기(30)와 상기 집속용 반사기(40)를 정렬함으로써 광학적 대칭이 달성된다.
변형 실시예에 있어서, 도 1을 참조하면, 시준용 반사기(30)와 집속용 반사기(40)는 이들(30,40) 중 하나가 실질적으로 타원면 형상을 지니고 이들(30,40) 중 다른 하나가 대응하는 실질적으로 쌍곡면 형상을 지니는 타원면/쌍곡면 쌍을 포함하는데, 상기 타원면/쌍곡면 쌍의 각 반사기는 서로에 대하여 대응하는 크기와 광학적 배열을 지님으로써, 시준용 반사기(30)의 표면부분에 의해 반사된 방사선의 각 광선이 집속용 반사기(40)의 대응하는 표면부분에 의해 타켓으로 반사되어, 바람직하게는 상기 타겟에 집속된 이미지와 상기 소스 사이에 대략 단위 배율을 달성한다. 적용에 따라서, 1보다 크거나 작은 배율, 즉 약 0.5 내지 약 5의 배율이 사용되어 감소한 밝기를 가져올 수 있다.
도2에 제시된 바와 같이, 시준용 반사기가 순환하는 포물면의 제1의 사분면(32)과 제2의 사분면(34)을 포함하고, 집속용 반사기(40)가 순환하는 포물면의 유사한 크기 및 형상의 제1의 사분면(42)과 제2의 사분면(44)을 포함할 경우, 2개의 독립적인 출력을 달성하도록, 2개의 타겟, 즉, 화이버(60a 및 60b)를 수용하는 것이 가능하다. 도시된 실시예에 있어서, 출력(60a)은 시준용 반사기(30)의 제2의 사분면(34)과 집속용 반사기(40)의 제2의 사분면(42)으로부터 전자기 방사선을 수용한다. 상기 출력(60b)은 상기 시준용 반사기(30)의 제1의 사분면(32)과 상기 집속용 반사기(40)의 제1의 사분면(42)으로부터 전자기 방사선을 수용한다. 2개의 화이버(60a 및 60b)의 동시 배치를 허용하기 위하여, 상기 집속용 반사기(40) 의 제1의 사분면(42)과 제2의 사분면(44)은 상호간에 상기 집속용 반사기(40)의 광축을 따라 공간적으로 소량 오프셋되어야 한다.
도1 및 도2에 제시된 바와 같이, 본 발명의 수집 및 집속 시스템은, 도시된 실시예에서 구면 재귀-반사기로 되는 재귀-반사기(50)의 사용을 포함할 수 있다. 상기 재귀-반사기(50)는 소스(20)에 의해 방사된 전자기 방사선을 포획하도록 배치되며, 그렇지 않을 경우 상기 전자기 방사선은 상기 시준용 반사기(30)에 충돌하지 않을 것이다. 보다 구체적으로, 상기 구면 재귀-반사기(50)는, 상기 시준용 반사기(30)로부터 이격되는 방향으로 상기 소스(20)에 의해 방사된 방사선이 상기 시준용 반사기(30)의 초점(36)을 통하여 재귀 상기 재귀-반사기에 의해 반사된 후, 상기 시준용 반사기(30)를 향하게 되도록 구성되고 정렬된다. 이와 같이 시준용 반사기(30)에 의해 반사된 방사선이 시준되어, 소스(20)로부터 직접 시준용 반사기(30)에 충돌하는 방사선에 부가됨으로써, 상기 집속용 반사기(40)를 향하여 반사되는 시준 방사선의 강도를 증대시킨다. 그 결과 집속용 반사기(40)의 초점(46)에서 방사선의 강도 또한 증대된다.
만일, 소스(20)로서 필라멘트 램프가 사용될 경우, 상기 재귀-반사기는, 그것이 상기 시준용 반사기(30)의 초점(36)을 통하여 재귀 방사선을 집속시키도록 배향될 수 없는데, 그 이유는 재귀-반사된 방사선이 상기 초점(36)에 배치된 불투명한 필라멘트에 의해 차단되기 때문이다. 이 경우, 상기 재귀-반사기(50)의 위치는 상기 재귀-반사된 방사선이 상기 초점(36)을 정확히 통과하지 않게 되도록 조절되어야 한다.
구면 재귀-반사기의 대안으로서, 상기 재귀-반사기의 기능은, 단위 요소들이 소스(20)의 아크 사이즈 정도의 크기로 되거나 또는 더 작은 크기로 되는 이차원 코너 입방 배열(도시되지 않았슴)로 실시될 수 있다. 이차원 코너 입방 배열을 사용하면, 재귀-반사기를 정확하게 배치할 필요성이 배제되며, 소스(20)의 아크에 보다 밀접한 초점을 발생시킬 것이다.
도1에 제시된 바와 같이, 상기 시준용 반사기(30)와 집속용 반사기(40)를 분리시키는 공간 거리로 인하여, 필터(56)와 같은 다양한 광학 요소들이 반사기(30 및 40)들 사이에 삽입될 수 있다. 상기 반사기(30 및 40)들 사이에서 전달되는 전자기 방사선이 시준되기 때문에, 상기 광학 요소들은 간단한 형상과 디자인으로 될 수 있다. 도1에 제시된 바와 같이, 필터(56)는 평면 필터이다.
도3은 본 발명의 수집 및 집속 시스템의 변형 배치를 제시한다. 도3의 배치에 있어서, 타겟(62)은 단일 광학 화이버가 아니며, 광하 화이버의 번들(62)이다(그러나, 제시된 배치는 상기 설명된 어떠한 타겟과도 함께 사용될 수 있다). 또한 도3의 배치에 있어서, 광축(48')과 초점(46')을 지니는 집속용 반사기(40')는 시준용 반사기(30)에 관하여 오프셋된다. 다시 말하면, 집속용 반사기(40')의 광축(48')은, 도1 및 도2의 실시예에서와 같이 시준용 반사기(30)의 광축(38)과 동일 직선상에 있지 않다. 상기 시준용 반사기(30)과 집속용 반사기(40')사이의 광학적 대칭(다시 말하면, 단위 배율)은, 상기 시준용 반사기(30)와 실질적으로 동일한 크기와 형상으로 되는 집속용 반사기(40')를 사용함으로써, 또한, 상기 시준용 반사기(30)로부터 반사되는 시준된 전자기 방사선의 경로에 방향변경용 반사기(64; redirecting reflector)를 정확하게 배치함으로써 달성된다. 상기 방향변경용 반사기(64)는, 반사된 방사선이 또한 시준되도록 평평한 반사기로 된다. 상기 방향변경용 반사기(64)와 집속용 반사기(40')는, 상기 방향변경되고, 시준된 방사선이 상기 시준용 반사기(30)와 집속용 반사기(40') 모두의 대응하는 표면부분으로부터 반사되도록 정확하게 배치된다.
도3에 제시된 배치는, 상기 시준용 반사기(30)와 상기 집속용 반사기(40')가 상호 동일 직선상에 있는 각각의 광축(38, 48')과 정렬되는 것을 허용하지 않는 공간적 제한 또는 다른 제한이 있는 경우에 사용될 수 있다. 광학적 대칭이 유지되는 한, 하나 또는 그 이상의 부가적인 방향변경용 반사기가 사용되어, 상기 집속용 반사와 상기 시준용 반사기의 부가적인 공간 변화를 허용할 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
상기 방향변경용 반사기(64)는 단순 반사기로 되거나, 또는 반사성 필터로 될 수 있다.
본 발명의 수집 및 집속 시스템의 다른 변형 장치가 도4에 제시되어 있다. 도4의 장치에 있어서, 상기 구면 재귀-반사기(50)는 상기 시준용 반사기(30)의 각각의 광축(38) 및 초점(36)과 일치하는 것이 바람직한 광축(78) 및 초점(76)을 지니는 순환하는 포물면을 포함하는 제2의 시준용 반사기(70)로 대체된다. 상기 제2의 시준용 반사기(70)는 상기 시준용 반사기(30)와 동일한 크기와 형상으로 되는 것이 바람직하다. 다시 말하면, 상기 시준용 반사기(30)가 순환하는 포물면의 단일 사분면을 포함할 경우, 상기 제2의 시준용 반사기(70) 또한 순환하는 유사한 포 물면의 단일 사분면을 포함할 것이다.
상기 제2의 시준용 반사기(70)의 출력단에 있는 광축(78)에 실질적으로 수직하게 평평한 반사기(72)가 배치된다. 도면에 제시된 바와 같이, 소스(20)에 의해 상기 시준용 반사기(30)로부터 이격되게 방사된 방사선은 상기 제2의 시준용 반사기(70)에 의해 반사되고 시준된다. 광축(78)에 평행한, 반사기(70)에 의해 반사되는 시준된 방사선이 상기 제2의 시준용 반사기(70)내로 재귀적으로 상기 평평한 반사기(72)에 반사된 후, 상기 초점(76 및 36)을 통하여 재귀적으로 상기 시준용 반사기를 향하여 반사됨으로써, 상기 집속용 반사기(40)를 향하여 반사된 시준된 방사선의 강도를 증대시킨다. 그러므로, 상기 제2의 시준용 반사기(70)와 평평한 반사기(72)는 함께 재귀-반사기로서 작용한다.
상기 시준용 반사기와 제2의 시준용 반사기가 각각, 순환하는 완전한 포물면을 함께 형성하도록 순환하는 포물면의 2개의 사분면을 포함할 경우, 상기 제2의 시준용 반사기의 각각의 사분면은 시준용 반사기의 정반대 편의 사분면을 향하여 방사선을 재귀-반사시킬 것이다.
본 발명의 수집 및 집속 시스템의 다른 변형 장치가 도5A 및 도5B에 제시되어 있다. 도5A의 장치에 있어서, 상기 시스템은 애노드(84), 캐소드 지지부재(86)에 의해 지지된 캐소드(82) 및 상기 애노드와 캐소드 사이의 아크(87)를 지니는 서맥스 램프(80; cermax lamp)를 포함하며, 그것은 도5A의 수집 및 집속 시스템의 소스를 구성한다. 상기 서맥스 램프(80)는 개방단에서 윈도우(88)에 의해 커버된 포물면 거울(81)을 포함한다. 순환하는 포물면의 제1의 사분면(92)과 제2의 사분면(94)을 포함하는 상기 포물면 거울(81)의 상반부가 상기 시스템의 시준용 반사기(90)를 구성한다. 순환하는 포물면의 제3의 사분면(102)과 제4의 사분면(104)을 포함하는 상기 포물면 거울(81)의 하반부가 제2의 시준용 반사기(100)의 제1 및 제2의 사분면을 각각 구성한다. 상기 시준용 반사기(90)는 초점(96)과 광축(98)을 지니며, 상기 제2의 시준용 반사기(100)는 상기 시준용 반사기(90)의 초점(96) 및 광축(98)과 각각 일치하는 초점(106)과 광축(108)을 지닌다. 평평한 반사기(110)가 상기 제2의 시준용 반사기(100)의 개방단 전반에 배치되어, 그것의 광축(108)에 수직하게 되도록 정렬된다.
도4의 장치와 같이, 아크(87)에서 시준용 반사기(90)를 향하여 직접 방사된 방사선은, 광축(98)에 평행한 시준된 광선으로 집속용 반사기(40)를 향하여 반사된다. 아크(87)에 의해 시준용 반사기(90)로부터 이격되게 방사된 방사선은 제2의 시준용 반사기(100)에 의해 평평한 반사기(110)를 향하여 반사되고 시준된다. 그후, 상기 방사선은 평평한 반사기(110)에 의해 상기 제2의 시준용 반사기(100)내로 재귀 반사되며, 상기 초점(96)을 통하여 상기 시준용 반사기(90)로 반사된다. 그러므로, 상기 제2의 시준용 반사기(100)와 평평한 반사기(110)는 함께 재귀-반사기로서 작용하는 것이다. 상기 재귀-반사된 방사선은, 상기 시준용 반사기(90)에 의해 직접 방사된 방사선과 함께, 상기 시준용 반사기(90)의 제1의 사분면(92)과 제2의 사분면(94)에 의해 시준되어, 상기 윈도우(88)를 통하여 서맥스 램프(80)를 빠져나가는 평평한 비임으로 된다. 타겟에서 집속된 이미지의 단위 배율을 달성하기 위하여, 상기 서맥스 램프의 시준용 반사기 부분과 동일한 크기 및 형상으로 되는, 광축(48) 및 초점(46)을 지니는 집속용 반사기(40)가 상기 시준용 반사기(90)에 관하여 광학적 대칭으로 배치된다. 상기 시준용 반사기(90)에 의해 반사되는 시준된 방사선은 상기 집속용 반사기(40)에 의해 아크(87)의 크기와 유사한 크기를 지니는 집속된 이미지 내로 집속될 것이다.
도6 및 도7은 순환하는 전체 포물면의 반사성 출력이 광축(128)과 초점(126)을 지니는 순환하는 포물면의 단일 사분면을 포함하는 집속용 반사기(120)내로 수립되고 집속되는 본 발명의 수집 및 집속 시스템의 다른 변형 장치를 제시한다. 특히, 상기 포물면 반사기(110)는, 광축(118)과 초점(116)은 지니며 순환하는 포물면의 단일 사분면을 포함하는 시준용 반사기(112)를 규정한다. 상기 포물면 반사기(110)는 광축(138)과 초점(136)을 지니는 제1의 2차 시준용 반사기(130), 광축(148)과 초점(146)을 지니는 제2의 2차 시준용 반사기(140) 및 광축(158)과 초점(156)을 지니는 제3의 2차 시준용 반사기를 더 규정한다. 상기 초점(116, 136, 146 및 156)들은 광축(118, 138, 148 및 158)과 마찬가지로 상호 일치하는 것이 바람직하다.
반사기(112)의 시준되고 반사된 출력을 집속용 반사기(120)를 향하여 방향변경시키도록 방향변경용 반사기(168)가 시준용 반사기(112)에 관하여 작동가능하게 배치되며, 상기 집속용 반사기(120)는 상기 시준용 반사기(112)에 관하여 광학적으로 대칭을 이루도록 배치되고 정렬된다. 반사기(168)는 단순 반사기 또는 반사성 필터로 될 수 있다.
제1의 평평한 반사기(160)가 상기 제1의 2차 시준용 반사기(130)의 전방에 작동가능하게 배치되며, 상기 광축(138)에 수직하게 되도록 정렬된다. 반사기(160)가 상기 제1의 2차 시준용 반사기(130)의 시준된 출력을 상기 반사기(130)내로 재귀으로 반사시킴으로써, 재귀-반사기로서 작용한다. 상기 재귀-반사된 방사선은 그후 초점(136)을 통하여 상기 제2의 2차 시준용 반사기(140)를 향하여 재귀 반사된다.
제2의 평평한 반사기(162)와 제3의 평평한 반사기(164)가 상호 직각으로 정렬되며, 제2의 2차 시준용 반사기(140)와 제3의 2차 시준용 반사기(150)의 전방에 각각 작동가능하게 배치된다. 상기 제2의 평평한 반사기(162)와 제3의 평평한 반사기(164)를 교차하는 직각에 의해 형성된 정점(166)이 광축(118,138,148,158)에 대하여 직각으로 정렬된다. 상기 제2의 2차 시준용 반사기(140)의 시준된 출력이 상기 제2의 평평한 반사기(162)로부터 상기 제3의 평평한 반사기(164)까지 반사되며, 그 후 상기 제3의 2차 시준용 반사기(150)로 재귀 반사된다. 따라서 재귀 반사된 방사선은 상기 제3의 2차 시준용 반사기(150)에 의해 그것의 초점(156)을 통하여 상기 시준용 반사기(112)로 향해지며, 그 후 상기 방향변경용 반사기(168)에 의해 방향변경되어 집속용 반사(120)로 향해진다.
상기 제3의 2차 시준용 반사기(150)의 시준된 출력은 상기 제3의 평평한 반사기(164)로부터 상기 제2의 평평한 반사기(162)까지 반사되며, 그 후 상기 제2의 2차 시준용 반사기(140)내로 재귀-반사된다. 따라서, 상기 재귀-반사된 방사선은 상기 제2의 2차 시준용 반사기(140)에 의해 상기 초점(146)을 통하여 상기 제1의 2차 시준용 반사기(130)까지 재귀적으로 향해진다.
따라서, 각각의 시준용 사분면(112, 130, 140 및 150)에 의해 수집된 광이 집속용 반사기(120)에 의해 타겟(122)내로 집중되고 집속된다는 것을 이해할 수 있다.

Claims (24)

  1. 전자기 방사선의 소스;
    상기 소스에 의해 방사된 전자기 방사선의 적어도 일부로 조명되는 타겟;
    광축 및 상기 광축상의 초점을 지니는 시준용 반사기로서, 상기 소스가 상기 시준용 반사기의 상기 초점에 인접하게 배치되어, 상기 시준용 반사기로부터 상기 광축에 실질적으로 평행한 방향으로 반사된 방사선의 시준된 광선을 발생시키는 시준용 반사기; 및
    순환하는 포물면의 적어도 일부를 포함하며, 광축 및 상기 광축상의 초점을 지니는 집속용 반사기로서, 상기 타겟이 상기 집속용 반사기의 상기 초점에 인접하게 배치되고, 상기 집속용 반사기는, 상기 시준용 반사기로부터 반사된 방사선의 시준된 광선이 상기 집속용 반사기에 의해 반사되어 실질적으로 상기 타겟을 향해 집속되도록 상기 시준용 반사기에 관하여 배치되고 배향되는 집속용 반사기;
    를 포함하는 광학장치로서, 상기 시준용 반사기와 상기 집속용 반사기는,
    (a) 한 쌍의 반사기로서, 상기 반사기 쌍의 각 반사기는 순환 포물면의 적어도 일부를 포함하고 동일한 크기와 형상을 지니며, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기는 서로에 대하여 대응하는 크기와 광학적 배향을 지님으로써, 상기 시준용 반사기의 표면부분에 의해 반사된 방사선의 각 광선이 상기 집속용 반사기의 대응하는 표면부분에 의해 상기 타켓을 향하여 반사되어, 상기 타켓에 집속된 이미지와 상기 소스 사이에 실질적으로 단위 배율을 달성하게 하는 한 쌍의 반사기; 및
    (b) 타원면/쌍곡면 쌍의 시준용 반사기와 집속용 반사기를 포함하는 한 쌍의 반사기로서, 상기 타원면/쌍곡면 쌍의 시준용 반사기와 집속용 반사기 중 하나는 실질적으로 타원면 형상을 지니고 다른 하나는 대응하는 실질적으로 쌍곡면 형상을 지니며, 상기 타원면/쌍곡면 쌍의 각 반사기는 서로에 대하여 대응하는 크기와 광학적 배열을 지님으로써, 상기 시준용 반사기의 표면부분에 의해 반사된 방사선의 각각의 광선이 상기 집속용 반사기의 대응하는 표면부분에 의해 상기 타겟을 향해 반사되어, 상기 타겟에 집속된 이미지와 상기 소스 사이에 0.5 내지 5의 배율을 달성하게 하는 한 쌍의 반사기;
    로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 반사기 쌍을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 소스와 상기 타겟에 집속된 상기 이미지 사이에 단위 배율이 달성되는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 전자기 방사선의 소스에 의해 방사된 전자기 방사선의 일부가 상기 시준용 반사기상에 직접 충돌하며, 상기 전자기 방사선의 일부는 상기 시준용 반사기상에 직접 충돌하지 않으며, 상기 장치는 상기 시준된 광선의 선속 강도를 증대시키도록 상기 시준용 반사기에 직접 충돌하지 않는 전자기 방사선의 적어도 일부를 상기 시준용 반사기의 초점을 통하여 상기 시준용 반사기를 향해 반사시키도록 구성되고 정렬된 하나 이상의 부가적인 반사기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 부가적인 반사기는 상기 소스로부터 방사된 전자기 방사선을 상기 시준용 반사기의 초점을 통하여 상기 시준용 반사기를 향하여 상기 시준용 반사기로부터 이격된 방향으로 반사시키도록 상기 시준용 반사기 맞은편의 상기 소스의 측부에 배치된 구면 재귀-반사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 부가적인 반사기는,
    상기 시준용 반사기의 광축과 실질적으로 일치하는 광축 및 상기 시준용 반사기의 초점과 실질적으로 일치하는 초점을 지니는 순환하는 포물면의 일부를 포함하는 2차 시준용 반사기로서, 상기 소스로부터 상기 시준용 반사기로부터 이격된 방향으로 방사된 전자기 방사선이, 상기 2차 시준용 반사기로부터 상기 2차 시준용 반사기의 초점의 광축에 평행한 방향으로 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키도록 하는 2차 시준용 반사기 ; 및
    상기 2차 시준용 반사기의 광축에 실질적으로 수직한 대체로 평평한 반사기로서, 상기 평평한 반사기는 상기 2차 시준용 반사기의 광축에 평행한 방향으로 상기 평평한 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키기 위해 상기 2차 시준용 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 반사시키도록 구성되고 정렬되며, 상기 평평한 반사기로부터 반사된 시준된 광선이 상기 2차 시준용 반사기에 의해 상기 시준용 반사기를 향하여 상기 시준용 반사기의 초점을 통하여 반사되도록 하는 평평한 반사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 시준용 반사기는 순환하는 포물면의 하나 또는 2개의 사분면을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 집속용 반사기는 상기 시준용 반사기가 포함하는 것과 동일한 수의 순환하는 포물면의 사분면을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  8. 제3항에 있어서, 상기 시준용 반사기와 상기 집속용 반사기는 각각 순환하는 포물면의 단일 사분면을 포함하며, 상기 부가의 반사기들은,
    제1 , 제2 및 제3의 2차 시준용 반사기로서, 그것들은 상기 시준용 반사기의 광축과 실질적으로 일치하는 광축 및 상기 시준용 반사기의 초점과 실질적으로 일치하는 초점들을 지니는 순환하는 포물면의 사분면을 각각 포함함으로써, 상기 시준용 반사기로부터 이격되는 방향으로 상기 소스로부터 방사된 전자기 방사선이 상기 제1, 제2 및 제3의 2차 시준용 반사기로부터 상기 2차 시준용 반사기의 광축에 평행한 방향으로 방사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키도록 되는 제1, 제2 및 제3의 2차 시준용 반사기;
    상기 제1의 2차 시준용 반사기의 광축에 실질적으로 수직하게 되는 제1의 평평한 반사기로서, 상기 제1의 평평한 반사기는 상기 제1의 2차 시준용 반사기의 광축에 평행한 방향으로 상기 제1의 평평한 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키기 위해 상기 제1의 2차 시준용 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 반사시키도록 구성되고 정렬되면, 상기 제1의 평평한 반사기로부터 반사된 시준된 광선은 그 후 상기 제1의 2차 시준용 반사기에 의해 상기 제2의 시준용 반사기의 초점을 통하여 상기 제2의 2차 시준용 반사기를 향하여 반사되는 제1의 평평한 반사기 ; 및
    서로에 관하여 수직하게 배향되며, 상기 제2 및 제3의 2차 시준용 반사용 반사기의 전방에 작동가능하게 배치되는 제2 및 제3의 평평한 반사기로서, 상기 제2 및 제3의 평평한 반사기는,
    (1) 상기 제3의 2차 시준용 반사기의 광축에 평행한 방향으로 상기 제3의 평평한 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키기 위해, 상기 제2의 2차 시준용 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 상기 제2의 평평한 반사기로부터 상기 제3의 평평한 반사기를 향해 반사시키도록 구성되고 정렬되는데, 상기 제3의 평평한 반사기로부터 반사된 시준된 광선은 그 후 상기 제3의 2차 시준용 반사기에 의해 상기 시준용 반사기의 초점을 통하여 상기 시준용 반사기를 향하여 반사되며, 또한
    (2) 상기 제2의 2차 시준용 반사기의 광축에 평행한 방향으로 상기 제2의 평 평한 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키기 위해, 상기 제3의 2차 시준용 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 상기 제3의 평평한 반사기로부터 상기 제2의 평평한 반사기를 향해 반사시키도록 구성되고 정렬되는데, 상기 제2의 평평한 반사기로부터 반사된 시준된 광선은 그 후 상기 제2의 2차 시준용 반사기에 의해 상기 제1의 2차 시준용 반사기의 초점을 통하여 상기 제1의 2차 시준용 반사기를 향하여 반사되도록 되는 제2 및 제3의 평평한 반사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  9. 제2항에 있어서, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기의 상기 광축들은 상호간에 실질적으로 일치하며, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기는 서로에 관하여 대향하는 관계로 정렬되는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  10. 제2항에 있어서, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기의 상기 광축들은 서로에 관하여 일정한 각도로 정렬되며, 상기 광학장치는 상기 시준용 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 상기 집속용 반사기를 향하여 반사시키도록 구성되고 정렬된 방향변경용 반사기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  11. 제2항에 있어서, 상시 시준용 반사기에 의해 반사된 방사선의 시준된 광선을 여과하도록 상기 시준용 반사기와 상기 집속용 반사기 사이에 배치된 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  12. 제2항에 있어서, 상기 소스는 발광 아크 램프를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 아크 램프는 크세논 램프, 금속 할라이드 램프, HID 램프 또는 수은 램프를 포함하는 그룹으로부터 선택된 램프를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  14. 제2항에 있어서, 상기 소스는 필라멘트 램프를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  15. 제2항에 있어서, 상기 타겟은 단일 코어 광학 화이버, 화이버 번들, 융합된 화이버 번들 또는 균질화기를 포함하는 그룹으로부터 선택된 도파관을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 도파관은 원형 횡단면 도파관, 다각형 횡단면 도파관, 테이퍼진 도파관 및 그것들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  17. 전자기 방사선의 소스에 의해 방사된 전자기 방사선을 수집하고 상기 수집된 방사선을 타겟을 향하여 집속시키기 위한 광학장치로서, 상기 장치는,
    순환하는 포물면의 적어도 일부를 포함하는 시준용 반사기로서, 상기 시준용 반사기는 광축 및 상기 광축상의 초점을 지니며, 상기 시준용 반사기는, 전자기 방사선의 소스가 상기 시준용 반사기의 상기 초점에 인접하게 배치될 때 상기 광축에 평행한 방향으로 상기 시준용 반사기로부터 반사된 방사선의 시준된 광선을 발생시키는 시준용 반사기; 및
    순환하는 포물면의 적어도 일부를 포함하는 집속용 반사기로서, 상기 집속용 반사기는 광축 및 상기 광축상의 초점을 지니며, 상기 집속용 반사기는 상기 시준용 반사기로부터 반사된 방사선의 시준된 광선이 상기 집속용 반사기에 의해 반사되고 상기 집속용 반사기의 상기 초점에 인접하게 배치된 타겟을 향하여 밀접하게 집속되도록 상기 시준용 반사기에 관하여 배치되고 배향되도록 하는 집속용 반사기를 포함하며,
    상기 시준용 반사기와 상기 집속용 반사기는 실질적으로 동일한 크기와 형상을 지니며, 서로에 관하여 광학적으로 대칭으로 배향됨으로써, 상기 시준용 반사기의 표면부분에 의해 반사된 방사선의 각각의 광선이 상기 집속용 반사기의 대응하는 표면부분에 의해 상기 타겟을 향하여 반사되어, 상기 소스와 상기 타겟상에 집속된 이미지 사이에 실질적으로 단위 배율을 달성하도록 되는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 시준된 광선의 선속 강도를 증대시키기 위해 상기 시 준용 반사기의 초점을 통하여 상기 시준용 반사기를 향해 상기 시준용 반사기 상에 직접 충돌하지 않는 상기 소스에 의해 방사된 전자기 방사선의 적어도 일부를 반사시키도록 구성되고 정렬된 하나 이상의 부가적인 반사기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 부가적인 반사기는, 상기 시준용 반사기로부터 이격된 방향으로 상기 소스부터 방사된 전자기 방사선을 상시 시준용 반사기의 초점을 통하여 상기 시준용 반사기를 향하여 반사시키도록 상기 시준용 반사기 맞은편의 소스의 측부상에 배치된 구면 재귀-반사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  20. 제18항에 있어서, 상기 부가적인 반사기는,
    상기 시준용 반사기의 광축과 실질적으로 일치하는 광축 및 상기 시준용 반사기의 초점과 실질적으로 일치하는 초점을 지니는 순환하는 포물면의 일부를 포함하는 2차 시준용 반사기로서, 상기 소스로부터 상기 시준용 반사기로부터 이격된 방향으로 방사된 전자기 방사선이, 상기 2차 시준용 반사기로부터 상기 2차 시준용 반사기의 초점의 광축에 평행한 방향으로 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키도록 하는 2차 시준용 반사기 ; 및
    상기 2차 시준용 반사기의 광축에 실질적으로 수직한 대체로 평평한 반사기로서, 상기 평평한 반사기는 상기 2차 시준용 반사기의 광축에 평행한 방향으로 상 기 평평한 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 발생시키기 위해 상기 2차 시준용 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 반사시키도록 구성되고, 정렬되며, 상기 평평한 반사기로부터 반사된 시준된 광선이 상기 2차 시준용 반사기에 의해 상기 시준용 반사기를 향하여 상기 시준용 반사기의 초점을 통하여 반사되도록 하는 평평한 반사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  21. 제17항에 있어서, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기의 상기 광축들은 상호간에 실질적으로 일치하며, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기는 서로에 관하여 대향하는 관계로 정렬되는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  22. 제17항에 있어서, 상기 시준용 반사기와 집속용 반사기의 상기 광축들은 서로에 관하여 일정한 각도로 정렬되며, 상기 광학장치는 상기 시준용 반사기로부터 반사된 전자기 방사선의 시준된 광선을 상기 집속용 반사기를 향하여 반사시키도록 구성되고 정렬된 방향변경용 반사기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  23. 제17항에 있어서, 상시 시준용 반사기에 의해 반사된 방사선의 시준된 광선을 여과하도록 상기 시준용 반사기와 상기 집속용 반사기 사이에 배치된 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  24. 제2항에 있어서, 상기 시준용 반사기와 상기 집속용 반사기는 실질적으로 동 일한 크기와 형상을 지니며, 서로에 관하여 실질적으로 광학적 대칭으로 되도록 배향되는 것을 특징으로 하는 광학장치.
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