KR100793610B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents
플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한플라즈마 디스플레이 패널 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100793610B1 KR100793610B1 KR1020050093465A KR20050093465A KR100793610B1 KR 100793610 B1 KR100793610 B1 KR 100793610B1 KR 1020050093465 A KR1020050093465 A KR 1020050093465A KR 20050093465 A KR20050093465 A KR 20050093465A KR 100793610 B1 KR100793610 B1 KR 100793610B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- dielectric layer
- plasma display
- display panel
- barrier rib
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 34
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 7
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 claims description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 claims description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 claims description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 claims description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000012773 waffles Nutrition 0.000 claims description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 22
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 70
- 239000010408 film Substances 0.000 description 55
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazine Chemical compound C1=CN=NC=N1 FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- -1 benzyl diphenyl disulfide Chemical compound 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N diphenyl disulphide Natural products C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
- H01J9/242—Spacers between faceplate and backplate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/38—Dielectric or insulating layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
- H01J2211/361—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like characterized by the shape
- H01J2211/365—Pattern of the spacers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 기판 위에 어드레스 전극 및 유전체층을 형성하는 단계, 상기 유전체층 위에 베이스 필름과 감광성 유전체층으로 구성된 유전체 필름을 적층하는 단계, 노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하는 단계 및 상기 베이스 필름과 노광된 감광성 유전체층을 함께 박리하여 격벽 패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.
이러한 특징으로 인해, 본 발명은 공정이 단축되고, 전체 공정 시간이 감소하여 생산성이 향상되는 유리한 효과가 있다.
유전체 필름, 격벽, 플라즈마 디스플레이 패널
Description
도 1은 종래 기술에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 개략적으로 나타내는 분해사시도,
도 2는 종래 기술에 따른 클로즈드 타입 격벽의 구조를 개략적으로 나타내는 사시도,
도 3은 종래 기술에 따른 클로즈드 타입의 차등 격벽 구조를 개략적으로 나타내는 사시도,
도 4a 내지 4d는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 일실시예를 단면도로 나타내는 순서도,
도 5a 내지 5c는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 다른 실시예를 단면도로 나타내는 순서도,
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 사용되는 유전체 필름을 나타내는 단면도이다.
***도면의 주요 부호의 설명***
10 : 기판 11 : 어드레스 전극
12 : 유전체층 20 : 유전체 필름
21 : 보호 필름 22, 26 : 감광성 유전체층
23 : 베이스 필름
24, 27 : 노광되지 않은 감광성 유전체층(격벽 패턴)
25, 28 : 노광된 감광성 유전체층
30, 31 : 포토 마스크
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 형성함에 있어서, 점착성 있는 유전체 필름을 사용함으로써 현상 공정 없이 격벽을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하기 위한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(PDP : Plasma Display Panel)은 가스방전에 의해 발생되는 진공 자외선이 형광체를 여기시킬 때 형광체로부터 가시광선이 발생되는 것을 이용한 디스플레이 장치이다. 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 지금까지 디스플레이 장치로서 주종을 이루던 음극선관(CRT : Cathode Ray Tube)에 비해 두께가 얇고 가벼우며, 고선명의 대화면 구현이 가능하다는 점에서 각광을 받고 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 매우 강한 방전의 비선형성을 갖고 있어서, 점화전압 이하에서는 방전하지 않으므로 라인 수에 대한 제한이 없어 대형 제작이 가능하고 구동회로수를 줄이기 위한 다중화 기술을 이용할 수 있다. 또한 통상의 음극선관에 비하여 장수명이며 휘도와 휘도 효율이 높고 구조가 간단하며 제작이 용이한 점 등의 여러가지 장점을 갖고 있다. 이러한 장점으로 플라즈마 디스플레이 패널은 정보사회의 급신장에 따라 그 수요가 급증하고 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 방전셀에 인가하는 구동전압의 형식에 따라 교류형과 직류형으로 나누어지는데, 널리 사용되는 것은 교류형으로서, 교류형에 대하여 좀더 상세히 설명하면, 각 전극들이 유전체층 및 보호층에 의하여 방전층과 분리되어서 방전 현상시 발생되는 하전입자들을 상기 전극들이 흡수하지 않고 벽전하를 형성하게 되며 이 벽전하를 이용하여 다음 방전을 일으키도록 형성된 것이다.
도 1은 종래의 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 구성을 나타낸 분해사시도이다.
도시된 바와 같이 플라즈마 표시 장치는 하판 기판(110)과, 상기 하판 위에 형성된 어드레스 전극(111)과, 이 어드레스 전극이 형성된 하판 기판 위에 형성된 유전체층(112)과, 이 유전체층 상에 형성되어 방전거리를 유지시키고 셀간의 전기적 광학적 크로스 토크(Cross Talk)를 방지하는 격벽(113)과, 상기 격벽이 형성된 하판과 결합되며 상기 어드레스 전극과 직교하도록 소정의 패턴의 유지 전극쌍(114, 115)과 버스 전극쌍(114a, 115a)이 하면에 형성된 상판 기판(116)을 구비하여 구성된다. 상기 유지 전극쌍은 빛의 투과를 위하여 투명전극이 사용되며 투명전극의 높은 저항을 보상하기 위한 버스 전극이 접합된 형태가 일반적이다. 상기 격벽에 의해 구획된 방전공간 내의 적어도 일측에는 형광체층(117)이 형성되고, 상기 상판의 하면에는 전극들이 매립되는 유전체층(118)과 보호막(119)이 형성된다. 상기 방전공간에는 네온(Ne), 크세논(Xe) 등이 혼합된 방전가스가 주입된다.
이러한 플라즈마 디스플레이 패널의 화상을 구현할 때에는 전극에 방전개시전압을 인가하게 되며 보호막 위에서 플라즈마 방전이 일어난다. 이 때, 인가되는 전압의 크기는 전면과 후면기판 사이에 형성되는 방전공간의 간격, 방전공간내에 유입한 방전가스의 종류와 압력, 유전체와 보호막의 성질에 따라 결정된다. 플라즈마 방전시 방전공간 내의 양이온들과 전자들은 서로 반대의 극성(Polarization)을 가지고 이동하며 결국,보호막의 표면은 서로 반대되는 두 개의 다른 극성을 가진 부분으로 나누어진다. 이와 같은 벽전하들은 보호막이 근본적으로 저항이 높은 절연체이므로 보호막 표면에 남아 있으며 이러한 벽전하의 영향으로 방전개시전압보다 낮은 전압에서 방전이 유지되는 현상, 즉 교류형 플라즈마 디스플레이 패널 고유의 메모리 기능을 갖게 된다. 즉, 교류형 플라즈마 디스플레이 패널은 방전개시전압과 유지전압의 사이에서 구동되기 때문에 메모리 마진이 클수록 보다 안정한 상태의 구동이 가능하다.
상기 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 기판에 형성된 격벽의 구조를 살펴보면, 격벽이 스트라이프(Stripe) 형상으로 형성되어 있으며, 이러한 구조는 현재 일반적으로 널리 사용되고 있다. 그러나, 이러한 스트라이프 구조에서는 격벽과 유지전극쌍이 수직으로 교차되어 있어 방전영역이 격벽구조를 따라 연결되어 있다. 그 결과, 인접한 셀의 방전영향으로 인해 원하는 색상의 빛을 표현하지 못하게 되는 크로스 토크 현상이 발생될 수 있다는 문제점이 있다. 즉, 원하는 유지전극쌍 사이에서 방전이 일어나는 것은 물론 주위 셀과의 사이에서 방전이 일어날 수도 있다. 또, 상기한 스트라이프 타입의 격벽 구조에서는 격벽이 일정한 방향으로만 형성되어 있어 기계적 강도가 떨어지며, 그 결과 무너지거나 파손될 가능성도 있다.
이러한, 스트라이프 격벽 구조의 문제점을 보완하기 위한 연구 결과로 클로즈드(Closed) 타입의 격벽 구조가 제안 되고 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 클로즈드 타입의 격벽 구조는 격벽(113)이 가로방향으로 서로 연결되어 기계적 강도가 우수하고 각 셀이 하나의 방전 셀의 역할을 하므로 기존의 스트라이프 타입의 격벽 구조에서 발생될 수 있는 크로스 토크의 문제가 해결될 수 있다. 또, 기존의 스트라이프 타입의 격벽 구조보다 형광체가 도 포되는 면적이 많아 발광 효율이 크게 향상된다. 즉, 세로격벽뿐만 아니라 가로격벽에 형광체가 도포되어 한번의 방전으로 많은 빛을 발생할 수 있어 발광 효율이 크게 향상된다.
그러나, 클로즈드 타입의 격벽 구조는 상판과 하판이 밀착된 상황에서 각각의 셀들이 독립적인 방전 챔버의 구조를 갖게 되므로, 부분적으로 셀이 오염되거나 가스 발생이 심각한 경우에는 그 부분의 방전가스가 오염되어 부분적으로 셀들이 브레이크 다운(Break Down)될 수 있다.
상기한 문제점을 해결하기 위하여 도 3에 도시된 바와 같이, 클로즈드 타입의 격벽 구조에서 가로 방향의 격벽 높이를 상대적으로 낮게 하여 차등 격벽(130)을 형성하는 방법이 제안되었다.
전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성 방법으로는 샌드 블라스팅(Sand Blasting)방식, 스크린 프린트(Screen Print)방식, 에칭 방식 등이 알려져 있다.
상기 샌드 블라스팅 방식은 DFR(Dry Film Resist)를 라미네이션(Lamination) 한 후 노광, 현상, 샌딩 및 제거하는 공정을 반복적으로 실행해야하고, 그리고 에칭 방식에는 격벽제 도포 후 소성, 식각의 공정을 반복적으로 실행해야 한다. 이로 인하여 실제 공정 과정에서 많은 공정 시간이 소요되고, 많은 장비가 필요하고 그리고 재료비가 상승한다는 단점을 가진다. 스크린 프린트 방식은 패널의 크기가 커짐에 따라 인쇄시에 사용되는 스크린 마스크 또한 대형화가 필요하게 되어 생산 비용이 증가하고, 공정 특성상 인쇄 횟수가 반복됨에 따라 격벽의 변형이 발생하기 쉽고 인쇄 두께를 정밀하게 조절하기 어렵다는 문제점이 있다.
따라서, 상기와 같은 문제점을 해결하여 생산 수율을 높일 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법이 필요하다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 형성함에 있어서, 점착성 있는 유전체 필름을 사용함으로써 현상 공정 없이 격벽을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하기 위한 것이다.
본 발명은 기판 위에 어드레스 전극 및 유전체층을 형성하는 단계, 상기 유전체층 위에 베이스 필름과 감광성 유전체층으로 구성된 유전체 필름을 적층하는 단계, 노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하는 단계 및 상기 베이스 필름과 노광된 감광성 유전체층을 함께 박리하여 격벽 패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법이다.
또, 상기 격벽 패턴을 형성하는 단계 이 후에, 상기 격벽 패턴 위에 베이스 필름과 감광성 유전체층으로 구성된 유전체 필름을 적층하는 단계, 노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하는 단계, 상기 베이스 필름과 노광된 감광성 유전체층을 함께 박리하는 단계 및 상기 노광되지 않은 부분을 소성하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법이다.
또, 상판 기판, 상판 기판 아래에 형성된 유지 전극, 버스 전극, 상판 유전체층, 산화 마그네슘 보호막으로 구성되는 상판 및 하판 기판, 하판 기판 위에 형성된 어드레스 전극, 하판 유전체층, 격벽, 형광체층으로 구성되는 하판을 포함하여 구성되며 상기 격벽은 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널이다.
본 발명의 특징은 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 형성함에 있어서, 점착성 있는 유전체 필름을 사용함으로써 현상 공정 없이 격벽을 형성하는 것이다. 현재 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽은 샌드 블라스팅법 및 에칭 법의 경우에는 유전체 필름 방식이 적용되고 있지만 감광성법에는 상기 유전체 필름 방식이 적용되지 않는다. 실제로 감광성법에 적용하는 경우에도 점착성이 있는 시트가 아닌 페이스트 형태를 이용하게 되고, 이로 인하여 현상, 린스, 건조 등의 추가적인 공정을 필요로 한다.
본 발명에서 사용되는 유전체 필름의 감광성 유전체층은 감광성 물질 및 유전체층에 대하여 점착성이 있는 바인더를 포함하고 있다. 상기 감광성 물질은 빛에 노출되면 반응성을 갖게 되고 바인더와 결합하여 점착성을 감소시킨다. 따라서, 노광 부위의 감광성 유전체층은 점착성을 잃고 베이스 필름의 박리시 베이스 필름과 함께 박리되고 노광되지 않은 부분의 감광성 유전체층은 격벽 패턴을 형성하게 된다. 본 발명은 현상 공정을 배제함으로써, 공정 단축은 물론, 기존 공정 대비 재료비 절감 및 설비 투자 감소를 가져 올 수 있다. 또, 전체 공정 시간이 감소하여 생산성이 향상되는 유리한 효과가 있다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 기술적 특징을 상세하게 설명하기로 한다. 본 발명은 실시예에 의하여 보다 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이고, 첨부된 특허청구범위에 의하여 정해지는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
도 4a 내지 4d는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법의 일실시예를 단면도로 나타내는 순서도로서, 기판(10) 위에 어드레스 전극(11) 및 유전체층(12)을 형성하는 단계(도 4a), 상기 유전체층 위에 베이스 필름(23)과 감광성 유전체층(22)으로 구성된 유전체 필름을 적층하는 단계(도 4b), 노광된 감광성 유전체층(25)의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하는 단계(도 4c), 상기 베이스 필름(23)과 노광된 감광성 유전체층(25)을 함께 박리하여 격벽 패턴을 형성하는 단계 및 상기 격벽 패턴을 소성 또는 건조하는 단계(미도시)를 포함하여 이루어진다.
먼저, 기판(10) 위에 어드레스 전극(11) 및 유전체층(12)을 형성한다. 보다 상세하게 설명하면, 기판 위에 어드레스 전극 재료를 스퍼터링하여 0.1∼2.5㎛의 두께를 가진 박막을 형성시킨다. 이때, 상기 어드레스 전극 재료로는 금, 은, 니켈, 구리 등의 금속이 주로 이용된다.
이후, 상기 어드레스 전극 재료 위에 포토 레지스트(Photo Resist)를 0.5∼2.5㎛의 두께로 도포하고, 개구부가 형성된 마스크를 이용하여 상기 포토 레지스트를 선택적으로 노광시킨다. 이후, 상기 기판을 향해 포토 레지스트용 현상액을 분사하여 상기 포토 레지스트의 일부를 제거한다. 이때, 상기 포토 레지스트는 노광공정을 통해 노광된 감광성 유전체층의 화학적 조성이 변화되어 있기 때문에 현상액에 의해서 노광되지 않은 부분이 녹아서 상기 포토 레지스트 중 불필요한 부분은 제거되고 원하는 패턴 형상만이 남게 된다. 이후, 상기 기판을 향해 식각액을 분사하여 상기 어드레스 전극 재료의 일부를 제거한다. 이때, 현상공정에서 제거되지 않고 남아있는 포토 레지스트는 그 밑에 남아있는 어드레스 전극 재료가 식각액에 의해서 녹지 않도록 보호하는 역할을 한다. 이후, 식각공정을 마친 후에 불필요해진 포토 레지스트를 상기 기판으로부터 박리하면 유리기판 위에 원하는 패턴에 따라 형성된 어드레스 전극을 얻을 수 있게 된다.
다음으로, 상기 어드레스 전극(11)을 감싸도록 유전체층(12)을 형성한다. 상기 유전체층을 형성하는 방법으로는 스크린 인쇄법(Screen Printing Method)이 사용될 수 있다.
스크린 인쇄법은 기판에 유전체 페이스트를 도포한 다음 건조시키는 방법이다. 1회의 인쇄에 의해 형성되는 유전층의 높이는 15~25㎛이므로, 원하는 유전층의 높이를 얻기 위해서는 반복적인 인쇄가 필요할 수 있다.
다음으로, 상기 유전체층(12) 위에 베이스 필름(23)과 감광성 유전체층(22)으로 구성된 유전체 필름을 적층한다(도 4b).
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 유전체 필름(20)는 이형처리가 되어 있는 베이스 필름(23) 위에 감광성 유전체 페이스트를 도포하여 감광성 유전체층(22)을 형성한 다음, 이를 건조하고, 다시 보호 필름(21)을 라미네이션(Lamination)하여 제조된다. 감광성 유전체층은 유전체 조성물 외에 바인더 고분자, 광중합 단량체, 광중합 개시제 등을 포함한다. 상기 베이스 필름은 노광에 의하여 광중합 개시제가 반응할 수 있도록 자외선에 투명해야 하며 바람직하게는 가시광선에 투명한 것이 좋다. 상기 페이스트를 제조함에 있어서, 각 조성물이 고르게 혼합되지 않고 상분리가 일어날 경우, 광중합에 장애가 될 수 있으므로, 균일하게 혼합되도록 충분히 분산시키는 것이 필요하다.
상기 유전체 조성물은 산화납(PbO), 산화실리콘(SiO2), 산화붕소(B2O3), 산화아연(ZnO), 산화알루미늄(Al2O3) 등을 포함하여 이루어지며, 10~30의 유전율을 갖도록 조성비를 조절하는 것이 바람직하다.
바인더 고분자는 아크릴계 고분자, 폴리에스테르계 고분자, 폴리우레탄계 고분자 등이 사용될 수 있다. 후공정에서의 열분해성 등을 고려하였을 때 바람직하기로는 아크릴계 고분자가 좋다. 아크릴계 고분자는 메타크릴레이트 중합체 또는 메타크릴레이트 공중합체 등이 사용될 수 있다. 구체적인 예로는 메틸메타아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체, 에틸아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체, 프로필아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체, n-부틸아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체, 이소부틸아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체, 2-에틸헥실아크릴레이트와 메타아크릴산의 공중합체 등이 사용될 수 있다.
광중합 단량체는 가교결합을 할 수 있도록 적어도 하나 이상의 C-C 이중결합을 포함하고 있어야 한다. 구체적인 예로는 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 아크릴 산 올리고머 등이 사용될 수 있다.
광중합 개시제로는 트리아진계, 벤조인계, 아세토페논계, 이미다졸계, 트산 톤계 등의 화합물등을 혼합 사용할 수 있으며, 구체적인 예로는 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 n-부틸에테르, 벤조인 페닐에테르, 벤질 디페닐 디설파이드, 안트라퀴논, 나프토퀴논 등이 사용될 수 있다. 상기 광중합 개시제의 함량은 전체 조성물에 대하여 0.5~10 중량%로 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 함량이 0.5 중량% 미만이면 낮은 감도로 인하여 정상적인 패턴 구현이 어렵고 10 중량%를 초과하면 보존안정성에 문제가 발생할 수 있다.
상기 유전체 필름을 적층할 때는 보호 필름을 벗긴 후, 롤온도 110~120℃에서 압착하여 라미네이션을 한다.
다음으로, 노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광한다(도 4c). 도시된 바와 같이, 포토 마스크를 이용하여 격벽이 형성될 부분을 제외하고 나머지 부분을 노광한다. 광원으로는 수은 램프에서 발생되는 자외선을 사용하는 것이 좋다. 상기 노광된 감광성 유전체층은 광개시제에 의하여 광중합 단량체와 바인더 고분자간에 중합이 진행된다. 상기 광중합 단량체는 바인더 고분자의 측쇄에 결합하여 점착성을 감소시킨다. 보다 상세하게는 바인더 고분자 사이로 광중합 단량체가 침투하여 반응함으로써 바인더 고분자사이에 결합을 형성하여 망목 구조를 형성한다. 이 때, 상기 바인더 고분자는 점착성분이 나타내는 점착성을 잃고 망목 구조에 의한 탄성이 강해짐으로써 점착성이 감소하게 된다.
본 발명은 일반적인 스트라이프 타입의 격벽 구조 뿐만 아니라, 클로즈드 타입의 격벽 구조에도 적용이 가능하다. 따라서, 노광을 함에 있어서, 노광되는 부분, 즉, 방전 셀을 이루는 부분이 각각 구분되도록 노광 부분을 설정한다. 클로즈드 타입은 전술한 단순한 형태 외에도 와플형(Waffle Type), 벌집형(Honey Comb Type), SDR형(Segmented Electrode In Delta Color Arrayed Rectangular Subpixel Type) 등으로 형성될 수 있다.
다음으로, 상기 베이스 필름(23)과 노광된 감광성 유전체층(25)을 함께 박리하여 제1 격벽 패턴을 형성한다(도 4d). 상기 베이스 필름에 힘을 가하여 박리시킬때 노광된 감광성 유전체층은 점착성이 감소되었으므로 노광된 감광성 유전체층 및 유전체층으로부터 쉽게 박리되고 노광되지 않은 감광성 유전체층은 유전체층에 접착한 상태로 남아 격벽 패턴을 형성하게 된다.
다음으로, 상기 격벽 패턴(24)을 소성 또는 건조한다. 상기 소성을 통하여 유기물을 태워서 제거하고 유전체층의 무기 성분을 유리화하여 격벽을 최종적으로 형성한다. 소성은 바람직하게는 450~600℃에서 이루어지는 것이 좋다. 후술할 차등 격벽 구조의 형성에 있어서, 상기 소성은 생략되거나 건조로 대체될 수 있다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 다른 실시예는 상기 제1 격벽 패턴을 형성한 다음, 상기 격벽 패턴(24) 위에 베이스 필름(23)과 감광성 유전체층(26)으로 구성된 유전체 필름을 적층하는 단계(도 5a), 노광된 감광성 유전체층(28)의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하는 단계(도 5b), 상기 베이스 필름(23)과 노광된 감광성 유전체층(28)을 함께 박리하는 단계(도 5c) 및 상기 노광에 의해 노광되지 않은 감광성 유전체층 부분(27)을 소성하는 단계(미도시)를 포함하여 이루어진다.
본 실시예는 클로즈드 타입의 격벽 구조에 있어서, 방전 가스의 오염에 의해 부분적으로 방전셀의 브레이크 다운이 발생하는 것을 방지하기 위한 차등 격벽 구조를 형성하기 위한 것이다.
차등 격벽 구조는 격벽의 높이 차에 의하여 방전 가스가 이동할 수 있는 공간을 형성하는 것이 목적이고, 상기 공간이 과도하게 클 경우 오히려 크로스 토크의 발생이 문제될 수 있으므로, 상기 유전체 필름의 감광성 유전체층은 전술한 격벽 형성에 사용되는 유전체 필름의 감광성 유전체층보다 두께가 작은 것이 바람직하다.
본 실시예의 차등 격벽 구조는, 도 3에 도시된 바와 같이, 격벽의 가로 방향(제1방향)의 높이가 세로 방향(제2방향)의 높이보다 낮도록 형성하는 것이다. 즉, 상기 제1 격벽 패턴은 서로 다른 방향을 가지는 격벽 패턴을 포함하며, 상기 제1 격벽 패턴 위에서 노광되지 않은 감광성 유전체층 부분(27)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 서로 다른 방향을 가지는 격벽 패턴 중 어느 한 방향만을 가지는 제2 격벽 패턴인 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 격벽 패턴을 형성한 다음에, 본 발명에 따른 유전체 필름으로 다시 노광하는데 있어서, 격벽의 세로 방향(제2방향) 부분을 제외한 나머지 부분만을 노광할 수 있다. 을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법. 전술하였듯이, 클로즈드 타입의 격벽은 여러가지 형태가 있을 수 있으므로, 노광 부위는 격벽의 형태에 따라 변경 가능하다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 상판 기판, 상판 기판 아래에 형성된 유지 전극, 버스 전극, 상판 유전체층, 산화 마그네슘 보호막으로 구성되는 상판 및 하판 기판, 하판 기판 위에 형성된 어드레스 전극, 하판 유전체층, 격벽, 형광체층으로 구성되는 하판을 포함하여 구성되며, 상기 격벽은 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널이 바람직하다. 즉, 상기 격벽은 베이스 필름과 감광성 유전체층으로 구성된 유전체 필름이 상기 유전체층 위에 적층되고, 노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하며, 상기 베이스 필름과 노광된 감광성 유전체층을 함께 박리하여, 노광되지 않은 감광성 유전체층에 의해 패턴이 형성된 것을 특징으로 할 수 있다. 그러면, 도 4d 또는 도 5c에 도시된 바와 같이, 어드레스 전극(11)을 덮고 있는 유전체층(12) 상에 상기 노광되지 않은 감광성 유전체층에 의해 패턴이 형성된 격벽을 현상 공정 없이 제조할 수 있는 것이다.
상기 상판 기판, 상판 기판 아래에 형성된 유지 전극, 버스 전극, 상판 유전체층, 산화 마그네슘 보호막으로 구성되는 상판 및 하판 기판, 하판 기판 위에 형성된 어드레스 전극, 하판 유전체층, 격벽, 형광체층으로 구성되는 하판을 제조하고 이를 봉합한 다음, 회로를 실장하여 플라즈마 디스플레이 패널을 완성시키는 세부 공정은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 용이한 것인바, 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
이상에서 상술한 바와 같이, 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 형성함에 있어서, 점착성 있는 유전체 필름을 사용하여 현상 공정 없이 차등 격벽 구조를 형성함으로써, 공정 단축은 물론, 기존 공정 대비 재료비 절감 및 설비 투자 감소를 가져 올 수 있을 뿐만 아니라, 전체 공정 시간이 감소하여 생산성이 향상되는 유리한 효과가 있다.
또, 본 발명은 현상 공정을 배제함으로써, 현상액이 계면에 침투하여 격벽의 변형 등 문제를 일으키는 것을 방지할 수 있다.
또, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 클로즈드 타입의 차등 격벽 구조를 가짐으로써 방전 가스의 오염에 의해 부분적으로 방전셀의 브레이크 다운이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
Claims (12)
- 기판 위에 어드레스 전극 및 유전체층을 형성하는 단계;상기 유전체층 위에 베이스 필름과 감광성 유전체층-상기 감광성 유전체층은 점착성을 가지는 바인더를 포함함-으로 구성된 유전체 필름을 적층하는 단계;노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하는 단계; 및상기 베이스 필름과 노광된 감광성 유전체층을 함께 박리하여 제1 격벽 패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 제1 격벽 패턴은 각 방전셀이 독립된 클로즈드 타입의 격벽 패턴인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제2항에 있어서,상기 클로즈드 타입의 격벽 패턴은 와플형(Waffle Type), 벌집형(Honey Comb Type), SDR형(Segmented Electrode In Delta Color Arrayed Rectangular Subpixel Type) 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격 벽 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 제1 격벽 패턴을 형성하는 단계 이 후에,상기 제1 격벽 패턴을 소성하는 단계 또는 상기 제1 격벽 패턴을 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 제1 격벽 패턴을 형성하는 단계 이 후에,상기 제1 격벽 패턴 위에 베이스 필름과 감광성 유전체층-상기 감광성 유전체층은 점착성을 가지는 바인더를 포함함-으로 구성된 유전체 필름을 적층하는 단계;노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하는 단계;상기 베이스 필름과 노광된 감광성 유전체층을 함께 박리하는 단계; 및상기 노광에 의해 노광되지 않은 부분을 소성하는 단계를 더 포함하고,상기 제1 격벽 패턴은 서로 다른 방향을 가지는 격벽 패턴을 포함하며, 상기 제1 격벽 패턴 위에서 노광되지 않은 부분은 상기 서로 다른 방향을 가지는 격벽 패턴 중 어느 한 방향만을 가지는 제2 격벽 패턴인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 하나에 있어서,상기 감광성 유전체층은 유전체 조성물, 바인더 고분자, 광중합 단량체 및 광중합 개시제를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 유전체 조성물은 산화납(PbO), 산화실리콘(SiO2), 산화붕소(B2O3), 산화아연(ZnO), 산화알루미늄(Al2O3)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 바인더 고분자는 아크릴계 고분자인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 광중합 단량체는 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스 테르 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 아크릴 산 올리고머 중 선택된 하나 인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제6항에 있어서,상기 광중합 개시제는 트리아진계, 벤조인계, 아세토페논계, 이미다졸계, 트산톤계 또는 이들의 혼합물 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 하나에 있어서,상기 유전체 필름을 적층하는 단계는 롤온도 110~120℃에서 압착하여 적층하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
- 상판 기판, 상판 기판 아래에 형성된 유지 전극, 버스 전극, 상판 유전체층, 산화 마그네슘 보호막으로 구성되는 상판; 및하판 기판, 하판 기판 위에 형성된 어드레스 전극, 하판 유전체층, 격벽, 형광체층으로 구성되는 하판을 포함하여 구성되며,상기 격벽은 베이스 필름과 감광성 유전체층-상기 감광성 유전체층은 점착성을 가지는 바인더를 포함함-으로 구성된 유전체 필름이 상기 유전체층 위에 적층되고, 노광된 감광성 유전체층의 점착성이 감소되도록 상기 유전체 필름을 노광하며, 상기 베이스 필름과 노광된 감광성 유전체층을 함께 박리하여, 노광되지 않은 감광성 유전체층에 의해 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050093465A KR100793610B1 (ko) | 2005-10-05 | 2005-10-05 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한플라즈마 디스플레이 패널 |
| CNB200610139435XA CN100485850C (zh) | 2005-10-05 | 2006-09-22 | 等离子显示板障壁制造方法及采用其方法的等离子显示板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050093465A KR100793610B1 (ko) | 2005-10-05 | 2005-10-05 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한플라즈마 디스플레이 패널 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20070038292A KR20070038292A (ko) | 2007-04-10 |
| KR100793610B1 true KR100793610B1 (ko) | 2008-01-10 |
Family
ID=37817666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020050093465A Expired - Fee Related KR100793610B1 (ko) | 2005-10-05 | 2005-10-05 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한플라즈마 디스플레이 패널 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100793610B1 (ko) |
| CN (1) | CN100485850C (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102804439B (zh) * | 2009-05-25 | 2015-05-27 | 巴斯夫欧洲公司 | 可交联的电介质及其制备方法和用途 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990019754A (ko) * | 1997-08-29 | 1999-03-15 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽의 제조 방법 |
| KR20010039033A (ko) * | 1999-10-28 | 2001-05-15 | 김영남 | 플라즈마 표시판넬의 격벽 제조방법 |
-
2005
- 2005-10-05 KR KR1020050093465A patent/KR100793610B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-09-22 CN CNB200610139435XA patent/CN100485850C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990019754A (ko) * | 1997-08-29 | 1999-03-15 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽의 제조 방법 |
| KR20010039033A (ko) * | 1999-10-28 | 2001-05-15 | 김영남 | 플라즈마 표시판넬의 격벽 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN100485850C (zh) | 2009-05-06 |
| CN1925092A (zh) | 2007-03-07 |
| KR20070038292A (ko) | 2007-04-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2004363084A (ja) | プラズマディスプレーパネルの隔壁及びその製造方法 | |
| KR100793610B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 및 이를 이용한플라즈마 디스플레이 패널 | |
| JP2003123640A (ja) | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用モールドの製造方法及び隔壁の形成方法 | |
| JP3431596B2 (ja) | 電極付きプレートとその製造方法、並びにこれらを用いたガス放電パネルとその製造方法 | |
| JPH1055758A (ja) | 厚膜パターン形成方法 | |
| KR100315589B1 (ko) | 디스플레이패널용격벽의형성방법 | |
| KR100652340B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 상부구조의 제조방법 및 이를이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 | |
| KR100925093B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 | |
| KR100607240B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽용 조성물 | |
| KR100625985B1 (ko) | 유전체층이 개선된 플라즈마 디스플레이 패널과, 이를제조하기 위한 방법 | |
| KR100746782B1 (ko) | 이종 유전체층을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그제조방법 | |
| EP1742244A2 (en) | Method for manufacturing plasma display panel | |
| JP3459596B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
| JP3444875B2 (ja) | 電極付きプレートとその製造方法、並びにこれらを用いたガス放電パネルとその製造方法 | |
| KR20070010640A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 | |
| JPH11153860A (ja) | プラズマデイスプレイパネル用基板の製造法 | |
| JPH11191377A (ja) | プラズマディスプレイパネルの障壁及びその製造法 | |
| KR100587273B1 (ko) | 그라스의 이방성 에칭방법 및 이를 이용한 평판표시장치의 격벽 제조 방법 | |
| KR100738221B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 | |
| KR20050102745A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법 | |
| KR100684824B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 | |
| JP4058611B2 (ja) | 画像表示パネル用基板の製造方法 | |
| KR100745168B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽형성방법 | |
| KR100293512B1 (ko) | 플라즈마표시장치용격벽제조방법 | |
| KR20000019540A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20051005 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20061109 Patent event code: PE09021S01D |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20070618 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20071227 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20080103 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20080103 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| G170 | Re-publication after modification of scope of protection [patent] | ||
| PG1701 | Publication of correction | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20101223 Year of fee payment: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20101223 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |