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KR100784148B1 - Stagnation layer removal device and removal method of a fluid reduction furnace - Google Patents

Stagnation layer removal device and removal method of a fluid reduction furnace Download PDF

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KR100784148B1
KR100784148B1 KR1020060134540A KR20060134540A KR100784148B1 KR 100784148 B1 KR100784148 B1 KR 100784148B1 KR 1020060134540 A KR1020060134540 A KR 1020060134540A KR 20060134540 A KR20060134540 A KR 20060134540A KR 100784148 B1 KR100784148 B1 KR 100784148B1
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reduction furnace
gas
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flow
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Inventor
신기태
김도승
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주식회사 포스코
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Abstract

본 발명에 따른 유동 환원로의 정체층 제거장치는 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치되어 분산판의 상부에 형성되는 정체층을 제거하는 제1 가스 분사장치, 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치되어 분산판의 하부에 형성되는 정체층을 제거하는 제2 가스 분사장치 및 가스 덕트를 관통하여 설치되어 가스 덕트에 형성되는 정체층을 제거하는 제3 가스 분사장치를 포함한다.The stagnation layer removal device of the flow reduction furnace according to the present invention is installed through the outer wall of the flow reduction furnace to remove the stagnation layer formed on the top of the dispersion plate, installed through the outer wall of the flow reduction furnace And a second gas injector for removing the stagnant layer formed on the lower portion of the dispersion plate and a third gas injector installed through the gas duct to remove the stagnant layer formed in the gas duct.

Description

유동 환원로의 정체층 제거장치 및 제거방법{APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING STATIONARY BED OF FLUDIZED REDUCTION FURNACE}Apparatus and method for removing stagnant bed in a fluid reduction furnace {APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING STATIONARY BED OF FLUDIZED REDUCTION FURNACE}

도 1은 용철 제조장치의 일 실시예를 나타낸 개략도이다.1 is a schematic view showing an embodiment of a molten iron manufacturing apparatus.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 유동 환원로의 정체층 제거장치가 설치된 유동 환원로의 개략도이다.Figure 2 is a schematic diagram of a flow reduction furnace equipped with a stagnation bed removal apparatus of the flow reduction furnace according to an embodiment of the present invention.

도 3은 제1 가스 분사장치를 도시한 개략도이다.3 is a schematic view showing a first gas injector.

도 4는 제2 가스 분사장치의 개략도이다.4 is a schematic view of a second gas injector.

본 발명은 유동 환원로 정체층의 제거방법 및 제거장치에 관한 것으로서 보다 상세하게는, 유동 환원로 내의 불완전한 유동에 의해 유동 환원로 벽체나 분산판 상부에 형성되는 더스트나 분광 및 분환원철의 정체층을 제거하는 유동 환원로 정체층의 제거방법 및 제거장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and an apparatus for removing a stagnation bed in a fluid reduction furnace. More specifically, the present invention relates to a stagnation layer of dust, spectroscopic and reduced-reduction iron, which is formed on a wall of a flow reduction furnace or a distribution plate by incomplete flow in a fluid reduction furnace. The present invention relates to a method and a device for removing a stagnation bed for removing a fluidized bed.

철강 산업은 자동차, 조선, 가전, 건설 등의 전체 산업에 기초 소재를 공급하는 핵심 기간 산업으로서, 인류의 발전과 함께하여 온 가장 역사가 오래된 산업중의 하나이다. 철강 산업의 중추적인 역할을 담당하는 제철소에서는 원료로서 철 광석 및 석탄을 이용하여 용융 상태의 선철인 용철을 제조한 다음, 이로부터 강을 제조하여 각 수요처에 공급하고 있다.The steel industry is a key industry that supplies basic materials to the entire industry, such as automobiles, shipbuilding, home appliances, and construction, and is one of the oldest industries that has been with human development. Steel mills, which play a pivotal role in the steel industry, manufacture molten pig iron, molten pig iron, using iron ore and coal as raw materials, and then produce steel and supply it to each customer.

현재, 전세계 철 생산량의 60% 정도가 14세기부터 개발된 고로법으로부터 생산되고 있다. 고로법은 소결 과정을 거친 철광석과 유연탄을 원료로 하여 제조한 코크스 등을 고로에 함께 넣고 산소를 불어넣어 철광석을 철로 환원하여 용철을 제조하는 방법이다. Currently, about 60% of the world's iron production comes from blast furnace methods developed since the 14th century. The blast furnace method is a method of producing molten iron by reducing iron ore to iron by putting together coke prepared from sintering process and coking coal as a raw material into a blast furnace.

용철 생산 설비의 대종을 이루고 있는 고로법은 그 반응 특성상 일정 수준 이상의 강도를 보유하고 노내 통기성 확보를 보장할 수 있는 입도를 보유한 원료를 요구하므로, 전술한 바와 같이, 연료 및 환원제로 사용하는 탄소원으로는 특정 원료탄을 가공 처리한 코크스에 의존하며, 철원으로는 일련의 괴상화 공정을 거친 소결광에 주로 의존하고 있다. The blast furnace method, which is a large-scale of molten iron production equipment, requires a raw material having a certain level or more of strength and a particle size capable of ensuring ventilation in the furnace because of its reaction characteristics. Depends on the coke processed specific raw coal, and as a source of iron mainly depends on the sintered ore through a series of agglomeration process.

이에 따라 현재의 고로법에서는 코크스 제조 설비 및 소결 설비 등의 원료 예비처리 설비가 반드시 수반되므로, 고로 이외의 부대 설비를 구축해야 할 필요가 있을 뿐만 아니라 부대 설비에서 발생하는 제반 환경오염물질에 대한 환경오염 방지설비의 설치 필요로 인하여 투자 비용이 다량으로 소모되어 제조원가가 급격히 상승하는 문제점이 있다.As a result, the current blast furnace method necessarily involves preliminary treatment of raw materials such as coke production equipment and sintering equipment. Therefore, it is not only necessary to construct auxiliary equipment other than the blast furnace, but also to the environment for all environmental pollutants generated from the auxiliary equipment. Due to the need for the installation of pollution prevention equipment, there is a problem in that the cost of production is rapidly increased due to the large investment cost.

이러한 고로법의 문제점을 해결하기 위하여, 세계 각국의 제철소에서는 연료 및 환원제로서 일반탄을 직접 사용하고, 철원으로는 전세계 광석 생산량의 80% 이상을 점유하는 분광을 직접 사용하여 용철을 제조하는 용융 환원 제철법의 개발에 많은 노력을 기울이고 있다.In order to solve the problems of the blast furnace method, steel mills around the world use molten coal as a fuel and a reducing agent directly, and as a source of iron, molten reduction of molten iron by directly using spectroscopy that occupies 80% or more of the world's ore production. Many efforts are being made in the development of the steelmaking method.

용융 환원 제철법은 예비 환원과 최종 환원의 2단계 환원법이 주류를 이루고 있다. 종래의 용철 제조장치는 기포 유동층이 형성되는 유동 환원로와 여기에 연결되어 석탄 충전층이 형성되는 용융 가스화로로 이루어져 있다. 상온의 분광 및 부원료는 유동 환원로에 장입되어 예비 환원된다. The melt reduction steelmaking method is mainly composed of two-stage reduction methods, preliminary reduction and final reduction. Conventional molten iron manufacturing apparatus is composed of a fluid reduction furnace in which a bubble fluidized bed is formed and a melt gasification furnace in which a coal packed bed is formed. Spectroscopy and subsidiary materials at room temperature are charged to a flow reduction furnace and preliminarily reduced.

유동 환원로에는 용융 가스화로로부터 고온의 환원 가스가 공급되므로, 상온의 분광 및 부원료가 고온의 환원 가스와 접촉하여 승온된다. 이와 동시에, 상온의 분광 및 부원료는 90% 이상 환원되고, 30% 이상 소성되어 용융 가스 화로 내로 장입된다. Since the high temperature reducing gas is supplied from the melt gasification furnace to the fluid reduction furnace, the spectroscopy and subsidiary materials at room temperature are heated in contact with the high temperature reducing gas. At the same time, spectroscopy and secondary raw materials at room temperature are reduced by at least 90%, fired by at least 30% and charged into the melt gasifier.

한편, 유동 환원 공정에서 유동 환원로 내로 장입된 분광은 용융 가스화로로부터 공급되는 환원 가스에 의해 상승, 환원되는 과정을 거치는데, 각 입자의 크기, 밀도 등의 특성에 따라 일정 높이까지 상승하다가 대체로 가스 흐름이 거의 없는 유동 환원로의 내벽을 따라 다시 하강하게 된다.On the other hand, in the flow reduction process, the spectroscopic charge into the flow reduction furnace is raised and reduced by the reducing gas supplied from the melt gasification furnace, which rises to a certain height depending on the characteristics of each particle size, density, etc. It descends again along the inner wall of the flow reduction furnace with little gas flow.

그런데 조업상 급격한 가스류 변동 등 여러 가지 이유로 반응기의 주변류 형성이 원활하지 못한 경우, 하강하는 분광이 다시 상승하지 못하고 유동 환원로의 하부와 내벽 사이에 쌓여 층을 이룬다.However, if the periphery of the reactor is not formed for a variety of reasons, such as sudden gas flow changes in the operation, the descending spectroscopy does not rise again and forms a layer between the bottom of the flow reduction furnace and the inner wall.

이와 같이, 유동 환원로의 하부와 내벽 사이에 형성된 층을 정체층이라고 한다. 특히, 조업 불안정이 계속되거나 가스류 변동의 충격이 매우 큰 경우에는 정체층을 형성하는 분광이 다시 상승하지 못하고 유동 환원로의 내부에서 분광과 가스의 흐름을 방해하게 된다. Thus, the layer formed between the lower part and the inner wall of a fluid reduction furnace is called a stagnation layer. In particular, when the operation instability continues or the impact of gas flow fluctuations is very large, the spectral forming the stagnant layer does not rise again, and disturbs the flow of spectral and gas in the flow reduction furnace.

이와 같이 정체층으로 인하여 형성된 분광과 가스의 비정상적인 흐름은 정체 층을 더욱 성장시키고, 이는 다시 분광과 가스의 흐름을 더욱 방해하는 악순환을 이루게 되어 유동 환원로의 정상적인 기능을 크게 약화시킨다.The abnormal flow of spectral and gas formed by the stagnation layer further grows the stagnation layer, which in turn leads to a vicious cycle that further disturbs the flow of spectral and gas, greatly weakening the normal function of the flow reduction furnace.

따라서 이러한 정체층을 제거하기 위해 유동 환원 공정을 중지하고 유동 환원로를 냉각시킨 후 유동 환원로의 맨홀을 열고 삽이나 끌개 같은 청소도구, 청소용 장치 등을 이용해서 이를 제거한다. 이후 유동 환원로를 다시 가열하여 온도를 높인 후 가동을 실시한다. Therefore, in order to remove the stagnation layer, the flow reduction process is stopped, the flow reduction furnace is cooled, and the manhole of the flow reduction furnace is opened, and then removed using a cleaning tool such as a shovel or a drag, a cleaning device, and the like. After that, the flow reduction furnace is heated again to increase the temperature and then operate.

이를 휴지시간이라고 하는데, 냉각 후에도 유동 환원로의 싸이클론, 분산판의 상부 및 하부의 정체층을 제거하는데 상당한 시간이 소요되고 있어 전체 휴지시간이 매우 길다. 따라서 유동 환원로의 전체 가동율이 매우 저하되고 있다. This is called idle time, and after cooling it takes a considerable time to remove the cyclone of the flow reduction furnace, the stagnation layer of the upper and lower portions of the dispersion plate, the total downtime is very long. Therefore, the overall operation rate of the fluid reduction furnace is falling very much.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 조업 도중 또는 냉각 과정에서 유동 환원로의 정체층을 제거하여 재 유동화 시킨 후, 배출하여 전체 휴지시간을 단축하고 유동 환원로의 가동율을 향상시킬 수 있는 유동 환원로의 정체층 제거방법 및 제거장치를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to remove the stagnant bed of the flow reduction reactor during the operation or cooling process to re-fluidize, and then discharged to shorten the overall down time and operating rate of the flow reduction furnace The present invention provides a method and apparatus for removing a stagnation bed in a fluid reduction furnace capable of improving the efficiency of the reactor.

본 발명에 따른 유동 환원로의 정체층 제거장치는 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치되어 분산판의 상부에 형성되는 정체층을 제거하는 제1 가스 분사장치, 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치되어 분산판의 하부에 형성되는 정체층을 제거하는 제2 가스 분사장치 및 가스 덕트를 관통하여 설치되어 가스 덕트에 형성되는 정체층을 제거하는 제3 가스 분사장치를 포함한다.The stagnation layer removal device of the flow reduction furnace according to the present invention is installed through the outer wall of the flow reduction furnace to remove the stagnation layer formed on the top of the dispersion plate, installed through the outer wall of the flow reduction furnace And a second gas injector for removing the stagnant layer formed on the lower portion of the dispersion plate and a third gas injector installed through the gas duct to remove the stagnant layer formed in the gas duct.

제1 가스 분사장치는 가스를 유동 환원로의 내부로 공급하는 가스 공급관 및 가스 공급관에 연결되며, 가스를 분사하는 노즐 헤드부를 포함할 수 있다. 또한, 제1 가스 분사장치는 노즐 헤드부를 움직이도록 하는 유압 실린더를 더 포함할 수 있다.The first gas injector is connected to a gas supply pipe and a gas supply pipe for supplying gas into the flow reduction furnace, and may include a nozzle head part for injecting gas. In addition, the first gas injector may further include a hydraulic cylinder to move the nozzle head.

제2 가스 분사장치는, 유동 환원로의 외벽에 고정 설치되는 삽입관 및 삽입관에 결합되어 유동 환원로 내부로 가스를 분사하는 분사관을 포함할 수 있다. 또한, 삽입관은 분사관이 결합되는 측으로 배치되어 삽입관을 개폐하는 볼밸브를 포함할 수 있다. 또한, 삽입관은 유동 환원로의 내측으로 배치되는 더스트 유입 방지 캡을 포함할 수 있다. 삽입관은 유동 환원로의 아래 방향으로 가스를 분사하도록 배치될 수 있다.The second gas injector may include an insertion tube fixed to an outer wall of the flow reduction furnace and an injection tube coupled to the insertion tube to inject gas into the flow reduction furnace. In addition, the insertion tube may include a ball valve disposed to the side coupled to the injection tube to open and close the insertion tube. In addition, the insertion tube may include a dust inflow prevention cap disposed inside the flow reduction furnace. The insertion tube may be arranged to inject gas in the downward direction of the flow reduction furnace.

제3 가스 분사장치는 가스를 유동 환원로의 내부로 공급하는 가스 공급관 및 가스 공급관에 연결되며, 가스를 분사하는 노즐 헤드부를 포함할 수 있다. 제3 가스 분사장치는 노즐 헤드부를 움직이도록 하는 유압 실린더를 더 포함할 수 있다.The third gas injector is connected to a gas supply pipe and a gas supply pipe for supplying gas into the flow reduction furnace, and may include a nozzle head part for injecting gas. The third gas injector may further include a hydraulic cylinder for moving the nozzle head portion.

한편, 본 발명에 따른 유동 환원로의 정체층 제거방법은 유동 환원로 내부에서 상부와 하부 간의 차압을 측정하는 단계, 차압이 기 설정치 이상인 경우, 정체층 제거장치를 사용하여 불활성 가스를 유동 환원로 내부에 형성된 정체층에 분사하는 단계를 포함한다.On the other hand, the stagnation bed removal method of the flow reduction furnace according to the present invention is the step of measuring the differential pressure between the upper and lower inside the flow reduction furnace, when the differential pressure is more than the predetermined value, using the stagnation bed removal device to convert the inert gas to the flow reduction furnace Spraying the stagnant layer formed therein.

불활성 가스를 정체층에 분사하는 단계가 유동 환원로의 가동 중에 이루어질 수 있다. 또한, 불활성 가스를 정체층에 분사하는 단계가 유동 환원로의 냉각 중에 이루어질 수 있다. 이때, 불활성 가스는 질소 가스일 수 있다.Injecting an inert gas into the stagnation bed may occur during operation of the flow reduction furnace. In addition, the step of injecting the inert gas into the stagnation layer may be made during the cooling of the flow reduction furnace. In this case, the inert gas may be nitrogen gas.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있는 가장 바람직한 실시예와 첨부된 도면을 이용하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 이러한 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings and the most preferred embodiment which can be easily carried out by those skilled in the art. These examples are merely to illustrate the invention, but the invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유동 환원로의 정체층 제거방법 및 제거장치가 사용될 수 있는 용철 제조장치(1000)의 일 실시예를 나타낸 개략도이다. 도 1에 도시한 용철 제조장치(1000)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 다른 구조로 이를 변형할 수도 있으며 기타 다른 장치를 포함할 수 있다. Figure 1 is a schematic diagram showing an embodiment of a molten iron manufacturing apparatus 1000 that can be used to remove the stagnation layer and removal apparatus of the flow reduction furnace according to an embodiment of the present invention. The structure of the apparatus for manufacturing molten iron 1000 shown in FIG. 1 is merely for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto. It is therefore possible to modify this to other structures and include other devices.

용철 제조장치(1000)는 환원로인 유동 환원로(100), 용융 가스화로(300) 및 환원 가스 공급관(400)을 포함한다. The molten iron manufacturing apparatus 1000 includes a flow reduction furnace 100, a melt gasifier 300, and a reduction gas supply pipe 400, which are reduction furnaces.

또한, 용철 제조장치(1000)는 유동 환원로(100)와 용융 가스화로(300) 사이에 연결된 괴성체 제조장치(500)와 고온 균배압 장치(600)를 더 포함할 수 있다. 이외에 용철 제조장치(1000)는 용철 제조에 필요한 기타 여러 가지 장치를 더 포함한다. In addition, the molten iron manufacturing apparatus 1000 may further include a compacted material manufacturing apparatus 500 and a high temperature uniform pressure-reducing apparatus 600 connected between the flow reduction furnace 100 and the melt gasification furnace 300. In addition, the apparatus for manufacturing molten iron 1000 further includes various other apparatuses necessary for manufacturing molten iron.

유동 환원로(100)는 그 내부에 유동층이 형성되며, 유동층의 분광 등을 환원하여 환원체로 변환하도록 순차적으로 연결되어 있다. 각 유동 환원로(100)는 용융 가스화로(300)의 석탄 충전층으로부터 배출된 환원 가스를 환원 가스 공급관(400)을 통하여 공급받는다. 유동 환원로(100)는 환원 가스가 유입되어 흐르도록 하면서 분광 및 부원료를 통과시켜 환원체로 변환한다. The fluid reduction furnace 100 has a fluidized bed formed therein, and is sequentially connected to reduce the spectroscopic or the like of the fluidized bed and convert it into a reducing body. Each flow reduction furnace 100 receives the reducing gas discharged from the coal packed bed of the melt gasifier 300 through the reduction gas supply pipe 400. Flow reducing furnace 100 is converted to a reducing body by passing the spectroscopic and secondary raw materials while allowing the reducing gas to flow.

유동 환원로(100)는 복수 개로 구비될 수 있으며, 도 1에는 일례로, 예열 환원로(100a), 제1 예비 환원로(100b), 제2 예비 환원로(100c) 및 최종 환원로(100d)로 이루어지는 구성을 도시하였다. The flow reducing furnace 100 may be provided in plural, and in FIG. 1, for example, the preheating reduction furnace 100a, the first preliminary reduction furnace 100b, the second preliminary reduction furnace 100c and the final reduction furnace 100d A configuration consisting of) is shown.

괴성체 제조장치(500)는 통기성 확보 및 비산 방지를 위하여 환원체를 괴성화한다. 괴성체 제조장치(500)는, 장입 호퍼(hopper, 520), 한 쌍의 롤(540), 파쇄기(560), 그리고 환원체 저장조(580)를 포함한다. 이외에, 괴성체 제조장치(500)는 필요에 따라 기타 다른 장치를 포함할 수 있다. The compacted material manufacturing apparatus 500 compacts a reducing body to ensure breathability and prevent scattering. The compacted material manufacturing apparatus 500 includes a charging hopper 520, a pair of rolls 540, a crusher 560, and a reducing tank 580. In addition, the compacted material manufacturing apparatus 500 may include other devices as necessary.

장입 호퍼(520)는 철 함유 혼합체를 환원한 환원체를 저장한다. 한 쌍의 롤(540)은 환원체를 압착하여 괴성화된 환원체로 제조한다. 파쇄기(560)는 괴성화된 환원체를 적당한 크기로 파쇄한다. 환원체 저장조(580)는 파쇄한 환원체를 임시 저장한다. Charging hopper 520 stores a reduced body of the iron-containing mixture. The pair of rolls 540 is made of compacted compacts by compressing the reduced bodies. The shredder 560 breaks the compacted reduced material into an appropriate size. The reducing body storage tank 580 temporarily stores the crushed reducing body.

고온 균배압 장치(600)는 괴성체 제조장치(500) 및 용융 가스화로(300) 사이에 위치한다. 고온 균배압 장치(600)는 압력 조절을 위하여 용융 가스화로(300) 상부에 설치된다. 용융 가스화로(300)의 내부는 고압이므로, 고온 균배압 장치(600)가 압력을 균일하게 조절하여 파쇄한 환원체를 용융 가스화로(300)에 쉽게 장입하도록 한다. The high temperature uniform back pressure device 600 is located between the compacted material manufacturing apparatus 500 and the melt gasifier 300. The high temperature uniform back pressure device 600 is installed above the melt gasifier 300 for pressure control. Since the inside of the melt gasifier 300 is a high pressure, the high temperature equalization device 600 to uniformly adjust the pressure to easily charge the crushed reducing body into the melt gasifier 300.

용융 가스화로(300)에는 괴탄 또는 미분탄을 성형한 성형탄을 공급하여 석탄 충전층을 형성한다. 용융 가스화로(300)에 투입한 괴탄 또는 성형탄은 석탄 충전층 상부에서의 열분해 반응과 하부에서의 산소에 의한 연소 반응에 의하여 가스화된다. 가스화 반응에 의하여 용융 가스화로(300) 에서 발생하는 고온 환원 가스는 최종 환원로(10d)의 후단에 연결되어 있는 환원 가스 공급관(400)을 통하여 유동 환원로(100)로 차례로 공급되어 환원제 및 유동화 가스로 이용된다. The molten gasifier 300 is supplied with coal briquettes formed of lump coal or pulverized coal to form a coal packed layer. The lump coal or coal briquettes injected into the melt gasifier 300 is gasified by a pyrolysis reaction in an upper part of a coal packed bed and a combustion reaction by oxygen in a lower part. The high temperature reducing gas generated in the melt gasification furnace 300 by the gasification reaction is sequentially supplied to the flow reduction furnace 100 through a reducing gas supply pipe 400 connected to the rear end of the final reduction furnace 10d to reduce and fluidize. It is used as a gas.

상술한 바와 같이, 용철 제조장치(1000)에서 용철 제조 공정을 진행함에 따라 유동 환원로(100)의 내부에는 정체층이 형성된다. 이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 정체층 제거장치에 대하여 상세하게 설명하도록 한다. As described above, as the molten iron manufacturing process is performed in the molten iron manufacturing apparatus 1000, a stagnation layer is formed in the flow reduction furnace 100. Hereinafter will be described in detail with respect to the stagnation layer removing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 정체층 제거장치가 설치된 유동 환원로의 개략도이다. 유동 환원로(10)는 그 내부에 유동층이 형성되며, 유동층의 분광 등을 환원하여 환원체로 변환하도록 순차적으로 연결되어 있다. 유동 환원로(10)는 용융 가스화로의 석탄 충전층으로부터 배출된 환원 가스를 공급받는다. Figure 2 is a schematic diagram of a flow reduction furnace in which a stagnation layer removal apparatus according to an embodiment of the present invention is installed. The fluid reduction furnace 10 has a fluidized bed formed therein, and is sequentially connected to reduce the spectroscopic or the like of the fluidized bed and convert it into a reducing body. The flow reduction furnace 10 receives the reducing gas discharged from the coal packed bed of the melt gasifier.

유동 환원로(10)는 유동 환원로는 하부의 가스 덕트(40)를 통해 환원 가스가 유입되어 흐르도록 하면서 분광 및 부원료를 통과시켜 환원체로 변환한다. 유동 환원 공정에 있어서, 유동 환원로(10)는 복수 개로 구비될 수 있다. 유동 환원로의 내부로는 싸이클론(20)이 설치되어 분광을 포집하고, 분산판(30)이 배치되어 환원 가스를 분산시킨다.The flow reduction furnace 10 converts the reducing gas into a reducing body by passing the spectroscopic and secondary raw materials while allowing the reducing gas to flow through the lower gas duct 40. In the flow reduction process, the flow reduction furnace 10 may be provided in plurality. The cyclone 20 is installed inside the flow reduction furnace to collect spectroscopy, and the dispersion plate 30 is disposed to disperse the reducing gas.

유동 환원로의 분산판(30)의 상부로는 유동 환원로의 외벽을 관통하여 제1 가스 분사장치(110)가 설치되고, 분산판(30)의 하부로는 제2 가스 분사장치(120)가 설치되며, 가스 덕트(40)의 외벽을 관통하여 제3 가스 분사장치(130)가 설치된다.A first gas injector 110 is installed at an upper portion of the dispersion plate 30 of the flow reduction furnace to penetrate through an outer wall of the flow reduction furnace, and a second gas injector 120 is provided at a lower portion of the dispersion plate 30. Is installed, the third gas injector 130 is installed through the outer wall of the gas duct 40.

이와 같이 설치된 각각의 가스 분사장치(110, 120, 130)에서는 유동 환원로(10)의 가동 또는 냉각 과정에서 고압의 질소 가스가 분사되어 더스트 및 분환원철에 의한 정체층을 제거한다.In each of the gas injectors 110, 120, 130 installed as described above, high-pressure nitrogen gas is injected during the operation or cooling of the flow reduction furnace 10 to remove the stagnant layer by dust and reduced iron.

상기와 같은 유동 환원로(10)에서, 먼저, 싸이클론(20)에 설치된 관통장치(50)를 사용하여 싸이클론(20) 내부에 정체되어 있는 미분 등을 분산판(30)의 상부로 쏟아낸다. In the flow reduction furnace 10 as described above, first, the fine particles stagnated inside the cyclone 20 are poured into the upper portion of the dispersion plate 30 by using the penetrating device 50 installed in the cyclone 20. Serve

다음으로, 싸이클론(20)에서 쏟아진 미분 등과 분산판(30) 상부 및 하부에 형성되는 정체층을 제1 가스 분사장치(110)와 제2 가스 분사장치(120)에서 고압의 불활성 가스를 분사하여 유동화시키다. Next, the first gas injector 110 and the second gas injector 120 inject a high-pressure inert gas into the stagnant layer formed on the fine powder, etc. poured from the cyclone 20 and the upper and lower portions of the dispersion plate 30. To fluidize

이때, 제1 가스 분사장치(110) 및 제2 가스 분사장치(120)에 구비된 모터를 통해 노즐 헤드부를 전후 및 좌우로 움직이면서, 고압의 불활성 가스를 분사할 수 있다.At this time, the high pressure inert gas may be injected while moving the nozzle head part back and forth and left and right through the motors provided in the first gas injector 110 and the second gas injector 120.

다음으로, 제3 가스 분사장치(130)을 이용하여 가스 덕트(40)의 정체층을 유동화시킨다. 이때, 유동화된 정체층은 가스 덕트(40)로 유입된 냉각 가스 또는 환원 가스와 함께 분산판(30) 상부에 형성된 덤핑 구멍(60)을 통해서 외부로 배출된다. 따라서 유동 환원로(10) 내부의 정체층은 크게 줄어들게 되고, 작업자에 의한 정체층의 청소 시간은 크게 줄어들게 된다.Next, the stagnant layer of the gas duct 40 is fluidized using the third gas injector 130. At this time, the fluidized stagnant layer is discharged to the outside through the dumping hole 60 formed on the distribution plate 30 together with the cooling gas or the reducing gas introduced into the gas duct 40. Therefore, the stagnation layer in the flow reduction furnace 10 is greatly reduced, the cleaning time of the stagnation layer by the operator is greatly reduced.

이하에서는 각각의 가스 분사장치를 포함하는 정체층 제거장치의 구성에 대하여 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, the configuration of the stagnation layer removing device including each gas injection device will be described in detail.

도 3은 제1 가스 분사장치(110)의 개략도이다. 도시한 바와 같이, 제1 가스 분사장치(110)는 가스 공급관(112)과 노즐 헤드부(114)를 포함한다.3 is a schematic diagram of the first gas injector 110. As shown, the first gas injector 110 includes a gas supply pipe 112 and a nozzle head portion 114.

제1 가스 분사장치(110)는 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치되고, 유동 노즐 헤드부(114)는 유동 환원로의 내부로 배치된다. 가스 공급관(112)을 통해 공 급되는 고압의 질소 가스는 노즐 헤드부(114)에서 분사되어 분산판 상부에 형성된 정체층을 제거하게 된다. 이때, 질소 가스는 대략 10bar의 압력으로 분사될 수 있다.The first gas injector 110 is installed through the outer wall of the flow reduction furnace, and the flow nozzle head 114 is disposed inside the flow reduction furnace. The high pressure nitrogen gas supplied through the gas supply pipe 112 is injected from the nozzle head 114 to remove the stagnant layer formed on the upper part of the dispersion plate. At this time, the nitrogen gas may be injected at a pressure of approximately 10bar.

또한, 제1 가스 분사장치(110)에는 유압 실린더(116)가 설치되는데, 유압 실린더(116)에 의해 노즐 헤드부(114)가 좌우 또는 상하 방향으로 움직여 분산판(30) 상부의 정체층을 보다 효과적으로 제거하게 된다. 도 4에서는 유압 실린더에 의해 노즐 헤드부(114)가 회전하는 모습을 도시하였다.In addition, the first gas injector 110 is provided with a hydraulic cylinder 116, the nozzle head 114 is moved to the left or right or up and down direction by the hydraulic cylinder 116 to form a stagnant layer on the upper portion of the distribution plate (30). More effective removal. In FIG. 4, the nozzle head 114 is rotated by the hydraulic cylinder.

한편, 유동 환원로의 가스 덕트(40)에 설치되어 가스 덕트(40)에 형성된 정체층을 제거하는 제3 가스 분사장치(130)의 구성은 상술한 제1 가스 분사장치(110)와 동일하므로 그 상세한 설명을 생략하도록 한다.On the other hand, since the configuration of the third gas injector 130 installed in the gas duct 40 of the flow reduction furnace to remove the stagnant layer formed in the gas duct 40 is the same as the first gas injector 110 described above The detailed description thereof will be omitted.

도 4는 제2 가스 분사장치(120)의 삽입관(122)과 분사관(124)이 서로 분리된 것을 도시한 개략도이다. 이하에서는 제2 가스 분사장치(120)의 구성을 상세하게 설명하도록 한다.4 is a schematic view showing that the insertion pipe 122 and the injection pipe 124 of the second gas injection device 120 are separated from each other. Hereinafter, the configuration of the second gas injector 120 will be described in detail.

제2 가스 분사장치(120)는 유동 환원로의 분산판 하부에 형성된 정체층을 제거하도록 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치된다. 제2 가스 분사장치(120)는 유동 환원로의 외벽을 관통하여 고정 설치되는 삽입관(122)과 삽입관(122)과 분리 및 결합이 가능하도록 이루어지는 분사관(124)을 포함한다.The second gas injector 120 is installed through the outer wall of the flow reduction furnace to remove the stagnant layer formed under the distribution plate of the flow reduction furnace. The second gas injector 120 includes an insertion tube 122 that is fixedly installed through an outer wall of the flow reduction path and an injection tube 124 that can be separated and combined with the insertion tube 122.

분사관(124)의 유동 환원로 외측 방향으로는 볼밸브(ball valve, 122a)가 설치된다. 이에 따라 정체층 제거장치를 사용하지 않는 경우에는 볼밸브(122a)를 닫고, 삽입관(122)과 결합되어 정체층을 제거하는 경우에는 볼밸브(122a)를 열게 된 다.A ball valve 122a is provided in an outward direction of the flow reduction path of the injection pipe 124. Accordingly, the ball valve 122a is closed when the stagnation layer removing device is not used, and the ball valve 122a is opened when the stagnation layer is removed by being combined with the insertion tube 122.

또한, 분사관(124)의 유동 환원로 내측 방향에는 더스트 유입 방지 캡(122b)이 설치되어 가스가 분사되지 않는 경우, 유동 환원로로부터 더스트 또는 분환원철이 제2 가스 분사장치(120)로 유입되는 것을 차단하게 된다.In addition, when the dust inflow prevention cap 122b is installed in the flow reduction path inner direction of the injection pipe 124 and no gas is injected, the dust or the reducing iron flows into the second gas injector 120 from the flow reduction furnace. Will be blocked.

분사관(124)이 삽입관(122)에 결합되는 경우, 볼밸브(122a)를 열고, 분사관(124)의 노즐(124a)에서 고압의 질소 가스를 유동 환원로 내부로 분사하여 분산판(30) 하부의 정체층을 제거한다.When the injection pipe 124 is coupled to the insertion pipe 122, the ball valve 122a is opened, and the high pressure nitrogen gas is injected into the flow reduction furnace from the nozzle 124a of the injection pipe 124 to disperse the plate ( 30) Remove the lower stagnant layer.

한편, 분사관(124)은 이동 수단(126)에 탑재되어 유동 환원로의 다른 부분에 설치된 삽입관(122)에도 이동 설치될 수 있다. 이때, 삽입관(122)은 유동 환원로의 아래 방향으로 설치되어 질소 가스는 하부로 분사되고, 정체층을 이루는 더스트 및 분환원철은 유동 환원로 하부에 설치되는 가스 덕트를 통해 배출된다.On the other hand, the injection pipe 124 is mounted on the moving means 126 may be moved to the insertion pipe 122 installed in another portion of the flow reduction furnace. At this time, the insertion pipe 122 is installed in the downward direction of the flow reduction furnace nitrogen gas is injected to the bottom, the dust and reducing iron forming the stagnant layer is discharged through the gas duct installed in the lower portion of the flow reduction furnace.

이하에서는 상기에서 설명한 유동 환원로의 정체층 제거 장치를 사용하여 정체층을 제거하는 방법에 대하여 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of removing the stagnation layer by using the stagnation layer removal device of the fluid reduction furnace described above will be described.

먼저, 유동 환원로 내부에 설치된 압력 측정 센서에 의해, 정체층이형성된 하부와 정체층이 형성되지 않은 상부 간의 차압을 측정한다. 이때, 차압이 기 설정된 값 이상인 경우 즉, 정체층이 일정량 이상 형성된 경우 정체층 제거 장치를 가동한다. 정체층 제거 장치에서는 불활성 가스를 유동 환원로 내부에 형성된 정체층에 분사하게 되고, 불활성 가스의 분사에 의하여 정체층은 재유동화된다.First, by using a pressure measuring sensor installed inside the flow reduction furnace, the differential pressure between the lower portion of the stagnation layer and the upper portion of the stagnation layer is not measured. At this time, when the differential pressure is more than a predetermined value, that is, when the stagnation layer is formed a predetermined amount or more, the stagnation layer removing device is operated. In the stagnant bed removing apparatus, the inert gas is injected into the stagnant layer formed inside the flow reduction furnace, and the stagnant layer is reflowed by the injection of the inert gas.

재유동화된 정체층은 환원가스 또는 냉각가스에 의해 유동 환원로의 외부로 배출되어 제거된다.The reflowed stagnation bed is discharged to the outside of the flow reduction furnace by the reducing gas or cooling gas and removed.

상기와 같은 정체층 제거 장치를 이용한 정체층 제거는 작업자에 의한 청소 작업 전에 즉, 유동 환원로의 가동 중 또는 유동 환원로의 냉각 중에 이루어질 수 있다. 이에 따라 작업자가 제거해야 하는 정체층의 양이 크게 줄어들어 정체층을 제거하기 위한 휴지시간을 줄일 수 있게 된다.The stagnation layer removal using the stagnation layer removal device as described above may be performed before the cleaning operation by the operator, that is, during the operation of the flow reduction furnace or during the cooling of the flow reduction furnace. Accordingly, the amount of stagnant layer to be removed by the operator is greatly reduced, thereby reducing the down time for removing the stagnant layer.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다. Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the range of.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 유동 환원로의 정체층 제거장치에 따르면 더스트 및 분환원광에 의해 형성된 정체층을 냉각 과정에서 제거함으로써 이를 제거하기 위한 휴지시간을 크게 단축시키고, 이에 따라 유동 환원로의 가동률을 증가시켜 공정 효율이 개선되는 효과를 얻을 수 있다.As described above, according to the apparatus for removing a stagnation layer of the fluid reduction furnace of the present invention, by removing the stagnant layer formed by dust and reduced ore in the cooling process, the down time for removing it is greatly shortened, and accordingly, the flow reduction furnace By increasing the operation rate of the process efficiency can be obtained.

Claims (14)

하부에 가스 덕트가 연결되고, 내측에 상기 가스 덕트를 통해 공급되는 환원가스를 분산시키는 분산판을 구비하는 유동 환원로에 형성된 정체층을 제거하는 유동 환원로의 정체층 제거장치에 있어서,In the stagnant layer removal apparatus of the flow reduction furnace for removing the stagnant layer formed in the flow reduction furnace having a gas duct connected to the lower portion, the dispersion plate for dispersing the reducing gas supplied through the gas duct in the inner side, 상기 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치되어 상기 분산판의 상부에 형성되는 정체층을 제거하는 제1 가스 분사장치,A first gas injector installed through the outer wall of the flow reduction furnace to remove the stagnant layer formed on the dispersion plate; 상기 유동 환원로의 외벽을 관통하여 설치되어 상기 분산판의 하부에 형성되는 정체층을 제거하는 제2 가스 분사장치, 및 A second gas injector installed through the outer wall of the flow reduction furnace to remove the stagnant layer formed under the dispersion plate; and 상기 가스 덕트를 관통하여 설치되어 상기 가스 덕트에 형성되는 정체층을 제거하는 제3 가스 분사장치를 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치.And a third gas injector disposed through the gas duct to remove the stagnant layer formed in the gas duct. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제1 가스 분사장치는, The first gas injector, 가스를 상기 유동 환원로의 내부로 공급하는 가스 공급관, 및A gas supply pipe for supplying gas into the flow reduction furnace, and 상기 가스 공급관에 연결되며, 가스를 분사하는 노즐 헤드부를 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치.The stagnant layer removal device of the flow reduction furnace connected to the gas supply pipe, comprising a nozzle head for injecting gas. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 가스 분사장치는 상기 노즐 헤드부를 움직이도록 하는 유압 실린더 를 더 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치. The first gas injector further comprises a hydraulic cylinder for moving the nozzle head portion stagnation layer removal apparatus of the flow reduction furnace. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제2 가스 분사장치는,The second gas injector, 상기 유동 환원로의 외벽에 고정 설치되는 삽입관, 및Insertion pipe fixed to the outer wall of the flow reduction furnace, And 상기 삽입관에 결합되어 상기 유동 환원로 내부로 가스를 분사하는 분사관을 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치.The stagnant bed removal apparatus of the fluid reduction furnace comprising an injection pipe coupled to the insertion pipe for injecting gas into the flow reduction furnace. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 삽입관은 상기 분사관이 결합되는 측으로 배치되어 상기 삽입관을 개폐하는 볼밸브를 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치.The insertion pipe is disposed on the side coupled to the injection pipe is a stagnation layer removal device of the flow reduction furnace comprising a ball valve for opening and closing the insertion pipe. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 삽입관은 상기 유동 환원로의 내측으로 배치되는 더스트 유입 방지 캡을 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치.The insertion pipe is a stagnation layer removal apparatus of the flow reduction furnace comprising a dust inlet prevention cap disposed inward of the flow reduction furnace. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 삽입관은 상기 유동 환원로의 아래 방향으로 가스를 분사하도록 배치되는 유동 환원로의 정체층 제거장치.The insertion tube is a stagnation layer removal device of the flow reduction furnace is arranged to inject gas in the downward direction of the flow reduction furnace. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제3 가스 분사장치는, The third gas injector, 가스를 상기 유동 환원로의 내부로 공급하는 가스 공급관, 및A gas supply pipe for supplying gas into the flow reduction furnace, and 상기 가스 공급관에 연결되며, 가스를 분사하는 노즐 헤드부를 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치.The stagnant layer removal device of the flow reduction furnace connected to the gas supply pipe, comprising a nozzle head for injecting gas. 제8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제3 가스 분사장치는 상기 노즐 헤드부를 움직이도록 하는 유압 실린더를 더 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거장치. The third gas injector further comprises a hydraulic cylinder for moving the nozzle head portion stagnation layer removal apparatus of the flow reduction furnace. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제1 가스 분사장치, 상기 제2 가스 분사장치 및 상기 제3 가스 분사장치는 질소 가스를 분사하여 상기 유동 환원로의 정체층을 제거하는 유동 환원로의 정체층 제거장치.And the first gas injector, the second gas injector, and the third gas injector inject nitrogen gas to remove the stagnant layer of the flow reduction furnace. 유동 환원로 내부에서 상부와 하부 간의 차압을 측정하는 단계,Measuring the differential pressure between the upper part and the lower part in the flow reduction furnace, 상기 차압이 기 설정치 이상인 경우, 상기 제1항에 따른 정체층 제거장치를 사용하여 불활성 가스를 상기 유동 환원로 내부에 형성된 정체층에 분사하는 단계, 및Injecting an inert gas into the stagnation layer formed inside the flow reduction furnace by using the stagnation layer removing apparatus according to claim 1 when the differential pressure is equal to or greater than a preset value; and 를 포함하는 유동 환원로의 정체층 제거방법.Stagnation layer removal method of the fluid reduction furnace comprising a. 제11 항에 있어서,The method of claim 11, wherein 상기 불활성 가스를 상기 정체층에 분사하는 단계가 유동 환원로의 가동 중에 이루어지는 유동 환원로의 정체층 제거방법.A method of removing a stagnation bed in a fluid reduction furnace, wherein the injecting the inert gas into the stagnation layer is performed during operation of the fluid reduction furnace. 제11 항에 있어서,The method of claim 11, wherein 상기 불활성 가스를 상기 정체층에 분사하는 단계가 유동 환원로의 냉각 중에 이루어지는 유동 환원로의 정체층 제거방법.A method of removing a stagnation bed in a fluid reduction furnace, wherein the step of injecting the inert gas into the stagnation layer occurs during cooling of the fluid reduction furnace. 제11 항에 있어서,The method of claim 11, wherein 상기 불활성 가스는 질소 가스인 유동 환원로의 정체층 제거방법.And the inert gas is nitrogen gas.
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