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KR100780185B1 - Lens wavefront measuring device using diffractive optical element - Google Patents

Lens wavefront measuring device using diffractive optical element Download PDF

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KR100780185B1
KR100780185B1 KR1020060109493A KR20060109493A KR100780185B1 KR 100780185 B1 KR100780185 B1 KR 100780185B1 KR 1020060109493 A KR1020060109493 A KR 1020060109493A KR 20060109493 A KR20060109493 A KR 20060109493A KR 100780185 B1 KR100780185 B1 KR 100780185B1
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KR
South Korea
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lens
optical element
collimating lens
disposed
diffractive optical
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Korean (ko)
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최은희
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삼성전기주식회사
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Abstract

회절광학소자를 이용하여 비축조사에 의한 파면 측정이 가능한 렌즈 파면 측정장치가 제공된다.A lens wavefront measuring apparatus capable of measuring wavefront by non-axis irradiation using a diffractive optical element is provided.

본 발명에 따른 렌즈 파면 측정장치는, 광원; 상기 광원의 전방에 배치되며, 상기 광원에서 조사된 광선을 투과시켜 평행광선으로 변환하는 제1 콜리메이팅(collimating) 렌즈; 상기 제1 콜리메이팅 렌즈와 피검렌즈 사이에 배치되는 회절광학소자; 상기 피검렌즈의 전방에 배치되고, 상기 피검렌즈를 통과한 광선을 투과시켜 두 개 이상의 평행광선으로 변환하는 제2 콜리메이팅 렌즈; 및 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 전방에 배치되며, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈를 통해 형성된 두 개 이상의 평행광선이 서로 간섭을 일으키며 조사되는 측정센서;를 포함한다.Lens wavefront measuring device according to the invention, the light source; A first collimating lens disposed in front of the light source and configured to transmit light beams emitted from the light source and convert the light beam into parallel light beams; A diffraction optical element disposed between the first collimating lens and the test lens; A second collimating lens disposed in front of the test lens and converting the light passing through the test lens into two or more parallel rays; And a measuring sensor disposed in front of the second collimating lens and irradiating two or more parallel rays formed through the second collimating lens to interfere with each other.

이와 같은 본 발명에 의하면, 비축조사에 의한 파면 측정을 통해 카메라와 같은 결상광학계에서 렌즈 어셈블리는 물론 렌즈 단품에 대한 파면을 정확하게 측정할 수 있으므로, 렌즈를 통한 이미지의 동질성 및 균일성 분석이 가능하다는 효과를 얻는다.According to the present invention, it is possible to accurately measure the wavefront for the lens assembly as well as the lens assembly in the imaging optical system such as a camera through the wavefront measurement by the stock-axis irradiation, it is possible to analyze the homogeneity and uniformity of the image through the lens Get the effect.

Description

회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치{Wavefront Measuring Device of Lens using a Diffractive Optical Element}Wavefront Measuring Device of Diffractive Optical Element {Wavefront Measuring Device of Lens using a Diffractive Optical Element}

도 1은 종래의 파면 측정장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically showing a conventional wavefront measuring apparatus.

도 2는 다른 종래의 파면 측정장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.2 is a configuration diagram schematically showing another conventional wavefront measuring apparatus.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 렌즈 파면 측정장치의 개략적인 구성도이다.3 is a schematic configuration diagram of a lens wavefront measuring apparatus according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 상기 렌즈 파면 측정장치를 이용하여 측정센서 면에 획득된 스팟(spot)을 나타낸 개략도이다.4 is a schematic diagram showing spots obtained on the surface of a measuring sensor using the lens wavefront measuring apparatus.

도 5는 측정센서로 샤크-하트만 센서를 사용하는 경우에 본 발명에 따른 렌즈 파면 측정장치의 파면 해석 원리가 도시된 개략도이다.Figure 5 is a schematic diagram showing the wavefront analysis principle of the lens wavefront measuring apparatus according to the present invention when using the Shark-Hartman sensor as a measuring sensor.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 렌즈 파면 측정장치의 개략적인 구성도이다.6 is a schematic configuration diagram of a lens wavefront measuring apparatus according to a second exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

110 : 광원 115 : 피검렌즈110: light source 115: test lens

120 : 회절광학소자 130 : 제1 콜리메이팅 렌즈120 diffraction optical element 130 first collimating lens

135 : 제2 콜리메이팅 렌즈 140 : 측정센서135: second collimating lens 140: measuring sensor

150 : 공간 필터150: space filter

본 발명은 렌즈 파면 측정장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 회절광학소자를 이용하여 비축조사에 의한 파면 측정이 가능한 렌즈 파면 측정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a lens wavefront measuring apparatus, and more particularly, to a lens wavefront measuring apparatus capable of measuring wavefronts by non-axis irradiation using a diffractive optical element.

휴대폰 사용자의 요구가 다양해짐에 따라 휴대폰의 기능은 단순히 통화에 국한되지 않고 사진촬영, 동영상감상, 게임 등으로 그 기능의 폭이 점차 넓혀지고 있으며, 최근에는 사진촬영을 위한 카메라 모듈을 장착한 휴대폰 제품이 일반화되고 있는 실정이다.As the demands of mobile phone users are diversified, the functions of the mobile phone are not limited to just calls, but the functions are gradually being expanded by taking pictures, watching videos, playing games, etc. Recently, mobile phones equipped with camera modules for taking pictures Products are becoming commonplace.

이러한 카메라 모듈은 고화소 중심으로 변화됨과 동시에 오토포커싱(AF), 광학 줌(OPTICAL ZOOM) 등과 같은 다양한 부가 기능의 구현으로 변화되고 있다.The camera module is being changed to the center of the high pixel, and at the same time, the implementation of various additional functions such as auto focusing (AF) and optical zoom (OPTICAL ZOOM).

이와 더불어 기계적인 구성 부재 외에 제품의 경량화와 소형화 및 고화질화를 실현하기 위하여 렌즈의 구경이 점차 작아지면서도 해상력을 향상시키기 위한 렌즈의 개발이 이루어지고 있으며, 이를 위하여 렌즈 제작 시 고정밀의 형상 정확도가 요구되고 있다.In addition, in order to realize lightweight, miniaturized and high-definition products in addition to the mechanical components, the development of a lens to improve resolution while the lens size is getting smaller is required. For this purpose, high precision shape accuracy is required when manufacturing the lens. It is becoming.

따라서, 렌즈의 형상을 고정밀로 측정하기 위한 홀로그램 및 간섭계를 이용 한 파면 측정장치가 속속 개발되고 있으며, 대부분의 렌즈 파면을 측정하는 간섭계 및 파면 수차 측정기는 광축 조사를 기본으로 하고 있다.Accordingly, wavefront measuring apparatuses using holograms and interferometers for accurately measuring the shape of lenses have been developed one after another, and most interferometers and wavefront aberration meters for measuring lens wavefronts are based on optical axis irradiation.

도 1은 종래 파면 측정장치의 개략적인 구성도로서, 도시된 바와 같이 종래의 파면 측정장치는 광원(1)을 통해 조사된 시준광(3)이 시준렌즈(2)를 통과하면서 평행광으로 변환되고, 변환된 평행광이 피검렌즈(4)를 거쳐 소정 거리에 배치된 다른 시준렌즈(5)를 통과한 후에 광축에 대하여 수직 설치된 센서(6)에 조사된다.1 is a schematic configuration diagram of a conventional wavefront measuring device, as shown in the conventional wavefront measuring device is converted to parallel light while the collimated light (3) irradiated through the light source 1 passes through the collimating lens (2) The converted parallel light passes through the collimated lens 4 and passes through another collimating lens 5 arranged at a predetermined distance, and is then irradiated to the sensor 6 installed perpendicular to the optical axis.

이때, 상기 센서(6) 상에 맺히는 점 영상의 중심점 위치간의 간격이 광의 파면 왜곡이 전혀 없다면 모두 동일한 값을 가지게 되며, 파면 왜곡이 있으면 상기 중심점 위치간의 간격은 일정하지가 않게 된다. 여기서, 파면 측정은 각 점 영상의 중심점을 추출하여 기준위치에 대한 각 중심점의 이동량을 추출하여 파면의 기울기 정보를 추출한다.In this case, the interval between the center point positions of the point image formed on the sensor 6 has the same value if there is no wavefront distortion at all, and if there is wavefront distortion, the distance between the center point positions is not constant. Here, the wavefront measurement extracts the center point of each point image, extracts the movement amount of each center point with respect to the reference position, and extracts slope information of the wavefront.

그러나, 상기와 같은 종래 파면 측정장치는 결상광학계에서 평행광에 의해서 조사된 상의 가장자리 부분은 피검렌즈 화각의 최대 범위 영역에 조사되는 광에 의해서 생성되기 때문에 광축(on-axis) 조사에 의해서만 상의 특성을 분석하는 데는 한계가 있을 수밖에 없다. 따라서 종래의 방식으로는 비축 조사에 의한 파면 측정 분석은 불가피한 문제점이 지적되고 있다.However, in the conventional wavefront measuring apparatus as described above, since the edge portion of the image irradiated by parallel light in the imaging optical system is generated by the light irradiated to the maximum range of the field of view of the lens to be inspected, the image characteristic only by on-axis irradiation. There is no limit to the analysis. Therefore, the conventional method has been pointed out the problem that the wavefront measurement analysis by stock irradiation is inevitable.

한편, 종래 파면 측정장치는 도 2에 도시된 바와 같이 피검렌즈를 광축에 대하여 소정의 각도로 기울게 하여 렌즈에 대한 비축 조사를 행하는 것이 가능하지 만, 이 경우에는 상기 피검렌즈의 한 쪽 방향에서만 파면을 측정하는 것이 가능하므로, 피검렌즈의 양 방향에 대한 파면의 차이를 비교할 수 없는 단점이 있다.On the other hand, in the conventional wavefront measuring apparatus as shown in FIG. 2, it is possible to perform a stock-axis irradiation on the lens by tilting the lens at a predetermined angle with respect to the optical axis, but in this case, the wavefront is only in one direction of the lens. Since it can be measured, there is a disadvantage that the difference in the wavefront in both directions of the lens to be examined can not be compared.

또한, 상기 피검렌즈가 광축 상에 어느 위치에 셋팅되어 있는지 정확히 알 수 없어 피검렌즈의 틸트 정도에 따라 다양한 파면 수차가 측정되며, 다수의 피검렌즈가 동일한 틸트를 갖도록 조정할 수가 없기 때문에 측정의 정확도가 떨어지며, 측정시간이 장시간 걸리는 문제점이 제기되고 있다.In addition, since it is not possible to know exactly where the test lens is set on the optical axis, various wavefront aberrations are measured according to the degree of tilt of the test lens, and the accuracy of the measurement is high because many lenses cannot be adjusted to have the same tilt. As a result, the problem of taking a long time for measurement has been raised.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 비축조사에 의한 파면 측정이 가능하도록 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치를 제공함을 목적으로 한다.The present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a lens wavefront measuring apparatus using a diffractive optical element to enable wavefront measurement by non-axis irradiation.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의하면,According to the present invention for achieving the above object,

광원; 상기 광원의 전방에 배치되며, 상기 광원에서 조사된 광선을 투과시켜 평행광선으로 변환하는 제1 콜리메이팅(collimating) 렌즈; 상기 제1 콜리메이팅 렌즈와 피검렌즈 사이에 배치되는 회절광학소자; 상기 피검렌즈의 전방에 배치되고, 상기 피검렌즈를 통과한 광선을 투과시켜 두 개 이상의 평행광선으로 변환하는 제2 콜리메이팅 렌즈; 및 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 전방에 배치되며, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈를 통해 형성된 두 개 이상의 평행광선이 서로 간섭을 일으키며 조 사되는 측정센서;를 포함하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치가 제공된다.Light source; A first collimating lens disposed in front of the light source and configured to transmit light beams emitted from the light source and convert the light beam into parallel light beams; A diffraction optical element disposed between the first collimating lens and the test lens; A second collimating lens disposed in front of the test lens and converting the light passing through the test lens into two or more parallel rays; And a measurement sensor disposed in front of the second collimating lens, wherein two or more parallel rays formed through the second collimating lens are interfering with and irradiated with each other. Is provided.

본 발명의 렌즈 파면 측정장치에 있어서,In the lens wavefront measuring device of the present invention,

바람직하게, 상기 제1 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 광원으로부터 상기 제1 콜리메이팅 렌즈의 초점거리 만큼 떨어진 위치에 배치될 수 있다.Preferably, the first collimating lens has a positive refractive power, and may be disposed at a position separated by a focal length of the first collimating lens from the light source.

더욱 바람직하게, 상기 회절광학소자와 상기 피검렌즈를 통과한 광선은 -1, 0, +1의 오더(order)의 위상차를 가질 수 있다.More preferably, the light beams passing through the diffractive optical element and the test lens may have a phase difference of an order of -1, 0, +1.

또한, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 피검렌즈의 초점거리와 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 초점거리를 더한 거리 만큼 상기 피검렌즈로부터 떨어진 위치에 배치될 수 있다.In addition, the second collimating lens may have a positive refractive power, and may be disposed at a position away from the lens by a distance obtained by adding a focal length of the lens to the second collimating lens.

또한, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 재질이 다른 두 개 이상의 렌즈를 접합하여 이루어질 수 있다.In addition, the second collimating lens may be formed by bonding two or more lenses of different materials.

한편, 상기 측정센서는 샤크-하트만(Shark-Hartmann) 렌즈일 수 있다.On the other hand, the measuring sensor may be a Shark-Hartmann lens.

본 발명의 다른 측면에서,In another aspect of the invention,

광원; 상기 광원의 전방에 배치되며, 상기 광원에서 조사된 광선을 투과시켜 평행광선으로 변환하는 제1 콜리메이팅 렌즈; 상기 제1 콜리메이팅 렌즈와 피검렌즈 사이에 배치되는 회절광학소자; 상기 피검렌즈의 전방에 배치되는 공간 필터(spatial filter); 상기 공간 필터의 전방에 배치되고, 상기 공간 필터를 통과한 광선을 투과시켜 두 개 이상의 평행광선으로 변환하는 제2 콜리메이팅 렌즈; 및 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 전방에 배치되며, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈를 통해 형성된 두 개 이상의 평행광선이 서로 간섭을 일으키며 조사되는 측정센서;를 포함하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치가 제공된다.Light source; A first collimating lens disposed in front of the light source and configured to transmit light beams emitted from the light source and convert the light beam into parallel light beams; A diffraction optical element disposed between the first collimating lens and the test lens; A spatial filter disposed in front of the lens to be examined; A second collimating lens disposed in front of the spatial filter and configured to transmit light beams passing through the spatial filter to two or more parallel beams; And a measurement sensor disposed in front of the second collimating lens and irradiated with two or more parallel rays formed through the second collimating lens to cause interference with each other. Is provided.

본 발명의 다른 측면에 따른 렌즈 파면 측정장치에 있어서,In the lens wavefront measuring device according to another aspect of the present invention,

바람직하게, 상기 제1 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 광원으로부터 상기 제1 콜리메이팅 렌즈의 초점거리 만큼 떨어진 위치에 배치될 수 있다.Preferably, the first collimating lens has a positive refractive power, and may be disposed at a position separated by a focal length of the first collimating lens from the light source.

또한, 상기 회절광학소자와 상기 피검렌즈를 통과한 광선은 -1, 0, +1의 오더(order)의 위상차를 가질 수 있다.In addition, the light ray passing through the diffractive optical element and the test lens may have a phase difference of an order of -1, 0, and +1.

더욱 바람직하게, 상기 공간 필터는 상기 피검렌즈를 투과한 광선이 초점을 맺는 위치에 배치될 수 있다.More preferably, the spatial filter may be disposed at a position where the light beam passing through the test lens is focused.

또한, 상기 공간 필터는 -1 오더 이하의 광선을 차단할 수 있다.In addition, the spatial filter may block light of -1 order or less.

또한, 상기 공간 필터는 +1 오더 이상의 광선을 차단할 수 있다.In addition, the spatial filter may block light rays of +1 order or more.

바람직하게, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 피검렌즈의 초점거리와 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 초점거리를 더한 거리 만큼 상기 피검렌즈로부터 떨어진 위치에 배치될 수 있다.Preferably, the second collimating lens has a positive refractive power, and may be disposed at a position apart from the lens by a distance obtained by adding a focal length of the lens to the second collimating lens.

또한, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 재질이 다른 두 개 이상의 렌즈를 접합하여 이루어질 수 있다.In addition, the second collimating lens may be formed by bonding two or more lenses of different materials.

한편, 상기 측정센서는 샤크-하트만 렌즈일 수 있다.On the other hand, the measuring sensor may be a Shark-Heartman lens.

이하, 도 3 내지 도 5을 참조하여 본 발명에 따른 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치에 관한 제1 실시예를 설명한다.Hereinafter, a first embodiment of a lens wavefront measuring apparatus using a diffractive optical element according to the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 5.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 렌즈 파면 측정장치의 개략적인 구성도이며, 도 4는 상기 렌즈 파면 측정장치를 이용하여 측정센서 면에 획득된 스팟(spot)을 나타낸 개략도이다.3 is a schematic configuration diagram of a lens wavefront measuring apparatus according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a schematic view showing spots obtained on a measurement sensor surface using the lens wavefront measuring apparatus.

도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 제1 실시예에 따른 렌즈 파면 측정장치는, 광축을 따라 광원(110), 제1 콜리메이팅(Collimating) 렌즈(130), 회절광학소자(Diffractive Optical Element)(120), 제2 콜리메이팅 렌즈(135), 및 측정센서(140)가 순차적으로 배치되는 구성을 갖는다.As shown in FIG. 3, the apparatus for measuring a wavefront of a lens according to the first exemplary embodiment includes a light source 110, a first collimating lens 130, and a diffractive optical element along an optical axis. 120, the second collimating lens 135, and the measurement sensor 140 are sequentially arranged.

상기 광원(110)은 측정 대상이 되는 피검렌즈(115)의 파면을 측정하기 위한 광선을 조사하기 위한 것으로, 일반적으로 백색광이나 레이저(laser)를 사용한다.The light source 110 is for irradiating light rays for measuring the wavefront of the lens 115 to be measured, and generally uses white light or a laser.

상기 제1 콜리메이팅 렌즈(130)는 광원(110)의 전방에 배치되는데, 광원(110)에서 조사된 광선을 투과시켜 평행광선(collimating beam)으로 변환하게 된다.The first collimating lens 130 is disposed in front of the light source 110, and transmits the light emitted from the light source 110 to convert into a collimating beam.

이때, 광원(110)에서 조사된 광선을 평행광선으로 변환하기 위해서, 상기 제1 콜리메이팅 렌즈(130)는 광원(110)으로부터 제1 콜리메이팅 렌즈(130)의 초점거리 만큼 떨어진 위치에 배치되며, 양의 굴절력을 갖는 것이 바람직하다.In this case, the first collimating lens 130 is disposed at a position separated by a focal length of the first collimating lens 130 from the light source 110 in order to convert the light beam emitted from the light source 110 into parallel light. It is desirable to have positive refractive power.

상기 회절광학소자(120)는 제1 콜리메이팅 렌즈(130)와 피검렌즈(115) 사이에 배치되는데, 이러한 회절광학소자(120)는 -1, 0, +1의 오더(oder)를 갖는다. 이에 따라, 회절광학소자(120)와 피검렌즈(115)를 통과한 광선은 -1, 0, +1의 오더의 위상차를 이루게 된다.The diffraction optical element 120 is disposed between the first collimating lens 130 and the test lens 115, and the diffraction optical element 120 has an order of -1, 0, and +1. Accordingly, the light rays passing through the diffraction optical element 120 and the lens under test 115 form a phase difference between orders of -1, 0, and +1.

이때, 제1 콜리메이팅 렌즈(130)와 회절광학소자(120) 간의 간격은 특별히 제한되지 않는다.At this time, the distance between the first collimating lens 130 and the diffractive optical element 120 is not particularly limited.

일반적으로 회절광학소자라 함은 편평하고 투명한 유리판의 표면에 일정한 패턴을 이용하거나 광학적인 두께를 규칙적으로 변화시킴으로써, 위상변조를 일으켜 출사파의 위상 또는/및 진폭에서 주기적인 변화를 만드는 장치를 말한다. 이러한 회절광학소자는 그 격자 간격이 작아지면 각 오더(oder)의 회절 각도가 커지게 된다.In general, a diffraction optical element is a device that generates a periodic change in the phase or / and amplitude of an emission wave by causing phase modulation by using a constant pattern on the surface of a flat and transparent glass plate or by regularly changing the optical thickness. . In such a diffractive optical element, the diffraction angle of each order becomes large when its lattice spacing decreases.

따라서, 본 발명은 회절광학소자(120)의 격자 간격을 조절함으로써 측정하고자 하는 비축의 각도를 조절할 수 있다.Therefore, the present invention can control the angle of the stockpile to be measured by adjusting the grating spacing of the diffractive optical element 120.

본 실시예의 회절광학소자(120)는 -1, 0, +1의 오더를 갖는 것으로 설명하였지만, 본 발명의 렌즈 파면 측정장치는 이에 한정되지 아니하며, -1 이하의 오더 또는 +1 이상의 오더를 갖는 회절광학소자(120)를 사용하는 것도 가능하다. 즉, 제1 콜리메이팅 렌즈(130)를 투과한 평행광선이 회절광학소자(120)를 통과하면서 여러 가지 오더의 위상차를 가지도록 본 발명의 렌즈 파면 측정장치를 구성할 수 있다.Although the diffraction optical element 120 of the present embodiment has been described as having orders of -1, 0, and +1, the lens wavefront measuring apparatus of the present invention is not limited thereto, and has an order of -1 or less or an order of +1 or more. It is also possible to use the diffractive optical element 120. That is, the lens wavefront measuring apparatus of the present invention may be configured such that the parallel light transmitted through the first collimating lens 130 has a phase difference of various orders while passing through the diffractive optical element 120.

또한, 회절광학소자(120)가 0(zero) 오더를 생성하지 않도록 설계하는 것도 가능한데, 이러한 경우에는 광축에 따른 피검렌즈(115)의 대칭성을 평가할 수 있게 된다.In addition, it is also possible to design the diffractive optical element 120 so as not to generate a zero order. In this case, the symmetry of the inspected lens 115 along the optical axis can be evaluated.

한편, 여러 가지 오더의 위상차를 갖는 광선은 피검렌즈(115)를 통과하면서 광축을 대칭으로 오더에 따라 스팟(spot) 분포가 도 4에 도시된 바와 같이 나타난다. 이때, 스팟의 간격은 회절광학소자(120) 간격에 따라 변화가 가능하다.On the other hand, as the light rays having the phase difference of various orders pass through the inspected lens 115 and the optical axis is symmetrically ordered, a spot distribution appears as shown in FIG. 4. At this time, the interval of the spot can be changed according to the interval of the diffractive optical element (120).

상기 제2 콜리메이팅 렌즈(135)는 피검렌즈(115)의 전방에 배치된다.The second collimating lens 135 is disposed in front of the lens 115.

이러한 제2 콜리메이팅 렌즈(135)에 의해, 회절광학소자(120)와 피검렌즈(115)를 통과하여 회절광학소자(120)의 오더에 따라 초점을 맺은 광선은 두 개 이상의 평행광선으로 변환된다. 즉, 피검렌즈(115)를 통과한 광선은 제2 콜리메이팅 렌즈(135)를 투과함으로써 측정센서(140)에 평행하게 조사될 수 있게 된다.By the second collimating lens 135, the light rays focused through the diffractive optical element 120 and the inspected lens 115 and according to the order of the diffractive optical element 120 are converted into two or more parallel rays. . That is, the light beam passing through the lens 115 may be irradiated in parallel to the measurement sensor 140 by passing through the second collimating lens 135.

이때, 피검렌즈(115)를 통과한 광선을 평행광선으로 변환하기 위해서, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈(135)는 피검렌즈(115)의 초점거리와 상기 제2 콜리메이팅 렌즈(135)의 초점거리를 더한 거리 만큼 피검렌즈(115)로부터 떨어진 위치에 배치되며, 양의 굴절력을 갖는 것이 바람직하다.In this case, the second collimating lens 135 has a focal length of the lens 115 and a focal length of the second collimating lens 135 in order to convert the light beam passing through the lens 115 into parallel rays. It is preferably disposed at a position away from the lens 115 by the distance plus, and has a positive refractive power.

한편, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈(135)는 재질이 다른 두 개 이상의 렌즈를 접합하여 형성하는 것이 바람직한데, 이는 제2 콜리메이팅 렌즈(135)의 수차를 최소화하기 위함이다.On the other hand, the second collimating lens 135 is preferably formed by bonding two or more lenses of different materials, in order to minimize the aberration of the second collimating lens 135.

상기 측정센서(140)는 제2 콜리메이팅 렌즈(135)의 전방에 배치되며, 일반적 으로 CCD 나 사크-하트만(Shark-Hartmann) 센서 등을 사용한다.The measuring sensor 140 is disposed in front of the second collimating lens 135, and generally uses a CCD or Shark-Hartmann sensor.

이러한 측정센서(140)에는 제2 콜리메이팅 렌즈(135)를 통해 형성된 두 개 이상의 평행광선이 서로 간섭을 일으키며 조사된다. 즉, 측정센서(140) 면에 도달한 두 개 이상의 평행광선은 서로 간섭을 일으켜 간섭무늬를 만들어 내고, 이를 통하여 피검렌즈(115)의 성능을 측정할 수 있다.Two or more parallel rays formed through the second collimating lens 135 are irradiated to the measuring sensor 140 by interfering with each other. That is, two or more parallel rays reaching the surface of the measuring sensor 140 may interfere with each other to generate an interference pattern, thereby measuring the performance of the lens 115.

이때, 동일한 차수의 오더의 광선이 간섭을 일으키는 경우, 피검렌즈(115) 좌, 우의 상대적 성능이 비교될 수 있다.In this case, when light rays of the same order cause interference, the relative performance of the left and right sides of the lens 115 may be compared.

도 5는 상기 측정센서(140)로 샤크-하트만 센서를 사용하는 경우에 본 발명에 따른 렌즈 파면 측정장치의 파면 해석 원리가 도시된 개략도이다.5 is a schematic diagram showing the wavefront analysis principle of the lens wavefront measuring apparatus according to the present invention when using the Shark-Hartman sensor as the measuring sensor 140.

도 5에 도시된 바와 같이, 피검렌즈(115)를 투과하여 형서된 파면은 기준 파면(112)과 측정 파면(114)으로 구분되며, 이러한 기준 파면(112)과 측정 파면(114)이 한 쌍으로 이루어 마이크로 렌즈(142)를 통해 투과됨으로써 센서면(144)에 각각 스팟(spot)이 얻어진다.As shown in FIG. 5, the wavefront formed through the lens 115 is divided into a reference wavefront 112 and a measurement wavefront 114, and the reference wavefront 112 and the measurement wavefront 114 are paired. By passing through the micro lens 142, spots are obtained on the sensor surface 144, respectively.

상기 기준 파면(112)과 측정 파면(114)은 동일한 피검렌즈(115)를 통해 형성된다.The reference wavefront 112 and the measurement wavefront 114 are formed through the same lens 115.

이때, 파면을 형성하기 위하여 피검렌즈(115)에 투과되는 평행광은 그 입사각이 피검렌즈(115)의 중심에 대하여 서로 대칭을 이루어 입사되도록 세팅된다.At this time, the parallel light transmitted through the lens 115 to form the wavefront is set such that the incident angles are symmetrical with respect to the center of the lens 115 to be incident.

여기서, 상기 평행광의 입사각 조정은 피검렌즈(115) 앞에 배치된 회절광학소자(120)에 의해서 이루어진다.Here, the incident angle adjustment of the parallel light is performed by the diffraction optical element 120 disposed in front of the lens 115.

이와 같이, 평행광이 동일한 입사각으로 피검렌즈(115)를 통과했을 때, 센서면(144)을 구성하는 각 픽셀의 중앙부에 형성되는 스팟(spot)이 얼마나 일치하는가에 따라서 피검렌즈(115)의 수차 발생 여부를 확인하게 된다.As described above, when the parallel light passes through the lens 115 at the same angle of incidence, the spots formed at the center of each pixel constituting the sensor surface 144 coincide with each other. Check whether aberration occurs.

즉, 기준 파면(112)에 의한 스팟 위치와 측정 파면(114)에 의한 스팟 위치 변화를 통해 피검렌즈(115)의 수차 발생 여부를 상대적으로 평가할 수 있는 것이다.That is, it is possible to relatively evaluate whether the aberration of the inspected lens 115 is generated by changing the spot position by the reference wavefront 112 and the spot position by the measurement wavefront 114.

이때, 상기 기준 파면(112)에 의한 스팟 위치와 측정 파면(114)에 의한 스팟 위치의 차를 연결하면 해석된 파면(40)이 선형화된 실선으로 표현될 수 있는데, 실선을 이루는 상기 해석된 파면(40)은 피검렌즈(115)에 투과된 파면에 의해서 형성되는 간섭계를 구성하는 각 필드(field)간의 구면 수차의 차를 나타내는 것이다.In this case, when the difference between the spot position by the reference wavefront 112 and the spot position by the measurement wavefront 114 is connected, the analyzed wavefront 40 may be represented by a linearized solid line. Reference numeral 40 denotes a difference in spherical aberration between the fields constituting the interferometer formed by the wavefront transmitted through the lens 115.

이와 같이, 본 발명에 따른 렌즈 파면 측정장치의 측정센서(140)로서 샤크-하트만 센서를 사용하는 경우, 한 쪽의 스팟을 레퍼런스(reference)로 사용하여 다른 쪽의 스팟의 파면을 측정함으로써(예를 들어, -1 오더를 레퍼런스로 사용하여 +1 오더의 파면을 측정), 광축에 대하여 얼마나 동일한 수차가 피검렌즈(115)의 의해 생성되는지 상대적으로 평가할 수 있다.As such, when using the Shark-Heartmann sensor as the measurement sensor 140 of the lens wavefront measuring apparatus according to the present invention, by measuring the wavefront of the other spot using one spot as a reference (example) For example, using the -1 order as a reference to measure the wavefront of the +1 order), it can be relatively evaluated how much the same aberration is generated by the lens 115 to the optical axis.

이하, 도 6을 참조하여 본 발명에 따른 회절광학소자(120)를 이용한 렌즈 파면 측정장치에 관한 제2 실시예를 설명한다.Hereinafter, a second embodiment of a lens wavefront measuring apparatus using the diffractive optical element 120 according to the present invention will be described with reference to FIG. 6.

도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 렌즈 파면 측정장치의 개략적인 구성도 이다.6 is a schematic configuration diagram of a lens wavefront measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 렌즈 파면 측정장치는 피검렌즈(115)와 제2 콜리메이팅 렌즈(135) 사이에 배치되는 공간 필터(spatial filter)(150)가 추가로 구비됨을 제외하고, 상기 제1 실시예에 따른 렌즈 파면 측정장치의 구성과 동일하므로, 그 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였으며 그에 대한 설명은 생략하기로 한다.In the lens wavefront measuring apparatus according to the present exemplary embodiment, a spatial filter 150 disposed between the lens 115 and the second collimating lens 135 is additionally provided. Since it is the same as the configuration of the lens wavefront measuring apparatus according to the same, the same reference numerals are given to the same configuration and description thereof will be omitted.

상기 공간 필터(150)는 피검렌즈(115)의 전방에 배치되며, 측정에 필요한 오더 이외의 광선을 차단하는 작용을 한다.The spatial filter 150 is disposed in front of the lens 115 to serve to block light rays other than the order required for the measurement.

이러한 공간 필터(150)를 통과한 광선은 제2 콜리메이팅 렌즈(135)를 투과하여 두 개 이상의 평행광선으로 변환된다.The light rays passing through the spatial filter 150 pass through the second collimating lens 135 and are converted into two or more parallel rays.

이때, 상기 공간 필터(150)는 피검렌즈(115)를 통과한 광선이 초점이 맺히는 위치에 배치되는 것이 바람직한데, 이는 측정에 필요한 오더 이외의 광선에 대한 차단을 용이하게 하기 위함이다.In this case, the spatial filter 150 is preferably disposed at the position where the light beam passing through the lens 115 is focused, in order to facilitate the blocking of light rays other than the order required for the measurement.

도 6(a)는 공간 필터(150)를 사용하여 -1 오더의 광선을 차단하는 경우, 도 6(b)는 공간 필터(150)를 사용하여 +1 오더의 광선을 차단한 경우의 렌즈 파면 측정장치의 개략적인 구성도이다.FIG. 6 (a) illustrates the case where the light of -1 order is blocked using the spatial filter 150, and FIG. 6 (b) illustrates the lens wavefront when the light of the +1 order is blocked using the spatial filter 150. It is a schematic block diagram of a measuring apparatus.

이러한 공간 필터(150)를 사용하여 -1 오더의 광선을 차단하는 경우에는 0(zero) 오더의 광선과 +1 오더의 광선 간의 간섭 결과를 통하여 피검렌즈(115)의 성능을 평가할 수 있다.When the beam of -1 order is blocked using the spatial filter 150, the performance of the lens 115 can be evaluated through the interference result between the light of the zero order and the light of the +1 order.

반면에, 공간 필터(150)를 사용하여 +1 오더의 광선을 차단하는 경우에는 0 오더의 광선과 -1 오더의 광선 간의 간섭 결과를 통하여 반대방향의 피검렌즈(115) 표현의 성능을 평가할 수 있다.On the other hand, when the spatial filter 150 blocks the light of +1 order, the performance of the expression of the test lens 115 in the opposite direction can be evaluated through the interference result between the light of the 0 order and the light of the -1 order. have.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail using the preferable Example, the scope of the present invention is not limited to a specific Example and should be interpreted by the attached Claim. In addition, those skilled in the art should understand that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

이상과 같은 본 발명의 렌즈 파면 측정장치는 비축조사에 의한 파면 측정을 통해 카메라와 같은 결상광학계에서 렌즈 어셈블리는 물론 렌즈 단품에 대한 파면을 정확하게 측정할 수 있으므로, 렌즈를 통한 이미지의 동질성 및 균일성 분석이 가능하다는 효과를 가진다.The lens wavefront measuring apparatus of the present invention as described above can accurately measure the wavefront of the lens assembly as well as the lens assembly in the imaging optical system such as a camera through the measurement of the wavefront by non-axis irradiation, homogeneity and uniformity of the image through the lens It has the effect that analysis is possible.

또한, 대칭도를 통하여 광학계의 편심을 측정할 수 있으며, 동일한 차수의 오더를 갖는 광선의 간섭 결과를 통하여 렌즈 좌, 우의 상대적 성능을 비교할 수 있다는 이점을 가진다.In addition, the eccentricity of the optical system can be measured through the degree of symmetry, and the relative performance of the left and right lenses can be compared through the interference result of light rays having the same order.

아울러, 한 쪽의 스팟을 레퍼런스(reference)로 사용하여 다른 쪽의 스팟의 파면을 측정함으로써, 광축에 대하여 얼마나 동일한 수차가 피검렌즈의 의해 생성되는지 상대적으로 평가할 수 있다.In addition, by measuring the wavefront of the other spot using one spot as a reference, it is possible to relatively evaluate how much the same aberration is generated by the inspected lens with respect to the optical axis.

Claims (15)

광원;Light source; 상기 광원의 전방에 배치되며, 상기 광원에서 조사된 광선을 투과시켜 평행광선으로 변환하는 제1 콜리메이팅(collimating) 렌즈;A first collimating lens disposed in front of the light source and configured to transmit light beams emitted from the light source and convert the light beam into parallel light beams; 상기 제1 콜리메이팅 렌즈와 피검렌즈 사이에 배치되는 회절광학소자;A diffraction optical element disposed between the first collimating lens and the test lens; 상기 피검렌즈의 전방에 배치되고, 상기 피검렌즈를 통과한 광선을 투과시켜 두 개 이상의 평행광선으로 변환하는 제2 콜리메이팅 렌즈; 및A second collimating lens disposed in front of the test lens and converting the light passing through the test lens into two or more parallel rays; And 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 전방에 배치되며, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈를 통해 형성된 두 개 이상의 평행광선이 서로 간섭을 일으키며 조사되는 측정센서;를A measurement sensor disposed in front of the second collimating lens and irradiated with two or more parallel rays formed through the second collimating lens to interfere with each other; 포함하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.Lens wavefront measuring device using a diffractive optical element comprising. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 광원으로부터 상기 제1 콜리메이팅 렌즈의 초점거리 만큼 떨어진 위치에 배치됨을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The first collimating lens has a positive refractive power, and the lens wavefront measuring apparatus using a diffractive optical element, characterized in that disposed in the position away from the light source by the focal length of the first collimating lens. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 회절광학소자와 상기 피검렌즈를 통과한 광선은 -1, 0, +1의 오더(order)의 위상차를 가짐을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.And a light ray passing through the diffractive optical element and the test lens has a phase difference of an order of -1, 0, and +1. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 피검렌즈의 초점거리와 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 초점거리를 더한 거리 만큼 상기 피검렌즈로부터 떨어진 위치에 배치됨을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The second collimating lens has a positive refractive power and is disposed at a position away from the lens by a distance obtained by adding a focal length of the lens to the second collimating lens and a diffractive optical element. Lens wavefront measuring device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 재질이 다른 두 개 이상의 렌즈를 접합하여 이루어짐을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The second collimating lens is a lens wavefront measuring device using a diffractive optical element, characterized in that made by bonding two or more lenses of different materials. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 측정센서는 샤크-하트만(Shark-Hartmann) 렌즈임을 특징으로 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The measuring sensor is a Shark-Hartmann lens, characterized in that the wavefront measuring device using a diffractive optical element. 광원;Light source; 상기 광원의 전방에 배치되며, 상기 광원에서 조사된 광선을 투과시켜 평행광선으로 변환하는 제1 콜리메이팅 렌즈;A first collimating lens disposed in front of the light source and configured to transmit light beams emitted from the light source and convert the light beam into parallel light beams; 상기 제1 콜리메이팅 렌즈와 피검렌즈 사이에 배치되는 회절광학소자;A diffraction optical element disposed between the first collimating lens and the test lens; 상기 피검렌즈의 전방에 배치되는 공간 필터(spatial filter);A spatial filter disposed in front of the lens to be examined; 상기 공간 필터의 전방에 배치되고, 상기 공간 필터를 통과한 광선을 투과시켜 두 개 이상의 평행광선으로 변환하는 제2 콜리메이팅 렌즈; 및A second collimating lens disposed in front of the spatial filter and configured to transmit light beams passing through the spatial filter to two or more parallel beams; And 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 전방에 배치되며, 상기 제2 콜리메이팅 렌즈를 통해 형성된 두 개 이상의 평행광선이 서로 간섭을 일으키며 조사되는 측정센서;를A measurement sensor disposed in front of the second collimating lens and irradiated with two or more parallel rays formed through the second collimating lens to interfere with each other; 포함하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.Lens wavefront measuring device using a diffractive optical element comprising. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제1 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 광원으로부터 상기 제1 콜리메이팅 렌즈의 초점거리 만큼 떨어진 위치에 배치됨을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The first collimating lens has a positive refractive power, and the lens wavefront measuring apparatus using a diffractive optical element, characterized in that disposed in the position away from the light source by the focal length of the first collimating lens. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 회절광학소자와 상기 피검렌즈를 통과한 광선은 -1, 0, +1의 오더(order)의 위상차를 가짐을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.And a light ray passing through the diffractive optical element and the test lens has a phase difference of an order of -1, 0, and +1. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 공간 필터는 상기 피검렌즈를 투과한 광선이 초점을 맺는 위치에 배치됨을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The spatial filter is a lens wavefront measuring device using a diffractive optical element, characterized in that disposed in the position where the light beam passing through the lens to be focused. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 공간 필터는 -1 오더 이하의 광선을 차단함을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The spatial filter is a wavefront measuring device using a diffractive optical element, characterized in that for blocking the light of less than -1 order. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 공간 필터는 +1 오더 이상의 광선을 차단함을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The spatial filter is a wavefront measuring device using a diffractive optical element, characterized in that for blocking more than +1 order of light. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 양의 굴절력을 갖고, 상기 피검렌즈의 초점거리와 상기 제2 콜리메이팅 렌즈의 초점거리를 더한 거리 만큼 상기 피검렌즈로부터 떨어진 위치에 배치됨을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The second collimating lens has a positive refractive power and is disposed at a position away from the lens by a distance obtained by adding a focal length of the lens to the second collimating lens and a diffractive optical element. Lens wavefront measuring device. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제2 콜리메이팅 렌즈는 재질이 다른 두 개 이상의 렌즈를 접합하여 이루어짐을 특징으로 하는 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The second collimating lens is a lens wavefront measuring device using a diffractive optical element, characterized in that made by bonding two or more lenses of different materials. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 측정센서는 샤크-하트만 렌즈임을 특징으로 회절광학소자를 이용한 렌즈 파면 측정장치.The measuring sensor is a lens wavefront measuring device using a diffraction optical element, characterized in that the Shark-Hartman lens.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005127981A (en) 2003-10-27 2005-05-19 Nikon Corp Interference measurement device
JP2005241603A (en) 2004-02-27 2005-09-08 Canon Inc Point diffraction interferometer, and exposure apparatus and method using the same
JP2006003489A (en) 2004-06-16 2006-01-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd Lens eccentricity adjustment joint

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005127981A (en) 2003-10-27 2005-05-19 Nikon Corp Interference measurement device
JP2005241603A (en) 2004-02-27 2005-09-08 Canon Inc Point diffraction interferometer, and exposure apparatus and method using the same
JP2006003489A (en) 2004-06-16 2006-01-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd Lens eccentricity adjustment joint

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210033291A (en) * 2019-09-18 2021-03-26 주식회사 옵트론텍 Apparatus for inspecting optical surface
KR102344271B1 (en) * 2019-09-18 2021-12-29 주식회사 옵트론텍 Apparatus for inspecting optical surface

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