KR100752246B1 - 기판처리장치 및 기판처리방법 - Google Patents
기판처리장치 및 기판처리방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100752246B1 KR100752246B1 KR1020060026380A KR20060026380A KR100752246B1 KR 100752246 B1 KR100752246 B1 KR 100752246B1 KR 1020060026380 A KR1020060026380 A KR 1020060026380A KR 20060026380 A KR20060026380 A KR 20060026380A KR 100752246 B1 KR100752246 B1 KR 100752246B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- guide portion
- processing liquid
- guide
- support mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 329
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 90
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 468
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 338
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract description 243
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 198
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 114
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 73
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 26
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- -1 Recovery Groove Substances 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 165
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 135
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 52
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 21
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 18
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 16
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 14
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 12
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 12
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 6
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 5
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10H—ELECTROPHONIC MUSICAL INSTRUMENTS; INSTRUMENTS IN WHICH THE TONES ARE GENERATED BY ELECTROMECHANICAL MEANS OR ELECTRONIC GENERATORS, OR IN WHICH THE TONES ARE SYNTHESISED FROM A DATA STORE
- G10H1/00—Details of electrophonic musical instruments
- G10H1/32—Constructional details
- G10H1/34—Switch arrangements, e.g. keyboards or mechanical switches specially adapted for electrophonic musical instruments
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10F—AUTOMATIC MUSICAL INSTRUMENTS
- G10F1/00—Automatic musical instruments
- G10F1/02—Pianofortes with keyboard
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10H—ELECTROPHONIC MUSICAL INSTRUMENTS; INSTRUMENTS IN WHICH THE TONES ARE GENERATED BY ELECTROMECHANICAL MEANS OR ELECTRONIC GENERATORS, OR IN WHICH THE TONES ARE SYNTHESISED FROM A DATA STORE
- G10H1/00—Details of electrophonic musical instruments
- G10H1/02—Means for controlling the tone frequencies, e.g. attack or decay; Means for producing special musical effects, e.g. vibratos or glissandos
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
Description
Claims (16)
- 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와,상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 처리액을 공급하기 위한 처리액공급기구와,상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와,상기 제1 안내부의 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와,상기 제1 안내부의 외측에 상기 제1 안내부와 일체적으로 설치되어, 상기 제2 안내부로 안내되는 처리액을 회수하기 위한 회수홈과,상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 각각 독립적으로 승강시키기 위한 구동기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제1 안내부와 상기 제2 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 진입방지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제2항에 있어서,상기 진입방지부는 상기 제2 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와,상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 처리액을 공급하기 위한 처리액공급기구와,상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와,상기 제1 안내부의 외측에 있어서 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제1 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와,상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 각각 독립적으로 승강시키기 위한 구동기구와,상기 구동기구를 제어하고, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동기적으로 승강시키는 승강제어수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제1 안내부와 상기 제2 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 진입방지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제5항에 있어서,상기 진입방지부는 상기 제2 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 제2 안내부의 더 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제2 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있 는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제3 안내부를 더 포함하고,상기 승강제어수단은 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경할 때에, 상기 구동기구를 제어하고, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동기적으로 상승시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제7항에 있어서,상기 제3 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제2 안내부와 상기 제3 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 접힘부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제4항에 있어서,상기 제2 안내부의 더 외측에 있어서, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 그 상단부가 상기 제2 안내부의 상단부와 상하방향으로 겹치도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제3 안내부를 더 포함하고,상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 해당 처리액이 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 넘어서 외부로 배출되는 상태로 변경할 때, 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 동기적으로 하강시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제9항에 있어서,상기 제3 안내부의 상단부를 아래쪽으로 접어서 형성되고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부 또는 제2 안내부에 의해 안내될 때에, 상기 제2 안내부와 상기 제3 안내부와의 사이로 처리액이 진입하는 것을 방지하기 위한 접힘부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 구비하고, 상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부가 각각 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 각 상단부가 상하바향으로 서로 겹치도록 설치되어, 각각 독립적으로 승강가능하게 구성된 기판처리장치에 있어서 기판을 처리하는 방법으로서,상기 기판지지기구에 의해 기판을 회전시키는 기판회전공정과,상기 기판회전공정에 있어서, 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액공급공정과,상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동시에 상승시키고, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리방법.
- 기판을 수평하게 지지하여, 그 기판을 수직한 회전축선 주위로 회전시키는 기판지지기구와, 상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸고, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액을 해당 처리액이 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 구비하고, 상기 제1 안내부, 상기 제2 안내부 및 상기 제3 안내부가 각각 상기 회전축선을 향하여 뻗는 상단부를 갖고, 각 상단부가 상하바향으로 서로 겹치도록 설치되어, 각각 독립적으로 승강가능하게 구성된 기판처리장치에 있어서 기판을 처리하는 방법으로서,상기 기판지지기구에 의해 기판을 회전시키는 기판회전공정과,상기 기판회전공정에 있어서, 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액공급공정과,상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제3 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부 및 상기 제2 안내부를 동시에 상승시키고, 해당 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되는 상태로 변경하는 공정과,상기 처리액공급공정에 있어서, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 처리액이 상기 제1 안내부에 의해 안내되고 있는 상태로부터, 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 동시에 하강시켜서, 해당 처리액이 상기 제1 안내부, 제2 안내부 및 제3 안내부를 넘어서 외부로 배출되는 상태로 변경하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리방법.
- 기판을 수평하게 지지하면서 회전시키는 기판지지기구와,상기 기판지지기구에 지지된 기판에 대하여, 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하기 위한 처리액공급기구와,상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 제1 처리액을 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제1 안내부와,상기 기판지지기구의 주위를 둘러싸도록 설치되어, 상기 기판지지기구에 의해 회전되고 있는 기판으로부터 비산하는 제2 처리액을 아래로 흐르도록 안내하기 위한 제2 안내부와,상기 제1 안내부로 안내되는 제1 처리액을 폐기하기 위한 폐기홈과,상기 제2 안내부로 안내되는 제2 처리액을 회수하기 위한 회수홈과,상기 폐기홈 안을 강제적으로 배기하기 위한 배기기구를 포함하고, 상기 폐기홈과 상기 회수홈이 분위기적으로 격리되어 있어, 상기 회수홈 안의 강제적인 배기가 행하여지지 않는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제13항에 있어서,상기 제1 안내부는 해당 제1 안내부와 상기 기판지지기구와의 사이에 상대적으로 좁은 간격이 형성되는 제1 위치와, 해당 제1 안내부와 상기 기판지지기구와의 사이에 상대적으로 넓은 간격이 형성되는 제2 위치로 이동가능하게 설치되어, 상기 제2 안내부가 제2 처리액을 안내할 때에, 상기 제1 안내부는 상기 제1 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제13항에 있어서,상기 제1 안내부는 상기 폐기홈과 상기 회수홈과의 사이에 설치되어, 상기 폐기홈 및 상기 회수홈과 일체적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 제13항에 있어서,상기 폐기홈과 상기 회수홈과의 사이에 설치되어, 상기 제1 안내부에 접속되어서, 상기 제1 안내부와 함께 상기 폐기홈과 상기 회수홈을 분위기적으로 격리하는 격리부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2005-00103203 | 2005-03-31 | ||
JP2005103202A JP4531612B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2005103201A JP4791068B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 基板処理装置 |
JPJP-P-2005-00103201 | 2005-03-31 | ||
JPJP-P-2005-00103202 | 2005-03-31 | ||
JP2005103203A JP4504859B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060106690A KR20060106690A (ko) | 2006-10-12 |
KR100752246B1 true KR100752246B1 (ko) | 2007-08-29 |
Family
ID=37070590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060026380A Active KR100752246B1 (ko) | 2005-03-31 | 2006-03-23 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8313609B2 (ko) |
KR (1) | KR100752246B1 (ko) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100752246B1 (ko) * | 2005-03-31 | 2007-08-29 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
JP4763567B2 (ja) * | 2006-10-03 | 2011-08-31 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
DE102008044753A1 (de) * | 2007-08-29 | 2009-03-05 | Tokyo Electron Limited | Substratbearbeitungsvorrichtung und Verfahren |
JP5312856B2 (ja) * | 2008-06-27 | 2013-10-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
EP2372749B1 (de) * | 2010-03-31 | 2021-09-29 | Levitronix GmbH | Behandlungsvorrichtung zur Behandlung einer Oberfläche eines Körpers |
KR101592058B1 (ko) | 2010-06-03 | 2016-02-05 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액처리 장치 |
JP5242632B2 (ja) | 2010-06-03 | 2013-07-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置 |
JP5309118B2 (ja) | 2010-12-17 | 2013-10-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置 |
US20130255724A1 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Semes Co., Ltd. | Apparatus for treating substrate |
JP6057334B2 (ja) * | 2013-03-15 | 2017-01-11 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
KR101570168B1 (ko) * | 2014-06-30 | 2015-11-19 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP6592303B2 (ja) | 2015-08-14 | 2019-10-16 | 株式会社Screenホールディングス | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 |
JP6618113B2 (ja) * | 2015-11-02 | 2019-12-11 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
TWI656594B (zh) * | 2016-12-15 | 2019-04-11 | 辛耘企業股份有限公司 | 基板處理裝置 |
US11498100B2 (en) * | 2017-03-06 | 2022-11-15 | Acm Research (Shanghai) Inc. | Apparatus for cleaning semiconductor substrates |
JP7037459B2 (ja) * | 2018-09-10 | 2022-03-16 | キオクシア株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
JP7313244B2 (ja) | 2019-09-20 | 2023-07-24 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN113838788A (zh) * | 2020-06-24 | 2021-12-24 | 拓荆科技股份有限公司 | 晶圆自动承载系统及采用该系统传送晶圆的方法 |
KR102616061B1 (ko) * | 2021-08-24 | 2023-12-20 | (주)디바이스이엔지 | 바울 조립체를 포함하는 기판 처리장치 |
CN114653660B (zh) * | 2022-05-20 | 2022-09-16 | 智程半导体设备科技(昆山)有限公司 | 一种磁性夹块及半导体基材清洗装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004111487A (ja) | 2002-09-13 | 2004-04-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3691227B2 (ja) | 1996-10-07 | 2005-09-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法及びその装置 |
US5997653A (en) * | 1996-10-07 | 1999-12-07 | Tokyo Electron Limited | Method for washing and drying substrates |
JP3963605B2 (ja) | 1999-03-04 | 2007-08-22 | 住友精密工業株式会社 | 回転式基板処理装置 |
JP4257816B2 (ja) | 2000-03-16 | 2009-04-22 | 三益半導体工業株式会社 | 廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置 |
TW504776B (en) * | 1999-09-09 | 2002-10-01 | Mimasu Semiconductor Ind Co | Wafer rotary holding apparatus and wafer surface treatment apparatus with waste liquid recovery mechanism |
JP2002305173A (ja) | 2001-02-01 | 2002-10-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP4018958B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2007-12-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4040906B2 (ja) | 2002-05-20 | 2008-01-30 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
JP2004031400A (ja) | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Sipec Corp | 基板処理装置及びその処理方法 |
JP4146709B2 (ja) | 2002-10-31 | 2008-09-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US7584760B2 (en) * | 2002-09-13 | 2009-09-08 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
CA2514673A1 (en) * | 2005-08-05 | 2007-02-05 | Duoject Medical Systems Inc. | Fluid transfer assembly for pharmaceutical delivery system and method for using same |
JP2004265910A (ja) | 2003-02-03 | 2004-09-24 | Personal Creation Ltd | 基板の処理液の分別回収装置及び該装置を備えた基板の処理装置、並びに基板の処理液の分別回収方法 |
JP2004265912A (ja) | 2003-02-03 | 2004-09-24 | Personal Creation Ltd | 基板の処理装置 |
JP4105574B2 (ja) * | 2003-03-26 | 2008-06-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US7467635B2 (en) * | 2003-05-12 | 2008-12-23 | Sprout Co., Ltd. | Apparatus and method for substrate processing |
JP3966848B2 (ja) | 2003-11-07 | 2007-08-29 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
KR100752246B1 (ko) * | 2005-03-31 | 2007-08-29 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
JP4763567B2 (ja) * | 2006-10-03 | 2011-08-31 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
-
2006
- 2006-03-23 KR KR1020060026380A patent/KR100752246B1/ko active Active
- 2006-03-31 US US11/396,700 patent/US8313609B2/en active Active
-
2012
- 2012-07-10 US US13/545,685 patent/US8545668B2/en active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004111487A (ja) | 2002-09-13 | 2004-04-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20060106690A (ko) | 2006-10-12 |
US20060222315A1 (en) | 2006-10-05 |
US8545668B2 (en) | 2013-10-01 |
US8313609B2 (en) | 2012-11-20 |
US20120298152A1 (en) | 2012-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100752246B1 (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
KR100921601B1 (ko) | 기판처리장치 | |
KR101059680B1 (ko) | 기판처리장치 | |
KR101035983B1 (ko) | 매엽식 기판 처리 장치 및 그 장치에서의 배기 방법 | |
JP2009135396A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2004265912A (ja) | 基板の処理装置 | |
JPH11168078A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5031684B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP3917384B2 (ja) | 基板処理装置および基板洗浄装置 | |
JP2004265910A (ja) | 基板の処理液の分別回収装置及び該装置を備えた基板の処理装置、並びに基板の処理液の分別回収方法 | |
JP2004153078A (ja) | 基板処理装置 | |
KR20100059457A (ko) | 매엽식 기판 처리 장치 | |
JP4531612B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
CN114008756A (zh) | 基板处理装置以及基板处理方法 | |
JP4504859B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4488497B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2010177372A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4791068B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2002177856A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2006286835A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2004265911A (ja) | 基板の処理装置 | |
JP2006286834A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2003133278A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH11330031A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2005302746A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20060323 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20070222 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20070521 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20070820 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20070820 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20100811 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20110720 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120802 Year of fee payment: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120802 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130801 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20130801 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140811 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140811 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150716 Year of fee payment: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20150716 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160720 Year of fee payment: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160720 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170720 Year of fee payment: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170720 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180801 Year of fee payment: 12 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180801 Start annual number: 12 End annual number: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190730 Year of fee payment: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190730 Start annual number: 13 End annual number: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210729 Start annual number: 15 End annual number: 15 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220720 Start annual number: 16 End annual number: 16 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230718 Start annual number: 17 End annual number: 17 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20240725 Start annual number: 18 End annual number: 18 |