KR100743714B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 전극과, 상기 전극 위에 형성되는 유전체와, 상기 유전체 위에 2층 이상의 다층구조를 가지는 격벽이 형성되어, 상기 격벽이 하층부로 갈수록 식각력이 높은 물질로 구성되어 방전공간 저면부의 식각률을 높여 방전공간의 체적을 확대시킬 수 있다.

플라즈마 디스플레이 패널, 격벽, 식각력, 방전공간

Description

플라즈마 디스플레이 패널{Plasma display panel}

도 1 은 종래 기술에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 구조가 도시된 도,

도 2 는 종래 기술에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도,

도 3 은 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도,

도 4 는 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널 실시예의 단면도,

도 5 는 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법이 도시된 순서도이다.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>

10: 전면기판 20: 배면기판

22: 격벽

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로써, 특히 플라즈마 디스 플레이 패널 격벽의 상층부 및 하층부의 식각력을 달리하여, 에칭에 의해 상기 격벽이 형성될 때 격벽 하층부의 식각력을 높여 방전공간 저면부 및 측면부가 충분히 식각됨에 따라, 방전공간을 확보하여 형광체 도포 면적을 증대시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.

일반적인 플라즈마 디스플레이 패널은 도 1 에 도시된 바와 같이, 전면기판(A)과 배면기판(B)으로 구성되는데, 상기 전면기판은 배면기판과 대향하여 스트라이프형으로 배열 형성되는 복수개의 버스 전극(1) 및 ITO 전극(2)과, 상기 버스 전극을 덮도록 적층되어 방전시 방전 전류를 제한하고 벽전하 생성을 용이하게 하는 유전체층(3)과, 상기 유전체층을 보호하기 위한 유전체 보호층(4)으로 이루어진다.

또한 상기 배면기판(B)은 상기 전면기판의 버스 전극(1)과 직교하도록 스트라이프형으로 배열되어 상기 버스 전극과 함께 전체 화면을 복수개의 셀로 구분하는 복수개의 어드레스 전극(6)과, 상기 배면기판의 전면에 도포되어 상기 어드레스 전극을 보호하고 전기적인 절연을 수행하기 위한 유전체층(8)과, 상기 유전체층 상에 스트라이프 형태로 배열 형성되어 방전공간 형성하는 격벽(7)과, 상기 격벽에 의해 형성된 방전공간 내부에 인쇄, 도포되어 각 셀의 방전시 자외선에 의해 여기되어 가시광을 방출하는 형광체(9)로 이루어진다.

상기 격벽(7)은 통상 샌드 블라스트(Sand Blast), 프레스(Press) 또는 감광 물질을 이용한 식각 방법(Etching) 등에 의해 원하는 형상으로 패터닝(Patterning) 된 후, 450℃ 이상의 고온에서 소성하는 과정을 통해 형성된다.

일반적으로 격벽(7)을 형성하기 위해 PbO, ZnO, MgO의 혼합물로 구성된 격벽 페이스트를 유전체(8)가 형성된 배면기판(B)위에 도포하고, 상기 배면기판에 에칭엑을 분사하여 격벽 페이스트를 식각함에 따라 격벽이 형성되는데, 상기 PbO의 성분 함량에 의해 상기 격벽의 식각력이 결정된다.

이때, 도 2 에 도시된 바와 같이, 상기 격벽(7)의 하층부는 에칭액에 의해 충분히 식각되지 못하여 상기 격벽의 측면 하단부 및 방전 공간의 저면부는 평탄하게 형성되지 못하고 오목한 호 모양으로 형성된다.

이에 따라 상기 격벽(7) 측면 및 방전 공간 하단부가 충분히 식각되지 못하여 방전 공간의 체적이 줄어들게 됨에 따라 상기 방전공간에 도포되는 형광체(9)의 도포면적 또한 줄어들게 되므로, 방전시 가시광선이 충분히 형성되지 못해 방전 효율이 감소되고 휘도가 저하 된다는 문제점이 있다.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 플라즈마 디스플레이 패널 격벽의 식각력이 하층부로 갈수록 증가하도록 다층 구조의 격벽을 형성함에 따라, 격벽 하단부의 식각력을 높여 방전공간을 충분히 확보하여 형광체 도포 면적을 증대시킴에 따라 방전 효율이 개선되는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 데 있다.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 전극과, 상기 전극 위에 형성되는 유전체와, 상기 유전체 위에 2층 이상의 다층구조를 가지는 격벽이 형성되는 것을 특징으로 한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널을 설명하면 다음과 같다. 도 3 내지 도 4 는 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 단면이 도시된 도이다.

본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 전면기판(10)에는 면방전을 수행하기 위한 버스 전극쌍(11)과 ITO 전극(12)이 형성되고, 상기 버스 전극쌍 및 ITO 전극 위에 유전체(13)와 유전체 보호층(14)이 차례로 형성된다.

배면기판(20)에는 영상 데이터에 따라 방전 셀을 선택하기 위한 어드레스 전극(21)과, 상기 어드레스 전극위에 유전체(23)가 형성되고, 상기 유전체 위에 방전 공간을 구획하는 격벽(22)과 방전 공간에 도포되어 방전시 가시광선을 여기/발광하는 형광체(24)가 차례로 형성된다.

상기 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽(22)은 도 3 에 도시된 바와 같이, 상부와 하부의 식각력이 다른 다층 구조로 형성될 수 있다.

상기 격벽(22)이 두 개의 층을 가지는 2층 구조인 경우를 예로 들어 설명하면, 상기 격벽이 상층부(22a)와 하층부(22b)는 식각력이 다른 물질로 구성되는데, 상층부에 비해 하층부의 식각력이 커지도록 격벽이 구성되면 에칭액에 의해 격벽 측면 및 방전 공간 하단부가 충분히 식각되어 방전 공간의 체적을 늘릴 수 있다.

일반적으로 격벽(22)은 PbO, ZnO, MgO의 혼합물로 구성된 격벽 페이스트를 유전체(23)가 형성된 배면기판(20)위에 도포하고, 격벽 패턴에 따라 노광/현상 후 애칭액으로 식각한다.

이때, 상기 격벽(22)의 식각률은 격벽 페이스트 성분 중 PbO에 의해서 결정되므로, 상기 격벽 하층부(22b)가 상층부(22a)에 비해 PbO 함량이 많아지도록 격벽 페이스트의 성분을 조성하여 격벽 상층부 및 하층부의 식각력이 달라지도록 할 수 있다.

일반적으로 격벽 페이스트의 PbO 함량이 50% 이상인 경우에 애칭액에 의해 식각되므로 상기 격벽 상층부(22a)를 형성하기 위한 격벽 페이스트는 PbO 함량이 50% 이상이 되도록 하고, 상기 격벽 하층부(22b)를 형성하기 위한 격벽 페이스트는 상기 상층부를 형성하기 위한 격벽 페이스트보다 PbO 함량이 커져야 한다.

상기와 같이 격벽 하층부(22b)의 식각률이 상층부(22a)보다 높게 형성되면, 에칭 공정시 상기 격벽 하층부가 충분히 식각되어 상기 격벽(22) 측면 및 상기 방전 공간 저면부가 종래와 같이 오목한 모양으로 형성되지 않고 평탄하게 형성되어 방전 공간의 체적이 증가하게 된다.

방전 공간의 체적이 증가하면, 상기 방전 공간에 도포되는 형광체(24)의 도포 면적이 증대되는 바, 방전시 플라즈마에서 발생되는 진공자외선(VUV)에 의해 생성되는 가시광선의 양이 증가하게 되어 발광 효율이 좋아진다.

뿐만 아니라, 상기와 같이 형광체(24) 도포 면적이 증가하게 되어 가시광선 의 발생이 증가하면, 휘도를 높일 수 있어 휘도를 개선하는 효과를 가져온다.

또한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽(22')은 다층 구조를 가지도록 형성될 수 있는데, 도 4 에 도시된 바와 같이 상기 격벽이 6개의 층을 가지도록 구성되고, 이때, 상기 격벽(22')은 하층부로 갈수록 식각력이 높게 형성되면 에칭 공정시 상기 격벽 측면 및 방전 공간 저면부의 식각력을 더 높일 수 있다.

즉, 도 3 에 도시된 바와 같이 2층 구조의 격벽(22)에 비해 도 4 에 도시된 바와 같이 6층 구조의 격벽(22')을 가지게 되면, 에칭 공정시 상기 격벽 측면부의 식각력이 높아지게 된다.

이에 따라 상기 격벽(22') 측면부가 평탄하게 형성되고 에칭 되는 깊이가 깊고 넓어지게 되어 에칭 공정시 형성되는 방전 공간의 체적이 더욱 증가하게 되어 형광체(24) 도포 후 방전시 방전 효율을 더욱더 높일 수 있게 된다.

이와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널에 구비되는 격벽(22, 22')을 2층 이상의 다층으로 구성하고, 상기 격벽을 구성하는 층의 개수가 많아질수록 에칭 공정 후 격벽 측면부의 평탄도 및 방전 공간의 체적이 증가하게 되므로 방전시 발생되는 가시 광선의 양이 늘어나게 되어 방전 효율 및 휘도를 개선할 수 있게 된다.

특히, 방전 공간의 체적이 늘어나게 되면 형광체(24) 도포 면적이 증대되어 가시 광선의 발생량이 증가하는 것은 물론, 방전시 플라즈마를 더 크게 형성할 수 있게 되어 방전 효율을 극대화 할 수 있다.

도 5 는 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법이 도시된 순서도이다. 도 5 를 참조로 하여, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 을 살펴보면 다음과 같다.

우선 제 1 단계에서 전극이 형성된다(S1). 상기 전극은 글라스상에 전극 패턴을 인쇄하고 건조/소성하여 전극을 형성하는 패턴 인쇄법 또는 글라스상에 감광성 페이스트를 도포하여 건조하여 노광/현상 후 소성하여 형성하는 감광성 페이스트법을 주로 사용하여 형성할 수 있다.

제 2 단계에서는 상기 제 1 단계에서 형성된 전극 위에 유전체가 형성된다(S2). 유전체는 유전체를 형성하는 페이스트를 도포하여 건조/소성하여 형성하거나 유전체 시트를 라미테이팅 하여 형성할 수 있다.

제 3 단계에서는 다층 구조의 격벽이 형성된다.

이를 위해서는 격벽의 층수에 맞도록 격벽 페이스트를 도포(S3, S4) 하고 노광(S5)/현상(S6) 후 식각(S7)하여 격벽을 형성한다.

예를 들어, 2층 구조의 격벽이 형성되는 경우에는 유전체가 형성된 기판위에 격벽 하단부를 형성하기 위한 격벽 페이스트를 도포한 후, 격벽 상단부를 형성하기 위한 격벽 페이스트를 적층하는데, 상기 격벽이 2층 구조를 가지는 바, 격벽 페이스트의 도포 높이는 단층의 격벽을 형성하기 위해 도포되는 격벽 페이스트의 도포 높이보다 낮아져야 한다.

만일, 격벽의 층수가 늘어나면, 격벽 층수에 맞도록 격벽 페이스트의 도포 횟수를 늘려 격벽을 형성하고, 원하는 격벽 층수만큼 격벽 페이스트를 도포한 후의 도포 높이가 형성하고자 하는 격벽 높이보다 20㎛ 이상 높이지지 않도록 하여 최종 형성된 격벽의 높이가 100㎛ 내지 180㎛ 범위로 형성되도록 한다.

이때, 상기 격벽은 하층부로 갈수록 식각력이 높아지도록 해야 하므로, 상기 격벽을 형성하기 위해 도포되는 페이스트는 하층으로 갈수록 식각력이 높아지도록 해야 한다. 상기 식각력은 격벽 페이스트에 함유되는 PbO의 함량으로 조절할 수 있는데, PbO의 함량이 증가할수록 식각력은 높아지는데, 상기 PbO가 50% 이상 함유되어야 격벽 페이스트가 에칭액에 노출되었을 때 식각성을 가지게 된다.

상기와 같이 다층 구조의 격벽을 형성 한 후, 방전 공간 내부에 형광체를 도포(S8)하여 플라즈마 디스플레이 패널의 기판을 제조한다.

이와 같이 상기 격벽이 다층 구조로 형성되면 에칭 공정 후 격벽 측면부가 평탄하게 형성되는 것은 물론, 형성되는 방전공간의 깊이 및 저면부의 폭이 증가하게 되어 결과적으로 방전 공간의 체적이 증가하게 된다.

따라서, 방전 공간 내부에 도포되는 형광체의 면적이 증가하게 되어 방전시 발생되는 가시광선의 양이 증가하여 방전 효율을 높이고 휘도를 개선할 수 있다.

이상과 같이 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널을 예시된 도면을 참조로 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명은 한정되지 않고, 본 발명의 기술사상이 보호되는 범위 이내에서 당업자에 의해 응용이 가능하다.

상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 상층부와 하층부의 식각력이 다른 다층 구조의 격벽을 형성하고, 상기 격벽은 하층부로 갈수록 식각력이 높은 물질로 구성되어 방전공간 측면부 및 저면부의 식각력을 높여 굴곡없는 격벽을 형성하는 동시에 방전공간의 체적을 증가시켜 형광체 도포면적이 증대됨에 따라 방전 효율을 높여 휘도 특성을 개선할 수 있는 효과가 있다.

Claims (3)

1. 전극과;

   상기 전극 위에 형성되는 유전체와;

   상기 유전체 위에 형성되는 2층 이상의 다층구조를 가지는 격벽을 포함하고,

   상기 격벽은 하층부로 갈수록 식각력이 높은 플라즈마 디스플레이 패널.
2. 삭제
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 격벽은 하층부로 갈수록 PbO 조성비가 높아지되,

   상기 PbO 조성비는 적어도 50% 이상인 플라즈마 디스플레이 패널.

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