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KR100737626B1 - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents

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KR100737626B1
KR100737626B1 KR1020010016211A KR20010016211A KR100737626B1 KR 100737626 B1 KR100737626 B1 KR 100737626B1 KR 1020010016211 A KR1020010016211 A KR 1020010016211A KR 20010016211 A KR20010016211 A KR 20010016211A KR 100737626 B1 KR100737626 B1 KR 100737626B1
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Abstract

본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 특히 LCD 패널의 게이트 라인 및 데이터 라인과 구동 IC를 접속하기 위한 배선부인 팬-아웃부에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a fan-out part, which is a wiring part for connecting a gate line and a data line of a LCD panel and a driving IC.

개시된 본 발명은, LCD 패널의 게이트 라인 및 데이타 라인과 각각 접속되는 이중 금속 레이어로 구성되는 팬-아웃부에 있어서, 게이트 라인용 금속막을 제공하는 단계; 상기 게이트 라인용 금속막 상부에 게이트 절연막을 형성하는 단계; 상기 게이트 절연막 상부에 데이타 라인용 금속막을 형성하는 단계; 상기 데이타 라인용 금속막을 일정부분 패터닝하여 상기 게이트 라인용 금속막과 적어도 둘 이상의 콘택 영역을 확보하는 단계; 상기 단계까지의 전체구조상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 보호막 일부분을 식각하여 데이타 라인용 금속막 일부분을 노출시키는 비아홀 형성과 동시에 상기 데이타 라인용 금속막 측부 및 게이트 라인용 금속막 소정부분을 노출시키는 적어도 둘 이상의 콘택홀을 형성하는 단계; 및 상기 전체구조 상에 ITO(Indium Thin Oxide)막을 형성하여 상기 비아홀 및 콘택홀을 통하여 게이트 라인용 금속막과 데이타 라인용 금속막을 콘택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에의해, ITO 단락을 억제할 수 있다.Disclosed is a fan-out part including a double metal layer respectively connected to a gate line and a data line of an LCD panel, the method including: providing a metal film for a gate line; Forming a gate insulating film on the gate line metal film; Forming a metal film for a data line on the gate insulating film; Patterning the metal layer for data lines to secure at least two contact regions with the gate line metal layer; Forming a protective film on the entire structure up to the step; Etching at least a portion of the passivation layer to form at least two contact holes for exposing a portion of the data line metal film and a portion of the gate line metal film at the same time as forming a via hole exposing a portion of the data line metal film; And forming an indium thin oxide (ITO) film on the entire structure to contact the gate line metal film and the data line metal film through the via hole and the contact hole. Thereby, ITO short circuit can be suppressed.

Description

액정표시장치의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING LCD DEVICE}Manufacturing method of liquid crystal display device {METHOD FOR MANUFACTURING LCD DEVICE}

도 1은 종래 기술에 따른 액정표시장치의 팬-아웃부를 설명하기 위한 평면도.1 is a plan view illustrating a fan-out part of a liquid crystal display according to the related art.

도 2는 종래 기술에 따른 액정표시장치의 팬-아웃부를 설명하기 위한 전체 단면도.2 is an overall cross-sectional view illustrating a fan-out part of a liquid crystal display according to the related art.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시장치의 팬-아웃부를 설명하기 위한 평면도.3 is a plan view illustrating a fan-out part of the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 종래 기술에 따른 액정표시장치의 팬-아웃부를 설명하기 위한 전체 단면도.4 is an overall cross-sectional view illustrating a fan-out part of a liquid crystal display according to the related art.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

20 : 게이트 라인용 금속막 22 : 게이트 절연막20 metal film for gate line 22 gate insulating film

24 : 데이타 라인용 금속막 26 : 보호막24: metal film for data line 26: protective film

30 : 비아홀 32 : 콘택홀30: via hole 32: contact hole

34 : ITO막34: ITO membrane

본 발명은 액정 표시 장치의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 구조적으로 팬-아웃(Fan-Out)부와 패널 주변부에 형성되는 금속라인과 라인을 연결시키는 콘택 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display, and more particularly, to a contact structure connecting a metal line and a line formed in a fan-out part and a panel peripheral part.

일반적으로 액정표시장치는 LCD 패널의 게이트 라인 및 데이터 라인과 구동 IC를 접속하기 위한 배선부, 즉 유리 기판의 일정면적을 차지하는 팬-아웃부가 필요하다. 이러한 팬-아웃부는 신호전달시 저항을 줄이기 위하여 이중 금속라인을 병렬로 형성하여 제조하고 있다.In general, a liquid crystal display requires a wiring portion for connecting a gate line, a data line, and a driving IC of an LCD panel, that is, a fan-out portion occupying a predetermined area of a glass substrate. These fan-out parts are manufactured by forming double metal lines in parallel to reduce resistance during signal transmission.

도 1은 종래 기술에 따른 팬-아웃부를 설명하기 위한 평면도이고, 도 2는 도 1을 용이하게 설명하기 위한 단면도를 도시한 것이다.1 is a plan view illustrating a fan-out unit according to the prior art, and FIG. 2 is a cross-sectional view for easily explaining FIG. 1.

도 1 및 도 2에 도시된 바와같이, 게이트 라인용 금속막(1)이 제공된다. 그 다음, 게이트 라인용 금속막(1) 상부에 게이트 절연막(2)을 증착한다. 그 다음, 게이트 절연막(2) 소정부분을 식각하여 게이트 라인용 금속막(1) 일부분을 노출시키는 제1 콘택홀(4)을 형성한다. 그 다음, 상기 단계까지의 전체구조를 덮는 데이타 라인용 금속막(5)을 증착한 다음, 보호막(6)을 전면에 증착한다.As shown in Figs. 1 and 2, a metal film 1 for a gate line is provided. Next, a gate insulating film 2 is deposited over the gate line metal film 1. Next, a predetermined portion of the gate insulating film 2 is etched to form a first contact hole 4 exposing a portion of the gate line metal film 1. Then, the metal film 5 for data line covering the entire structure up to the above step is deposited, and then the protective film 6 is deposited on the entire surface.

그 다음, 보호막(6) 소정부분을 식각하여 제1 콘택홀(4)을 노출시키는 동시에 데이타 라인용 금속막(5) 일부분을 노출시키는 제2 콘택홀(7)을 형성한다. 이어서, 상기 단계까지의 전체구조상에 ITO(Indium Thin Oxide)막(8)을 증착하여 제2 콘택홀(6)과 제1 콘택홀(4)을 통해 게이트 라인용 금속막(1)과 데이타 라인용 금속막(5)을 콘택시킨다.Next, a predetermined portion of the protective film 6 is etched to form a second contact hole 7 exposing the first contact hole 4 and exposing a portion of the data line metal film 5. Subsequently, an indium thin oxide (ITO) film 8 is deposited on the entire structure up to the above step, and the gate line metal film 1 and the data line are formed through the second contact hole 6 and the first contact hole 4. The metal film 5 for contact is contacted.

그러나, 종래 기술에 따른 액정표시장치의 제조방법은 다음과 같은 문제점이 있다. However, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the prior art has the following problems.

구조적으로 팬-아웃부와 패널 주변부에 금속라인과 라인을 연결시키는 콘택 구조가 필수적으로 생기게 되는데. 이러한 콘택 구조는 ITO막(8)을 연결매체로 두 금속라인, 즉 게이트 라인용 금속막(1)과 데이타 라인용 금속막(5)을 접속시킨다. 이 때, 두 금속라인간의 계면 차 때문에 ITO막 증착시 타들어가는 듯한 버닝(Burning) 현상이 발생하여 ITO막(8)이 단락되는 현상이 발생하고 있다.Structurally, there is a contact structure that connects metal lines and lines to the fan-out and the panel periphery. This contact structure connects the two metal lines, that is, the gate line metal film 1 and the data line metal film 5, with the ITO film 8 as a connecting medium. At this time, due to the interface difference between the two metal lines, burning occurs as if burning the ITO film, and the ITO film 8 is shorted.

따라서, 본 발명의 목적은 ITO막의 경계면을 최대화하여 ITO막의 단락 현상을 방지할 수 있는 액정표시장치의 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of maximizing the interface of the ITO film to prevent short circuiting of the ITO film.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정표시장치 제조방법은, LCD 패널의 게이트 라인 및 데이타 라인과 각각 접속되는 이중 금속 레이어로 구성되는 팬-아웃부에 있어서, 게이트 라인용 금속막을 제공하는 단계; 상기 게이트 라인용 금속막 상부에 게이트 절연막을 형성하는 단계; 상기 게이트 절연막 상부에 데이타 라인용 금속막을 형성하는 단계; 상기 데이타 라인용 금속막을 일정부분 패터닝하여 상기 게이트 라인용 금속막과 적어도 둘 이상의 콘택 영역을 확보하는 단계; 상기 단계까지의 전체구조상에 보호막을 형성하는 단계; 상기 보호막 일부분을 식각하여 데이타 라인용 금속막 일부분을 노출시키는 비아홀 형성과 동시에 상기 데이타 라인용 금속막 측부 및 게이트 라인용 금속막 소정부분을 노출시키는 적어도 둘 이상의 콘택홀을 형성하는 단계; 및 상기 전체구조 상에 ITO막을 형성하여 상기 비 아홀 및 콘택홀을 통하여 게이트 라인용 금속막과 데이타 라인용 금속막을 콘택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, the method including: providing a metal film for a gate line in a fan-out part including a double metal layer connected to a gate line and a data line of an LCD panel, respectively; ; Forming a gate insulating film on the gate line metal film; Forming a metal film for a data line on the gate insulating film; Patterning the metal layer for data lines to secure at least two contact regions with the gate line metal layer; Forming a protective film on the entire structure up to the step; Etching at least a portion of the passivation layer to form at least two contact holes for exposing a portion of the data line metal film and a portion of the gate line metal film at the same time as forming a via hole exposing a portion of the data line metal film; And forming an ITO film on the entire structure to contact the gate line metal film and the data line metal film through the via hole and the contact hole.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 팬-아웃부를 설명하기 위한 평면도를 도시한 것이고, 도 4는 도 3을 용이하게 설명하기 위해 AA'단면을 자른 전체 단면도를 도시한 것이다.FIG. 3 is a plan view illustrating a fan-out part according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ to easily illustrate FIG. 3.

도 3 및 도 4에 도시된 바와같이, 유리기판(도시되지 않음) 상부에 게이트 라인용 금속막(20)을 제공한다. 게이트 라인용 금속막(20)은 LCD 패널 화소 구조에서 게이트 라인 형성시 동시에 형성된다. 그 다음, 게이트 라인용 금속막(20) 상부에 게이트 절연막(22)을 형성한다. 이어서, 게이트 절연막 상부에 데이타 라인용 금속막(24) 즉, 소오스/드레인용 금속막을 형성한다. 이 때, 기존에는 게이트 라인용 금속막의 배선 폭이 데이타 라인용 금속막 배선 폭에 노출된 것과는 달리, 본 발명에서는 게이트 라인용 금속막(20)의 배선 폭이 데이타 라인용 금속막(24)의 배선폭에 노출되지 않도록 형성한다.As shown in FIGS. 3 and 4, a metal film 20 for a gate line is provided on a glass substrate (not shown). The gate line metal film 20 is formed simultaneously in forming the gate line in the LCD panel pixel structure. Next, a gate insulating film 22 is formed on the gate line metal film 20. Next, a data line metal film 24, that is, a source / drain metal film, is formed over the gate insulating film. At this time, unlike the conventional wiring width of the gate line metal film exposed to the data line metal film wiring width, in the present invention, the wiring width of the gate line metal film 20 is equal to that of the data line metal film 24. It is formed so as not to expose the wiring width.

그 다음, 데이타 라인용 금속막(24) 일정부분을 패터닝하여, 게이트 라인용 금속막과 후속 공정을 통하여 콘택할 수 있도록 적어도 둘 이상의 콘택 영역을 확보한다.Then, a predetermined portion of the data line metal film 24 is patterned to secure at least two or more contact regions so that the metal line film 24 can be contacted with the gate line metal film through a subsequent process.

그 다음, 상기 단계까지의 전체구조상에 보호막(26)을 형성한다. 이어서, 보호막(26) 일부분을 식각하여 데이타 라인용 금속막 일부분을 노출시키는 비아홀(30) 형성과 동시에 데이타 라인용 금속막(24) 측부 및 게이트 라인용 금속막(20) 소정부분을 노출시키는 콘택홀(32)을 형성한다.Then, the protective film 26 is formed on the entire structure up to this step. Subsequently, a portion of the passivation layer 26 is etched to form a via hole 30 exposing a portion of the data line metal layer, and at the same time, a contact exposing a side portion of the data line metal layer 24 and a predetermined portion of the gate line metal layer 20. The hole 32 is formed.

그 다음, 상기 단계까지의 전체구조 상에 ITO막(34)을 형성하여 상기 비아홀 및 콘택홀을 통하여 게이트 라인용 금속막(20)과 데이타 라인용 금속막(24)을 접속시키는 이중 금속 라인을 이용한 팬-아웃부를 형성한다. 이 때, ITO막(34)은 데이타 라인용 금속막(24)의 배선 폭 전부를 덮도록 형성한다. Next, a double metal line is formed on the entire structure up to the step to connect the gate line metal film 20 and the data line metal film 24 through the via hole and the contact hole. The used fan-out part is formed. At this time, the ITO film 34 is formed so as to cover the entire wiring width of the data line metal film 24.

상술한 바와같이, 게이트 라인용 금속막(20)과 데이타 라인용 금속막(24)의 연결 매체인 ITO막(34)의 접촉 경계면을 최대화시켜 ITO막(34)의 단락을 억제하기 위해, 게이트 라인용 금속막(20)과 ITO막(34)을 연결할 경우 데이타 라인용 금속막(24) 중간 부분에 비아홀(30)을 통하여 동시에 연결함으로써 단선을 감소시킬 수 있다.As described above, in order to suppress the short circuit of the ITO film 34 by maximizing the contact interface of the ITO film 34 which is the connection medium of the gate line metal film 20 and the data line metal film 24, When the line metal layer 20 and the ITO layer 34 are connected to each other, disconnection may be reduced by simultaneously connecting the middle portion of the data line metal layer 24 through the via hole 30.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and it is common in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those who have knowledge.

상술한 본 발명의 액정표시소자 제조방법에 의하면, 게이트 라인용 금속막(20)과 ITO막(34)을 콘택홀(32)을 통하여 연결할 경우, 데이타 라인용 금속막(24) 중간 부분에 비아홀(30)을 통하여 동시에 연결함으로써, 연결매체인 금속막과 ITO막과의 접촉 경계면을 최대로 하여 ITO 단락을 억제할 수 있다. According to the method of manufacturing the liquid crystal display device of the present invention described above, when the gate line metal film 20 and the ITO film 34 are connected through the contact hole 32, a via hole is formed in the middle portion of the data line metal film 24. By simultaneously connecting via 30, ITO short circuit can be suppressed by making the contact interface between a metal film which is a connecting medium, and an ITO film maximum.                     

즉, 두 금속막과 ITO막의 접촉 경계면의 면적과 구조 변경을 통해 ITO 단락을 방지함으로써 휘선 발생을 억제하여 수율 향상을 기대할 수 있다.In other words, by improving the area and structure of the contact interface between the two metal films and the ITO film to prevent ITO short-circuit, it is possible to suppress the occurrence of bright lines and improve the yield.

Claims (3)

LCD 패널의 게이트 라인 및 데이타 라인과 각각 접속되는 이중 금속 레이어로 구성되는 팬-아웃부에 있어서,In the fan-out part consisting of a double metal layer connected to the gate line and the data line of the LCD panel, respectively, 게이트 라인용 금속막을 제공하는 단계;Providing a metal film for the gate line; 상기 게이트 라인용 금속막 상부에 게이트 절연막을 형성하는 단계;Forming a gate insulating film on the gate line metal film; 상기 게이트 절연막 상부에 데이타 라인용 금속막을 형성하는 단계;Forming a metal film for a data line on the gate insulating film; 상기 데이타 라인용 금속막을 일정부분 패터닝하여 상기 게이트 라인용 금속막과 적어도 둘 이상의 콘택 영역을 확보하는 단계;Patterning the metal layer for data lines to secure at least two contact regions with the gate line metal layer; 상기 단계까지의 전체구조상에 보호막을 형성하는 단계;Forming a protective film on the entire structure up to the step; 상기 보호막 일부분을 식각하여 데이타 라인용 금속막 일부분을 노출시키는 비아홀 형성과 동시에 상기 데이타 라인용 금속막 측부 및 게이트 라인용 금속막 소정부분을 노출시키는 적어도 둘 이상의 콘택홀을 형성하는 단계; 및Etching at least a portion of the passivation layer to form at least two contact holes for exposing a portion of the data line metal film and a portion of the gate line metal film at the same time as forming a via hole exposing a portion of the data line metal film; And 상기 전체구조 상에 ITO막을 형성하여 상기 비아홀 및 콘택홀을 통하여 게이트 라인용 금속막과 데이타 라인용 금속막을 콘택하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Forming an ITO film on the entire structure and contacting the gate line metal film and the data line metal film through the via hole and the contact hole. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 게이트 라인용 금속막의 배선 폭은 데이타 라인용 금속막의 배선폭에 노출되지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The wiring width of the metal film for gate lines is formed so as not to be exposed to the wiring width of the metal film for data lines. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 ITO막은 상기 데이타 라인용 금속막의 배선 폭 전부를 덮도록 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법. And the ITO film is formed so as to cover the entire wiring width of the data line metal film.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101147260B1 (en) * 2003-12-27 2012-05-18 엘지디스플레이 주식회사 Liquid Crystal Display and Fabricating Method thereof
KR101349094B1 (en) * 2006-12-13 2014-01-09 삼성디스플레이 주식회사 Thin film transistor substrate and liquid crystal display apparatus
US10361385B2 (en) 2016-02-12 2019-07-23 Samsung Display Co., Ltd. Display device
KR102536250B1 (en) 2016-03-17 2023-05-25 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus
KR102505879B1 (en) 2016-03-24 2023-03-06 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus
CN108649039B (en) * 2018-06-01 2020-10-09 深圳市华星光电技术有限公司 Array substrate, display panel and display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980072407A (en) * 1997-03-05 1998-11-05 구자홍 Structure of Liquid Crystal Display and Manufacturing Method Thereof
KR19990037451A (en) * 1997-10-28 1999-05-25 가네꼬 히사시 Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2000221542A (en) * 1999-01-29 2000-08-11 Fujitsu Ltd Thin film transistor substrate
KR20000074550A (en) * 1999-05-21 2000-12-15 구본준 Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method Thereof
KR20010019666A (en) * 1999-08-30 2001-03-15 윤종용 Tft lcd

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980072407A (en) * 1997-03-05 1998-11-05 구자홍 Structure of Liquid Crystal Display and Manufacturing Method Thereof
KR19990037451A (en) * 1997-10-28 1999-05-25 가네꼬 히사시 Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2000221542A (en) * 1999-01-29 2000-08-11 Fujitsu Ltd Thin film transistor substrate
KR20000074550A (en) * 1999-05-21 2000-12-15 구본준 Liquid Crystal Display Device And Fabricating Method Thereof
KR20010019666A (en) * 1999-08-30 2001-03-15 윤종용 Tft lcd

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