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KR100730194B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

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KR100730194B1
KR100730194B1 KR1020050135864A KR20050135864A KR100730194B1 KR 100730194 B1 KR100730194 B1 KR 100730194B1 KR 1020050135864 A KR1020050135864 A KR 1020050135864A KR 20050135864 A KR20050135864 A KR 20050135864A KR 100730194 B1 KR100730194 B1 KR 100730194B1
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KR
South Korea
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substrate
dielectric layer
electrodes
disposed
sustain electrode
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KR1020050135864A
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이효석
장태웅
김재형
박봉경
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
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  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
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Abstract

본 발명은 전극이 형성된 기판 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 유전체층을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 전극이 형성된 기판 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 유전체층이 형성되는 것으로, 상기 전극과 유전체층의 두께비가 1:3.0 내지 1:4.5 이다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널{Plasma display panel}
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 분리 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 바람직한 일 실시예로서, 플라즈마 디스플레이 패널을 개략적으로 도시한 부분 절개 분리 사시도이다.
도 3은 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널에서, Ⅲ-Ⅲ선을 따라 취한 단면도이다.
도 4는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널에서, 어드레스 전극과 배면 유전체의 두께비에 따른 내전압을 개략적으로 도시한 그래프이다.
도 5는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널에서, 어드레스 전극과 배면 유전체의 두께비에 따른 방전개시전압을 개략적으로 도시한 그래프이다.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명 >
100: 플라즈마 디스플레이 패널,
111: 제1기판, 115: 제1유전체층,
116: 보호층, 121: 제2기판,
122: 어드레스전극, 125: 제2유전체층,
130: 격벽, 131, 132: 유지전극,
170R, 170G, 170B: 방전셀.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전극이 형성된 기판 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 유전체층을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
근래에 들어 종래의 음극선관 디스플레이 장치를 대체하는 것으로 주목받고 있는 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel)은, 복수개의 전극이 형성된 두 기판 사이에 방전가스가 봉입된 후 방전 전압이 가해지고, 이로 인하여 발생되는 자외선에 의해 소정의 패턴으로 형성된 형광체가 여기되어 원하는 화상을 얻는 장치이다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 분리 사시도이다.
도면을 참조하면, 통상의 교류형 플라즈마 디스플레이 패널(10)은, 사용자에게 화상을 보여주는 상판(50)과 이와 평행하게 결합되는 하판(60)을 구비한다. 상판(50)의 전면기판(11)에는 X전극(31)과 Y전극(32)이 쌍을 이루는 유지전극쌍(12)이 배치된다. 전면기판(11)의 유지전극쌍(12)이 배치된 면에 대향하는 하판(60)의 배면기판(21)에는 어드레스전극(22)이 전면기판(11)의 전극들(31)(32)과 교차하도록 배치된다.
상기 유지전극쌍들(12)이 구비된 전면기판(11)과, 어드레스전극들(22)이 구비된 배면기판(21)의 각 면에는 각 전극들을 매립하도록 각각 제1유전체층(15) 및 제2 유전체층(25)이 형성된다. 제1유전체층(15) 배면에는 통상 MgO로 된 보호층(16)이 형성된다.
제2유전체층(25)의 전면에는 방전거리를 유지하고 방전셀 사이의 전기적 광학적 크로스토크(cross-talk)를 방지하는 격벽(30)이 형성된다. 상기 격벽(30)의 양 측면과 격벽(30)이 형성되지 않은 제2유전체층(25)의 전면에는 적색, 녹색, 청색 발광 형광체(26)들이 도포된다.
X전극(31)과 Y전극(32) 각각은 투명전극(31a, 32a) 및 버스전극(31b, 32b)을 구비한다. 이렇게 배치된 한 쌍의 X전극(31) 및 Y전극(32)과, 이와 교차하는 어드레스전극(22)에 의하여 이루어지는 공간이 단위 방전셀(cell)(70)로서 하나의 방전부를 형성하게 된다. 투명전극(31a, 32a)은 방전을 일으킬 수 있는 도전체이면서 형광체층(26)으로부터 방출되는 빛이 전면기판(11)으로 나아가는 것을 방해하지 않는 투명한 재료로 형성된다. 이처럼 투명한 재료로서는 ITO(indium tin oxide) 등이 있다.
제2유전체층(25)은 인쇄공법에 의하여 형성될 수 있다. 플라즈마 디스플레이 패널이 대형화되어 감에 따라, 다면취 공법이 도입되고 유전체막을 형성하기 위하여, 기존의 인쇄공법 대신에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법을 적용하는 경우가 늘어나고 있다.
하지만, 시트 래미네이션 공법에 의한 경우에는, 기존의 인쇄법의 패이스트(paste) 보다 유동성이 떨어지기 때문에, 전극의 매몰 특성이 나빠지게 된다. 즉, 유전체의 래미네이션(lamination) 시에, 전극 사이의 갭(gap) 부분 또는 에지-컬 (edge-curl) 부분에 완전 밀착이 이루어지지 못하고, 공간이 형성되어 소성 시에 기포 등이 유발될 수 있는 문제점이 있다.
또한, 이러한 기포 등의 유발로 인하여, 패널의 내전압 특성이 저하될 수 있는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은, 전극이 형성된 기판 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 유전체층을 형성하는 경우에, 적정 수준 이상의 내전압 특성을 갖는 전극 두께에 따른 유전체층의 두께를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.
본 발명은, 전극이 형성된 기판 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 유전체층이 형성되는 것으로, 상기 전극과 유전체층의 두께비가 1:3.0 내지 1:4.5 인 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기 기판이 배면기판이고, 상기 전극이 상기 배면기판 위에 일방향으로 배치되는 어드레스 전극이고, 상기 유전체층이 상기 어드레스 전극과 배면기판 위에 형성되는 배면유전체층인 것이 바람직하다.
상기 기판이 전면기판이고, 상기 전극이 상기 전면기판 위에 일방향으로 배치되는 유지전극쌍들이고, 상기 유전체층이 상기 유지전극쌍들과 배면기판 위에 형성되는 전면유전체층인 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 측면에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 상호 대향하도록 배치되는 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판과 제2기판 사이에 복수 개의 방전셀들을 구획하도록 배치되는 격벽들; 상기 제1기판 위에 일 방향으로 연장되도록 배치되는 것으로, 상기 방전셀들을 지나도록 배치되는 유지전극쌍들; 상기 유지전극쌍들과 교차하도록 배치되는 어드레스전극들; 상기 유지전극쌍들을 덮도록 형성되는 제1유전체층; 상기 어드레스전극들을 덮도록 형성되는 제2유전체층; 및 상기 방전셀들 내에 형성되는 형광체층을 구비하고, 상기 어드레스 전극과 상기 제2유전체층의 의 두께비가 1:3.0 내지 1:4.5 이다.
상기 제2유전체층이 상기 제2기판 및 상기 어드레스 전극들 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 측면은, 상호 대향하도록 배치되는 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판과 제2기판 사이에 복수 개의 방전셀들을 구획하도록 배치되는 격벽들; 상기 제1기판 위에 일 방향으로 연장되도록 배치되는 것으로, 상기 방전셀들을 지나도록 배치되는 유지전극쌍들; 상기 유지전극쌍들과 교차하도록 배치되는 어드레스전극들; 상기 유지전극쌍들을 덮도록 형성되는 제1유전체층; 상기 어드레스전극들을 덮도록 형성되는 제2유전체층; 및 상기 방전셀들 내에 형성되는 형광체층을 구비하고, 상기 유지전극쌍들과 상기 제1유전체층의 의 두께비가 1:3.0 내지 1:4.5 인 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
상기 제1유전체층이 상기 제1기판 및 상기 유지전극쌍들 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 전극이 형성된 기판 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 유전체층을 형성하는 경우에, 적정 수준 이상의 내전압 특성 및 방전 특성을 갖는다.
이하에서, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 중심으로 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 바람직한 일 실시예로서, 플라즈마 디스플레이 패널을 개략적으로 도시한 부분 절개 분리 사시도이다. 도 3은 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널에서, Ⅲ-Ⅲ선을 따라 취한 단면도이다. 도 4는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널에서, 어드레스 전극과 배면 유전체의 두께비에 따른 내전압을 개략적으로 도시한 그래프이다. 도 5는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널에서, 어드레스 전극과 배면 유전체의 두께비에 따른 방전개시전압을 개략적으로 도시한 그래프이다.
도면을 참조하면, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 교류형 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 도시되어 있다. 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 제1기판(111), 제2기판(121), 유지전극쌍(131, 132)들, 어드레스전극(122)들, 격벽(130), 보호층(116), 형광체층(123R, 123G, 123B)들, 제1유전체층(115), 제2유전체층(125), 및 방전가스(미도시)를 구비한다.
이때, 상기 제1기판(111)은 전면기판이 되고, 상기 제2기판(121)이 되고, 상기 제1유전체층(115)은 전면유전체층이 되고, 상기 제2유전체층(125)은 배면유전체층이 될 수 있다.
전면기판(111)과 배면기판(121)은 서로 소정의 간격으로 이격되어 배치되며, 그것들 사이에 방전이 발생되는 방전공간을 한정한다. 이러한 전면기판(111) 및 배면기판(121)은 가시광 투과율이 우수한 유리 등을 이용하여 형성되는 것이 바람직하다. 하지만, 명실 콘트라스트의 향상을 위하여, 전면기판(111) 및/또는 배면기판(121)이 착색될 수도 있다.
전면기판(111)과 배면기판(121) 사이에는 격벽(130)이 배치되는데, 공정에 따라 격벽(130)은 배면 유전체층(125) 상에 배치될 수 있다. 이러한 격벽(130)은 방전공간을 복수개의 방전셀들(170R, 170G, 170B)로 구획하며, 방전셀들(170R, 170G, 170B) 사이의 광학적/전기적 크로스토크를 방지하는 기능을 수행한다. 도 2에는 격벽(130)이 사각형의 횡단면을 가지는 매트릭스 배열의 방전셀들을 구획하는 것으로 도시되었으나, 이에 한정되지 않는다. 즉, 격벽(130)은 방전셀(170R, 170G, 170B)들이 삼각형, 오각형 등의 다각형, 또는 원형, 타원형 등의 횡단면을 가지도록 형성될 수도 있으며, 스트라이프 등과 같은 개방형으로 형성될 수도 있다. 또한, 격벽(130)은 방전셀(170R, 170G, 170B)들을 와플이나 델타 배열로 구획할 수도 있다.
배면기판(121)을 대향하는 전면기판(111) 상에는 유지전극쌍들(131, 132)이 배치되어 있다. 각각의 유지전극쌍들은 유지 방전을 일으키기 위하여 전면기판(111)의 배면에 형성된 한 쌍의 유지전극들(131, 132)을 의미하고, 전면기판(111) 상에는 이러한 유지전극쌍들이 소정의 간격으로 평행하게 배열되어 있다.
유지전극쌍 중 일 유지전극은 X전극(131)으로서, 공통전극의 작용을 하고, 다른 유지전극은 Y전극(132)으로서 주사전극의 작용을 한다. 본 실시예에서는, 유지전극쌍들이 전면기판(111) 상에 배치되지만, 유지전극쌍들의 배치 위치는 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 유지전극쌍들은 전면기판(111)으로부터 배면기판(121)을 향하는 방향으로 소정의 간격으로 이격되어 배치될 수 있다.
X전극(131) 및 Y전극(132)의 각각은 투명전극(131a, 132a) 및 버스전극(131b, 132b)을 구비하고 있다. 투명전극(131a, 132a)은 방전을 일으킬 수 있는 도전체이면서 형광체(123R, 123G, 123B)로부터 방출되는 빛이 전면기판(111)으로 나아가는 것을 방해하지 않는 투명한 재료로 형성되는데, 이와 같은 재료로서는 ITO(indium tin oxide) 등이 있다.
그러나 상기 ITO와 같은 투명한 도전체는 일반적으로 그 저항이 크고, 따라서 투명전극으로만 유지전극을 형성하면 그 길이방향으로의 전압강하가 커서 구동전력이 많이 소비되고 응답속도가 늦어진다. 따라서, 이를 개선하기 위하여 상기 투명전극 상에는 금속재질로 이루어지고 좁은 폭으로 형성되는 버스전극(131b, 132b)이 배치된다. 버스전극은 Ag, Al 또는 Cu와 같은 금속을 이용하여 단층 구조로 형성될 수 있지만, Cr/Al/Cr 등의 다층 구조를 가지도록 형성될 수도 있다. 이러한 투명전극 및 버스전극들은 포토에칭법, 포토리소그라피법 등을 이용하여 형성한다.
X전극(131) 및 Y전극(132)의 형상 및 배치를 상세하게 살펴보면, 버스전극들(131b, 132b)은 단위 방전셀(180)에서 소정의 간격으로 이격되어 평행하게 배치되며, 방전셀(180)들을 가로질러 연장된다. 전술한 바와 같이 각 버스전극(131b, 132b)에는 투명전극(131a, 132a)이 전기적으로 접속되는데, 사각형의 투명전극(131a, 132a)은 단위 방전셀(180)마다 불연속적으로 배치될 수 있다. 이러한 투명 전극(131a, 132a)의 일 측은 버스전극(131b, 132b)에 연결되고, 타 측은 방전셀(170R, 170G, 170B)의 중심 방향으로 향하도록 배치된다.
전면기판(111) 상에는 유지전극쌍(112)들을 매립하도록 전면유전체층(115)이 형성되어 있다. 전면유전체층(115)은, 인접한 X전극(131)들과 Y전극(132)들이 서로 통전되는 것을 방지함과 동시에, 하전입자들 또는 전자가 X전극(131)들과 Y전극(132)들에 직접 충돌하여 X전극(131)들과 Y전극(132)들을 손상시키는 것을 방지하한다. 또한, 전면유전체층(115)은 전하를 유도하는 기능을 수행한다. 이러한 전면유전체층(115)은 PbO, B2O3, SiO2 등을 이용하여 형성된다.
또한, 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 전면유전체층(115)을 덮는 보호층(116)을 더 구비하는 것이 바람직하다. 보호층(116)은, 방전시 하전입자와 전자가 전면유전체층(115)에 충돌하여 전면유전체층(115)이 손상되는 것을 방지한다.
또한, 보호층(116)은 방전시 2차전자를 다량으로 방출하여, 플라즈마 방전을 원활하게 한다. 이러한 기능을 수행하는 보호층(116)은 2차전자 방출 계수가 높고, 가시광 투과율이 높은 물질을 이용하여 형성한다. 보호층(116)은 전면유전체층(115)이 형성된 후에, 주로 스퍼터링, 전자빔 증착법으로 박막으로 형성된다.
전면기판(111)을 대향하는 배면기판(121) 상에는 어드레스전극(122)들이 배치되어 있다. 어드레스전극(122)들은 X전극(131)들 및 Y전극(132)들과 교차하도록 방전셀(170R, 170G, 170B)들을 가로질러 연장된다.
어드레스전극(122)들은 X전극(131)과 Y전극(132) 간의 유지방전을 보다 용이 하게 하기 위한 어드레스방전을 일으키기 위한 것으로서, 보다 구체적으로는 유지방전이 일어나기 위한 전압을 낮추는 역할을 한다. 어드레스방전은 Y전극(132)과 어드레스전극(122) 간에 일어나는 방전으로서, 어드레스방전이 종료되면 Y전극(132) 측과 X전극(131) 측에 벽전하가 축적되며, 이로써 X전극(131)과 Y전극(132) 간의 유지방전이 보다 용이하게 된다.
이렇게 배치된 한 쌍의 X전극(131) 및 Y전극(132)과, 이와 교차하는 어드레스전극(122)에 의하여 이루어지는 공간이 단위 방전셀(170R, 170G, 170B)을 형성한다.
배면기판(121) 상에는 어드레스전극(122)을 매립하도록 배면유전체층(125)이 형성되어 있다. 배면유전체층(125)은 방전 시 하전입자 또는 전자가 어드레스전극(122)들에 충돌하여 어드레스전극(122)들을 손상시키는 것을 방지하면서도 전하를 유도할 수 있는 유전체로서 형성되는데, 이와 같은 유전체로서는 PbO, B2O3, SiO2 등이 있다.
배면유전체층(125) 상에 형성된 격벽(130)의 양 측면과 격벽(130)이 형성되지 않은 배면유전체층(125)의 전면에는 적색, 녹색, 청색발광 형광체층(123R, 123G, 123B)들이 배치되어 있다. 상기 형광체층들은 자외선을 받아 가시광선을 발생하는 성분을 가지는데, 적색발광 방전셀에 형성된 형광체층은 Y(V,P)O4:Eu 등과 같은 형광체를 포함하고, 녹색발광 방전셀에 형성된 형광체층은 Zn2SiO4:Mn, YBO3:Tb 등과 같은 형광체를 포함하며, 청색발광 방전셀에 형성된 형광체층은 BAM:Eu 등과 같은 형광체를 포함한다.
또한, 상기 방전셀(170R, 170G, 170B)들에는 네온(Ne), 크세논(Xe) 등이 혼합된 방전 가스가 채워지며, 상기와 같이 방전 가스가 채워진 상태에서, 전면기판 및 배면기판(111)(121)의 가장 가장자리에 형성된 프릿트 글라스(frit glass)와 같은 밀봉 부재에 의해 전면기판 및 배면기판(111)(121)이 서로 봉합되어 결합되어진다.
유지 방전 시에 여기된 방전가스의 에너지 준위가 낮아지면서 자외선이 방출된다. 그리고 이 자외선이 방전셀(170R, 170G, 170B) 내에 도포된 형광체를 여기시키는데, 이 여기된 형광체(123R, 123G, 123B)의 에너지준위가 낮아지면서 가시광이 방출되며, 이 가시광이 전면유전체층(115)과 전면기판(111)을 투과하여 출사되면서 사용자가 인식할 수 있는 화상을 형성하게 된다.
플라즈마 디스플레이 패널의 대형화 및 다면취 공법의 도입 등으로 기판의 크기가 점차 대형화되어 가고 있다. 따라서, 대형화된 기판에 유전체막을 형성하기 위하여, 전면유전체층(115) 및/또는 배면유전체층(125)은 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 형성되는 것이 바람직하다.
시트 래미내이션 공법에 의하면, 기판 위에 전극이 형성되고, 전극이 형성된 기판 위에 접착제를 도포한 후, 건조후드에서 접착제에 포함된 용제를 증발시켜 건조 및 소성시키고, 유전체 시트를 압착 접합하여, 전극이 형성된 기판 위에 유전체막이 형성된다. 이때, 접착제가 점착성이 있거나, 점착성이 없는 것은 가열하여 접착시킨다.
이처럼, 유전체막을 시트 래미네이션 공법에 의한 경우에, 인쇄공법의 인쇄용 패이스트(paste)에 비하여 래미네이션 시트(lamination sheet)의 유동성이 떨어진다. 특히, 전면유전체층(115) 및 배면유전체층(125) 각각의 경우에 유전체막이 유지전극쌍들(131, 132) 또는 어드레스전극들(122) 위에 형성되어야 하므로, 전극들 사이의 틈새(gap) 부분 또는 가장자리(edge-curl) 부분에 완전히 밀착이 이루어지기 어렵다. 따라서, 소성 시에 기포 등을 유발시키게 되고, 내전압 특성 및 방전 특성이 나빠지는 원인이 될 수 있다.
따라서, 본 발명에서는 상기 전극과 유전체층의 두께비를 1:3.0 내지 1:4.5로 제한하여, 내전압 특성 및 방전특성을 향상시킬 수 있도록 한다. 도 4 및 도 5에는 각각 어드레스전극과 배면유전체층의 두께비(td2/ta)에 따른 내전압 특성과 방전개시전압의 변화가 도시되어 있다.
즉, 두께비(td2/ta)가 3.0보다 낮은 경우에는 방전개시전압은 240V이하로 낮아질 수 있으나, 내전압이 대략 600V 부근 또는 그 이하로 낮아질 수 있다. 또한, 두께비(td2/ta)가 4.5보다 높은 경우에는 내전압이 대략 1000V 이상으로로 높아질 수 있으나, 방전개시전압은 250V이상으로 높아질 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 어드레스전극과 배면유전체층의 두께비(td2/ta)가, 내전압이 800V 이상이 되고, 방전개시전압이 250V 이하가 될 수 있는 범위인, 3.0 내지 4.5의 범위 내가 될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
이를 위하여, 어드레스 전극(122)의 소성 높이(ta)가 4㎛인 경우에 배면유전체층(125)의 소성 높이(td2)는 12㎛ 내지 18㎛가 될 수 있다. 이때, 배면유전체층 의 소성 높이(td2)가 12㎛보다 낮은 경우에는 방전개시전압이 낮아질 수 있으나, 내전압 특성이 600V 이하로 내려갈 수 있어 문제가 될 수 있다. 또한, 배면유전체층의 소성 높이(td2)가 18㎛보다 높은 경우에는 내전압 특성은 좋아질 수 있으나, 방전개시전압이 250V 이상이 되어 방전특성이 나빠질 수 있어 문제가 될 수 있다.
시트 래미네이션 공법에 의한 유전체막 성형은 전면유전체층(115)에도 적용될 수 있으므로, 이러한 전극과 유전체층의 두께비의 한정은 유지전극쌍들(131, 132)에 대한 전면유전체층(115)의 두께비(td1/ts)에도 적용될 수 있다.
본 발명은, 전극이 형성된 기판 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 유전체층을 형성하는 경우에, 적정 수준 이상의 내전압 특성 및 방전 특성을 갖는다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (7)

  1. 기판;
    상기 기판 위에 배열되는 전극들; 및
    상기 전극들이 배열된 기판 위에 시트 형태로 배치되는 유전체층을 구비하고,
    상기 전극과 유전체층의 두께비가 1:3.0 내지 1:4.5인 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판이 배면기판이고,
    상기 전극이 상기 배면기판 위에 일방향으로 배열되는 어드레스 전극이고,
    상기 유전체층이 상기 어드레스 전극과 배면기판 위에 배치되는 배면유전체층인 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기판이 전면기판이고,
    상기 전극이 상기 전면기판 위에 일방향으로 배열되는 유지전극쌍들이고,
    상기 유전체층이 상기 유지전극쌍들과 배면기판 위에 배치되는 전면유전체층인 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 상호 대향하도록 배치되는 제1기판 및 제2기판;
    상기 제1기판과 제2기판 사이에 복수 개의 방전셀들을 구획하도록 배치되는 격벽들;
    상기 제1기판 위에 일 방향으로 연장되도록 배치되는 것으로, 상기 방전셀들을 지나도록 배치되는 유지전극쌍들;
    상기 유지전극쌍들과 교차하도록 배치되는 어드레스전극들;
    상기 유지전극쌍들을 덮도록 형성되는 제1유전체층;
    상기 어드레스전극들이 배열된 상기 제2기판 위에 시트 형태로 상기 제2기판을 덮도록 배치되는 제2유전체층; 및
    상기 방전셀들 내에 형성되는 형광체층을 구비하고,
    상기 어드레스 전극과 상기 제2유전체층의 의 두께비가 1:3.0 내지 1:4.5인 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 삭제
  6. 상호 대향하도록 배치되는 제1기판 및 제2기판;
    상기 제1기판과 제2기판 사이에 복수 개의 방전셀들을 구획하도록 배치되는 격벽들;
    상기 제1기판 위에 일 방향으로 연장되도록 배치되는 것으로, 상기 방전셀들을 지나도록 배치되는 유지전극쌍들;
    상기 유지전극쌍들과 교차하도록 배치되는 어드레스전극들;
    상기 유지전극쌍들을 덮도록 형성되는 제1유전체층;
    상기 유지전극쌍들이 배열된 상기 제1기판 위에 시트 형태로 상기 제1기판을 덮도록 형성되는 제1유전체층;
    상기 어드레스전극들을 덮도록 형성되는 제2유전체층; 및
    상기 방전셀들 내에 형성되는 형광체층을 구비하고,
    상기 유지전극쌍들과 상기 제1유전체층의 의 두께비가 1:3.0 내지 1:4.5인 플라즈마 디스플레이 패널.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1유전체층이, 상기 제1기판 및 상기 유지전극쌍들 위에 시트 래미네이션(sheet lamination) 공법에 의하여 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.
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