KR100708490B1 - Anti-glare film and its manufacturing method - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 100
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 100
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 89
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 88
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 71
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 22
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 13
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 12
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 claims description 6
- TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N pentane-2,3-dione Chemical group CCC(=O)C(C)=O TZMFJUDUGYTVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 5
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 3
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 3
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 1
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 26
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 11
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 9
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
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- F24C15/20—Removing cooking fumes
- F24C15/2042—Devices for removing cooking fumes structurally associated with a cooking range e.g. downdraft
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
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Abstract
본 발명은 방현필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 투명 기재, 상기 투명기재 상에 위치하는 수지층, 상기 수지층에 분산된 나노입자로서의 다수의 제1입자, 및 상기 수지층에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자를 포함하는 것을 특징으로 하며, 저렴한 제조비용으로 공정수율을 확보하면서 극대화된 방현성과 낮은 반사율을 제공한다.The present invention relates to an antiglare film and a method of manufacturing the same, a transparent substrate, a resin layer located on the transparent substrate, a plurality of first particles as nanoparticles dispersed in the resin layer, and the surfactant contained in the resin layer And a plurality of second particles which are virtual nanoparticle aggregates (pseudo-assembly) formed by forming a micro cell by forming the plurality of first particles into the micro cell and collecting the first particles. It provides maximum anti-glare and low reflectivity while securing process yield at cost.
방현필름, 마이크로셀, 나노입자, 계면활성제, 가상 나노입자 집합체 Antiglare Film, Microcell, Nanoparticle, Surfactant, Virtual Nanoparticle Aggregate
Description
도1은 종래의 방현필름의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional anti-glare film.
도2는 종래의 또 다른 방현필름의 개략적인 단면도이다.Figure 2 is a schematic cross-sectional view of another conventional anti-glare film.
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 단면도이다.Figure 3 is a cross-sectional view of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention.
도4는 본 발명에 따른 방현필름의 수지층에 분산되는 마이크로 셀 및 가상 나노입자 집합체의 형성 과정도이다. Figure 4 is a process diagram of the formation of microcells and virtual nanoparticle aggregates dispersed in the resin layer of the antiglare film according to the present invention.
도5는 본 발명에 따른 나노입자 및 가상 나노입자 집합체가 분산된 수지도료의 모식도이다.5 is a schematic diagram of a resin coating material in which nanoparticles and virtual nanoparticle aggregates according to the present invention are dispersed.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현필름의 제조 공정의 흐름도이다.Figure 6 is a flow chart of the manufacturing process of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention.
도7a, 도7b는 각각 종래의 제조방법에 따른 방현필름의 단면 및 표면 사진이다.7A and 7B are cross-sectional and surface photographs of an anti-glare film according to a conventional manufacturing method, respectively.
도8a, 도8b는 각각 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 통해 제조된 방현필름의 단면 및 표면 사진이다. 8A and 8B are cross-sectional and surface photographs of the anti-glare film produced by the preferred embodiment of the present invention, respectively.
≪도면의 주요부분에 대한 부호의 설명≫`` Explanation of symbols for main parts of drawings ''
100, 200 : 방현필름 102, 202 : 투명기재100, 200:
103 : 미립자 105 : 큰 미립자103: fine particles 105: large particles
104, 204 : 수지층 203 : 나노입자 104, 204: resin layer 203: nanoparticles
205 : 가상 나노입자 집합체 210 : 계면활성제 205
214 : 수지도료 215 : 마이크로셀214: Resin Fee 215: microcell
본 발명은 방현 필름 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 CRT 또는 LCD 디스플레이의 전면에 배치되어 이들 디스플레이 외부로 진입하는 광을 확산시켜 눈부심을 방지하거나 최소화하는 방현필름 및 그 제조방법에 관한 발명이다.The present invention relates to an antiglare film and a manufacturing method thereof, and more particularly, to an antiglare film and a method for manufacturing the antiglare film which is disposed on the front of a CRT or LCD display to diffuse light entering the outside of the display to prevent or minimize glare. Invention.
일반적으로 CRT 디스플레이는 내부에 형광체가 발광하여 디스플레이의 전면으로 출사하고, 액정 디스플레이에서는 액정 화상을 조명하기 위하여 백라이팅으로 배면에서 발광하여 디스플레이 전면으로 향해 광을 출사하도록 되어 있다.In general, a CRT display emits light to the front of the display by emitting phosphors inside the liquid crystal display, and emits light toward the front of the display by emitting light from the back with backlighting to illuminate the liquid crystal image.
디스플레이를 실내에서 사용하는 경우, 형광등의 조명광이 디스플레이 표면으로 입사하여 그 광이 반사하면서 화면이 눈부시게 되고, 형광등이 비치거나 하기 때문에 문자인식이 어렵게 된다.When the display is used indoors, the illumination light of the fluorescent light is incident on the surface of the display and the screen is dazzling while the light is reflected, and the character recognition is difficult because the fluorescent light shines.
이를 방지하기 위해서, 도1에 도시된 바와 같이, 투명기재(102) 상에, 큰 미립자(105)가 분산된 수지도료(104)를 도포하여 요철을 가진 층을 형성하고, 상기와 같은 방법으로 제조된 방현필름(100)을 디스플레이 전면에 배치함으로써, 화면의 눈부심을 완화하고 디스플레이로부터 선명한 화질을 구현하는 기술은 종래로부터 많이 행하여져 왔다. In order to prevent this, as shown in Fig. 1, on the
또한, 보다 선명하고 깨끗한 디스플레이를 얻기 위해 저굴절과 고굴절물질이 적층의 형태로 코팅된 반사방지필름을 방현필름 상부에 추가로 설치하는 경우도 있고 상기의 방현필름 표면위에 저굴절 물질을 코팅하여 반사율을 낮추는 기술도 사용되고 있다. Also, In order to obtain a clearer and clearer display, an antireflection film coated with a low refractive index and a high refractive index material in the form of a lamination may be additionally installed on the upper surface of the antiglare film. Technology is also used.
그러나, 반사방지필름을 추가로 설치하는 경우는 디스플레이 투과율을 저하시켜 화질을 손실시키고 제조원가 상승과 같은 문제점을 발생시킨다.However, when the anti-reflection film is additionally installed, the display transmittance is lowered, resulting in a loss of image quality and a problem such as an increase in manufacturing cost.
한편, 방현필름표면에 저굴절물질을 추가로 코팅하는 기술 또한 공정수율을 떨어뜨리고 제조원가 상승과 같은 문제점이 여전히 남아있게 된다.On the other hand, a technique of additionally coating a low refractive index material on the surface of the anti-glare film also remains a problem such as lowering the process yield and manufacturing cost increases.
방현성은 외부와 접하는 표면의 거칠기(Roughness)에 비례한다. Anti-glare is proportional to the roughness of the surface in contact with the outside.
즉, 표면의 요철이 크고, 많을 수록 외부광의 산란효과가 증대되므로 방현성을 향상 시킬 수 있다.That is, the greater the surface irregularities, the greater the scattering effect of external light, so that the anti-glare property can be improved.
표면의 요철을 크게 만들어 주기 위해서는 수지도료에 함유된 입자의 크기를 키우거나 입자의 함량을 높여주어야 가능하다.In order to make the surface irregularities large, it is possible to increase the size of the particles contained in the resin or to increase the content of the particles.
그러나, 입자의 크기가 커지거나 입자의 함량이 높아질 경우 방현성은 향상되지만, 헤이즈(haze)가 상승하므로 디스플레이 내부에서 출사되는 이미지의 선명도를 저하시키는 문제점이 야기될 수 있다.However, when the size of the particles is increased or the content of the particles is increased, the anti-glare property is improved, but the haze increases, which may cause a problem of lowering the sharpness of the image emitted from the inside of the display.
또한, 수지도료 내의 입자들이 커지고 함량이 높아짐에 따라 도포액내의 입자들이 쉽게 침전되므로 수지도료의 균일성 불량과 같은 문제점이 발생될 수 있다.In addition, as the particles in the coating material become larger and the content thereof increases, the particles in the coating liquid are easily precipitated, which may cause problems such as poor uniformity of the coating material.
따라서, 위에서 언급한 방현성 저하 및 헤이즈 상승의 문제점을 해결하기 위 해, 도2에 도시된 바와 같이, 2종 이상 크기의 미립자(103, 105)를 혼합하여 사용하는 경우도 있다.Therefore, in order to solve the problems of the anti-glare and haze rise mentioned above, as shown in Figure 2, there may be a case in which two or more kinds of fine particles (103, 105) are mixed.
그러나, 2종 이상 크기의 미립자를 혼합하여 사용하는 경우, 사용자가 만족할 만한 수준까지 헤이즈(haze)와 방현성을 구현할 수는 있지만, 반사방지기능을 보다 향상시키기 위해서는, 방현필름의 표면 위에 반사방지층을 추가로 요구한다. However, when two or more kinds of fine particles are mixed, haze and anti-glare can be realized to a level satisfactory to the user. However, in order to further improve the anti-reflection function, an anti-reflection layer on the surface of the anti-glare film Additionally requires.
이는 별도의 코팅 공정을 거쳐야 하므로, 제조원가의 상승과 공정수율의 저하와 같은 문제점이 여전히 해소되지 못한다.Since it must go through a separate coating process, problems such as an increase in manufacturing cost and a decrease in process yield are still not solved.
따라서, 최근에는 방현필름의 개발에 있어서 공정수율 저하 및 원가상승을 야기시키지 않으면서 반사율을 낮추는 기술인 하이브리드 방식의 필름 개발이 당업자로부터 요구되어 지고 있다.Therefore, in recent years, development of a hybrid type film, which is a technique of lowering the reflectance without causing a decrease in process yield and a cost increase in the development of an antiglare film, has been demanded by those skilled in the art.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 수지층에 형성되는 방현층으로서 나노 입자를 사용하여 가상의 마이크로 셀 내에 상기 나노입자가 군집된 비교적 큰 가상 나노입자 집합체를 형성하는 동시에 잔여 나노 입자를 분산시키도록 하여, 2종 이상의 입자의 크기를 사용하는 형태를 취하도록 함으로써, 공정 수율과 원가 상승에 영향을 주지 않으면서 방현성과 저반사성을 동시에 충족할 수 있도록 하는 방현 필름 및 그 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, by using a nanoparticle as an antiglare layer formed in the resin layer to form a relatively large virtual nanoparticle aggregates in which the nanoparticles are clustered in a virtual microcell at the same time remaining nano Anti-glare film and method for producing the anti-glare film and the method of manufacturing the same, by dispersing the particles to take the form of using the size of two or more kinds of particles, without affecting the process yield and cost increase at the same time It is to provide.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 방현필름은, 투명 기재, 상기 투명 기재 상에 위치하는 수지층, 상기 수지층에 분산된 나노입자로서 다수의 제1입자, 및 상기 수지층에 분산된 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자를 포함한다.Anti-glare film according to the present invention for achieving the above object, a transparent substrate, a resin layer located on the transparent substrate, a plurality of first particles as nanoparticles dispersed in the resin layer, and dispersed in the resin layer And a plurality of second particles that are pseudo-assembly.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 투명기재는 디아세틸 셀룰로오스, 트리아세틸 셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리아미드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 것이다.In the anti-glare film of the present invention, the transparent base material is a cellulose derivative such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone , Polysulfone, polyamide, polypropylene, polyethylene, polycarbonate.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 투명기재는 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트로 이루어지는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 것이다.In the anti-glare film of the present invention, the transparent base material is selected from the group consisting of triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, and polycarbonate.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제1입자는 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄, 산화아연으로 이루어지는 군 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film of the present invention, the first particles include at least one of silicon oxide, titanium dioxide, indium oxide, tin oxide, zirconium oxide, and zinc oxide.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제1입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film of the present invention, the size of the first particles is characterized in that about 1nm to 50nm.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제2입자의 크기는 약 50㎚ 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film of the present invention, the size of the second particles is characterized in that about 50nm to 20㎛.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 제2입자는 상기 수지층에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 것이다.In the anti-glare film of the present invention, the second particles are formed by forming a micro cell by a surfactant included in the resin layer and collecting the plurality of first particles by entering the micro cell. It is to be done.
또한, 본 발명에 방현필름에 있어서, 상기 계면활성제의 함량은 수지도료 100중량부 당 약 0.3중량부 내지 1.7중량부인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the anti-glare film of the present invention, the content of the surfactant is characterized in that about 0.3 parts by weight to 1.7 parts by weight per 100 parts by weight of the resin coating material.
한편, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법은, 수지에 용매를 가하여 용해시킨 후 계면활성제를 투입하고 고속 혼합 교반하여 마이크로 셀을 형성하는 단계, 상기 마이크로 셀이 형성된 수지도료에 나노 입자를 투입하고 저속 교반하는 단계, 상기 수지도료를 투명기재의 상부에 코팅하는 단계, 상기 수지도료가 코팅된 투명기재를 건조로에 통과시켜서 용매를 제거하는 단계, 및 상기 수지도료가 코팅된 투명기재에 자외선을 조사하여 코팅된 수지도료를 경화시키는 단계를 포함한다.On the other hand, in the production method of the anti-glare film according to the present invention, after adding a solvent to the resin to dissolve the surfactant and the high-speed mixing and stirring to form a micro cell, the nano-particles are added to the resin coating material formed with the micro cell Stirring at a low speed, coating the resin coating material on top of the transparent substrate, removing the solvent by passing the resin coating material coated transparent substrate through a drying furnace, and irradiating UV light to the transparent substrate coated with the resin coating material. To harden the coated resin.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 용매는 속건성 용매 및 지건성 용매를 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the method for producing an antiglare film according to the present invention, the solvent is characterized by using a mixture of a fast-drying solvent and a slow-drying solvent.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 수지도료에 투입되는 나노입자는 실리카 계열이고, 입자의 크기는 약 1㎚ 내지 50㎚의 범위인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the present invention, a method for producing an antiglare film, wherein the nanoparticles to be added to the resin coating material is a silica-based, the particle size is characterized in that the range of about 1nm to 50nm.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 수지도료가 투명기재에 코팅되어 형성되는 수지층의 높이는 약 2 ~ 8㎛인 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the method of manufacturing an antiglare film according to the present invention, the resin layer is coated with a transparent substrate, and the height of the resin layer formed is about 2 to 8 μm.
또한, 본 발명에 방현필름의 제조방법에 있어서, 상기 수지는 각각의 중합체를 형성하는 모노머, 올리고머를 포함하여 2종 이상 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 것이다.In addition, in the method for producing an antiglare film of the present invention, the resin is characterized in that it is used by mixing two or more kinds, including monomers and oligomers to form each polymer.
이하, 본 발명에 대한 도면을 참조하여 실시예를 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 단면도이다.Figure 3 is a cross-sectional view of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention.
도3을 참조하면, 본 발명에 따른 방현필름(200)은 투명기재(202), 상기 투명기재(202) 상에 위치하는 수지층(204), 상기 수지층(204)에 분산된 나노입자로서의 다수의 제1입자(203), 및 상기 수지층(204)에 포함된 계면활성제에 의하여 마이크로 셀(micro cell)을 형성하고 상기 마이크로 셀 내부로 상기 다수의 제1입자(203)가 진입하여 수집됨으로써 형성되는 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)인 다수의 제2입자(205)를 포함한다. Referring to FIG. 3, the
상기 가상 나노입자 집합체(205)는 투명기재(202) 상부에 방현성 요철을 형성시킴으로써 방현성 필름에서 표면 요철로 기능하는 큰 입자의 역할을 하게 된다.The
또한, 수지층(204) 내에 분산된 나노입자(203)는 수지층(204)이 갖고 있는 본래의 굴절률값과 차이를 갖으면서 일부의 수지층(204)과 나노입자(203)가 나노 단위로 교대 배열됨으로써 수지층(204) 내부로 굴절률 차이를 발생시키고, 이는 광학 간섭원리에 의해서 상기 방현 필름(200)의 반사율을 저하시키게 된다.In addition, the
상기 투명기재(202)는 디아세틸 셀룰로오스, 트리아세틸 셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 부티릴 셀룰로오스, 아세틸 프로피오닐 셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리아미드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트 등이 바람직하고, 특히 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰이 더욱 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 투명한 기재라면 어느 것이든 사용 가능하다.The
상기 투명기재(202)는 80%이상의 투과율을 가지며, 바람직하게는 85% 이상의 투과율을 갖는다.The
여기서, 상기 나노입자로서의 제1입자는 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄, 산화아연으로 이루어지는 군 중에서 1종 또는 2종 이상의 혼합 형태로 사용되는 것이 바람직하고, 실리카 계열의 나노입자인 것이 더욱 바람직하며, 상기 제1입자의 크기는 1㎚ ∼ 50㎚ 범위인 것이 바람직하다.Here, the first particles as the nanoparticles are preferably used in one or two or more mixed forms of silicon oxide, titanium dioxide, indium oxide, tin oxide, zirconium oxide, and zinc oxide, and are silica-based nanoparticles. It is more preferable that the particles, the size of the first particles is preferably in the range of 1nm to 50nm.
또한, 본 발명에 따른 방현필름에 있어서, 상기 계면활성제(210)에 의한 마이크로 셀의 크기는 고속 혼합 교반기의 속도에 반비례하고, 제2입자의 크기는 50㎚∼20㎛ 범위인 것이 바람직하다.In addition, in the antiglare film according to the present invention, the size of the micro cell by the
도4는 본 발명에 따른 방현필름의 수지층에 분산되는 마이크로 셀 및 가상 나노입자 집합체의 형성 과정도이다. Figure 4 is a process diagram of the formation of microcells and virtual nanoparticle aggregates dispersed in the resin layer of the antiglare film according to the present invention.
상기 마이크로 셀(215)은 수지를 용매에 용해시키고, 계면 활성제를 투입한 후 고속 혼합 교반하여 내부에 빈 공간(cavity)을 포함한 형태로 제조된다.The
상기 마이크로 셀(215)의 크기는 고속 혼합 교반기의 속도에 반비례하고, 마이크로 셀(215)의 양은 계면 활성제의 농도에 의존한다..The size of the
이때, 계면활성제의 함량은 수지도료 100중량부 당 약 0.1 중량부~ 2 중량부가 바람직하며, 약 0.3중량부 ~ 1.7중량부가 더욱 바람직하다.At this time, the content of the surfactant is preferably about 0.1 parts by weight to 2 parts by weight, more preferably about 0.3 parts by weight to 1.7 parts by weight per 100 parts by weight of the resin coating material.
계면활성제가 0.1 중량부 보다 낮을 경우는 충분한 방현성을 나타낼만한 마이크로 셀을 형성하기 어렵고, 2 중량부 보다 많을 경우는 수지도료의 점도상승 및 혼합공정에서 발생되는 기포로 인하여 공정상의 문제점이 발생하게 된다. If the surfactant is less than 0.1 parts by weight, it is difficult to form microcells that exhibit sufficient anti-glare properties. If the surfactant is more than 2 parts by weight, it is difficult to cause process problems due to the increase in viscosity of the resin coating and the bubbles generated in the mixing process. do.
상기 마이크로 셀(215)이 형성된 수지도료에 나노입자(203)를 투입한 후 저 속 교반하게 되면 친수성을 띠는 나노입자(203)가 마이크로 셀 내부의 빈 공간으로 진입하여 수집됨으로써 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly, 205)를 형성하게 된다.When the
도5는 상기 마이크로 셀(215)을 포함하고 있는 수지도료(214)를 나타내며, 상기 마이크로 셀(215) 내부로 진입하지 못한 잔여 나노입자는 수지 도료 내에 무질서하게 분산되어 있게 된다.5 shows the
여기서, 상기 수지도료의 용매는 속건성 및 지건성 용매를 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용하게 된다.Here, the solvent of the resin coating material is used by mixing one or two or more kinds of fast-drying and slow-drying solvent.
본 발명에 따른 방현필름을 제조하는데 사용되는 수지도료는 각각의 중합체를 형성하는 모노머, 올리고머 등을 2종 이상 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 아크릴 모노머, 특히 다관능성 모노머를 첨가하여 표면 경도를 높이는 것이 더욱 바람직하다.The resin coating material used to prepare the antiglare film according to the present invention is preferably used by mixing two or more kinds of monomers, oligomers, and the like forming each polymer, and adding an acrylic monomer, in particular a polyfunctional monomer, to increase the surface hardness. More preferred.
상기 용매의 선택은 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 초산에틸, 초산엔부틸, 시클로헥사논, 메탄올, 에탄올, n-부탄올, 이소프로판올 등 자유롭게 선택할 수 있으나 용매의 비점과 같은 자료를 통해 증발성능을 고려하여 1종 이상 선택하는 것이 바람직하다.The solvent may be freely selected from methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, enbutyl acetate, cyclohexanone, methanol, ethanol, n-butanol, isopropanol, but evaporated through data such as boiling point of the solvent. It is preferable to select at least one type in consideration of performance.
도3에서, 상기 나노입자는 수지도료(214)를 투명기재(202)에 코팅한 후 건조공정을 진행하면, 나노입자가 군집하여 뭉쳐진 가상 나노입자 집합체(205)는 상기 방현필름(200) 상부에서 방현성 요철로 형성됨으로써 방현필름에 사용하는 큰 입자의 역할을 하게 된다.In FIG. 3, when the nanoparticles are coated with a
또한, 상기 가상나노입자 집합체(205)는 표면요철을 가진 불규칙적인 덩어리 형태를 띄므로, 매끈한 구형입자에 비해 더욱 큰 거칠기를 구현할 수 있게 된다. In addition, the
따라서, 본 발명 실시예에 따른 방현필름은 제1입자(203)와 제2입자(205)와 같이 2종 이상의 입자크기를 사용하면서, 가상의 입자인 제2입자(205)의 표면요철로 인해 외부광 산란에 의한 방현성이 극대화된다.Therefore, the anti-glare film according to the embodiment of the present invention uses two or more kinds of particle sizes, such as the
여기서, 나노입자로서의 제1입자(203)는 굴절율이 낮은 물질을 사용할 수록 반사율을 더욱 낮출 수 있게 된다.Here, as the
다음으로, 본 발명에 따른 방현필름의 제조방법에 대하여 설명한다.Next, the manufacturing method of the anti-glare film which concerns on this invention is demonstrated.
도6은 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법의 흐름도를 나타낸다.6 shows a flowchart of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
도6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 방현필름의 제조 과정은, 먼저 수지에 용매를 가하여 용해시킨 후 계면활성제를 투입하고 고속 혼합 교반하여 계면 활성제(210)에 의해서 마이크로 셀(215)을 형성하는 단계를 진행한다(S10).As shown in Figure 6, in the manufacturing process of the anti-glare film according to an embodiment of the present invention, first by adding a solvent to the resin to dissolve, the surfactant is added to the microcell by the
다음으로, 상기 마이크로 셀(215)이 형성된 수지도료(214)에 나노 입자를 투입하고 저속 교반하는 단계이다(S20).Next, the nanoparticles are added to the
이 단계에서, 마이크로 셀(215)의 빈 공간 내로 진입한 나노입자(203)가 모여서 가상 나노입자 집합체(205)를 형성하고, 나머지 잔여 나노 입자(203)는 용액(214) 내에서 불규칙하게 분산하게 된다. In this step,
다음에, 상기 나노입자(203)가 포함된 수지도료를 투명기재(202)의 상부에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)로 코팅하는 단계이다(S30).Next, the step of coating the resin coating material containing the
여기서, 상기 코팅되어 형성된 수지층(204)은 약 2 ~ 8㎛가 바람직하며, 약 3 ~ 5㎛가 더욱 바람직하다.Here, the
상기 가상의 나노입자 집합체인 다수의 제2입자(205)는 상기 수지층(204)의 표면에 위치하도록 하는 것이 바람직하다. The plurality of
그 후, 상기 수지도료가 코팅된 투명기재(202)를 건조로를 통과시켜서 용매를 제거하는 단계를 진행한다(S40).Thereafter, the step of removing the solvent by passing the
상기 건조 과정에서 용매가 증발될 경우, 속건성 용매가 먼저 증발하면서 상기 마이크로 셀(215) 내부로 다수의 나노입자가 진입하여 형성된 가상 나노입자 집합체인 다수의 제2입자(205)가 수지층에 먼저 고정되고, 이후 지건성 용매가 증발되면서 수지도료 내부에 무질서하게 분산된 잔여 나노입자(203)들이 수지층(204) 내에 고정되게 된다. When the solvent is evaporated in the drying process, a plurality of
이때, 속건성 용매가 증발하는 속도가 빨라질수록 상기 제2입자는 수지층 표면으로 돌출되는 경향이 크게 된다.At this time, the faster the evaporation rate of the quick-drying solvent is, the greater the tendency of the second particles to protrude to the surface of the resin layer.
마지막으로, 상기 용매가 제거된 수지도료가 코팅된 투명기재에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 방현성 수지층(204)을 포함하는 방현필름(200)을 제조하게 된다. Finally, the
도7a, 도7b는 각각 종래의 제조방법에 따른 방현필름의 단면 및 표면 사진이다.7A and 7B are cross-sectional and surface photographs of an anti-glare film according to a conventional manufacturing method, respectively.
도8a, 도8b는 각각 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 통해 제조된 방현필름의 단면 및 표면 사진이다.8A and 8B are cross-sectional and surface photographs of the anti-glare film produced by the preferred embodiment of the present invention, respectively.
이하, 바람직한 실시예와 비교예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로써 이에 한정하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to preferred examples and comparative examples. The following examples are intended to illustrate the invention but are not limited thereto.
<실시예 1><Example 1>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%, 티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 Micro-Gravure를 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 25.7 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 25.7 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. 0.9 parts by weight of modified acrylate block copolymer system in the above solution After adding the surfactant and 0.1 parts by weight of other additives, the high speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on one surface of the TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure, and then dried for 60 seconds at 50 ° C-60 ° C-70 ° C-60 ° C, followed by 250mJ / ㎠ Photopolymerization of the coating coated with ultraviolet light (Igraphix Co., Ltd.) was carried out to form a coating thickness of 4㎛ to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<실시예 2><Example 2>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 카르복실기를 가진 공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 25.7 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 25.7 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. After adding 0.9 parts by weight of a copolymer-based surfactant having 0.1 parts by weight of carboxyl group and 0.1 parts by weight of other additives, the high speed mixer Homogenizer (IKA) was stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on the surface of TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure Roll, and then dried sequentially in the temperature condition of 50 ℃ -60 ℃ -70 ℃ -60 ℃ for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was performed to form a coating thickness of 4 μm to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<실시예 3><Example 3>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 5,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제작하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 25.7 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 25.7 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. After adding 0.9 parts by weight of modified acrylate block copolymer-based surfactant and 0.1 parts by weight of other additives to the solution, a high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 5,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on the surface of TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure Roll, and then dried sequentially in the temperature condition of 50 ℃ -60 ℃ -70 ℃ -60 ℃ for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 of ultraviolet light (Igraphix Co., Ltd.) was performed to form a coating thickness of 4 μm to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<실시예 4><Example 4>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크 릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 카르복실기를 갖는 공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 5,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 Micro-Gravure를 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional arc-relate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane The acrylate oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 25.7 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 25.7 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and dissolved. 0.9 parts by weight of the above solution After adding a copolymerized surfactant having a carboxyl group and 0.1 parts by weight of other additives, a high-speed mixer, Homogenizer (IKA), is stirred at 5,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on one surface of the TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure, and then dried for 60 seconds at 50 ° C-60 ° C-70 ° C-60 ° C, followed by 250mJ / ㎠ UV light by carrying out the photopolymerization of the coating material coated with (I geurapikseu社) to form a coating thickness was 4㎛ Clause the antiglare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<실시예 5>Example 5
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용 액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%, 티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로 그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 55℃-70℃-80℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 25.7 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 25.7 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. After adding 0.9 parts by weight of modified acrylate block copolymer-based surfactant and 0.1 parts by weight of other additives to the solution, a high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on the surface of TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure Roll, and then dried sequentially in the temperature condition of 55 ℃ -70 ℃ -80 ℃ -60 ℃ for 60 seconds. Then, photopolymerization of the coating coated with ultraviolet light (Igraphix Co., Ltd.) of 250mJ / ㎠ to form a coating thickness of 4㎛ to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<비교예 1>Comparative Example 1
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액을 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨 후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 25.7 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 25.7 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. The solution is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on the surface of TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure Roll, and then dried sequentially in the temperature condition of 50 ℃ -60 ℃ -70 ℃ -60 ℃ for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was performed to form a coating thickness of 4 μm to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<비교예 2>Comparative Example 2
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 25.7중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 25.7중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 3.6 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.4중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 25.7 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 25.7 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. After adding 3.6 parts by weight of modified acrylate block copolymer-based surfactant and 0.4 parts by weight of other additives to the solution, a high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on the surface of TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure Roll, and then dried sequentially in the temperature condition of 50 ℃ -60 ℃ -70 ℃ -60 ℃ for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was performed to form a coating thickness of 4 μm to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<비교예 3>Comparative Example 3
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 34.6중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 34.5중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 마이크로입자(MX-300, 소켄) 4.4 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨 후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The late oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 34.6 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 34.5 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. 4.4 parts by weight of microparticles (MX-300, Soken) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. The resin coating material was coated on the surface of TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure Roll, and then dried sequentially in the temperature condition of 50 ℃ -60 ℃ -70 ℃ -60 ℃ for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was performed to form a coating thickness of 4 μm to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
<실시예 6><Example 6>
5.8중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(EB220, 에스케이 싸이텍), 3.0중량부의 에폭시 아크릴레이트 올리고머(CN133LC, 사토머), 8.8중량부의 다관능 아크릴레이트 모노머(PETIA, 에스케이 싸이텍), 7.6중량부의 우레탄 아크릴레이트 올리고머(UP026, 에스케이 싸이텍)를 15.4중량부의 메틸이소부틸케톤(MIBK, 덕산화학), 36.0중량부의 이소부틸알코올(IBA, 대정화금)에 혼합한 후 용해시켰다. 상기의 용액에 0.9 중량부의 변성 아크릴레이트 블록공중합체계 계면활성제 및 0.1중량부의 기타 첨가제를 첨가한 후 고속혼합기인 Homogenizer(IKA社)를 10,000rpm으로 10분간 교반한다. 교반이 끝나고 난 후 실리카졸 (20nm, 20wt%,티오켐) 22.1 중량부와 1.3 중량부의 광중합개시제(IGC184, 씨바가이기)를 추가 투입하여 800rpm에서 30분간 저속교반을 실시하여 수지도료를 제조하였다. 수지도료를 TAC FILM(40㎛,Fuji) 일면에 마이크로-그라비아 롤(Micro-Gravure Roll)을 사용하여 코팅시킨후 60초간 50℃-60℃-70℃-60℃의 온도조건변화에서 순차적으로 건조시킨 후, 250mJ/㎠의 자외선(아이그라픽스社)으로 코팅된 도료의 광중합을 실시하여 코팅두께 4㎛를 형성시켜 방현필름을 제조하였다. 이때, 계면활성제 및 기타첨가제를 제외한 총합을 100중량부로 설정하였다. 제조된 수지도료의 일부를 취하여 상온에서 1시간 방치하여 침전유무를 평가한다.5.8 parts by weight of urethane acrylate oligomer (EB220, SK Cytec), 3.0 parts by weight of epoxy acrylate oligomer (CN133LC, Satomer), 8.8 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETIA, SK Cytec), 7.6 parts by weight of urethane acrylic The rate oligomer (UP026, SK Cytec) was mixed with 15.4 parts by weight of methyl isobutyl ketone (MIBK, Deoksan Chemical) and 36.0 parts by weight of isobutyl alcohol (IBA, large purified gold) and then dissolved. After adding 0.9 parts by weight of modified acrylate block copolymer-based surfactant and 0.1 parts by weight of other additives to the solution, a high-speed mixer Homogenizer (IKA) is stirred at 10,000 rpm for 10 minutes. After stirring, 22.1 parts by weight of silica sol (20 nm, 20 wt%, thiochem) and 1.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IGC184, Ciba-Geigy) were further added, followed by low speed stirring at 800 rpm for 30 minutes to prepare a resin coating material. . The resin coating material was coated on the surface of TAC FILM (40㎛, Fuji) using Micro-Gravure Roll, and then dried sequentially in the temperature condition of 50 ℃ -60 ℃ -70 ℃ -60 ℃ for 60 seconds. After the coating, photopolymerization of the coating material coated with 250 mJ / cm 2 ultraviolet (Igrafix Co., Ltd.) was performed to form a coating thickness of 4 μm to prepare an anti-glare film. At this time, the total amount except the surfactant and other additives was set to 100 parts by weight. A part of the prepared resin coating material is taken and allowed to stand at room temperature for 1 hour to evaluate the presence of precipitation.
상기 실시예와 비교예로부터 제조된 수지도료 및 방현필름에 대한 평가는 아래와 같은 방법으로 실시한다.Evaluation of the resin coating material and anti-glare film prepared from the above Examples and Comparative Examples is carried out by the following method.
(1) 수지도료의 안정성(1) stability of resin
10ml vial에 약 8ml을 넣고 1시간동안 방치한후 액의 침전 여부를 평가한다. 침전이 발생할 경우 상층에 맑은 부분이 형성된다.Add about 8ml to 10ml vial and leave for 1 hour to evaluate the precipitation of the solution. If precipitation occurs, a clear section forms at the top.
침전 및 기포가 발생하지 않을수록 액안정성은 우수하다.The more sedimentation and bubbles do not occur, the better the liquid stability.
결과 표기 : 우수, 보통, 취약Result representation: Excellent, Moderate, Vulnerable
(2) 헤이즈(Haze) & 전광선투과율 (Total Transmittance)(2) Haze & Total Transmittance
분광광도계를 이용하여 값을 측정한다.Measure the value using a spectrophotometer.
결과 표기 : 헤이즈(%), 전광선투과율(%) Result display: Haze (%), total light transmittance (%)
(3) 반사율(3) reflectance
제작된 방현필름의 뒷면에 습윤성 및 점착성이 뛰어난 검은필름을 기포가 발생하지 않도록 붙인후 반사율 측정기기를 이용하여 5˚반사율을 측정한다. Attach the black film having excellent wettability and adhesiveness to the back of the produced antiglare film so as not to generate bubbles, and measure the reflectance at 5˚ using a reflectance measuring device.
결과 표기 : 반사율(%)Result notation:% reflectance
(4) 방현성(4) anti-glare
필름을 수평한 표면위에 완전 밀착시킨후 외부의 형광등을 반사시켜 비춰본 후 형광등의 형태가 원만하게 관찰되는지의 정도를 살펴본다.After the film is completely adhered on the horizontal surface, reflect the fluorescent lamps outside and examine the degree of the shape of the fluorescent lamps.
형광등의 형태가 안보일수록 방현성은 높다.The more invisible the shape of the fluorescent lamp, the higher the anti-glare property.
결과 표기 : 높음, 중간, 낮음Result representation: high, medium, low
<표 1>TABLE 1
상기 표1에서 보는 바와 같이 바람직한 실시예와 비교예를 통해 본 발명의 평가결과를 도출할 수 있었다. As shown in Table 1, it was possible to derive the evaluation results of the present invention through the preferred examples and comparative examples.
나노입자와 그 입자로 형성된 가상 나노입자 집합체(pseudo-assembly)를 코팅층으로 갖는 방현필름(도8a, 도8b)인 실시예1 부터 실시예6까지는 미립자를 사용하여 제작한 방현필름(도7a, 도7b)인 비교예3과 비교했을 때 유사한 헤이즈값 조건하에서 투과율이 높고 반사율이 현저히 낮아 방현필름의 기능 뿐만 아니라 반사방지필름의 보조역할도 가능하게 해줄 수 있음을 확인할 수 있다. Examples 1 to 6, which are anti-glare films (Figs. 8A and 8B) having nanoparticles and a pseudo-assembly formed of the particles as a coating layer, are made of fine particles (FIG. 7A, Fig. 7A). Compared with Comparative Example 3 (FIG. 7b), it can be seen that under similar haze value conditions, the transmittance is high and the reflectance is significantly low, thereby enabling not only the function of the antiglare film but also the secondary role of the antireflection film.
또한, 계면활성제가 추가되지 않는 비교예1의 경우는 마이크로 셀(205)이 형성되지 않아 헤이즈값은 낮고 반사율이 높아 방현성이 저하되는 것을 알 수 있다. In addition, in the case of Comparative Example 1 in which the surfactant is not added, it can be seen that the
또한, 계면활성제가 과량으로 투입된 비교예2의 경우는 수지도료의 점도상승 및 혼합공정에서 다량의 기포가 발생되는 것을 알 수 있다.In addition, in the case of Comparative Example 2 in which the surfactant was added in excess, it can be seen that a large amount of bubbles are generated in the viscosity increase and mixing process of the resin coating material.
이상에서 본 발명은 기재된 구체적인 실시예에 대해서만 상세히 설명되었지 만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the specific embodiments described, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications belong to the appended claims. will be.
본 발명에 따르면, 방현성 필름으로서 2종 이상의 크기 입자를 사용하는 것처럼 가상의 입자 자체가 갖는 요철로서 방현성을 극대화하고 작은 입자에 의한 반사율을 낮추는 효과를 발휘한다.According to the present invention, the effect of maximizing the anti-glare property and reducing the reflectance by small particles as the unevenness of the imaginary particles themselves, as using two or more kinds of size particles as the anti-glare film.
또한, 본 발명에 따르면, 방현필름의 제작에 있어서 공정 수율을 떨어뜨리지 않고 저렴한 제조 비용을 확보하면서도 반사율이 저하된 방현필름을 제공하는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect of providing an anti-glare film having a low reflectance while securing a low manufacturing cost without lowering the process yield in the production of the anti-glare film.
Claims (13)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020060028561A KR100708490B1 (en) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | Anti-glare film and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020060028561A KR100708490B1 (en) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | Anti-glare film and its manufacturing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR100708490B1 true KR100708490B1 (en) | 2007-04-18 |
Family
ID=38181572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020060028561A Expired - Fee Related KR100708490B1 (en) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | Anti-glare film and its manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100708490B1 (en) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20060329 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20070330 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20070410 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20070411 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20100413 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
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Payment date: 20110412 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120412 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
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|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |