KR100698926B1

KR100698926B1 - 기판 코팅 장치

Info

Publication number: KR100698926B1
Application number: KR1020050111629A
Authority: KR
Inventors: 권오경; 권성
Original assignee: 주식회사 케이씨텍
Priority date: 2005-11-22
Filing date: 2005-11-22
Publication date: 2007-03-23
Anticipated expiration: 2025-11-22

Abstract

본 발명은 슬릿 노즐을 이용하여 기판 상에 포토레지스트를 도포할 때 그와 동시에 용제를 1차적으로 제거하는 기판 코팅 장치에 관한 것이다. 본 발명의 기판 코팅 장치는 기판 위에 설치되어 기판과 상대 이동하고 상기 기판에 코팅제를 토출하는 토출구가 횡방향으로 길게 형성된 슬릿 노즐과, 상기 슬릿 노즐을 따라 이동하며 슬릿 노즐에 의해 토출된 코팅제 내에 포함된 용제를 증발시키기 위한 건조 유닛을 포함한다.

슬릿 노즐, 포토레지스트, 도포, 용제, 건조, 코팅, 토출

Description

기판 코팅 장치 {SUBSTRATE COATING APPARATUS}

도 1은 일반적인 슬릿 코터의 구조를 나타내는 사시도이다.

도 2는 도 1에 도시된 슬릿 코터에 의해 포토레지스트가 기판에 도포되는 모습을 도시한 단면도이다.

도 3은 본 발명에 따른 기판 코팅 장치의 구조를 나타내는 사시도이다.

도 4는 도 3에 도시된 본 발명에 따른 기판 코팅 장치에 의해 포토레지스트가 기판에 도포되는 모습을 도시한 단면도이다.

도 5는 본 발명에 따른 기판 코팅 장치의 슬릿 노즐 및 건조 유닛을 도시하는 배면도.

도 6은 본 발명에 따른 기판 코팅 장치의 슬릿 노즐 및 건조 유닛의 다른 형태를 도시하는 배면도.

도 7 및 도 8은 본 발명에 따른 기판 코팅장치의 변형예를 도시하는 단면도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

300: 기판 코팅 장치 310: 슬릿 노즐

312: 토출구 320: 이송 유닛

330: 건조 유닛 340: 흡입 유닛

PR: 포토레지스트 GS: 기판

본 발명은 기판 코팅장치에 관한 것으로서, 특히 슬릿 노즐(slit nozzle)을 이용하여 기판 상에 포토레지스트(PR: photoresist)를 도포할 때 그와 동시에 용제를 1차적으로 제거하는 기판 코팅 장치에 관한 것이다.

일반적으로 액정표시소자를 제조할 때, 공정 오차는 주로 포토레지스트를 사용하는 포토 공정에서 발생한다. 상기 포토레지스트가 균일하게 도포되지 않으면 후공정에서 해상도, 회로선폭의 차이가 발생하고, 또한 반사율의 차이가 발생하여 화면에 그대로 나타나는 불량을 유발한다.

최근에는 포토레지스트를 기판 상에 코팅하는 데 필요한 공정 시간을 줄이려는 요구가 있다. 상기 포토레지스트를 짧은 시간 내에 균일하게 도포하고 건조시키는 방법에 대한 연구가 필요하다.

포토레지스트를 균일하게 도포하는 방법으로 포토레지스트를 둥근 롤의 외부에 적재한 후 상기 롤을 기판 상에서 일정 방향으로 구름 이동시켜 포토레지스트를 도포하는 롤 코팅 방법과, 원판의 지지체 위에 기판을 올려놓고 상기 기판의 중앙에 포토레지스트를 떨어뜨린 후 회전시켜 원심력에 의해 포토레지스트를 기판에 도포하는 스핀 코팅방법과, 슬릿 형태의 노즐을 통해 포토레지스트를 기판에 토출하면서 일정 방향으로 스캔하여 도포해가는 슬릿 코팅방법이 있다.

상기 코팅 방법들 중에서, 롤 코팅 방법은 포토레지스트 막의 균일성 및 막 두께 조정을 정밀하게 수행하기 어려워, 고정밀 패턴 형성용으로는 스핀 코팅 방법이 사용된다. 그러나, 스핀 코팅 방법은 웨이퍼와 같이 크기가 작은 기판에 감광물질을 코팅하는 데 적합하며, 액정 표시 패널용 유리 기판과 같이 크기가 크고 중량이 무거운 평판 표시장치용 기판에는 적합하지 않다. 이는 기판이 크고 무거울수록 기판을 고속으로 회전시키기 어려우며, 고속 회전 시 기판의 파손이나 에너지 소모가 큰 문제점이 있다. 이러한 이유로, 대형 유리 기판 상에 포토레지스트를 코팅하는 방법으로 슬릿 코팅 방법이 주로 사용되고 있다.

도 1은 일반적인 슬릿 코터의 구조를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 슬릿 코터에 의해 포토레지스트가 기판에 도포되는 모습을 도시한 단면도.

도 1을 참조하면, 일반적인 슬릿 코터(100)는 포토레지스트(PR)를 기판(GS) 상에 도포하는 슬릿 노즐(110)과, 상기 슬릿 노즐을 일정한 방향으로 이동시키는 한 쌍의 노즐 이송유닛(120)과, 상기 노즐 이송 유닛의 일 측에 부착되는 포토레지스트 공급부(115)와, 상기 포토레지스트 공급부(115)로부터 상기 슬릿 노즐(110)로 포토레지스트(PR)를 이송하는 제1 포토레지스트 공급 라인(116)과, 상기 포토레지스트 공급부(115)에 포토레지스트(PR)를 공급하는 제2 포토레지스트 공급 라인(117)을 포함한다.

상기 슬릿 노즐(110)은 긴 바(bar) 형상의 노즐로, 기판(GS)과 대면하는 슬릿 노즐의 하단 중앙에는 미세한 슬릿 형상의 토출구(112)가 형성되며 상기 토출구(112)를 통해 일정 양의 포토레지스트(PR)가 기판에 토출된다.

상기 슬릿 노즐(110)과 기판(GS)을 도시한 도 2를 참조하면, 상기 슬릿 노즐 (110)은 기판의 일 측에서 다른 일 측으로 일정한 속도로 이동하면서 포토레지스트(PR)를 기판(GS)에 토출시킨다. 상기 포토레지스트 공급부(115)는 상기 슬릿 노즐(110)에 포토레지스트(PR)를 공급하며, 공급되는 포토레지스트(PR)에 소정의 압력을 가하여 포토레지스트(PR)를 토출시키는 수단이다. 통상, 상기 포토레지스트 공급(115)부는 펌프가 포함되어 일정한 압력을 슬릿 노즐(110)에 가하고 그 압력에 의해 슬릿 노즐에 저장된 포토레지스트(PR)가 기판 상에 토출되어 도포된다.

이와 같이, 슬릿 코터를 이용하여 기판 상에 포토레지스트(PR)를 도포한 다음, 포토레지스트에 포함된 솔벤트와 같은 용제를 휘발시키기 위해 상기 기판을 건조 장치로 이송시켜 건조 공정을 수행한다. 상기 건조 공정으로는 오븐이나 핫플레이트에서 기판을 가열하여 포토레지스트에 포함된 용제를 증발시켜 포토레지스트를 건조시키거나, 진공 챔버 내에 기판을 로딩한 후 용제의 증발 속도가 최대인 진공 상태로 진공 챔버를 감압시켜 포토레지스트를 건조시키는 방법이 있다.

포토레지스트가 도포된 기판을 건조시키기 위하여, 기판을 오븐이나 핫플레이트에서 가열하거나 진공 챔버 내부를 감압하는 어느 경우에도, 기판이 대형화되면, 그에 따라 건조 시간이 증가하게 된다.

특히, 슬릿 코터를 이용한 포토레지스트의 도포는 기본적으로 대형 유리 기판에 적용하기 때문에, 건조 공정에 소요되는 시간이 전체 코팅공정에서 차지하는 비중은 작지 않다. 이와 같이, 전체 코팅 공정이 증가함에 따라, 제품의 수율이 감소하게 되는 문제가 있다.

본 발명은 전술된 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 대형 유리 기판 상에 포토레지스트를 도포한 후, 도포된 포토레지스트의 건조 시간을 단축시킬 수 있는 기판 코팅장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.

전술된 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 기판 코팅 장치는 기판 위에 설치되어 기판과 상대 이동하고 상기 기판에 코팅제를 토출하는 토출구가 횡방향으로 길게 형성된 슬릿 노즐과, 상기 슬릿 노즐을 따라 이동하며 슬릿 노즐에 의해 토출된 코팅제 내에 포함된 용제를 증발시키기 위한 건조 유닛을 포함한다.

상기 건조 유닛은 기판 상에 도포된 코팅제를 향하여 형성된 분사구를 포함하여, 상기 건조 유닛은 상기 분사구를 통하여 고온의 가스를 상기 도포된 코팅제에 분사할 수 있다. 이때, 상기 고온의 가스가 유동하는 건조 유닛의 내부는 단열처리된 것이 바람직하다. 상기 건조 유닛 내에는 가열 수단이 구비될 수 있다. 상기 가열 수단은 그물 또는 코일 형상으로 형성된 열선을 포함하는 것이 바람직하다.

상기 건조 유닛은 기판 상에 도포된 코팅제를 향하여 마련된 가열 수단을 포함하는 것이 바람직하다.

상기 분사구는 하나 이상의 슬릿, 노즐 중 어느 하나로 구성되는 것이 바람직하다.

상기 건조 유닛은 상기 슬릿 노즐과 일체로 형성될 수 있다. 이때, 상기 건 조 유닛과 슬릿 노즐 사이는 단열처리된 것이 바람직하다.

상기 건조 유닛을 따라 이동하며 증발된 용제를 흡입하는 흡입 유닛을 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 흡입 유닛은 진공펌프에 연결되어 부압에 의해 증발된 용제를 흡입하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 흡입 유닛은 상기 건조유닛 및 슬릿 노즐과 일체로 형성될 수 있다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하고자 한다.

도 3은 본 발명에 따른 기판 코팅 장치의 구조를 나타내는 사시도이고, 도 4는 도 3에 도시된 본 발명에 따른 기판 코팅 장치에 의해 포토레지스트가 기판에 도포되는 모습을 도시한 단면도이다.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 기판 코팅장치(300)는 포토레지스트(PR)와 같은 코팅제를 유리 등의 기판(GS)에 도포하는 슬릿 형상의 토출구(312)가 좌우 횡방향으로 길게 형성된 슬릿 노즐(310)과, 슬릿 노즐(310)의 이동 방향에 반대 방향인 상기 슬릿 노즐(310)의 후방에 구비되어 슬릿 노즐(310)에 의해 토출된 포토레지스트(PR)에 포함된 솔벤트와 같은 용제를 1차 증발시키기 위한 건조 유닛(330)과, 상기 슬릿 노즐(310)의 좌우 양측을 지지하고 이를 종방향으로 이동시키기 위한 이송 유닛(320)을 포함한다. 또한, 상기 건조 유닛(330)에 의해 1차 증발된 용제를 흡입하기 위한 흡입 유닛(340)을 더 포함할 수 있다.

상기 슬릿 노즐(310)은 좌우 횡방향으로 길게 연장 형성된 바(bar) 형상이며, 통상 기판(GS)의 좌우 폭보다 크게 구성된다. 기판(GS)과 대면하는 면인 상기 슬릿 노즐(310)의 하부면에는 포토레지스트(PR)가 토출되는 미세한 토출구(312)가 상기 횡방향으로 연장 형성되어 있다. 상기 선형의 토출구(312)를 통하여 포토레지스트(PR)는 기판(GS)에 일정한 양을 토출된다.

또한, 상기 이송 유닛(320)은 상기 슬릿 노즐(310)의 양측을 지지한 상태에서 일정 속도를 갖고 종방향으로 이동함으로써, 슬릿 노즐(310)과 그의 후면에 구비된 건조 유닛(330) 및 흡입 유닛(340)을 함께 기판(GS) 상에서 이동시킨다. 이때, 상기 이송 유닛(320)은 슬릿 노즐(310)을 수직방향으로 승강시킬 수 있도록 구성되어, 도포되는 포토레지스트(PR)의 양과 점도를 고려하여 상기 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)와 기판(GS) 사이의 간격을 미세하게 제어할 수 있다. 특히, 포토레지스트(PR)는 기판(GS)에 도포된 후, 아래에서 보다 상세히 설명되는 건조 유닛(330) 및 흡입 유닛(340)에 의해 1차적으로 건조되기 때문에, 도포된 후 지연되는 시간에 따라 점도가 변할 수 있어 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)와 기판(GS) 사이의 간격이 미세하게 조절되어야 한다.

상기 슬릿 노즐(310)을 이동시키는 이송 유닛(320)은 한 쌍으로 구성되며 상기 기판(GS)의 좌우 외측에 각각 형성되어 슬릿 노즐(310)이 상기 기판(GS)을 가로질러 위치하도록 지지한다. 아울러, 상기 기판(GS)의 좌우 외측에는 기판(GS)의 좌우 양변과 평행하게 (도시되지 않은) 선형 레일이 형성되고 상기 이송 유닛(320)과 선형 레일 사이에는 (도시되지 않은) 리니어 모터가 구비되어, 상기 이송 유닛(320)을 이동시킨다.

한편, 상기 슬릿 노즐(310)에 포토레지스트(GS)를 공급하는 유닛으로서, 상 기 이송 유닛(320)의 일 측에 구비된 포토레지스트 공급부(315)와, 상기 포토레지스트 공급부(315)와 슬릿 노즐(310) 사이를 연통시키는 제1 포토레지스트 공급 라인(316)과, (도시되지 않은) 외부 공급원으로부터 상기 포토레지스트 공급부(315)에 포토레지스트를 공급하는 제2 포토레지스트 공급 라인(317)을 포함한다.

외부 공급원으로부터 제2 포토레지스트 공급 라인(317)을 통하여 포토레지스트 공급부(315)에 포토레지스트(PR)가 공급된다. 포토레지스트 공급부(315)는 내부에 구비된 펌프로 포토레지스트(PR)에 소정의 압력을 가함으로써, 포토레지스트(PR)가 제1 포토레지스트 공급 라인(316)을 거쳐 슬릿노즐(310)에 공급된 후 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)를 통하여 소정 압력으로 토출되도록 한다.

상기 건조 유닛(330)은 슬릿 노즐(310)의 후방에 위치되기 때문에, 기판(GS) 위를 이동하면서 포토레지스트(PR)를 토출하는 슬릿 노즐(310)을 뒤따라가면서 토출된 포토레지스트(PR)를 바로 건조시킨다. 상기 건조 유닛(330)은 내부에 소정 공간이 형성되고, 기판(GS)과 대면하는 면인 하부면에 포토레지스트(PR)를 건조시키기 위한 가스가 분사되도록 상기 소정 공간과 연통하는 분사구(332)가 형성되어 있다. 상기 건조 유닛(330)은 상부면에 상기 소정 공간과 연통하도록 가스 공급관(331)을 연결하고, 이를 통하여 외부로부터 가스를 공급받아 상기 분사구(332)를 통하여 분사된다. 이때, 토출되는 가스는 고온 건조한 상태의 공기, 질소, 아르곤 등과 같은 비반응 가스로서, 슬릿 노즐(310)을 통하여 기판(GS) 상에 도포된 포토레지스트(PR)에 분사된다. 이와 같이 고온 건조한 상태의 가스는 상기 도포된 포토레지스트(PR)에 포함된 용제를 1차적으로 휘발 또는 증발시켜 포토레지스트(PR) 를 건조시킨다. 이와 같이 포토레지스트가 도포됨과 동시에 1차 건조된 기판은 오븐, 핫플레이트, 또는 진공 건조장치로 이송되어 2차 건조 공정을 거친다. 이와 같이 포토레지스트가 도포됨과 동시에 1차 건조됨으로써, 2차 건조 공정에서의 시간이 단축된다.

한편, 상기 슬릿 노즐(310) 및 건조 유닛(330)의 배면을 도시한 도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 건조 유닛(330)의 하부면에 형성된 분사구는, 도 5에 도시된 바와 같이 슬릿노즐(310)의 토출구(312)와 유사하게 좌우 횡방향으로 길게 연장 형성된 슬릿 형상의 분사구(332)이거나, 또는 도 6에 도시된 바와 같이 각각의 횡단면이 통상의 원형인 노즐 형태로 복수개가 좌우 횡방향 열로 배열된 분사구(333)일 수 있다. 이때, 어느 경우에도 분사구(332, 333)를 통해서 분사되는 고온 건조한 가스의 압력은 도포된 포토레지스트(PR)의 형상에 영향을 주지 않도록 가스의 유량과 함께 분사구(332, 333)의 횡단면적이 결정되어야 한다. 또한, 상기 분사구(332, 333)는 슬릿 노즐(310)의 토출구(312)에서 소정 거리 후방으로 이격된 위치를 향하도록 형성되어, 포토레지스트(PR)가 토출된 후 소정 시간 후에 고온 건조한 가스가 그에 분사되도록 한다. 이는 도포된 포토레지스트(PR)의 표면이 어느 정도 건조된 상태에서 가스가 분사되도록 하여, 분사되는 고온 건조한 가스의 압력에 의해 포토레지스트(PR)의 형상이 영향을 받지 않도록 하기 위함이다.

한편, 상기 건조 유닛(330)의 후방에는 흡입 유닛(340)이 더 구비되어 상기 건조 유닛(330)에 의해 증발된 용제를 흡입할 수 있다. 즉, 상기 건조 유닛(330)의 후방에 구비된 흡입 유닛(340)은 내부에 소정 공간이 형성되고, 상부면에는 상 기 소정 공간과 연통하도록 배출관(341)이 연결되고 하부면에는 유입구(342)가 형성된다. 상기 유입구(342)는 소정의 전후 폭을 갖고 좌우 횡방향으로 길게 연장된 개구 형상인 것이 바람직하다. 상기 흡입 유닛(340)은 상기 유입구(342)를 통하여 상기 건조 유닛(330)에 의해 증발된 포토레지스트에 포함된 용제를 흡입하고, 상기 배출관(341)을 통하여 외부에 마련된 (도시되지 않은) 수집조 또는 외부로 용제를 보낸다. 이와 같은 흡입 유닛은 도포된 포토레지스트 주변으로 증발된 용제를 보다 신속하게 제거할 수 있어, 용제의 증발 속도를 더욱 증가시킬 수 있다.

이때, 상기 배출관(341)은 장치 외부에 구비된 진공펌프와 연결하여 상기 흡입 유닛(340) 내의 소정 공간에 부압을 형성하여 증발된 용제를 강제로 흡입할 수 있다. 이와 달리, 상기 흡입 유닛(340)의 소정 공간 내에 (도시되지 않은) 팬(fan)을 구비함으로써, 증발된 용제를 상기 유입구(342)를 통하여 강제로 흡입할 수도 있다.

상기와 같이 구성된 본 발명의 기판 코팅 장치(300)는 이송 유닛(320)에 의해 슬릿 노즐(310), 증발 유닛(330) 및 흡입 유닛(340)이 기판 위를 일정속도로 이동하면서, 각각 포토레지스트(PR)를 기판(GS) 상에 도포하고, 포토레지스트(PR) 내에 포함된 용제를 증발시키고, 증발된 용제를 흡입하는 공정을 순차적으로 수행하여, 기판(GS) 상에 도포된 포토레지스트(PR)를 도포됨과 동시에 1차적으로 건조시킬 수 있다.

한편, 상기 건조 유닛(330)은 도4 내지 도6에 도시된 실시예에 한정되지 않고, 여러 형태로 변형될 수 있다.

예를 들어, 도 7에 도시된 바와 같이, 건조 유닛(330)에는 전후 2열로 배열된 분사구(334a, 334b)를 형성하여, 보다 넓은 범위에 고온 건조가스를 분사시켜 용제의 증발 효율을 향상시킬 수 있다. 상기 분사구는 2열 이상의 복수열로 형성할 수도 있다. 이때, 각 열에서 분사되는 가스의 상태를 달리 할 수 있다. 예를 들어, 슬릿 노즐에서 멀리 위치된 분사구의 열에서는 그에 가까이 위치된 분사구의 열에서보다 분사되는 가스의 압력을 높일 수 있다.

또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 건조 유닛(330)을 슬릿 노즐(310) 내에 일체로 형성될 수 있다. 즉, 슬릿 노즐(310)의 내부에 포토레지스트가 저장되는 공간 외에 별도의 소정 공간을 더 형성하고, 슬릿 노즐(310)의 상부면에 상기 소정 공간과 연통하게 가스 공급관(331)을 연결하고 하부면에 분사구(336)를 형성한다. 이때, 상기 건조 유닛(330)의 후방에 위치하는 흡입 유닛(340)도 슬릿 노즐(310)과 일체로 형성하여 전체 구성을 단순화할 수 있다.

더욱이, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 분사구(336)는 수직으로 배향된 도 3 내지 도 6의 분사구과 달리, 슬릿 노즐(310)의 후방을 향하여 소정 각도 경사지게 형성하여, 고온 건조한 가스가 만나게 되는 포토레지스트(PR)의 위치를 조절할 수 있다.

한편, 전술된 실시예의 건조 유닛은 외부로부터 고온 건조한 상태의 가스를 공급받아 이를 포토레지스트에 인가하고 있으나, 이와 달리 실온의 가스를 공급받아 건조 유닛에서 상기 가스를 가열하여 포토레지스트에 인가할 수도 있다. 이를 위하여, 건조 유닛 내에 열선과 같은 가열 수단을 더 구비하여 원하는 온도의 가스 를 포토레지스트에 토출할 수 있다. 예를 들어, 열선을 그물 또는 코일 형상으로 형성하여 건조 유닛 내에 배치하면, 외부에서 공급된 실온의 가스가 건조 유닛을 통하여 분사되면서 가열될 수 있다. 이때, 건조 유닛은 외부에서 단지 건조한 가스만을 공급 받거나, 가스 공급관(331) 없이 건조 유닛(330)의 상부를 개방시키고 건조 유닛(330) 내부에 팬을 구비하여 기판 코팅 장치 주변의 공기를 흡입한 다음 이를 가열 수단에 의해 가열한 후 분사시킬 수도 있다. 더욱이, 상기 가열 수단은 건조 유닛이 외부로부터 고온 건조한 상태의 가스를 공급받더라도, 고온의 가스가 이동하는 동안 온도 저하가 발생하는 경우 유리하게 적용될 수 있다.

이와 달리, 상기 건조 유닛은 그의 하부면에 토출구를 없애고 외부로부터 고온 건조한 가스를 공급받을 필요 없이, 열선과 같은 다양한 가열 수단만을 건조 유닛의 하부면에 설치하여 포토레지스트 내의 용제를 증발시킬 수도 있다.

전술된 어느 경우에도, 건조 유닛(330)은 고온을 분사 또는 조사하기 때문에, 이때 발생하는 열이 슬릿 노즐(310) 내의 토출되지 않은 포토레지스트로 전달될 수 있어, 원하는 포토레지스트 막을 기판 상에 도포할 수 없을 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 슬릿 노즐(310)과 건조 유닛(330) 사이에는 단열재를 개재하는 등 적절한 단열처리를 하는 것이 바람직하다. 특히, 도 8에 도시된 바와 같이, 슬릿 노즐(310)과 건조 유닛(330)이 일체로 형성된 경우, 이들 사이에 단열처리는 더욱 필요하다. 이 경우, 포토레지스트가 저장되는 내부 공간과 가스가 유동하는 별도의 내부 공간 사이에는 단열재가 구비되는 것이 바람직하다. 또한, 건조 유닛(330)이 외부의 고온 건조한 가스를 공급받아 분사구를 통하여 분사하는 경우, 가 스가 이동하는 중에 가스의 온도가 저하될 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 건조 유닛(330)의 내부는 적절하게 단열 처리되는 것이 바람직하다.

이상에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

예를 들어, 본 발명에 따른 기판 코팅 장치는 기판이 고정되고 슬릿 노즐이 이동하는 것으로 설명되었으나, 이와 달리 슬릿 노즐이 고정되고 기판을 이동시키면서 코팅이 진행될 수 있다.

전술된 구성을 갖는 본 발명의 기판 코팅 장치는 종래와는 달리 포토레지스트 코팅과정에서 용제를 1차적으로 증발시켜줌으로써, 2차로 진공 건조 시 공정 시간을 현저하게 단축시킬 수 있다. 한편, 포토레지스트를 토출하는 슬릿 노즐의 후방에서, 토출 도포된 포토레지스트 내에 포함된 용제를 증발시키는 증발 유닛의 일측에 흡입 유닛을 구비하면, 증발된 용제를 보다 신속하게 제거할 수 있어, 용제의 증발 속도는 더욱 향상된다.

Claims

기판 코팅 장치에 있어서,

기판 위에 설치되어 기판과 상대 이동하고 상기 기판에 코팅제를 토출하는 토출구가 횡방향으로 길게 형성된 슬릿 노즐과,

상기 슬릿 노즐을 따라 이동하며 슬릿 노즐에 의해 토출된 코팅제 내에 포함된 용제를 증발시키기 위한 건조 유닛과,

상기 건조 유닛을 따라 이동하며 증발된 용제를 흡입하는 흡입 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
청구항 1에 있어서, 상기 건조 유닛은 기판 상에 도포된 코팅제를 향하여 형성된 분사구를 포함하여, 상기 건조 유닛은 상기 분사구를 통하여 고온의 가스를 상기 도포된 코팅제에 분사하는 것을 특징으로 하는 기판코팅 장치.
청구항 2에 있어서, 상기 고온의 가스가 유동하는 건조 유닛의 내부는 단열처리된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
청구항 2에 있어서, 상기 건조 유닛 내에는 가열 수단이 구비된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
청구항 4에 있어서, 상기 가열 수단은 그물 또는 코일 형상으로 형성된 열선 을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
청구항 1에 있어서, 상기 건조 유닛은 기판 상에 도포된 코팅제를 향하여 마련된 가열 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
청구항 2 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 분사구는 하나 이상의 슬릿, 노즐 중 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, 상기 건조 유닛은 상기 슬릿 노즐과 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
청구항 8에 있어서, 상기 건조 유닛과 슬릿 노즐 사이는 단열처리된 것을 특징으로 하는 기판 코팅장치.
청구항 1에 있어서, 상기 흡입 유닛은 진공펌프에 연결되어 부압에 의해 증발된 용제를 흡입하는 것을 특징으로 하는 기판 코팅장치.
청구항 1에 있어서, 상기 흡입 유닛은 상기 건조유닛 및 슬릿 노즐과 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 코팅 장치.
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