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KR100691382B1 - How to monitor the cleaning process - Google Patents

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KR100691382B1
KR100691382B1 KR1019980021622A KR19980021622A KR100691382B1 KR 100691382 B1 KR100691382 B1 KR 100691382B1 KR 1019980021622 A KR1019980021622 A KR 1019980021622A KR 19980021622 A KR19980021622 A KR 19980021622A KR 100691382 B1 KR100691382 B1 KR 100691382B1
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KR
South Korea
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cleaning
chamber
liquid
contaminants
standard
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Inventor
젠-한 왕
추-민 린
폴 티. 제이콥스
Original Assignee
에디컨인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 의료 장치의 클리닝 과정을 감시하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 이 장치는 오염물 검출기를 포함한다. 오염물 검출기는 의료 장치상의 또는 클리닝이나 클리닝 감시 방법에 사용되는 액체내의 또는 의료 장치의 청결도의 대용 지시자로서 작용할 수 있는 오염물로 커버된 표준물상의 무기 및/또는 유기 오염물을 검출할 수 있다. 의료 장치의 클리닝 과정을 감시하기 위한 본 발명의 방법은 오염물 검출기를 포함하는 본 발명의 장치에 따라 의료 장치로부터 제거된 오염물을 측정하는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 이 방법은 장치가 멸균될 수 있도록 충분히 클리닝될 때를 결정하는 단계를 추가로 포함한다.The present invention relates to an apparatus and method for monitoring a cleaning process of a medical device. The device includes a contamination detector. The contaminant detector may detect inorganic and / or organic contaminants on medical devices or on standards covered with contaminants that may act as a surrogate indicator of the cleanliness of the medical device or used in cleaning or cleaning monitoring methods. The method of the present invention for monitoring a cleaning process of a medical device includes measuring contaminants removed from the medical device in accordance with the device of the present invention including a contamination detector. Preferably, the method further comprises determining when the device is sufficiently cleaned to be sterilized.

Description

클리닝 과정의 감시 방법How to monitor the cleaning process

(관련 출원)(Related application)

본 출원은 1997년 6월 11일에 출원된, 발명의 명칭이 "DETECTION OF CLEANLINESS OF A MEDICAL DEVICE DURING A WASHING PROCESS"인 예비 출원 제60/049351호의 이익들을 청구한다.This application claims the benefits of pre-application 60/049351, filed June 11, 1997, entitled "DETECTION OF CLEANLINESS OF A MEDICAL DEVICE DURING A WASHING PROCESS."

(발명의 배경)(Background of invention)

발명의 분야Field of invention

본 발명은 의료 기기의 클리닝 과정을 감시하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 의료 장치가 멸균될 수 있도록 충분히 클리닝되었을 때를 결정할 수 있는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for monitoring a cleaning process of a medical device. More specifically, the present invention relates to an apparatus and method that can determine when a medical device is sufficiently cleaned to be sterilized.

관련 기술의 설명Description of the related technology

오염된 의료 기구 및 장치의 적절한 클리닝은 안전한 소독 및 멸균에 필수적이다. 체액 및 신체 조직으로부터 유도된 무기 및 유기 오염물(soil)을 적절히 제거하는 데 실패함으로써 감염을 초래하는 후속 멸균 과정의 효율성을 방해할 수 있다. 또한, 후속하는 침습적인 수술 과정 동안 도입되는 나머지 이물질들은 치유를 방해할 수 있는 발열 반응을 초래할 수 있다.Proper cleaning of contaminated medical instruments and devices is essential for safe disinfection and sterilization. Failure to properly remove inorganic and organic soils derived from body fluids and body tissues may interfere with the effectiveness of subsequent sterilization processes resulting in infection. In addition, the remaining foreign matter introduced during subsequent invasive surgical procedures may cause an exothermic reaction that may interfere with healing.

임상 세팅에서 클리닝의 목적으로 확인되어 있고, 클리닝 사이클 동안 또는 그 후에 멸균을 수행하는 것이 바람직한 기계적 클리닝 과정을 사용하는 것이 바람직하다. 선택된 클리닝 과정은 적절한 클리닝이 예외적인 상황 및 조건 하에 수행되는 것을 보장할 뿐만 아니라, 특정 시험 및 필드 조건 하에 만족할만한 결과를 야기할 수 있어야 한다.It is preferred to use a mechanical cleaning procedure that has been identified in the clinical setting for cleaning purposes and that it is desirable to perform sterilization during or after the cleaning cycle. The chosen cleaning procedure should not only ensure that adequate cleaning is performed under exceptional circumstances and conditions, but also be able to produce satisfactory results under certain test and field conditions.

고도의 클리닝 성능이 달성되는 것이 필요할 뿐만 아니라, 클리닝 시스템은 특정 의료 기구 및 장치의 특정 수요에 적응시킬 필요가 있다. 이상적인 클리닝 시스템은 분리된 모듈형 기구의 내부 표면뿐만 아니라 가소성(flexible) 인클로저 상에서 발견되는 것들 등의 길고, 좁고, 접근하기 어려운 구멍을 갖는 적절한 클리닝 의료 기구 및 장치일 수 있다. 장래에 더 이상 분리될 수 없는 정교한 기구의 경우에, 적절한 클리닝 성능이 또한 얻어져야 한다.In addition to achieving a high level of cleaning performance, the cleaning system needs to adapt to the specific needs of specific medical instruments and devices. An ideal cleaning system may be a suitable cleaning medical instrument and device having long, narrow, inaccessible holes, such as those found on a flexible enclosure, as well as the inner surface of a separate modular instrument. In the case of sophisticated instruments that can no longer be separated in the future, adequate cleaning performance should also be obtained.

여러 가지 클리닝 기계 및 관련 장치가 의료 기구 및 장치로 개발되어 왔다.Various cleaning machines and related devices have been developed as medical instruments and devices.

피터슨(Peterson)의 미국 특허 제3,640,295호는 초음파 클리너 및 초음파 클리너와 개별적으로 사용할 수 있고, 그로부터 분리되거나 또는 그와 조합하여 사용될 수 있는 수술 기구 휴대 케이스를 개시하고 있으며, 이 초음파 클리너는 초음파 클리닝 과정 동안 기구 케이스를 휴대할 수 최소한 1개의 싱크 및 진동가능한 크레이들(cradle) 내에 포함된다. 펌프 및 필터는 초음파 클리너의 싱크 내에서 클리닝액을 순환시키고, 유체로부터 입자들 및 기타 물질들을 제거하기 위해 초음파 클리너의 일부로서 제공된다. 피터슨의 '295호 특허는 클리닝의 표준 또는 질을 명시하고 있지 않다.US Pat. No. 3,640,295 to Peterson discloses a surgical instrument carrying case that can be used separately, separately from, or in combination with the ultrasonic cleaner and ultrasonic cleaner, which ultrasonic cleaning process It is contained within at least one sink and vibrable cradle that can carry the instrument case. Pumps and filters are provided as part of the ultrasonic cleaner to circulate the cleaning liquid in the sink of the ultrasonic cleaner and to remove particles and other substances from the fluid. Peterson's' 295 patent does not specify cleaning standards or quality.

회사명 "Storz-Endoskop GmbH"에게 양도된 스토즈(Storz)의 미국 특허 제3,957,252호는 클리닝 의료 기구용 장치를 개시하고 있다. 스토즈의 '252호 특허는 클리닝 의료 기구에 사용하기 위해, 종래의 싱크에 세척수를 채우기 위해 초음파 오실레이터를 설치하기 위해 제공된 지지 수단에 관한 것이다. 이 발명의 초점은 독립적인 특수한 초음파 클리닝 탱크에 대한 필요성을 배제시키는 것이다.US Patent No. 3,957,252 to Storz, assigned to the company name "Storz-Endoskop GmbH", discloses a device for cleaning medical instruments. Stoze's' 252 patent relates to support means provided for installing an ultrasonic oscillator for filling wash water in a conventional sink for use in cleaning medical instruments. The focus of this invention is to eliminate the need for independent special ultrasonic cleaning tanks.

회사명 "Riwoplan Medizin-Technische Einrichtungs-Gesellschaft GmbH"에게 양도된 헤켈(Heckele)의 미국 특허 제4,064,886호는 홀더 장치, 원통형 클리닝 콘테이너, 정해진 시간 조절 하에 홀더 장치를 놓기 위한 시간 조절 수단 및 홀더 장치를 위한 회전가능한 밑받침을 포함하는 클리닝 인클로저 장치를 개시하고 있다. 이 발명의 목적은 인클로저를 손상시키지 않고, 인클로저의 신속한 자동 클리닝 및 멸균을 수행시키는 것이다. 또한, 이 발명은 클리닝의 표준 또는 질을 명시하지 않았다.Heckele's U.S. Patent No. 4,064,886, assigned to the company name "Riwoplan Medizin-Technische Einrichtungs-Gesellschaft GmbH", describes a holder device, a cylindrical cleaning container, a time control means for placing the holder device under a fixed time adjustment and a holder device. A cleaning enclosure device is disclosed that includes a rotatable underlay. The object of this invention is to perform rapid automatic cleaning and sterilization of the enclosure without damaging the enclosure. In addition, this invention does not specify the standard or quality of cleaning.

회사명 "Siemens Aktiengesellschaft"에게 양도된 호만(Hohmann) 등의 미국 특허 제4,710,233호는 단일 장치에서 수행되는 방법의 단계들의 순서에 따라 의료 기구를 클리닝, 소독 및 멸균시키는 방법 및 장치를 개시하고 있다. 이 발명은 복잡한 방법 및 장치를 개시하고 있다. 이 방법의 단계들은 시간 T1 동안 초음파 에너지가 가해진 제1 체액조를 함유하는 콘테이너에서 기구를 미리 클리닝시키는 단계, 이어서, 콘테이너로부터 제1 체액조를 비우고, 클리닝 작용제 및 염화나트륨을 함유하는 제2 체액조로 이를 대체시키는 단계, 시간 T2 동안 제2 체액조에 초음파 에너지를 가하고, 내부에 전해질 물질을 생성하도록 전극에 인가된 전압을 갖는 전해질 셀을 통해 제2 체액조를 순환시킴으로써 기구를 잘 클리닝하고 살균시키는 단계, 이어서, 제2 체액조를 비우고 이를 헹굼조로 대체시키는 단계, 헹굼조에 초음파 에너지를 가하고, 전해질 셀을 통해 제2 체액조를 순환시킴으로써 시간 T3 동안 기구를 헹구는 단계, 이어서, 헹굼조를 비우는 단계, 및 가열된 공기로 기구를 건조시키는 단계를 포함한다. 따라서, 호만의 '233호 발명은 의료 기구의 적절한 클리닝 및 멸균을 제공하도록 설계되었지만, 이는 고가의 복잡한 장치 및 방법에 의해 달성된다.US Pat. No. 4,710,233 to Hohmann et al. Assigned to the company name “Siemens Aktiengesellschaft” discloses a method and apparatus for cleaning, disinfecting and sterilizing medical instruments in the order of the steps of the method performed in a single device. This invention discloses a complex method and apparatus. The steps of the method include pre-cleaning the instrument in a container containing a first fluid bath with ultrasonic energy for a time T1, followed by emptying the first fluid bath from the container, and then into a second fluid bath containing a cleaning agent and sodium chloride. Replacing it, cleaning and sterilizing the apparatus well by applying ultrasonic energy to the second fluid bath for a time T2 and circulating the second fluid bath through an electrolyte cell having a voltage applied to the electrode to produce an electrolyte material therein. Then emptying the second fluid bath and replacing it with a rinse bath, applying ultrasonic energy to the rinse bath, rinsing the instrument for a time T3 by circulating the second fluid bath through the electrolyte cell, and then emptying the rinse bath, And drying the appliance with heated air. Thus, Homan's 233 invention was designed to provide proper cleaning and sterilization of medical instruments, but this is accomplished by expensive and complex devices and methods.

회사명 "American Sterilizer Company"에게 양도된 차일더스(Childers) 등의 미국 특허 제5,032,186호는 병원 또는 실험실 재료를 세척 또는 멸균시키기 위한 방법 및 장치를 개시하고 있다. 이 발명은 세척될 품목들을 챔버에 적재하는 단계, 이 챔버를 소정의 수위까지 세척액으로 채우는 단계, 세척액으로 챔버를 채우는 동안 이 챔버에 스팀 또는 공기-스팀 혼합물을 제어하면서 주입시키는 단계(여기서, 스팀은 세척 작용을 야기하고, 세척액을 가열하기 시작하는 난류 방식으로 주입됨), 품목들을 세척할 수 있도록 소정 수준에 이르기까지 챔버를 충전시킨 후 챔버에 스팀을 연속적으로 주입하는 단계를 포함한다. 세척 단계 후, 챔버를 배수시키고, 품목들을 헹구고, 챔버를 다시 배수시킨다. 센서를 사용하여 장치의 작동 파라미터들을 감시한다. 세척 작용을 야기시키고, 세척액을 가열하기 시작하기 위해 챔버를 세척액으로 충전시키는 동안 특정 지점 이후에 그러한 스팀이 챔버 내로 조절 가능하게 주입되도록 스프레이 노즐 및 스팀 주입기의 오퍼레이션을 조절하기 위해 센서가 이용된다. 게다가, 이 발명은 적절한 클리닝을 보장하는 수단을 제공하지 못한다.Childers et al., U.S. Pat.No. 5,032,186, assigned to the company name "American Sterilizer Company," discloses a method and apparatus for cleaning or sterilizing hospital or laboratory materials. The invention includes the steps of loading items to be cleaned into a chamber, filling the chamber with a wash liquid to a predetermined level, and injecting the chamber under control with a steam or air-steam mixture while filling the chamber with the wash liquid (where steam Is injected in a turbulent fashion, causing a washing action and starting to heat the wash liquid), and continuously injecting steam into the chamber after filling the chamber to a predetermined level so that the items can be cleaned. After the washing step, the chamber is drained, the items are rinsed and the chamber is drained again. A sensor is used to monitor the operating parameters of the device. Sensors are used to regulate the operation of the spray nozzle and steam injector such that such steam is controllably injected into the chamber after a certain point while causing the cleaning action and filling the chamber with the cleaning liquid to begin heating the cleaning liquid. In addition, this invention does not provide a means to ensure proper cleaning.

회사명 "Keymed Ltd."에 양도된 파커(Parker) 등의 영국 특허 공개 제2,248,188호는 의료 기구의 클리닝 및 살균 방법 및 장치를 개시하고 있다. 이 발명의 방법 및 장치는 인클로저의 클리닝 및 살균에 특히 적합하다. 이 방법은 기구를 인클로저 내에 놓은 단계 및 클리닝 용액을 기구 표면에 도포하는 클리닝 페이스, 살균 용액을 기구의 표면에 도포하는 살균 페이스, 플러싱(flushing) 용액을 기구 표면에 도포하는 헹굼 페이스, 휘발성 액체를 기구 표면에 도포하는 퍼징 페이스(purging phase) 및 건조 가스를 기구 표면 위로 통과시키는 건조 페이스에 기구를 적용시키는 단계들을 포함한다. 클리닝 페이스는 인클로저의 외부 및 내부를 모두 철저히 세척하기에 충분한 기간으로 기재되어 있다. 또한, 이 발명은 적절한 클리닝을 보장하는 수단을 명시하고 있지 않다.British Patent Publication No. 2,248,188 to Parker et al., Assigned to the company name "Keymed Ltd.", discloses a method and apparatus for cleaning and sterilizing medical instruments. The method and apparatus of this invention are particularly suitable for cleaning and sterilizing enclosures. This method includes the steps of placing the instrument in an enclosure, a cleaning face for applying a cleaning solution to the surface of the instrument, a sterile face for applying a sterile solution to the surface of the instrument, a rinse face for applying a flushing solution to the surface of the instrument, a volatile liquid Applying the instrument to a purging phase that applies to the surface of the instrument and a drying phase that passes the drying gas over the surface of the instrument. The cleaning face is described as long enough to thoroughly clean both the exterior and the interior of the enclosure. In addition, the present invention does not specify means for ensuring proper cleaning.

상기 장치 및 방법들 중 어느 것도 의료 장치 또는 기구의 적절한 클리닝을 보장하는 수단을 제공하지 못한다. 따라서, 의료 장치의 클리닝 과정을 감시하는 개선된 장치 및 방법이 여전히 필요하다.None of the above devices and methods provide a means to ensure proper cleaning of a medical device or apparatus. Thus, there remains a need for improved apparatus and methods for monitoring the cleaning process of medical devices.

(발명의 요약)(Summary of invention)

본 발명에 대한 상세한 논의가 이루어지기에 앞서, 본 명세서에서 특정 용어들이 광의로 사용되었음을 언급하고자 한다. 따라서, 본 명세서에 사용된 "멸균(sterilization)" 또는 "멸균시키다(sterilize)"는 살균의 의미를 포함하기도 한다. 마찬가지로, 여기 사용된 "클리닝(cleaning)" 및 "클리닝액(cleaning liquid)"은 헹굼 또는 헹굼액을 의미하기도 한다.Before a detailed discussion of the present invention has been made, reference is made herein to specific terms used broadly. Thus, as used herein, "sterilization" or "sterilize" may also include the meaning of sterilization. Likewise, "cleaning" and "cleaning liquid" as used herein may also mean rinsing or rinsing liquid.

본 발명은 의료 장치의 클리닝 과정을 감시하고, 이 장치가 멸균될 수 있도록 장치가 충분히 클리닝될 때를 결정할 수 있는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method that can monitor the cleaning process of a medical device and determine when the device is sufficiently cleaned so that the device can be sterilized.

클리닝을 감시하기 위한 여러 가지 검출 기술들을 단독으로 또는 조합하여 이용할 수 있는 오염물 검출기가 본 발명의 장치에 제공된다. 일반적으로, 검출 기술은 이온-선택성 전극, 도전성, 분광 광도 측정, 이온 크로마토그래피, 모세관 전기영동, 고성능 액체 크로마토그래피, 액체 크로마토그래피, 주기적 전압분석, 방사선활성, 석영 결정 미량 천칭 및 다른 중량 측정 기술, 적외선 분광기술 및 기타 분광 기술로 이루어진 군으로부터 선택된다.Contaminant detectors that can be used alone or in combination with various detection techniques for monitoring cleaning are provided in the apparatus of the present invention. In general, detection techniques include ion-selective electrodes, conductivity, spectrophotometry, ion chromatography, capillary electrophoresis, high performance liquid chromatography, liquid chromatography, periodic voltage analysis, radioactivity, quartz crystal trace balance and other gravimetric techniques. , Infrared spectroscopy and other spectroscopic techniques.

본 발명의 장치는 검출 기술이 의료 장치의 표면상에 오염물이 존재하는 것을 검출하기에 적절한 검출 기술을 사용할 수 있다. 의료 장치의 표면 상의 오염물의 존재를 검출하기에 적절한 검출 기술은 장치의 표면과의 접촉없이 작동할 수 있다. 대안으로, 의료 장치의 표면 상의 오염물의 존재를 검출하기에 적절한 검출 기술은 직통의 표면 콘택을 통해 작동할 수 있다. 이러한 시도는 다른 시도를 위해 이미 언급된 바와 동일한 물리화학적 검출 기술을 사용한다. 그러나, 의료 장치 자체는 클리닝 정도를 위해 감시되지 않는다. 오히려, 오염물이 침착된 표준이 장치 내에 삽입되고, 의료 장치 자체 대신에 감시된다. 클리닝시킬 오염된 장치의 클리닝 정도와 오염된 표준의 클리닝 정도간의 상관 관계가 확립될 수 있음으로써, 표준이 특정 정도까지 클리닝될 때, 클리닝될 장치의 충분한 클리닝이 달성될 수 있다.The device of the present invention may use a detection technique that is suitable for the detection technique to detect the presence of contaminants on the surface of the medical device. Suitable detection techniques for detecting the presence of contaminants on the surface of the medical device can operate without contact with the surface of the device. Alternatively, a detection technique suitable for detecting the presence of contaminants on the surface of the medical device may operate via direct surface contacts. This approach uses the same physicochemical detection techniques as already mentioned for other attempts. However, the medical device itself is not monitored for the degree of cleaning. Rather, contaminant deposited standards are inserted into the device and monitored instead of the medical device itself. A correlation between the degree of cleaning of the contaminated device to be cleaned and the degree of cleaning of the contaminated standard can be established, so that when the standard is cleaned to a certain degree, sufficient cleaning of the device to be cleaned can be achieved.

따라서, 본 발명의 일 특징에 따라, 의료 기구의 클리닝 과정을 감시하는 장치가 제공된다. 이 장치는 기구를 수용하고 클리닝 액체로 기구를 세척하는 클리닝 챔버를 포함한다. 오염물 검출기는 클리닝 챔버에 결합되고, 기구 상의 오염물의 양을 지시하도록 채용된다. 오염물 검출기는 클리닝 액체에 의해 검출기로의 접근을 조절할 수 있도록 챔버로부터 적어도 부분적으로 분리된다. 오염물 검출기는 이동할 수 있고, 이 검출기를 이동시킴으로써, 이는 챔버와 소통하는 유체 중에서 또는 그 외부에서 제조될 수 있다. 오염물 검출기는 인클로저 내에 위치하는 전극을 포함할 수 있고, 인클로저는 챔버에 결합됨으로써 클리닝 액체는 인클로저에 조절 가능하게 액세스된다.Thus, according to one aspect of the invention, an apparatus for monitoring a cleaning process of a medical device is provided. The apparatus includes a cleaning chamber for receiving the instrument and for cleaning the instrument with a cleaning liquid. A contaminant detector is coupled to the cleaning chamber and is employed to indicate the amount of contaminants on the instrument. The contaminant detector is at least partially separated from the chamber to control access to the detector by the cleaning liquid. The contaminant detector can move and by moving this detector it can be produced in or outside the fluid in communication with the chamber. The contaminant detector may include an electrode located within the enclosure, where the enclosure is coupled to the chamber such that the cleaning liquid is adjustablely accessible to the enclosure.

본 발명의 다른 특징에 따라, 오염된 의료 장치를 클리닝 및 멸균시키는 방법이 제공된다. 이 방법은 a) 오염된 장치를 수용하는 클리닝 챔버를 제공하는 단계; b) 클리닝 챔버와 결합된 오염물 검출기를 제공하는 단계; c) 클리닝 챔버에 클리닝 액체를 도입하는 단계; d) 클리닝 챔버에서 오염된 장치를 클리닝하는 단계; e) 오염된 장치로부터 제거된 오염물의 양을 측정하기 위해 상기 검출기를 상기 클리닝 액체에 노출시키는 단계; f) 오염된 장치가 멸균될 수 있도록 충분한 양의 오염물이 오염된 장치로부터 제거되었는지를 결정하는 단계; 및 g) 오염된 장치를 멸균하는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 검출기는 단계 d) 동안 클리닝 액체로부터 적어도 부분적으로 차단된다. 검출기를 클리닝 액체에 노출시키고, 클리닝 액체로부터 검출기를 차단시키는 것은 챔버와 소통하는 유체 내에서 및 그 외부에서 검출기를 이동시킴으로써 이루어지거나 또는 인클로저 내의 검출기를 챔버에 결합되게 위치시킴으로써 클리닝 액체를 인클로저에 조절 가능하게 액세스시킴으로써 이루어질 수 있다.According to another feature of the invention, a method of cleaning and sterilizing a contaminated medical device is provided. The method comprises the steps of: a) providing a cleaning chamber containing the contaminated device; b) providing a contaminant detector associated with the cleaning chamber; c) introducing a cleaning liquid into the cleaning chamber; d) cleaning the contaminated device in the cleaning chamber; e) exposing the detector to the cleaning liquid to measure the amount of contaminants removed from the contaminated device; f) determining that a sufficient amount of contaminants has been removed from the contaminated device so that the contaminated device can be sterilized; And g) sterilizing the contaminated device. Preferably, the detector is at least partially blocked from the cleaning liquid during step d). Exposing the detector to the cleaning liquid and isolating the detector from the cleaning liquid is accomplished by moving the detector in and out of the fluid in communication with the chamber or by adjusting the cleaning liquid to the enclosure by positioning the detector within the enclosure to the chamber. This can be done by enabling access.

본 발명의 다른 특징에 따라, 오염된 기구의 클리닝 과정을 감시하는 장치가 제공된다. 이 장치는 기구를 수용하고 클리닝하는 챔버를 포함한다. 인클로저는 챔버와 소통하는 조절가능한 유체 내에 존재한다. 화학적 소스는 인클로저 내에서 검출할 수 있는 신호를 발생시키기 위해 기구의 오염물과 반응할 수 있는 화학 물질을 제공하기 위해 인클로저에 결합된다. 신호를 검출하기 위한 검출기가 이 장치에 제공된다. 화학 물질은 Hg(SCN)2, OPA(o-프탈산 디알데히드(phthatic dialdehyde)+ 트리올(Triol), 브롬크레졸 퍼플 (C12H16Br2O5S9), 뷰렛 시약 및 마이크로프로테인-PR로부터 선택된다. 이 장치는 인클로저 내의 클리닝 액체를 통해 광빔(light beam)을 검출기에 전송하기 위한 광원을 추가로 포함할 수 있다. 인클로저는 밸브에 의해 챔버로부터 분리될 수 있다. 챔버는 입구와 출구를 갖고, 제2 검출기는 입구에 결합될 수 있고, 제1 검출기 및 인클로저는 출구에 결합될 수 있다.According to another feature of the invention, an apparatus for monitoring a cleaning process of a contaminated instrument is provided. The apparatus includes a chamber for receiving and cleaning the instrument. The enclosure is in an adjustable fluid in communication with the chamber. The chemical source is coupled to the enclosure to provide a chemical that can react with the contaminants of the instrument to generate a detectable signal within the enclosure. A detector for detecting a signal is provided in this apparatus. Chemicals include Hg (SCN) 2 , OPA (o-phthalic dialdehyde + triol), bromcresol purple (C 12 H 16 Br 2 O 5 S 9 ), biuret reagent and microprotein-PR The apparatus may further comprise a light source for transmitting a light beam to the detector through the cleaning liquid in the enclosure The enclosure may be separated from the chamber by a valve. The second detector can be coupled to the inlet and the first detector and the enclosure can be coupled to the outlet.

본 발명의 다른 특징에 따라, 오염된 의료 장치를 클리닝 및 멸균시키는 방법이 제공된다. 이 방법은 a) 오염된 장치를 수용하는 클리닝 챔버를 제공하는 단계; b) 클리닝 챔버와 소통하는 조절 가능한 유체 중의 인클로저에 결합되고, 검출가능한 신호를 발생시키기 위해 상기 장치 상에서 오염물과 반응할 수 있는 화학 물질을 함유하는 화학적 소스를 제공하는 단계; c) 클리닝 챔버에 클리닝 액체를 도입하는 단계; d) 클리닝 챔버에서 오염된 장치를 클리닝하는 단계; e) 소스로부터 화학 물질을 상기 인클로저로 방출하는 단계; f) 충분한 양의 오염물이 장치로부터 제거되었는지를 결정하기 위해 상기 클리닝 액체 중에서 화학 물질과 오염물 간의 반응을 통해 발생된 신호를 검출하는 단계; 및 g) 장치를 멸균하는 단계를 포함한다. 클리닝 액체의 일부는 화학 물질이 인클로저로 방출되기 전에 인클로저로 도입될 수 있고, 클리닝 액체의 일부가 도입되기 전에, 내부에 유체 소통이 실질적으로 일어나지 않도록 인클로저가 클리닝 챔버로부터 분리될 수 있다. 신호는 특정 파장에서 칼라를 띄거나, 흡수될 수 있다.According to another feature of the invention, a method of cleaning and sterilizing a contaminated medical device is provided. The method comprises the steps of: a) providing a cleaning chamber containing the contaminated device; b) providing a chemical source coupled to the enclosure in the adjustable fluid in communication with the cleaning chamber and containing a chemical that is capable of reacting with contaminants on the device to generate a detectable signal; c) introducing a cleaning liquid into the cleaning chamber; d) cleaning the contaminated device in the cleaning chamber; e) ejecting chemicals from the source into the enclosure; f) detecting a signal generated through the reaction between the chemical and the contaminant in the cleaning liquid to determine whether a sufficient amount of contaminant has been removed from the device; And g) sterilizing the device. Some of the cleaning liquid may be introduced into the enclosure before chemicals are discharged into the enclosure, and the enclosure may be separated from the cleaning chamber so that no fluid communication therein occurs substantially before the portion of the cleaning liquid is introduced. The signal can be colored or absorbed at specific wavelengths.

본 발명의 다른 특징에 따라, 의료 기구의 클리닝 과정을 감시하는 장치가 제공된다. 이 장치는 기구를 수용하고 클리닝하는 챔버를 포함한다. 소정량의 오염물을 함유하는 표준물은 챔버 내에 또는 챔버와 소통하는 조절가능한 유체 내에 위치한다. 표준물 상의 오염물의 양을 지시하도록 채택된 검출기는 장치에 결합된다. 이 장치는 상이한 위치의 장치들에서 상대적인 변화 효율을 변화시키도록 조절될 수 있는 클리닝/헹굼 시스템을 포함할 수 있다. 표준물은 기구가 이 표준물보다 더 효율적으로 클리닝되도록 위치할 수 있다. 지시는 장치를 클리닝하기 위해 사용된 액체 내의 오염물의 농도, 장치를 클리닝하기 위해 사용된 액체의 전기 전위, 도전성, 특정 파장의 투명성, 또는 클리닝을 위해 사용된 액체의 칼라 등의 신호일 수 있다. 바람직하게는, 표준물은 오염물로 뒤덮인 표면을 포함할 수 있다. 표준물을 통해 이동하여 검출기에 도달하는 소정의 파장의 광을 발생시키는 추가의 광원이 제공될 수 있다. 표준물은 챔버와 소통하는 조절가능한 유체 내의 인클로저 내에 놓일 수 있다. 인클로저는 화학 물질을 인클로저에 조절가능하게 방출시킬 수 있는 화학적 소스를 구비할 수 있고, 그의 화학 물질은 검출할 수 있는 신호를 발생시키기 위해 표준물로부터 제거되거나 또는 그 위에 남아있는 오염물과 반응한다. 검출기는 인클로저 내에 위치하는 전극을 포함할 수 있다.In accordance with another aspect of the present invention, an apparatus for monitoring a cleaning process of a medical device is provided. The apparatus includes a chamber for receiving and cleaning the instrument. Standards containing a predetermined amount of contaminants are located in the chamber or in an adjustable fluid in communication with the chamber. A detector adapted to indicate the amount of contaminants on the standard is coupled to the device. The apparatus may include a cleaning / rinsing system that may be adjusted to change the relative change efficiency in the devices of different locations. Standards can be positioned so that the instrument is cleaned more efficiently than this standard. The indication may be a signal such as the concentration of contaminants in the liquid used to clean the device, the electrical potential of the liquid used to clean the device, the conductivity, the transparency of a particular wavelength, or the color of the liquid used for cleaning. Preferably, the standard may comprise a surface covered with contaminants. Additional light sources may be provided that generate light of a predetermined wavelength that travels through the standard to reach the detector. The standard may be placed in an enclosure in an adjustable fluid in communication with the chamber. The enclosure can have a chemical source that can controllably release the chemical into the enclosure, where the chemical reacts with contaminants that are removed from or remain on the standard to generate a detectable signal. The detector may comprise an electrode located within the enclosure.

본 발명의 다른 특징에 따라, 오염된 의료 장치를 클리닝 및 멸균시키는 방법이 제공된다. 이 방법은 a) 오염된 장치를 수용하는 챔버를 제공하는 단계; b) 챔버에 결합된 오염된 표준물을 제공하는 단계; c) 클리닝 액체를 챔버로 도입시키는 단계; d) 오염된 장치 및 오염된 표준물을 클리닝시키는 단계; e) 오염된 표준물로부터 제거된 오염물의 양을 측정하는 단계; f) 오염된 장치가 멸균될 수 있도록 충분한 양의 오염물이 오염된 표준물로부터 제거되었는지를 결정하는 단계; 및 g) 오염된 장치를 멸균시키는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 클리닝 단계는 오염된 장치가 노출되는 것보다 효과적이거나 또는 덜 효과적으로 클리닝 환경에 표준물을 노출시키는 것을 포함하고, 결정 단계는 오염된 표준물이 소정의 레벨까지 클리닝되었는지를 결정하는 것을 포함한다. 오염된 표준물은 오염된 장치보다 더 심하게 오염되거나 또는 클리닝하기가 보다 어려울 수 있다. 이 방법은 액체가 챔버로 도입되기 전에 클리닝 액체의 오염물 수준을 측정하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 단계 e)는 무기 전해질, 알칼리 및 알칼리 토염, 무기 금속 함유 화합물 및 의료 장치와 접촉하게 될 체액 중에 존재하는 다른 무기 화합물 등의 무기 오염물을 측정하는 것을 포함하고(포함하거나), 단백질, 당단백질, 지질단백질, 점액, 아미노산, 다당류, 당류, 지질, 당지질, 의료 장치와 접촉하게 될 체액 중에 존재하는 다른 유기 화합물, 미생물 및 바이러스 등의 유기 오염물을 측정하는 것을 포함한다. 오염된 장치로부터 제거된 오염물의 양을 측정하는 단계는 오염된 표준물 상에 남아있는 오염물 또는 오염된 표준물로부터 제거되고 클리닝 액체 중에 함유된 오염물을 검출함으로써 수행될 수 있다. 바람직하게는, 오염된 표준물은 챔버와 소통하는 조절가능한 유체 중의 인클로저 내에 놓이고, 챔버와 인클로저 간의 유체 소통 정도를 조절함으로써, 챔버와 인클로저의 상대적인 클리닝 효율이 조정될 수 있다. 단계 e)는 인클로저 내의 클리닝 액체의 오염물 수준을 측정하는 것을 포함할 수 있다.According to another feature of the invention, a method of cleaning and sterilizing a contaminated medical device is provided. The method comprises the steps of: a) providing a chamber for containing the contaminated device; b) providing a contaminated standard coupled to the chamber; c) introducing a cleaning liquid into the chamber; d) cleaning the contaminated device and the contaminated standard; e) measuring the amount of contaminants removed from the contaminated standard; f) determining that a sufficient amount of contaminants has been removed from the contaminated standard so that the contaminated device can be sterilized; And g) sterilizing the contaminated device. Preferably, the cleaning step includes exposing the standard to the cleaning environment more effectively or less effectively than the contaminated device is exposed, and the determining step includes determining whether the contaminated standard has been cleaned to a predetermined level. Include. Contaminated standards can be more contaminated or more difficult to clean than contaminated devices. The method may further comprise measuring the contaminant level of the cleaning liquid before the liquid is introduced into the chamber. Step e) comprises measuring (or comprising) inorganic contaminants such as inorganic electrolytes, alkali and alkaline earth salts, inorganic metal containing compounds and other inorganic compounds present in the body fluids to be in contact with the medical device, and / or include proteins, glycoproteins, Measuring organic contaminants such as lipoproteins, mucus, amino acids, polysaccharides, sugars, lipids, glycolipids, other organic compounds, microorganisms and viruses present in the body fluids to be in contact with the medical device. Measuring the amount of contaminants removed from the contaminated device can be performed by detecting contaminants remaining on the contaminated standard or contaminants removed from the contaminated standard and contained in the cleaning liquid. Preferably, the contaminated standard is placed in an enclosure in an adjustable fluid in communication with the chamber, and by adjusting the degree of fluid communication between the chamber and the enclosure, the relative cleaning efficiency of the chamber and the enclosure can be adjusted. Step e) may comprise measuring the contaminant level of the cleaning liquid in the enclosure.

본 발명의 다른 특징에 따라, 의료 기구의 클리닝 과정을 감시하는 장치가 제공된다. 이 장치는 기구를 수용하고 클리닝시키는 클리닝 챔버, 및 기구로부터 제거되거나 또는 그 위에 남겨진 오염물의 양을 지시하도록 채용된 최소한의 제1 오염물 검출기 및 제2 오염물 검출기를 포함한다. 제1 및 제2 오염물 검출기는 클리닝 챔버와 소통하는 유체 내에 놓일 수 있다. 제1 및 제2 오염물 검출기는 이온-선택성 전극, 도전성, 분광 광도 측정, 이온 크로마토그래피, 모세관 전기영동, 고성능 액체 크로마토그래피, 액체 크로마토그래피, 방사선활성, 중력측정, 적외선 분광분석, 분압측정 및 탁도측정으로 선택될 수 있다. 오염물 검출기들 중의 하나는 무기 오염물을 검출할 수 있고, 나머지는 유기 오염물을 검출할 수 있다. 하나의 검출기는 클리닝 챔버의 입구 근처에 위치하고, 다른 검출기는 클리닝 챔버의 출구 근처에 위치한다. 이 장치는 클리닝 챔버와 소통하는 유체 내의 제2 챔버를 추가로 포함하고, 하나의 검출기는 클리닝 챔버 내에 있는 제2 챔버 내에 위치함으로써, 2개의 챔버로부터 얻은 측정 결과가 클리닝 정도를 평가하기 위해 비교되고 사용될 수 있다.In accordance with another aspect of the present invention, an apparatus for monitoring a cleaning process of a medical device is provided. The apparatus includes a cleaning chamber for receiving and cleaning the instrument, and a minimum first contaminant detector and a second contaminant detector employed to indicate the amount of contaminants removed from or left on the instrument. The first and second contaminant detectors can be placed in a fluid in communication with the cleaning chamber. The first and second contaminant detectors are ion-selective electrodes, conductivity, spectrophotometry, ion chromatography, capillary electrophoresis, high performance liquid chromatography, liquid chromatography, radioactivity, gravity, infrared spectroscopy, partial pressure measurement and turbidity Can be selected by measurement. One of the contaminant detectors can detect inorganic contaminants and the other can detect organic contaminants. One detector is located near the inlet of the cleaning chamber and the other detector is located near the outlet of the cleaning chamber. The apparatus further comprises a second chamber in the fluid in communication with the cleaning chamber and one detector is located in the second chamber in the cleaning chamber so that the measurement results from the two chambers are compared to evaluate the degree of cleaning. Can be used.

본 발명의 또 다른 특징에 따라, 오염된 의료 장치의 클리닝 및 멸균 방법이 제공된다. 이 방법은 a) 오염된 장치를 수용하는 클리닝 챔버를 제공하는 단계; b) 클리닝 액체를 챔버로 도입시키는 단계; c) 클리닝 챔버 내에서 오염된 장치를 클리닝시키는 단계; d) 오염된 장치로부터 제거된 오염물의 양을 적어도 2개의 검출기로 측정하는 단계; e) 오염된 장치가 멸균될 수 있도록 충분한 양의 오염물이 오염된 장치로부터 제거되었는지를 결정하는 단계; 및 f) 장치를 멸균시키는 단계를 포함한다. 단계 d)는 클리닝 단계 전에 제1 검출기로 클리닝 액체의 오염물 수준을 측정하고, 클리닝 단계 동안 또는 그 후에 제2 검출기로 클리닝 액체의 오염물 수준을 측정하는 것을 포함할 수 있다. 단계 e)는 제1 검출기에 의해 측정된 클리닝 액체의 오염물 수준을 제2 검출기에 의해 측정된 클리닝 액체의 오염물 수준과 비교하는 것을 포함할 수 있다. 2개의 오염물 수준 간의 차이가 소정의 범위 내인 경우, 충분한 양의 오염물이 오염된 장치로부터 제거된다. 단계 d)는 하나의 검출기에 의해, 무기 전해질, 알칼리 및 알칼리 토염, 무기 금속 함유 화합물 및 의료 장치와 접촉하게 될 체액 중에 존재하는 다른 무기 화합물 등의 무기 오염물을 측정하는 것을 포함할 수 있고, 다른 검출기에 의해, 단백질, 당단백질, 지질단백질, 점액, 아미노산, 다당류, 당류, 지질, 당지질, 의료 장치와 접촉하게 될 체액 중에 존재하는 다른 유기 화합물, 미생물 및 바이러스 등의 유기 오염물을 측정하는 것을 포함할 수 있다. 오염된 장치로부터 제거된 오염물을 측정하는 단계는 오염된 장치 상에 남아 있는 오염물 또는 오염된 장치로부터 제거되어 클리닝 액체 내에 함유된 오염물을 검출함으로써 수행될 수 있다.According to another feature of the invention, a method of cleaning and sterilizing a contaminated medical device is provided. The method comprises the steps of: a) providing a cleaning chamber containing the contaminated device; b) introducing a cleaning liquid into the chamber; c) cleaning the contaminated device in a cleaning chamber; d) measuring the amount of contaminants removed from the contaminated device with at least two detectors; e) determining whether a sufficient amount of contaminants has been removed from the contaminated device so that the contaminated device can be sterilized; And f) sterilizing the device. Step d) may comprise measuring the contaminant level of the cleaning liquid with the first detector before the cleaning step and measuring the contaminant level of the cleaning liquid with the second detector during or after the cleaning step. Step e) may comprise comparing the contaminant level of the cleaning liquid measured by the first detector with the contaminant level of the cleaning liquid measured by the second detector. If the difference between the two contaminant levels is within a predetermined range, a sufficient amount of contaminant is removed from the contaminated device. Step d) may comprise measuring, by one detector, inorganic contaminants such as inorganic electrolytes, alkali and alkaline earth salts, inorganic metal containing compounds and other inorganic compounds present in the body fluids to be in contact with the medical device, Detecting organic contaminants, such as proteins, glycoproteins, lipoproteins, mucus, amino acids, polysaccharides, sugars, lipids, glycolipids, other organic compounds, microorganisms, and viruses present in the body fluids to be in contact with the medical device can do. Measuring the contaminants removed from the contaminated device may be performed by detecting contaminants remaining on the contaminated device or contaminants removed from the contaminated device and contained in the cleaning liquid.

상기 논의한 바의 본 발명의 장치는 챔버에 접속된 진공 펌프를 추가로 포함할 수 있고, 이 챔버는 진공 챔버로서 역시 작용한다.The apparatus of the present invention as discussed above may further comprise a vacuum pump connected to the chamber, which also serves as a vacuum chamber.

상기 논의한 바의 본 발명의 장치는 멸균 시스템을 추가로 포함할 수 있다.The device of the present invention as discussed above may further comprise a sterilization system.

본 발명에 따른 방법에서, 멸균 단계는 기상 멸균 공정에 의해 수행될 수 있다.In the process according to the invention, the sterilization step can be carried out by a gas phase sterilization process.

본 발명에 따른 방법에서, 클리닝 액체는 액상 멸균제를 포함함으로써, 클리닝 단계 및 멸균 단계가 동시에 수행된다.In the method according to the invention, the cleaning liquid comprises a liquid sterilizing agent, whereby the cleaning step and the sterilization step are performed simultaneously.

본 발명에 따른 방법은 진공 건조 단계를 추가로 포함할 수 있다.The process according to the invention may further comprise a vacuum drying step.

본 발명의 일 특징은 후속 멸균 공정이 10-6의 멸균성 보장 레벨(SAL, sterility assurance level)을 갖는 것과 같은 멸균 제품을 제공하는 것을 보장할 수 있도록 의료 장치가 충분히 클리닝된 때를 결정하는 것이다. 즉, 장치가 멸균되지 않을 확률을 백만분의 일 미만이다. 상기 목적들을 완수할 수 있는 기술을 개발하기 위해, 미생물로 오염된 표면, 표면 침착 유형 및 의료 장치의 후속 멸균 간의 중요한 관계의 일부를 명확히 밝히기 위한 연구들이 수행되고 있다.One feature of the present invention is to determine when the medical device is sufficiently cleaned to ensure that subsequent sterilization processes provide sterile products, such as having a sterility assurance level (SAL) of 10-6 . . In other words, the probability that the device will not be sterilized is less than one million. In order to develop techniques that can accomplish these objectives, studies are being conducted to clarify some of the important relationships between microbial contaminated surfaces, surface deposition types and subsequent sterilization of medical devices.

제1 실험은 다양한 농도의 물 100 μl중의 염수(염화나트륨) 중의 백만개의 바실러스 스테아로데르모필루스(Bst)(Bacillus Stearothermophilus) 포자를 스테인레스강 블레이드 상으로 접종시키는 것을 포함한다. 20개의 블레이드가 평가된 염수 용액의 각각의 농도에 대해 이용되었다. 철야 건조시킨 후, 캘리포니아주 어빈 소재 Advanced Sterilization Products로부터 입수할 수 있는 멸균 장치에서 1회의 멸균 주기로 블레이드에 표준 멸균 프로토콜을 행하였다. 멸균 프로토콜은 CSR 랩으로 블레이드를 2회 감싸고, 59% 과산화수소 용액으로부터 유도된 챔버 중에서 과산화수소 6 mg/l로 전체 멸균 사이클에 이용하는 것을 포함한다. 이어서, 임의의 생존하는 유기체가 잔류하는지를 측정하기 위해 블레이드는 TSB 배양 배지에 놓여 55℃에서 14일 동안 인큐베이션된다. 염수의 각각의 농도는 전체 60개의 블레이드를 갖는 3개의 복제품에 의해 평가된다. 다음은 그 결과이다:The first experiment involved inoculating one million Bacillus stearothermophilus spores in saline (sodium chloride) in 100 μl of various concentrations of water onto stainless steel blades. Twenty blades were used for each concentration of saline solution evaluated. After overnight drying, the blades were subjected to a standard sterilization protocol in one sterilization cycle in a sterilization apparatus available from Advanced Sterilization Products, Irvine, CA. The sterilization protocol involves wrapping the blade twice with a CSR wrap and using the entire sterilization cycle at 6 mg / l hydrogen peroxide in a chamber derived from 59% hydrogen peroxide solution. The blade is then placed in TSB culture medium and incubated for 14 days at 55 ° C. to determine if any viable organisms remain. Each concentration of brine is evaluated by three replicates with a total of 60 blades. Here is the result:

각각의 칼럼에서 첫 번째 숫자는 멸균 방법에 노출된 후 생존하는 유기체를 함유하는 것으로 밝혀진 블레이드의 숫자를 나타낸다. 각각의 칼럼에서 두 번째 숫자는 각각의 시도에서 평가된 블레이드의 숫자를 나타낸다. 표면 침착물 중의 염수의 양이 감소함에 따라, 생존하는 잔류 유기체의 수가 적을수록 보다 효율적인 멸균 공정이 이루어짐을 알 수 있다. 희석되지 않았을 때 천연적으로 약 0.75%의 염을 함유하는 다양한 농도의 소 태아 혈청(FBS)으로 구성된 표면 침착물 뿐만 아니라 다양한 양의 소 태아 혈청과 함께 다양한 양의 염수로 구성된 표면 침착물로 유사한 실험을 수행하였다. 그 실험들의 결과는 다음과 같다:The first number in each column represents the number of blades found to contain organisms that survive after exposure to the sterilization method. The second number in each column represents the number of blades evaluated in each trial. As the amount of brine in the surface deposits decreases, it can be seen that the less the number of surviving residual organisms, the more efficient the sterilization process is. Similar to surface deposits of varying amounts of fetal serum with varying amounts of fetal bovine serum, as well as surface deposits of varying concentrations of fetal bovine serum (FBS) naturally containing about 0.75% salt when undiluted The experiment was performed. The results of the experiments are as follows:

소 태아 혈청 만으로 구성된 표면 침착물은 심지어 희석되지 않았을 때 0.75%의 염을 함유하더라도 이러한 특정 실험 프로토콜에서 후속 멸균에 의해 실질적으로 방해받지 않음을 알 수 있다. 혈청 중의 단백질의 존재는 건조 공정 동안 염 결정의 형성을 방해하는 것으로 믿어진다. 이들 염 결정은 미생물을 차단시키고, 멸균 공정으로부터 이들을 보호할 수 있다. 따라서, 의료 장치 상의 표면 침착물 내에 NaCl 등의 염이 존재함으로써 동시 발생하는 또는 후속 멸균 공정 동안 멸균 장치를 얻는 점에서 특수한 시도를 나타낸다. 본 발명의 목적은 의료 장치가 멸균되기에 충분히 클리닝될 때를 결정하는 것이기 때문에, 세척 공정 동안 염의 농도를 감시하는 것은 매우 중요하다. 뿐만 아니라, 비교적 낮은 농도로 복합적인 염들을 함유하는 수돗물은 균일한 결정이 형성될 것 같지 않기 때문에 도전이 적음을 나타낸다.It can be seen that surface deposits consisting solely of fetal bovine serum, even when undiluted, contain 0.75% of salt and are substantially uninterrupted by subsequent sterilization in this particular experimental protocol. The presence of protein in the serum is believed to interfere with the formation of salt crystals during the drying process. These salt crystals can block the microorganisms and protect them from sterilization processes. Thus, a particular attempt is made in terms of obtaining a sterilization device during the simultaneous or subsequent sterilization process by the presence of a salt such as NaCl in the surface deposits on the medical device. Since the purpose of the present invention is to determine when the medical device is sufficiently cleaned to be sterilized, it is very important to monitor the concentration of salt during the cleaning process. In addition, tap water containing complex salts at relatively low concentrations is less challenging because no uniform crystals are likely to form.

헹굼 또는 클리닝 공정을 모의 실험하는 추가의 실험을 스테인레스강 및 플라스틱 의료 장치 및 기구에 대한 모델로서 오염물이 침착된 스테인레스강(SS) 블레이드 또는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 플라스틱 스트립 상에서 수행하였다. 이들 실험은 표면 침착물(또는 오염물) 유형과 모의 실험된 헹굼 또는 클리닝 공정 동안 방출 또는 클리닝 속도 간의 중요한 관계의 일부를 명확히 나타낸다.Additional experiments simulating rinsing or cleaning processes were performed on contaminated deposited stainless steel (SS) blades or polytetrafluoroethylene (PTFE) plastic strips as models for stainless steel and plastic medical devices and instruments. These experiments clearly show some of the important relationships between the surface deposit (or contaminant) type and the release or cleaning rate during the simulated rinse or cleaning process.

일련의 오염물 함유 용액을 표 3에 나타낸 바의 조성으로 제조하였다.A series of contaminant containing solutions was prepared with the composition as shown in Table 3.

당업계에 공지된 RPMI 조직 배양 배지는 10% FBS와 조합될 때 비교적 높은 염 농도 및 낮은 단백질 농도를 제공한다. 분획량의 용액을 스테인레스강 수술용 블레이드 또는 폴리테트라플루오로에틸렌 플라스틱의 작은 스트립 상에 침착시키고 건조시켰다. 모의 실험된 헹굼 또는 클리닝 공정이 이어서 수행되고, 오염물 방출률은 염화나트륨(NaCl)을 위한 염화물 이온 특정 전극을 통해서 또는 전체 단백질을 위한 o-프탈 디알데히드(OPA) 분석에 기초한 분광분석 기술을 통해 감시된다. 이들 실험에 대한 특수한 조건 및 결과는 다음과 같다.RPMI tissue culture medium known in the art provides relatively high salt concentrations and low protein concentrations when combined with 10% FBS. Fractions of solution were deposited and dried on stainless steel surgical blades or small strips of polytetrafluoroethylene plastic. A simulated rinsing or cleaning process is then performed, and the pollutant release rate is monitored through a chloride ion specific electrode for sodium chloride (NaCl) or through spectroscopic techniques based on o-phthal dialdehyde (OPA) analysis for the entire protein. . Specific conditions and results for these experiments are as follows.

제1 실험에서, 염화나트륨 용액 100μl를 각각의 SS 블레이드 상에 접종하였다. 실험을 위해 8개의 블레이드를 사용하였다. 각각의 블레이드는 35℃의 오븐에서 70분 동안, 이어서 실온에서 30분 동안 건조시켰다. 8개의 유리병을 각각의 블레이드에 대해 하나씩 블레이드를 소킹(soaking)하기 위해 사용하였다. 각각의 병에는 탈이온수 20 ml를 함유시켰다. 담그는 시간은 0-60초 범위였다. 탈이온수로 방출된 염화나트륨의 양은 클로라이드 이온 선택성 전극으로 감시하였다. 도 1은 실험 결과를 예시한다. 도 1은 실온에서 탈이온수 중의 염화나트륨 접종된 스테인레스강 블레이드의 염화나트륨 방출률의 그래프이다.In a first experiment, 100 μl of sodium chloride solution was inoculated onto each SS blade. Eight blades were used for the experiment. Each blade was dried in an oven at 35 ° C. for 70 minutes and then at room temperature for 30 minutes. Eight vials were used to soak the blades, one for each blade. Each bottle contains 20 ml of deionized water. Soaking time ranged from 0-60 seconds. The amount of sodium chloride released into the deionized water was monitored by a chloride ion selective electrode. 1 illustrates the experimental results. 1 is a graph of sodium chloride release rate of sodium chloride inoculated stainless steel blade in deionized water at room temperature.

제2 실험에서, 알부민 용액 100μl를 8개의 SS 블레이드 각각 상에 접종하였다. 각각의 블레이드는 35℃의 오븐에서 70분 동안, 이어서 실온에서 추가로 30분 동안 건조시켰다. 8개의 유리병을 각각의 블레이드에 대해 하나씩 블레이드를 소킹하기 위해 사용하였다. 각각의 병에는 탈이온수 20 ml를 함유시켰다. 블레이드를 0-300초 범위 동안 소킹시키고, 각각의 블레이드로부터 탈이온수로 방출된 단백질 및 염화나트륨의 양은 상기 적절한 기술에 의해 감시하였다. 도 2는 실온에서 탈이온수 중의 알부민 용액 접종된 스테인레스강 블레이드의 알부민 및 염화나트륨 방출률의 그래프이다.In a second experiment, 100 μl of albumin solution was inoculated onto each of the eight SS blades. Each blade was dried in an oven at 35 ° C. for 70 minutes followed by an additional 30 minutes at room temperature. Eight vials were used to soak the blades, one for each blade. Each bottle contains 20 ml of deionized water. The blades were soaked for 0-300 seconds and the amount of protein and sodium chloride released from each blade into deionized water was monitored by the appropriate technique. 2 is a graph of albumin and sodium chloride release rates of a stainless steel blade inoculated with albumin solution in deionized water at room temperature.

제3 실험에서, 10% FBS를 갖는 RPMI 조직 배양 배지 100μl를 8개의 SS 블레이드 각각 위에 접종하였다. 각각의 블레이드는 35℃의 오븐에서 70분 동안, 이어서 실온에서 추가로 30분 동안 건조시켰다. 8개의 유리병을 각각의 블레이드에 대해 하나씩 블레이드를 소킹하기 위해 사용하였다. 각각의 병에는 탈이온수 20 ml를 함유시켰다. 각각의 블레이드로부터 탈이온수로 방출된 염화나트륨 및 단백질의 방출률은 상기 적절한 기술에 의해 감시하였다. 도 3은 실온에서 탈이온수 중의 RPMI 조직 배양 배지 + 10% FBS 오염된 스테인레스강 블레이드의 염화나트륨 및 단백질 방출률의 그래프이다.In a third experiment, 100 μl of RPMI tissue culture medium with 10% FBS was inoculated onto each of the eight SS blades. Each blade was dried in an oven at 35 ° C. for 70 minutes followed by an additional 30 minutes at room temperature. Eight vials were used to soak the blades, one for each blade. Each bottle contains 20 ml of deionized water. The release rate of sodium chloride and protein released from each blade into deionized water was monitored by the appropriate technique. 3 is a graph of sodium chloride and protein release rate of RPMI tissue culture medium + 10% FBS contaminated stainless steel blade in deionized water at room temperature.

제4 실험에서, 소의 태아 혈청 100μl를 8개의 SS 블레이드 각각 위에 접종하였다. 각각의 블레이드는 35℃의 오븐에서 70분 동안, 이어서 실온에서 추가로 30분 동안 건조시켰다. 8개의 유리병을 각각의 블레이드에 대해 하나씩 블레이드를 소킹하기 위해 사용하였다. 각각의 병에는 탈이온수 20 ml를 함유시켰다. 블레이드로부터 탈이온수로 방출된 염화나트륨 및 단백질의 방출률은 상기 적절한 기술에 의해 감시하였다. 도 4는 실온에서 탈이온수 중의 소 태아 혈청 접종된 스테인레스강 블레이드의 단백질 및 염화나트륨 방출률의 그래프이다.In a fourth experiment, 100 μl of bovine fetal serum was inoculated onto each of the eight SS blades. Each blade was dried in an oven at 35 ° C. for 70 minutes followed by an additional 30 minutes at room temperature. Eight vials were used to soak the blades, one for each blade. Each bottle contains 20 ml of deionized water. The release rate of sodium chloride and protein released from the blade into deionized water was monitored by the appropriate technique. 4 is a graph of protein and sodium chloride release rates of fetal bovine serum inoculated stainless steel blade in deionized water at room temperature.

초기 4회의 방출 실험 결과는 모든 경우에, 염화나트륨 오염물이 단백질 함유 오염물보다 먼저 SS 블레이드로부터 제거되었음을 나타낸다. 또한, 모든 경우에, 단백질 함유 오염물을 제거하는 데 요구되는 시간의 양은 염화나트륨을 제거하기 위해 요구되는 시간의 2배 이하이다. 또한, 모든 경우, 탈이온수 20 ml 중에 간단히 담가서 5분 이내에 모든 블레이드를 클리닝시켰다.The results of the initial four release experiments showed that in all cases sodium chloride contaminants were removed from the SS blades before the protein containing contaminants. In addition, in all cases, the amount of time required to remove protein containing contaminants is no more than twice the time required to remove sodium chloride. In addition, in all cases, all blades were cleaned within 5 minutes by simply soaking in 20 ml of deionized water.

일련의 다음 실험은 클리닝 속도, 클리닝 용액 조성, 클리닝 조건 및 표면의 유형 간의 관계를 조사한 것이다. 실험 5-8에서, 사용된 혈액은 신선하고, 다시 석회화된 소의 혈액이고, 구연산 처리된 소의 완전혈 20부를 실온에서 염화칼슘 용액 0.5몰부와 부드럽게 혼합함으로써 제조하였다.The next series of experiments examined the relationship between cleaning speed, cleaning solution composition, cleaning conditions and type of surface. In Experiments 5-8, the blood used was fresh, again calcified bovine blood, and was prepared by gently mixing 20 parts of whole blood of citric acid treated cows with 0.5 mol parts of calcium chloride solution at room temperature.

제5 실험에서, 한벌의 블레이드로부터 혈액의 방출률을 측정하였다. 블레이드의 각각의 세트는 12개의 SS 수술용 블레이드를 함유하였다(Bard Parker, 크기 #10). 혈액 5방울을 각각의 블레이드 상에 침착시켰다. 각각의 방울은 10μl였다. 블레이드를 이전의 실험에서와 같이 건조시켰다. 방출률을 측정하기 시작할 때, 블레이드는 내부에 소킹 용액이 있는 유리 비이커(150 ml 용량) 바닥에 놓았다. 소킹 용액은 23℃, 200 RPM의 교반 속도에서 1% SDS(도데실 황산나트륨) 용액 100 ml 및 5M NaNO3 0.2ml로 구성되었다. 교반은 혼합기에 의해 일정한 속도로 회전되는 작은 테플론 교반 패들(블레이드 크기 = ½ " x ½ ", 1/16" 폭)을 사용함으로써 이루어졌다. 블레이드로부터 염화나트륨 및 단백질 방출률은 상기 적절한 기술에 의해 감시하였다. 도 5는 23℃, 200 RPM의 교반 속도에서 1% SDS 용액 중의 혈액 접종된 스테인레스강 블레이드의 염화나트륨 및 단백질 방출률의 그래프이다.In a fifth experiment, the release rate of blood from a pair of blades was measured. Each set of blades contained 12 SS surgical blades (Bard Parker, size # 10). Five drops of blood were deposited on each blade. Each drop was 10 μl. The blade was dried as in the previous experiment. When starting to measure the release rate, the blade was placed on the bottom of a glass beaker (150 ml capacity) with a soaking solution inside. The soaking solution consisted of 100 ml of 1% SDS (sodium dodecyl sulfate) solution and 0.2 ml of 5M NaNO 3 at 23 ° C., 200 RPM stirring rate. Agitation was achieved by using a small Teflon stirring paddle (blade size = ½ "x ½", 1/16 "width) rotated at constant speed by the mixer. The rate of sodium chloride and protein release from the blade was monitored by the appropriate technique above. 5 is a graph of sodium chloride and protein release rates of blood inoculated stainless steel blades in 1% SDS solution at a stirring rate of 23 ° C., 200 RPM.

제6 실험에서, 12개의 PTFE 스트립으로부터 혈액의 방출률을 측정하였다. 혈액 5방울을 각각의 스트립(35mm x 6mm x 2mm) 상에 침착시켰다. 각각의 방울은 10μl였다. 스트립을 이전의 실험에서와 같이 건조시켰다. 방출률을 측정하기 시작할 때, 스트립을 내부에 소킹 용액이 있는 유리 비이커(150 ml 용량) 바닥에 놓았다. 소킹 용액은 23℃, 200 RPM의 교반 속도에서 1% SDS 용액 100 ml 및 5M NaNO3 0.2ml로 구성되었다. PTFE 스트립으로부터 염화나트륨 및 단백질 방출률은 상기 적절한 기술에 의해 평가하였다. 도 6은 23℃, 200 RPM의 교반 속도에서 1% SDS 용액 중의 혈액 접종된 PTFE 스트립의 염화나트륨 및 단백질 방출률의 그래프이다.In a sixth experiment, the release rate of blood from the 12 PTFE strips was measured. Five drops of blood were deposited on each strip (35 mm × 6 mm × 2 mm). Each drop was 10 μl. The strip was dried as in the previous experiment. When starting to measure the release rate, the strip was placed on the bottom of a glass beaker (150 ml volume) with a soaking solution inside. The soaking solution consisted of 100 ml of 1% SDS solution and 0.2 ml of 5M NaNO 3 at 23 ° C., agitation speed of 200 RPM. The sodium chloride and protein release rates from the PTFE strips were evaluated by the appropriate technique above. 6 is a graph of sodium chloride and protein release rate of blood inoculated PTFE strips in 1% SDS solution at a stirring rate of 23 ° C., 200 RPM.

상기 2회의 실험의 결과는 일단 다시 염화나트륨 오염물이 단백질 오염물보다 더 용이하게 방출된다. 더욱이, 단백질 오염물을 제거하는 데 요구되는 시간은 염화나트륨 오염물을 제거하기 위해 요구되는 시간의 양보다 훨씬 더 길지는 않다. 또한, 완전혈 침착물은 1% SDS 용액을 사용하고, 200 RPM으로 용액을 교반시킴에도 불구하고, 이전의 침착물보다 제거하기가 더 어렵다. 또한, SS 블레이드 대 PTFE 스트립의 2 표면 사이에는 약간의 차이가 있다.The results of the two experiments show that once again sodium chloride contaminants are released more easily than protein contaminants. Moreover, the time required to remove protein contaminants is not much longer than the amount of time required to remove sodium chloride contaminants. In addition, complete blood deposits are more difficult to remove than previous deposits, despite using 1% SDS solution and stirring the solution at 200 RPM. There is also a slight difference between the two surfaces of the SS blade to the PTFE strip.

다음 실험들은 클리닝액의 교반 속도와 온도의 효과를 조사한 것이다.The following experiments investigated the effects of stirring speed and temperature of the cleaning solution.

제7 실험에서, 한벌의 블레이드로부터 상이한 교반 속도에서 혈액의 방출률을 측정하였다. 블레이드의 각각의 세트는 12개의 SS 수술용 블레이드를 함유하였다(크기 #10). 혈액 5방울을 각각의 블레이드 상에 침착시켰다. 각각의 방울은 10μl였다. 블레이드를 이전의 실험에서와 같이 건조시켰다. 방출률을 측정하기 시작할 때, 한벌의 블레이드를 실온에서 소킹 용액 100 ml에 놓고, 상이한 교반 속도(0, 350, 700 및 1400 RPM)로 노출시켰다. 또한, 한벌의 블레이드를 45℃에서 1400 RPM에 노출시켰다. 소킹 용액은 1% SDS 용액 100 ml 및 5M NaNO3 0.2ml로 구성되었다. 도 7은 23℃, 45℃ 및 상이한 교반 속도에서 1% SDS 용액 중의 혈액에 접종된 스테인레스강 블레이드의 단백질 방출률의 그래프이다.In a seventh experiment, the release rate of blood was measured at different stirring rates from a set of blades. Each set of blades contained 12 SS surgical blades (Size # 10). Five drops of blood were deposited on each blade. Each drop was 10 μl. The blade was dried as in the previous experiment. When starting to measure the release rate, a set of blades were placed in 100 ml of soaking solution at room temperature and exposed at different stirring speeds (0, 350, 700 and 1400 RPM). In addition, a pair of blades was exposed to 1400 RPM at 45 ° C. The soaking solution consisted of 100 ml of 1% SDS solution and 0.2 ml of 5M NaNO 3 . FIG. 7 is a graph of protein release rate of stainless steel blades inoculated into blood in 1% SDS solution at 23 ° C., 45 ° C. and different stirring rates.

제8 실험에서, 한벌의 PTFE 스트립으로부터 혈액의 방출률을 2가지 상이한 온도에서 측정하였다. 각각의 세트는 12개의 PTFE 스트립을 함유하였다. 혈액 5방울을 각각의 스트립 상에 침착시켰다. 각각의 방울은 10μl였다. 스트립을 이전의 실험에서와 같이 건조시켰다. 방출률을 측정하기 시작할 때, 스트립을 내부에 소킹 용액 100 ml가 있는 유리 비이커(150 ml 용량) 바닥에 놓았다. 스트립중의 한벌은 45℃에서 수행되는 실험을 위해 사용하고, 다른 한벌은 23℃에서 수행된 실험을 위해 사용되었다. 모든 배치에 대해 교반이 이루어지지 않았다. PTFE 스트립으로부터 단백질 방출률은 상기 적절한 기술에 의해 평가하였다. 도 8은 23℃ 및 45℃에서 1% SDS 용액 중의 혈액에 접종된 PTFE 스트립의 단백질 방출률의 그래프이다.In an eighth experiment, the release rate of blood from a pair of PTFE strips was measured at two different temperatures. Each set contained 12 PTFE strips. Five drops of blood were deposited on each strip. Each drop was 10 μl. The strip was dried as in the previous experiment. When starting to measure the release rate, the strip was placed on the bottom of a glass beaker (150 ml capacity) with 100 ml of soaking solution inside. One set of strips was used for experiments conducted at 45 ° C. and another set was used for experiments performed at 23 ° C. No agitation was done for all batches. Protein release rate from the PTFE strip was evaluated by the appropriate technique. 8 is a graph of protein release rate of PTFE strips inoculated into blood in 1% SDS solution at 23 ° C. and 45 ° C. FIG.

상기 2회의 실험은 증가하는 용액 교반 속도 또는 온도가 보다 짧은 클리닝 시간 또는 보다 신속한 방출률을 초래할 수 있음을 나타낸다.The two experiments show that increasing solution agitation rates or temperatures can result in shorter cleaning times or faster release rates.

요약하자면, 상기 방출률 실험의 결과로부터 여러 가지 오염물의 방출률을 보정함으로써, 적절한 클리닝이 이루어지는지를 보장하기 위해 선택된 오염물의 방출을 감시할 수 있는 것으로 밝혀졌다. 대부분의 경우, 적절한 단백질 오염물의 제거가 발생하였는지를 보장하기 위해 무기 오염물을 제거하기 위해 요구되는 시간의 양의 2 내지 3배 이하의 클리닝 시간을 사용할 수 있다. 또한, 약 45℃ 이하의 온도가 클리닝 속도를 증가시키기 위해 효율적으로 사용될 수 있다. 또한, 클리닝 효율을 증가시키기 위해 교반이 사용될 수 있다. 클리닝 용액 조성물이 클리닝 속도에 영향을 미칠 수 있지만, 많은 경우, 온수(예 30-50℃)가 모든 오염물을 적절히 제거할 수 있다.In summary, it has been found from the results of these release rate experiments that by correcting the release rate of various pollutants, it is possible to monitor the release of selected pollutants to ensure that proper cleaning is achieved. In most cases, cleaning times of up to 2-3 times the amount of time required to remove inorganic contaminants may be used to ensure that proper protein contaminant removal has occurred. In addition, temperatures of about 45 ° C. or less can be used efficiently to increase the cleaning rate. Agitation may also be used to increase the cleaning efficiency. Although the cleaning solution composition may affect the cleaning rate, in many cases hot water (eg 30-50 ° C.) may properly remove all contaminants.

본 발명의 일 특징은 의료 장치의 클리닝 과정을 감시하는 장치를 제공하는 것이다. 바람직하게는, 이 장치는 이것이 멸균될 수 있도록 충분히 클리닝된 때를 결정할 수 있다. 이 장치는 의료 장치 상에서 또는 클리닝 또는 클리닝 감시 방법에 사용되는 액체 내에서 또는 의료 장치에 대한 청결도의 대용 지시자로서 작용할 수 있는 오염물로 뒤덮인 표준물 상의 무기 및(또는) 유기 오염물을 검출할 수 있는 오염물 검출기를 포함한다.One feature of the present invention is to provide a device for monitoring a cleaning process of a medical device. Preferably, the device can determine when it is sufficiently cleaned so that it can be sterilized. The device is capable of detecting inorganic and / or organic contaminants on medical devices or in liquids used in cleaning or cleaning monitoring methods or on standards covered with contaminants that can act as a surrogate indicator of cleanliness for medical devices. And a detector.

무기 오염물은 염화나트륨, 염화칼륨, 염화칼슘 및 기타 알칼리 및 알칼리 토염 등의 전해질, 철 염 등의 무기 금속 함유 화합물 및 신체 내에 존재하는 것으로 알려져 있고, 멸균 후 사용을 요하는 의료 장치와 접촉하게될 기타 모든 무기 화합물을 포함한다.Inorganic contaminants are known to be present in the body, such as sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride and other electrolytes such as alkali and alkaline earth salts, iron salts, and iron salts, and all other weapons that will come into contact with medical devices that require use after sterilization. Compound.

유기 오염물은 단백질, 당단백질, 지질단백질, 점액, 아미노산, 다당류, 당류, 지질, 당지질 및 신체 내에 존재하는 것으로 알려져 있고, 멸균 후 사용을 요하는 의료 장치와 접촉하게될 기타 모든 유기 화합물을 포함한다. 유기 오염물은 의료 장치와 접촉하게 될 수 있는 전체적, 부분적, 생존하거나, 쇠약하거나 또는 생명이 없는 미생물을 포함할 수도 있다. 미생물은 모든 그람 양성균, 그람 음성균, 장내 미생물 및 장외 미생물, 이스트, 진균 및 바이러스를 포함한다.Organic contaminants are known to be present in proteins, glycoproteins, lipoproteins, mucus, amino acids, polysaccharides, sugars, lipids, glycolipids, and all other organic compounds that will come into contact with medical devices requiring use after sterilization. . Organic contaminants may include whole, partial, surviving, debilitating, or lifeless microorganisms that can come into contact with medical devices. Microorganisms include all Gram-positive bacteria, Gram-negative bacteria, intestinal and exogenous microorganisms, yeast, fungi and viruses.

본 발명의 장치는 수술 기구와 같이 멸균 조직으로 도입되는 중요한 품목, 인클로저, 관절 촬영 인클로저, 치과용 기구 및 일부 마취 기구와 같이 찢어진 피부 또는 점막과 접촉하는 얼마간 중요한 품목 및 손상되지 않은 피부와 접촉하는 중요치 않은 품목을 포함하는 광범위한 의료 장치의 클리닝 과정의 감시에 적절하다.The device of the present invention is in contact with intact items such as surgical instruments, some important items in contact with torn skin or mucous membranes such as enclosures, arthroscopy enclosures, dental instruments and some anesthesia instruments and intact skin It is suitable for monitoring the cleaning process of a wide range of medical devices containing noncritical items.

클리닝 과정에 이용되는 액체는 클리닝액 및 헹굼액을 포함한다. 클리닝을 감시할 목적으로 단독으로 이용되는 개별적인 액체 역시 사용될 수 있고, 따라서 오염물 검출기를 포함하는 장치 내에서 이용될 수 있다. 클리닝 과정은 버팀없이 서있는 세척 공정, 세척 단계에 이이서 멸균 단계를 포함하는 클리닝 공정을 포함하는 통합 시스템 및 클리닝 및 멸균이 동시에 발생하는 클리닝 공정을 포함하는 통합 시스템을 포함한다.The liquid used in the cleaning process includes a cleaning liquid and a rinsing liquid. Individual liquids used alone for the purpose of monitoring cleaning can also be used and thus can be used in a device comprising a contaminant detector. The cleaning process includes an integrated system including a stand-up cleaning process, a cleaning process including a cleaning step followed by a sterilization step, and an integrated system including a cleaning process in which cleaning and sterilization occur simultaneously.

클리닝을 감시하는 장치는 의료 장치의 클리닝 시스템 또는 클리닝 및 멸균 시스템과 통합될 수 있다.The device for monitoring cleaning may be integrated with the cleaning system or the cleaning and sterilization system of the medical device.

본 발명의 장치의 오염물 검출기는 클리닝을 감시하기 위한 다양한 검출 기술들을 단독으로 또는 조합하여 이용할 수 있다. 1개의 분석기로부터 얻은 데이터는 다른 분석기로부터 얻은 데이터의 신뢰도를 검증하기 위해 사용될 수 있다. 오염물 검출 기술은 2가지 기본적인 오염물 카테고리: (1) 무기 오염물을 검출하기에 적절한 검출 기술; 및 (2) 유기 오염물을 검출하기에 적절한 검출 기술로 분할될 수 있다. 그러나, 많은 경우에, 오염물 검출 기술이 무기 오염물 및 유기 오염물 모두를 검출하기에 적절할 수 있다.The contaminant detector of the device of the present invention may use various detection techniques alone or in combination to monitor cleaning. The data from one analyzer can be used to verify the reliability of the data from another analyzer. Contaminant detection techniques include two basic contaminant categories: (1) detection techniques suitable for detecting inorganic contaminants; And (2) detection techniques suitable for detecting organic contaminants. In many cases, however, contaminant detection techniques may be suitable for detecting both inorganic and organic contaminants.

아래에 가능한 검출 방법을 나타낸다. 다른 적절한 오염물 검출 기술을 본 명세서에 나열하지 않음을 이해해야 한다. 다음은 본 발명에 사용될 수 있는 유용한 기술을 예시한다.Possible detection methods are shown below. It should be understood that other suitable contaminant detection techniques are not listed herein. The following illustrates useful techniques that can be used in the present invention.

A. 무기 오염물(예, NaCl)A. Inorganic Contaminants (eg NaCl)

1. 이온 선택성 전극1. Ion Selective Electrode

1.1 염화물 전극 방법1.1 Chloride Electrode Method

원리: 염화물 전극은 유리체, 기준 용액, 및 염화은/황화은 멤브레인으로 구성된다. 멤브레인이 염화물 용액과 접촉할 때, 전극 전위는 멤브레인을 가로질러 발달한다. 이러한 전극 전위는 pH/mV/이온 계량기를 사용하여 일정한 기준 전위에 대하여 측정된다. 측정된 전위에 대응하는 염화물 이온의 농도는 네른스트 방정식(Nernst equation)에 의해 기재된다:Principle: The chloride electrode consists of a vitreous, a reference solution, and a silver chloride / silver sulfide membrane. When the membrane is in contact with the chloride solution, the electrode potential develops across the membrane. This electrode potential is measured for a constant reference potential using a pH / mV / ion meter. The concentration of chloride ions corresponding to the measured potentials is described by the Nernst equation:

E = Eo - S log XE = Eo-S log X

여기서, here,

E = 측정된 전극 전위 (mV)E = measured electrode potential (mV)

Eo = 기준 전위 (mV)Eo = reference potential (mV)

S = 전극 기울기S = electrode slope

X = 염화물 이온 농도 (M)X = chloride ion concentration (M)

공통 염화물 전극의 검출 범위는 1M 내지 5.0 x 10-5M이다.The detection range of the common chloride electrode is 1M to 5.0 x 10 -5 M.

1.2 나트륨 전극 방법1.2 Sodium Electrode Method

원리: 나트륨 전극은 유리체, 기준 용액 및 감지 멤브레인으로 구성된다. 감지 멤브레인은 교화된 친유기성 멤브레인과 접촉하는 액체 내부 충전 용액을 갖고, 나트륨 선택적인 이온 교환기를 함유한다. 이 멤브레인이 나트륨 용액과 접촉할 때, 전극 전위는 멤브레인을 가로질러 발달한다. 이러한 전극 전위는 pH/mV/이온 계량기를 사용하여 일정한 기준 전위에 대하여 측정된다. 측정된 전위에 대응하는 나트륨 이온의 농도는 네른스트 방정식(Nernst equation)에 의해 기재된다:Principle: The sodium electrode consists of a vitreous, a reference solution and a sensing membrane. The sensing membrane has a liquid internal fill solution in contact with the exchanged lipophilic membrane and contains a sodium selective ion exchanger. When this membrane is in contact with the sodium solution, electrode potentials develop across the membrane. This electrode potential is measured for a constant reference potential using a pH / mV / ion meter. The concentration of sodium ions corresponding to the measured potentials is described by the Nernst equation:

E = Eo - S log XE = Eo-S log X

여기서, here,

E = 측정된 전극 전위 (mV)E = measured electrode potential (mV)

Eo = 기준 전위 (mV)Eo = reference potential (mV)

S = 전극 기울기S = electrode slope

X = 나트륨 이온 농도 (M)X = sodium ion concentration (M)

공통 나트륨 전극의 검출 범위는 포화된 상태 내지 1.0 x 10-6M이다.The detection range of the common sodium electrode is from saturated state to 1.0 x 10 -6 M.

오염물 검출기로서 사용될 때, 전극 프로브는 세척액 또는 헹굼액과 접촉하는 세척 챔버 내부에 직접적으로 또는 세척 챔버로부터 분리되어, 세척액, 헹굼액 또는 클리닝 감시액을 샘플링하기 위해 사용되는 액체 콘딧 내부에 놓일 수 있다. 또한, 1개 이상의 전극 프로브가 동시에 이용될 수 있다. 후자의 경우에, 1개의 프로브가 신선한 세척액, 헹굼액 또는 클리닝 감시액과 연속적으로 또는 간헐적으로 또는 단일 접촉하게 놓일 수 있다. 제2 프로브는 오염된 의료 장치에 노출된 세척액, 헹굼액 또는 클리닝 감시액의 전위를 측정할 수 있다. 2개의 프로브의 전위 판독치를 비교할 수 있고, 장치는 2가지 전위 판독치가 실질적으로 동일하거나 또는 서로 몇%(예, 3%) 이내일 때 충분히 클리닝된 것으로 고려할 수 있다.When used as a contaminant detector, the electrode probes can be placed directly within the cleaning chamber in contact with the cleaning liquid or rinsing liquid or separated from the cleaning chamber and placed inside a liquid conduit used to sample the cleaning liquid, rinsing liquid or cleaning supernatant. . In addition, more than one electrode probe may be used simultaneously. In the latter case, one probe may be placed continuously or intermittently or in single contact with fresh wash, rinse or cleaning supernatant. The second probe can measure the potential of the wash solution, rinse solution or cleaning supervision solution exposed to the contaminated medical device. The potential readings of the two probes can be compared and the device can be considered sufficiently cleaned when the two potential readings are substantially the same or within a few percent (eg 3%) of each other.

2. 도전성 방법2. Conductive Method

원리: 용액 중의 이온 또는 전해질은 전해질 용액의 전기 도전성을 측정함으로써 측정되고 정량화될 수 있다. 용액의 도전성은 존재하는 이온의 수 및 이온의 이동성에 의존한다. 염화나트륨(NaCl)은 강한 전해질이고, 용액 중에서 완전히 이온화된다. 그의 완전한 이온화의 결과로서, NaCl 용액의 도전성은 용액 중의 NaCl의 농도에 비례한다. 아세트산 등의 약한 전해질은 용액 중에서 완전히 이온화되지 않고, 따라서 낮은 도전성을 갖고, 많은 이온화 발생하는 경우에 희석에 대한 컨덕턴스가 크게 증가한다. 몰 도전성(Λ)은 다음과 같이 정의된다Principle: Ions or electrolytes in solution can be measured and quantified by measuring the electrical conductivity of the electrolyte solution. The conductivity of the solution depends on the number of ions present and the mobility of the ions. Sodium chloride (NaCl) is a strong electrolyte and is fully ionized in solution. As a result of its complete ionization, the conductivity of the NaCl solution is proportional to the concentration of NaCl in the solution. Weak electrolytes, such as acetic acid, are not fully ionized in solution, and therefore have low conductivity, and when conducting a lot of ionization, the conductance to dilution is greatly increased. Molar conductivity (Λ) is defined as

Λ = k/cΛ = k / c

여기서,here,

c: 첨가된 전해질의 몰 농도c: molarity of the added electrolyte

k: 전도성k: conductivity

용액의 전도성은 전극 간의 전류를 측정하기 위한 Wheatstone Bridge 등의 적절한 전기 회로에 따라 2개의 전극을 함유하는 프로브에 의해 일반적으로 측정된다. 용액의 도전성은 존재하는 모든 강한 전해질 및 약한 전해질로부터 유도된 용액 중의 이온들의 전체수로부터 유도된다.The conductivity of the solution is generally measured by a probe containing two electrodes in accordance with a suitable electrical circuit such as Wheatstone Bridge for measuring the current between the electrodes. The conductivity of the solution is derived from the total number of ions in the solution derived from all strong and weak electrolytes present.

오염물 검출기로서 사용될 때, 도전성 프로브는 세척액 또는 헹굼액과 접촉하는 세척 챔버 내부에 직접적으로 또는 세척 챔버로부터 분리되어, 세척액, 헹굼액 또는 클리닝 감시액을 샘플링하기 위해 사용되는 액체 콘딧 내부에 놓일 수 있다. 또한, 1개 이상의 도전성 프로브가 동시에 이용될 수 있다. 후자의 경우에, 1개의 프로브가 신선한 세척액, 헹굼액 또는 클리닝 감시액과 연속적으로 또는 간헐적으로 또는 단일 접촉하게 놓일 수 있다. 이러한 프로브는 오염물이 없는 액체에 대한 조절 전도성 판독치를 제공하도록 작용할 수 있다. 제2 프로브는 오염된 의료 장치에 노출된 세척액, 헹굼액 또는 클리닝 감시액의 도전성을 측정할 수 있다. 2개의 프로브의 도전성 판독치를 비교할 수 있고, 장치는 2개의 도전성 판독치가 실질적으로 동일하거나 또는 서로 몇%(예, 3%) 이내일 때 충분히 클리닝된 것으로 고려할 수 있다.When used as a contaminant detector, the conductive probe can be placed directly in the cleaning chamber in contact with the cleaning liquid or rinsing liquid or separated from the cleaning chamber and placed inside a liquid conduit used to sample the cleaning liquid, rinsing liquid or cleaning supernatant. . In addition, more than one conductive probe may be used simultaneously. In the latter case, one probe may be placed continuously or intermittently or in single contact with fresh wash, rinse or cleaning supernatant. Such probes can act to provide a controlled conductivity reading for contaminant free liquids. The second probe can measure the conductivity of the wash solution, rinse solution or cleaning supervision solution exposed to the contaminated medical device. The conductive readings of the two probes can be compared and the device can be considered sufficiently cleaned when the two conductive readings are substantially the same or within a few percent (eg 3%) of each other.

3. 분광 광도 측정 방법3. Spectrophotometric Measurement Method

3.1 염화물 이온 시약3.1 Chloride Ion Reagent

2Cl(-) + Hg(SCN)2 → HgCl2 + 2SCN(-)2Cl (-) + Hg (SCN) 2 → HgCl 2 + 2SCN (-)

SCN(-) + Fe+3 → Fe(SCN)++ SCN (-) + Fe +3 → Fe (SCN) ++

(적갈색, 460 nm)(Reddish brown, 460 nm)

원리: 염화물 이온은 염화물 시약과 반응하여 460 nm에서 최대 흡광도를 갖는 Fe(SCN)++ 이온(적갈색)을 형성한다. 바람직하게는, 자동 열량계 또는 광도 측정 자동 적정기가 분석된 오염물로부터 착색된 종의 발생에 기초한 분광 광도 측정 기술에 의해 사용된다.Principle: Chloride ions react with chloride reagents to form Fe (SCN) ++ ions (reddish brown) with maximum absorbance at 460 nm. Preferably, an automated calorimeter or photometric autotitrator is used by spectrophotometric techniques based on the generation of colored species from the analyzed contaminants.

4. 이온 크로마토그래피4. Ion Chromatography

원리: 이온 교환 칼럼 또는 이온 교환기에 의해 침지된 시트 상에서 이들의 차별적인 이동에 의한 기질의 분리에 관한 것이다. 이온들(음이온 또는 양이온)은 이온의 각 유형의 특성인 이온 교환 반응에 기초하여 분리된다. 이온 크로마토그래피에 대한 공통 검출기는 전도도 측정, UV 및 전기 화학적 검출기이다. 이온 크로마토그래피는 농도가 0.02 mg/L 내지 80 mg/L의 검출 한계 범위인 경우에 물에 용해된 염화물 이온을 검출할 수 있다.Principle: relates to the separation of substrates by their differential migration on sheets immersed by an ion exchange column or ion exchanger. Ions (anions or cations) are separated based on ion exchange reactions that are characteristic of each type of ion. Common detectors for ion chromatography are conductivity measurements, UV and electrochemical detectors. Ion chromatography can detect chloride ions dissolved in water when the concentration is in the detection limit range of 0.02 mg / L to 80 mg / L.

바람직하게는, 오염물 검출을 위해 이온 크로마토그래피를 사용할 때 자동 이온 크로마토그래피가 사용된다.Preferably, automatic ion chromatography is used when using ion chromatography for contamination detection.

5. 모세관 전기 영동5. Capillary Electrophoresis

원리: 전기 영동은 전계에서 하전된 조의 이동이다. 모세관 전기 영동은 모세관을 이용한다. 전기 영동을 위해 모세관을 사용하는 주요 장점은 분리를 위해 높은 전위의 사용을 허용하는 증진된 열 해리이다. 고 전위 전계를 사용함으로써 분석 시간의 극적인 감소를 가져오는 극도로 효율적인 분리를 유도한다.Principle: Electrophoresis is the movement of charged jaws in an electric field. Capillary electrophoresis uses capillaries. The main advantage of using capillaries for electrophoresis is enhanced thermal dissociation which allows the use of high potentials for separation. The use of a high potential field leads to extremely efficient separation resulting in a dramatic reduction in analysis time.

6. 고성능 액체 크로마토그래피(HPLC)6. High Performance Liquid Chromatography (HPLC)

원리: 용액의 성분들의 분리에 이어 특수한 고체 임자들로 패킹된 칼럼을 통해 흐르는 액체 내의 용질의 상이한 이동에 관한 것이다. 분리물 중에 펩티드(역상 크로마토그래피에 의함), 단백질 및 효소(소수성이고, 크로마토그래피의 크기 배제 모드), 아미노산 및 무기 및 유기 금속 화합물이 존재할 수 있다. HPLC 시스템에 대해 선택될 수 있는 여러 가지 검출기가 있다. 이들은 UV-VIS 흡수, IR 흡수, 형광 분석, 굴절 지수, 전도도 측정, 전기 화학성 및 방사선 활성 검출기이다. 단순한 정체 위상 타입에 따라, 여러 가지 분리 칼럼이 선택될 수 있다. 공통 칼럼은 친화성, 겔-여과 및 이온-교환 칼럼이다.Principle: The separation of the components of the solution followed by the different migration of the solute in the liquid flowing through the column packed with special solid impellers. Peptides (by reverse phase chromatography), proteins and enzymes (hydrophobic, chromatographic exclusion mode), amino acids and inorganic and organometallic compounds may be present in the isolate. There are several detectors that can be selected for the HPLC system. These are UV-VIS absorption, IR absorption, fluorescence analysis, refractive index, conductivity measurement, electrochemical and radioactivity detectors. Depending on the simple stagnation phase type, various separation columns can be selected. Common columns are affinity, gel-filtration and ion-exchange columns.

(1) 친화성 배지:(1) Affinity Medium:

성공적인 친화성 분리는 생체 특이적 리간드가 크로마토그래피에 의한 베드 물질, 매트릭스에 공유 결합되는 것을 요한다.Successful affinity separation requires the biospecific ligand to be covalently bound to the bed material, matrix by chromatography.

(2) 겔 여과(2) gel filtration

분리는 크기의 차이 및(또는) 분석물 분자의 형상에 기초하고, 입자들이 패킹된 칼럼 내부의 공극 부피로 분석물이 접근하는 것을 지배한다.Separation is based on differences in size and / or shape of analyte molecules and governs the analyte's approach to the pore volume inside the column packed particles.

(3) 이온-교환(3) ion-exchange

이 방법은 패킹 물질의 변화된 군들과 용질의 상호 작용을 포함하고, 보다 큰 이온 강도 또는 pH의 변화의 수성 버퍼를 사용하는 용리(elution)가 후속한다.This method involves the interaction of solutes with changed groups of packing material, followed by elution using an aqueous buffer of greater ionic strength or change in pH.

7. 결론7. Conclusion

많은 상이한 기술들중 어느 것이라도 무기 오염물을 감시하기 위해 사용될 수 있다. 전해질 시험을 위한 1가지 편리한 생성물은 델라웨어주 Newark 소재 Daile International로부터 입수할 수 있는 "MultiPLY" 통합된 다중 센서이다.Any of many different techniques can be used to monitor inorganic contaminants. One convenient product for electrolyte testing is the "MultiPLY" integrated multiple sensor available from Daile International, Newark, Delaware.

B. 유기 오염물(예, 단백질)B. Organic Contaminants (eg Proteins)

1. 분광 광도 측정(가시광선에서 UV, 190-900nm의 파장)1. Spectrophotometric measurement (UV in visible light, wavelength of 190-900 nm)

1.1 OPA 방법1.1 OPA Method

단백질-NH2+o-프탈산 디알데히드+티올 → 1-알킬티오-2-알킬이소인돌Protein-NH 2 + o-phthalic acid dialdehyde + thiol → 1-alkylthio-2-alkylisoindole

(OPA) (형광, 340 nm)                  (OPA) (fluorescence, 340 nm)

원리: 단백질의 아미노기는 티올 성분(N,N-디메틸-2-메르캅토에틸암모늄-클로라이드)의 존재하에 OPA의 알데히드기와 반응하여 형광 화합물(1-알킬티오-2-알킬이소인돌)을 형성한다. 형광 화합물은 340nm에서 최대 흡수도를 갖는다.Principle: The amino group of a protein reacts with the aldehyde group of OPA in the presence of a thiol component (N, N-dimethyl-2-mercaptoethylammonium chloride) to form a fluorescent compound (1-alkylthio-2-alkylisoindole) . The fluorescent compound has a maximum absorbance at 340 nm.

1.2 알부민 시약 방법1.2 Albumin Reagent Method

알부민 + 브롬크레졸 퍼플 → 안정한 착물Albumin + Bromcresol Purple → Stable Complex

(C21H16Br2O5S9FW = 540.24) (610 nm)(C 21 H 16 Br 2 O 5 S 9 FW = 540.24) (610 nm)

원리: 브롬크레졸 퍼플은 안정한 착물을 형성하는 혈청 알부민과 정량적으로 결합되고, 610 nm에서 검출될 수 있다. 생산된 착물의 양은 용액 중의 알부민 농도에 선형으로 비례한다.Principle: Bromcresol Purple binds quantitatively with serum albumin to form a stable complex and can be detected at 610 nm. The amount of complex produced is linearly proportional to the albumin concentration in the solution.

1.3 로리 마이크로 방법1.3 Lori Micro Way

원리: 희석된 뷰렛 시약은 펩티드 결합과 반응하여 퍼플-블루 착물을 생성한다. 이러한 착물의 색채는 페놀 시약을 추가함으로써 더욱 강화될 수 있다. 550-750 nm에서 판독된 흡수도의 증가는 시료 중의 단백질 농도를 측정하기 위해 사용된다.Principle: The diluted burette reagent reacts with peptide bonds to produce a purple-blue complex. The color of such complexes can be further enhanced by adding phenolic reagents. The increase in absorbance read at 550-750 nm is used to determine the protein concentration in the sample.

1.4: 마이크로프로테인-PRTM 방법1.4: Microprotein-PR TM Method

원리: (마이크로프로테인-PR 시약 내의) 피로갈롤 착물이 단백질의 아미노기와 결합할 때, 시약의 흡수도가 이동한다. 600 nm에서 흡수도의 증가는 시료 중의 단백질의 농도에 직접적으로 비례한다.Principle: When the pyrogallol complex (in the microprotein-PR reagent) binds to the amino group of the protein, the absorbency of the reagent shifts. The increase in absorbance at 600 nm is directly proportional to the concentration of protein in the sample.

2. 액체 크로마토그래피 또는 고성능 액체 크로마토그래피(HPLC)2. Liquid Chromatography or High Performance Liquid Chromatography (HPLC)

원리: 무기 종의 측정에서와 동일함Principle: same as in the measurement of inorganic species

3. 주기적인 전압 측정 분석3. Periodic Voltage Measurement Analysis

원리: 물질들(금속, 폴리머 등)이 혈액 단백질과 접촉하게 될 때, 단백질(대부분 피브리노겐) 층이 몇 초 내에 경계면에 형성된다. 단백질 흡착의 결과로서, 단백질이 없는 용액에 단백질을 첨가함으로써 주기적인 전압 측정에서 금속 전극의 현재 밀도-전위(I 대 V)의 작용을 변화시킬 수 있다. 예를 들면, 고순도 구리 합금(2% 아연)의 I-V 작용은 지지하는 인산염-염수 전해질에 단백질(알부민, 피브리노겐 등)을 첨가함으로써 변경된다.Principle: When materials (metals, polymers, etc.) come into contact with blood proteins, a protein (mostly fibrinogen) layer forms at the interface within seconds. As a result of protein adsorption, the addition of protein to a protein-free solution can alter the action of the current density-potential (I vs V) of the metal electrode in periodic voltage measurements. For example, the I-V action of high purity copper alloys (2% zinc) is altered by adding proteins (albumin, fibrinogen, etc.) to the supporting phosphate-saline electrolyte.

4. 방사선 활성4. radiation activity

원리: 단백질은 테크니슘 99 또는 요오드 125 등의 방사선 활성 동위 원소로 표지되고, 용액의 방사선 활성은 존재하는 단백질의 양을 결정하기 위해 측정된다. 예를 들면, 단백질 피브리노겐은 2배 몰 과량의 일염화 요오드를 사용하여 125I로 표지하였다. 표지된 피브리노겐의 생물학적 특성은 이러한 표지 방법에 의해 영향을 받지 않는다. 용액 중의 피브리노겐의 농도는 표지된 피브리노겐을 함유하는 용액의 방사선 활성(또는 감마 방사선의 세기)에 직접적으로 비례한다.Principle: Proteins are labeled with radioactive isotopes, such as Technicium 99 or iodine 125, and the radioactivity of the solution is measured to determine the amount of protein present. For example, protein fibrinogen was labeled with 125 I using a 2-fold molar excess of iodine monochloride. The biological properties of the labeled fibrinogen are not affected by this labeling method. The concentration of fibrinogen in the solution is directly proportional to the radioactivity (or intensity of gamma radiation) of the solution containing the labeled fibrinogen.

5. 석영 결정 미량 천칭(QCM) 방법5. Quartz Crystal Microbalance (QCM) Method

원리: 석영 결정 미량 천칭은 진동하는 석영 웨이퍼에 기초한 질량에 민감한 검출기이다. QCM의 반응은 고체-용액 경계면에서 질량 변화에 극도로 민감하다. 금으로 코팅된 석영 결정이 혈액 단백질과 접촉하게 될 때, 단백질층이 몇초 내에 경계면에 형성된다. 이와 같이 적은 질량 변화는 QCM에 의해 용이하게 검출될 수 있다. 석영 결정에 대한 질량의 증가(또는 진동 빈도의 감소)는 용액 중의 단백질 농도에 직접적으로 비례한다.Principle: Quartz crystal microbalance is a mass sensitive detector based on a vibrating quartz wafer. The reaction of QCM is extremely sensitive to mass changes at the solid-solution interface. When gold-coated quartz crystals come into contact with blood proteins, a protein layer forms at the interface within a few seconds. Such small mass changes can be easily detected by QCM. The increase in mass (or decrease in the frequency of vibration) for the quartz crystal is directly proportional to the protein concentration in the solution.

6. FTIR 분광 분석(전송 및 ATR)6. FTIR spectroscopy (transmission and ATR)

푸리에 변환 적외선(FTIR) 분광 분석은 혼합물 중의 단백질을 용액에서 뿐만 아니라 표면 상에서 모두 식별하고 정량화하기 위해 사용될 수 있다. 수성 단백질 용액의 전송 FTIR 연구는 존재하는 단백질들의 동일성 및 그의 양을 나타낸다. 단백질-침착된 표면의 감쇠된 전체 반사율(ATR) FTIR 연구는 표면 상의 단백질들의 동일성 및 그의 양을 결정할 수 있다.Fourier Transform Infrared (FTIR) spectroscopy can be used to identify and quantify the proteins in the mixture both in solution as well as on the surface. Transfer of Aqueous Protein Solution FTIR studies indicate the identity and amount of proteins present. Attenuated Total Reflectance (ATR) FTIR studies of protein-deposited surfaces can determine the identity and amount of proteins on the surface.

7. 전기 영동7. Electrophoresis

원리: 전기 영동은 전계 내에서 변화하는 종의 이동이다. 일반적으로, 단백질 분자는 양으로 하전될 산 용액 중의 수소 이온을 픽업한다. 전기 영동 배지의 pH를 변화시킴으로써, 단백질의 속도도 변경될 수 있다. 제공된 단백질에 대해, pI(단백질이 전기적으로 중성인 경우의 pH)가 pH보다 더 작은 경우, 그의 변화는 네거티브일 수 있고, 이동은 양의 전극 쪽으로 일어날 것이다. pI>pH인 단백질 성분들은 양으로 하전될 것이고 이동은 반대 방향으로 일어난다.Principle: Electrophoresis is the movement of species in the electric field. Generally, protein molecules pick up hydrogen ions in an acid solution to be positively charged. By varying the pH of the electrophoretic medium, the rate of protein can also be altered. For a given protein, if pI (the pH when the protein is electrically neutral) is less than pH, the change may be negative and migration will occur towards the positive electrode. Protein components with pI> pH will be positively charged and migration occurs in the opposite direction.

8. 모세관 전기 영동8. Capillary Electrophoresis

원리: 무기 종의 측정에서와 동일함Principle: same as in the measurement of inorganic species

무기 오염물 및 유기 오염물을 검출하기 위한 초가의 기술은 전위 측정, 특히 전위 측정 자동 적정기 및 용액 중의 입자들 또는 용액의 투명성을 검출하기 위한 기술들을 포함한다. 용액의 투명성은 흐름 셀을 갖는 탁도 센서로 구성된 탁도 측정계에 의해 측정될 수 있다. 탁도 측정계는 전형적으로 광전지에 의해 작동하고, 클리닝 조절 시스템 등의 다른 시스템과 용이하게 통합되는 전기 신호를 제공한다. 대안으로, 용액의 투명성은 액체의 칼라, 반사율, 흡수도, 투과율 등의 측정을 통해 결정될 수 있다. 레이저로부터 및 시료로부터 검출기로의 전송을 위해 광섬유를 이용하는 레이저 시스템은 용액의 투명성 또는 많은 기타 특성을 평가하기 위해 역시 사용될 수 있다.Extra-cost techniques for detecting inorganic and organic contaminants include dislocation measurements, in particular dislocation measurement autotitrators and techniques for detecting the transparency of particles or solutions in solution. The transparency of the solution can be measured by a turbidity meter consisting of a turbidity sensor with a flow cell. Turbidity meters typically operate by photovoltaic cells and provide electrical signals that are easily integrated with other systems, such as cleaning control systems. Alternatively, the transparency of the solution can be determined through measurements of the color, reflectance, absorbance, transmittance, etc. of the liquid. Laser systems using optical fibers for transmission from the laser and from the sample to the detector may also be used to evaluate the transparency or many other properties of the solution.

바람직하게는, 본 발명의 장치는 검출 기술이 클리닝 공정에 이용되는 액체 중의 오염물의 존재를 검출하기에 적절한 경우에 오염물을 검출하는 검출 기술을 사용한다. 바람직하게는, 액체는 클리닝 공정 동안 클리닝액 및 헹굼액으로 구성된 군으로부터 선택된다.Preferably, the apparatus of the present invention employs a detection technique that detects contaminants when the detection technique is suitable for detecting the presence of contaminants in the liquid used in the cleaning process. Preferably, the liquid is selected from the group consisting of a cleaning liquid and a rinsing liquid during the cleaning process.

본 발명의 장치는 검출 기술이 의료 장치의 표면 상의 오염물의 존재를 검출하기에 적절한 경우의 검출 기술을 사용할 수도 있다. 바람직하게는, 의료 장치의 표면 상의 오염물의 존재를 검출하기에 적절한 검출 기술은 장치의 표면과 접촉하지 않고 작동한다. 예를 들면, 반사율 분광 광도 분석과 조합된 섬유 광학 기술을 이용함으로써, 누구나 표면 클리닝을 직접적으로 감시할 수 있다. 대안으로, 의료 장치의 표면 상의 오염물의 존재를 검출하기에 적절한 검출 기술은 직접적인 표면 접촉을 통해 작동할 수 있다. 즉, 검출 기술로부터 프로브는 의료 장치의 표면과 물리적으로 접촉함으로써, 의료 장치의 투명성의 상태를 결정하고, 정량화하기 위해 표면 상에 존재하는 오염물의 양을 감지할 수 있다. 대부분의 경우, 프로브와 장치의 물리적 접촉은 일시적이다. 이러한 특정 용도에 적합한 기술은 감쇄된 전체 반사율(ATR) 분광 분석이다. ATR 방법은 감시될 시료의 표면에 감지 방사선을 직접적으로 전송하는 결정을 사용한다. 결정은 시료의 표면과 물리적으로 접촉한다. ATR 분광 분석은 자외선(UV) 흡수 분광 광도 분석 뿐만 아니라 적외선 분광 분석 기술과 함께 이용될 수 있다. ATR-UV 기술은 샘플링 프로브로서 사파이어 결정을 사용한다. 푸리에 변환 적외선 분광 분석은 적절한 ATR 결정에 마찬가지로 사용될 수 있다.The apparatus of the present invention may use a detection technique where the detection technique is suitable for detecting the presence of contaminants on the surface of the medical device. Preferably, a detection technique suitable for detecting the presence of contaminants on the surface of the medical device operates without contacting the surface of the device. For example, by using fiber optics technology combined with reflectance spectrophotometry, anyone can directly monitor surface cleaning. Alternatively, a detection technique suitable for detecting the presence of contaminants on the surface of the medical device may operate via direct surface contact. That is, from a detection technique, the probe may be in physical contact with the surface of the medical device, thereby determining the amount of contaminants present on the surface to determine and quantify the state of transparency of the medical device. In most cases, the physical contact between the probe and the device is temporary. A suitable technique for this particular application is attenuated total reflectance (ATR) spectroscopy. The ATR method uses a crystal that transmits sensing radiation directly to the surface of the sample to be monitored. The crystal is in physical contact with the surface of the sample. ATR spectroscopy can be used with infrared (UV) absorption spectrophotometry as well as infrared spectroscopic techniques. ATR-UV technology uses sapphire crystals as sampling probes. Fourier transform infrared spectroscopy can likewise be used to determine appropriate ATR.

대안으로, 간접적인 검출 기술이 역시 사용될 수 있다. 이러한 시도는 다른 시도들에 대해 이미 언급된 바와 동일한 물리화학적 검출 기술 및 방법을 사용한다. 그러나, 의료 장치 자체는 클리닝 정도에 대해 모니터하지 못한다. 오히려, 오염물이 침착된 표준물이 장치에 삽입되고, 의료 장치 자체 대신에 감시된다.Alternatively, indirect detection techniques can also be used. This approach uses the same physicochemical detection techniques and methods as already mentioned for other attempts. However, the medical device itself does not monitor for the degree of cleaning. Rather, contaminant deposited standards are inserted into the device and monitored instead of the medical device itself.

오염물 검출기는 액체 또는 의료 장치의 표면 또는 오염물로 뒤덮인 표준물의 연속적인 샘플링을 사용할 수 있거나, 또는 상기 액체 또는 장치 또는 표준물의 주기적 또는 단일 샘플링을 사용할 수 있다. 주기적인 샘플링은 균일하거나 또는 균일하지 않은(즉, 랜덤) 간격으로 수행될 수 있다. 간격의 횟수는 단일 샘플링에서와 마찬가지로 적어야 한다. 단일 샘플링 간격은 장치가 이후에 멸균될 수 있도록 충분한 클리닝이 일어났는지를 고도로 보장하도록 충분한 시간에 걸쳐 클리닝 공정이 이루어지는 상황 하에 존속할 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 2개 이상의 샘플링 간격은 수행된 클리닝의 양을 평가하기 위해 오염물 검출기에 의해 이용된다. 보다 바람직하게는, 3개 이상의 샘플링 간격이 이용된다. 더욱 바람직하게는, 4개 이상의 샘플링 간격이 검출 기술에 의해 이용된다.The contaminant detector can use a continuous sampling of the surface of the liquid or medical device or the contaminant covered standard, or can use a periodic or single sampling of the liquid or device or standard. Periodic sampling may be performed at uniform or non-uniform (ie random) intervals. The number of intervals should be as small as in a single sampling. A single sampling interval can survive under circumstances where the cleaning process takes place over a sufficient time to highly ensure that enough cleaning has occurred to allow the device to be sterilized later. However, preferably two or more sampling intervals are used by the contaminant detector to assess the amount of cleaning performed. More preferably, three or more sampling intervals are used. More preferably, four or more sampling intervals are used by the detection technique.

이온-선택성 전극 방법은 상대적인 콤팩트 프로브, 프로브의 내구성, 사용의 용이성, 실시간 측정 능력 및 오퍼레이션의 전기적 근거뿐만 아니라 나트륨 및 염화물 등의 관련된 전해질을 측정하기 위한 그의 민감성 및 특이성으로 인해 오염물 검출기에 사용하는 데 바람직하다. 전극 전위 측정은 연속적으로 또는 간헐적으로 이루어질 수 있고, 클리닝 또는 클리닝 및 멸균 장치를 위한 조절 시스템과 용이하게 통합될 수 있다. 클리닝 과정을 조절하기 위한 조절 시스템은 본 발명의 일부일 수 있다.The ion-selective electrode method is used in contaminant detectors because of its relative sensitivity and specificity for measuring related compact probes, durability of the probe, ease of use, real-time measurement capability and electrical basis of the operation as well as related electrolytes such as sodium and chloride. Is preferred. Electrode potential measurements can be made continuously or intermittently and can be easily integrated with a conditioning system for cleaning or cleaning and sterilization devices. An adjustment system for adjusting the cleaning process may be part of the present invention.

도전성 방법은 이온-선택성 전극 방법에 대해 주어진 것과 동일한 이유로 오염물 검출기에 사용하는 데 바람직하다.Conductive methods are preferred for use in contaminant detectors for the same reasons as given for the ion-selective electrode method.

본 발명의 다른 특징은 오염물 검출기를 포함하는 본 발명의 장치에 의해 의료 장치로부터 제거된 오염물을 측정하는 단계를 포함하는, 의료 장치의 클리닝 과정의 감시 방법을 제공하는 것이다.Another feature of the present invention is to provide a method of monitoring a cleaning process of a medical device, the method comprising measuring a contaminant removed from the medical device by the device of the present invention comprising a contamination detector.

바람직하게는, 본 발명의 방법은 장치가 멸균될 수 있도록 충분히 클리닝될 때를 측정하는 추가 단계를 포함한다.Preferably, the method includes the additional step of measuring when the device is sufficiently cleaned to be sterilized.

바람직하게는, 본 발명의 장치는 멸균 조직으로 도입되는 중요한 품목, 파열된 피부 또는 점막과 접촉하는 약간 중요한 품목 및 손상 없는 피부와 접촉하는 중요치 않은 품목으로 구성된 그룹으로부터 선택된다. 보다 바람직하게는, 멸균 조직으로 도입되는 중요한 품목은 수술 기구이다. 보다 상세하게는, 파열된 피부 또는 점막과 접촉하는 약간 중요한 품목은 인클로저, 관절 촬영 인클로저, 치과용 기구 및 마취 기구를 포함한다.Preferably, the device of the present invention is selected from the group consisting of an important item introduced into sterile tissue, a slightly important item in contact with ruptured skin or mucous membranes, and a non-important item in contact with intact skin. More preferably, an important item introduced into sterile tissue is a surgical instrument. More specifically, some important items in contact with ruptured skin or mucous membranes include enclosures, arthroscopy enclosures, dental instruments, and anesthetic instruments.

바람직하게는, 본 발명의 방법은 오염물 검출기를 포함하는 장치를 사용하고, 여기서 오염물 검출기는 무기 오염물 및(또는) 유기 오염물을 검출할 수 있는 검출 기술을 이용한다. 무기 오염물은 무기 전해질, 알칼리 및 알칼리 토염, 무기 금속 함유 화합물 및 의료 장치와 접촉하게 될 신체 내에 존재하는 기타 무기 화합물로 구성된 군으로부터 선택된다. 유기 오염물은 단백질, 당단백질, 지질단백질, 점액, 아미노산, 다당류, 당류, 지질, 당지질 및 의료 장치, 미생물 및 바이러스와 접촉하게 될 신체 내에 존재하는 기타 유기 화합물로 구성된 군으로부터 선택된다.Preferably, the method of the present invention uses an apparatus comprising a contaminant detector, wherein the contaminant detector utilizes a detection technique capable of detecting inorganic contaminants and / or organic contaminants. The inorganic contaminants are selected from the group consisting of inorganic electrolytes, alkali and alkaline earth salts, inorganic metal containing compounds and other inorganic compounds present in the body that will be in contact with the medical device. Organic contaminants are selected from the group consisting of proteins, glycoproteins, lipoproteins, mucus, amino acids, polysaccharides, sugars, lipids, glycolipids, and other organic compounds present in the body that will come into contact with microorganisms and viruses.

본 발명의 방법에 이용되는 검출 기술은 이온-선택성 전극, 도전성, 분광 광도 측정, 이온 크로마토그래피, 모세관 전기영동, 고성능 액체 크로마토그래피, 액체 크로마토그래피, 방사선활성, 중력측정, 적외선 분광분석, 분압측정 및 탁도측정으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. Detection techniques used in the methods of the present invention include ion-selective electrodes, conductivity, spectrophotometry, ion chromatography, capillary electrophoresis, high performance liquid chromatography, liquid chromatography, radioactivity, gravity, infrared spectroscopy, partial pressure measurements And turbidity measurement.

본 발명의 방법에서 감시된 클리닝 과정은 1개 이상의 클리닝 단계를 포함하는 독립적인 클리닝 공정, 1개 이상의 클리닝 단계에 이어 멸균 단계를 포함하는 클리닝 공정 및 클리닝 및 멸균이 동시에 발생하는 클리닝 공정으로 구성된 군으로부터 선택된다.The cleaning process monitored in the method of the invention comprises an independent cleaning process comprising at least one cleaning step, a cleaning process comprising at least one cleaning step followed by a sterilization step and a cleaning process in which both cleaning and sterilization occur simultaneously Is selected from.

본 발명의 방법에 사용된 오염물 검출기를 포함하는 장치는 이 장치 상에서 또는 클리닝 공정 또는 클리닝 감시 공정에 사용되는 액체 내에서 또는 장치에 대한 청결도의 지시자인 오염물로 뒤덮인 표준물 상에서 오염물을 검출함으로써 장치로부터 제거된 오염물을 측정한다. 바람직하게는, 클리닝 공정에 사용된 액체는 클리닝액이다.A device comprising a contaminant detector used in the method of the present invention may be used by detecting contaminants on the device or by detecting contaminants in a liquid used in a cleaning or cleaning monitoring process or on a contaminated standard that is an indicator of cleanliness to the device. Measure the contaminants removed. Preferably, the liquid used in the cleaning process is a cleaning liquid.

액체가 클리닝액이고, 검출이 액체 중의 오염물에 대해 이루어지는 본 발명의 방법은 The method of the present invention wherein the liquid is a cleaning liquid and the detection is made on contaminants in the liquid

(a) 클리닝 공정에 앞서 액체 중에서 오염물을 검출하는 단계; 및(a) detecting contaminants in the liquid prior to the cleaning process; And

(b) 클리닝 공정 동안 및 클리닝 공정 이후에 액체 중에서 오염물을 검출하는 단계를 포함한다.(b) detecting contaminants in the liquid during and after the cleaning process.

상기 방법은 단계 (b)의 오염물이 단계 (a)의 오염물과 실질적으로 동일한 경우를 결정하는 단계를 추가로 포함하고, 여기서, 단계 (b)에서 검출된 오염물이 단계 (a)에서 검출된 오염물과 실질적으로 동일한 경우, 장치는 멸균될 수 있도록 충분히 클리닝된 것으로 고려된다.The method further comprises determining if the contaminant of step (b) is substantially the same as the contaminant of step (a), wherein the contaminant detected in step (b) is the contaminant detected in step (a) If substantially the same as, the device is considered to be sufficiently cleaned to be sterilized.

일 단계에서 검출된 오염물의 양은 두 값이 허용되는 범위 내인 경우 다른 단계에서 검출되는 오염물의 양과 실질적으로 동일한 것으로 생각될 수 있다. 많은 경우에, 허용될 수 있는 범위는 10% 차이 이하일 수 있고, 보다 바람직하게는 3-5% 이내일 수 있다. The amount of contaminant detected in one step may be considered to be substantially equal to the amount of contaminant detected in another step if both values are within an acceptable range. In many cases, the acceptable range can be up to 10% difference and more preferably within 3-5%.

상기 방법에 있어서 단계 (b)에서 측정된 오염물이 단계 (a)에서 측정된 오염물과 실질적으로 동일하지 않은 경우, 클리닝 단계 또는 헹굼 단계 또는 클리닝 과정의 모든 단계들이 단계 (b)에서 측정된 오염물이 단계 (a)에서 측정된 오염물과 실질적으로 동일할 때까지 반복된다.In the above method, if the contaminant measured in step (b) is not substantially the same as the contaminant measured in step (a), the cleaning step or the rinsing step or all the steps of the cleaning process may be Repeat until substantially the same as the contaminant measured in step (a).

이온-선택성 전극에 기초한 오염물 검출기를 포함하는 의료 장치 또는 기구의 클리닝 과정의 감시 장치의 일 실시예는 도 9에 예시한다. 도 9는 루멘을 갖는 의료 장치(22) 및 수술 기구(24) 등의 의료 장치 및 기구를 세척하기 위한 세척 챔버(20)를 함유하는 장치(10)를 예시한다. 세척 챔버(20)는 멸균을 위해서 이용될 수도 있다. 세척 챔버(20)는 밸브(41)가 있는 액체 출구(40) 및 밸브(46)가 있는 액체 입구(45)를 갖는다. 액체 출구(40) 및 액체 입구(45)는 세척 챔버(20) 외부의 세척액 또는 헹굼액을 수송하고, 다시 챔버(20)로 되돌리기 위해 이용된다. 액체 출구(40)는 밸브(41)를 통해 액체 펌프(60)에 다시 접속되는 액체 콘딧(50)에 접속된다. 액체 콘딧(50)은 세척액 또는 헹굼액을 세척 챔버(20)로부터 펌프(60)로 수송한다. 펌프(60)는 세척액 또는 헹굼액을 세척 챔버(20)로부터 액체 출구(40), 밸브(41) 및 액체 콘딧(50)을 통해 액체 콘딧(55)으로 펌핑한다. 액체 콘딧(55)은 액체를 밸브(46) 및 액체 입구(45)를 통해 세척 챔버(20)로 복귀한다. 액체 콘딧(55)은 밸브(57)를 함유하는 액체 콘딧(58) 및 액체 입구(56)에 역시 접속된다. 액체 입구(56)는 세척 또는 헹굼 공정에 이용되는 임의의 유동체의 입구에 대해 사용된다. 예를 들면, 액체 입구(56)는 전위 판독치가 콘딧(55) 내부에 놓인 전극 프로브(70)에 의해 취해질 수 있도록 신선한 세척액, 헹굼액 또는 클리닝 감시액의 입구가 콘딧(55)으로 허용되게 한다. 세척 챔버(20)는 밸브(47)에 접속된 액체 출구(44)를 역시 함유한다. 밸브(47)는 드레인 출구(59)에 다시 접속되는 콘딧(54)에 접속된다. 액체 출구(44) 및 상기 접속된 부분은 세척 또는 헹굼 주기 후에 챔버(20)를 배수시키기 위해 이용된다.One embodiment of a monitoring device for the cleaning process of a medical device or instrument comprising a contaminant detector based on an ion-selective electrode is illustrated in FIG. 9. 9 illustrates a device 10 containing a cleaning chamber 20 for cleaning medical devices and instruments, such as medical device 22 having lumens and surgical instruments 24. The cleaning chamber 20 may be used for sterilization. The cleaning chamber 20 has a liquid outlet 40 with a valve 41 and a liquid inlet 45 with a valve 46. The liquid outlet 40 and the liquid inlet 45 are used to transport the wash or rinse liquid outside the wash chamber 20 and back to the chamber 20. The liquid outlet 40 is connected to a liquid conduit 50 which is again connected to the liquid pump 60 via the valve 41. The liquid conduit 50 transports the washing liquid or the rinsing liquid from the washing chamber 20 to the pump 60. The pump 60 pumps the washing liquid or the rinsing liquid from the washing chamber 20 to the liquid conduit 55 through the liquid outlet 40, the valve 41 and the liquid conduit 50. The liquid conduit 55 returns the liquid to the wash chamber 20 through the valve 46 and the liquid inlet 45. The liquid conduit 55 is also connected to the liquid conduit 58 containing the valve 57 and the liquid inlet 56. Liquid inlet 56 is used for the inlet of any fluid used in the washing or rinsing process. For example, the liquid inlet 56 allows the inlet of fresh wash, rinse or cleaning supernatant to the conduit 55 so that the potential reading can be taken by the electrode probe 70 placed inside the conduit 55. . The cleaning chamber 20 also contains a liquid outlet 44 connected to the valve 47. The valve 47 is connected to a conduit 54 which is connected again to the drain outlet 59. The liquid outlet 44 and the connected portion are used to drain the chamber 20 after a wash or rinse cycle.

전극 프로브(70)는 세척액 또는 헹굼액 내에서 오염물 검출을 위해 이용된다. 전극 프로브(70)는 제1 전극(72) 및 제2 전극(74)을 함유한다. 콘딧(55)을 통해 흐르는 액체는 제1 전극(72) 및 제2 전극(74)에 의해 통과한다. 액체 중의 이온들은 전극 검출기를 위해 전기 케이블(76) 및 전기 케이블(78)을 통해 전기 회로(80)로 전송되는 전류를 생산한다. 전기 회로(80)는 전기 접속(90)을 통해 세척 조절 시스템(30)에 접속된다. 세척 조절 시스템(30)은 세척 챔버(20)에 직접적으로 접속되고, 세척 공정의 모든 양상을 조절한다.The electrode probe 70 is used for contamination detection in a washing liquid or a rinsing liquid. The electrode probe 70 contains a first electrode 72 and a second electrode 74. The liquid flowing through the conduit 55 passes by the first electrode 72 and the second electrode 74. Ions in the liquid produce a current that is transmitted to electrical circuit 80 through electrical cable 76 and electrical cable 78 for the electrode detector. The electrical circuit 80 is connected to the wash control system 30 via an electrical connection 90. The wash control system 30 is directly connected to the wash chamber 20 and controls all aspects of the wash process.

도 9에 예시한 본 발명의 장치를 이용하고, 의료 장치의 클리닝 공정을 감시하는 본 발명의 방법은 다음과 같이 작동한다: 모든 밸브는 초기에 폐쇄된 위치에 있다. 밸브(57)가 개방되면, 신선한 클리닝 세척수 또는 헹굼수가 세척수 또는 헹굼수 소스(도시하지 않음)로부터 입구(56)로 흐르게 된다. 전극 전위 판독치는 임의의 오염물을 함유하지 않는 클리닝 세척액 또는 헹굼액의 전극 프로브(70)에 의해 초기에 얻어진다. 본 발명의 방법의 본 실시예에서, 전위 판독치는 클리닝 세척액으로부터 얻어진다. 이는 시간 0 전위 판독치를 나타낸다. 이후, 밸브(46)가 개방되어 세척수를 챔버(20)로 도입시키고, 이를 충전시켜 세척 주기에 대해 제조한다. 대안으로, 밸브(46 및 57)는 동시에 개방될 수 있음으로써, 시간 0 판독치는 챔버(20)를 충전시키는 동안 취해질 수 있다. 시간 0 판독치는 목적하는 밸브(46 및 57)가 폐쇄되고, 세척 주기가 개시되는 경우에, 세척 주기 동안 취해질 수도 있다. 세척 주기는 존재하는 의료 장치 및 기구의 유형에 의해 결정된 시간격에 걸쳐 운행된다. 일반적으로, 이러한 시간격은 약 1시간 미만이다. 바람직하게는, 이러한 시간격은 약 30분 미만이다. 더욱 바람직하게는, 이러한 시간은 약 15분 미만이다. 세척 주기의 종료 시에, 밸브(47)가 개방되고, 더러운 세척수가 출구(59)를 통해 챔버 외부로 흐르게 된다. 밸브(47)는 챔버가 비워진 후에 폐쇄된다. 밸브(45 및 57)가 일단 다시 개방되면, 신선한 헹굼수가 챔버(20)로 도입된다. 챔버(20)가 충전된 후, 밸브(45 및 47)는 일단 다시 폐쇄된다. 이어서, 헹굼 주기가 수행된다. 이러한 주기는 일반적으로 세척 주기의 분율이거나 또는 그와 동일하다. 1개 이상의 전위 판독치가 헹굼 주기 동안 또는 그의 종료시에 헹굼액으로부터 취해진다. 이는 밸브(41 및 46)를 동시에 개방시키고, 전극 프로브(70)와 접촉하는 헹굼액이 챔버(20) 내부의 헹굼액과 동일해질 때까지 콘딧(50 및 55)으로 헹굼액을 펌핑하기 위해 펌프(60)를 턴온시킴으로써 수행된다. 세척 주기에 이은 헹굼액의 전위가 시간 0 전위 판독치와 실질적으로 동일한 경우, 적절한 클리닝이 달성되었다. 그렇지 않은 경우, 헹굼 주기나 세척 주기는 헹굼 용액의 전위 판독치가 목적하는 값을 얻을 때까지 반복된다. 이러한 단계에서, 챔버(20) 내부의 의료 장치(22) 및 기구(24)는 2 단계 순차 클리닝 및 멸균 방법의 제2 단계에서 멸균될 수 있다.Using the device of the invention illustrated in FIG. 9, the method of the invention for monitoring the cleaning process of a medical device operates as follows: All valves are initially in the closed position. When the valve 57 is open, fresh cleaning wash water or rinse water flows from the wash water or rinse water source (not shown) to the inlet 56. Electrode potential readings are initially obtained by electrode probe 70 of a cleaning wash or rinse solution that does not contain any contaminants. In this embodiment of the method of the invention, the potential reading is obtained from a cleaning wash liquid. This represents a time zero potential reading. The valve 46 is then opened to introduce wash water into the chamber 20 and fill it to prepare for the wash cycle. Alternatively, valves 46 and 57 can be open at the same time, so that a time zero reading can be taken while filling chamber 20. The time zero reading may be taken during the wash cycle if the desired valves 46 and 57 are closed and a wash cycle is initiated. The cleaning cycle runs over a time interval determined by the type of medical device and instrument present. Typically, this time interval is less than about 1 hour. Preferably, this time interval is less than about 30 minutes. More preferably, this time is less than about 15 minutes. At the end of the wash cycle, the valve 47 is opened and dirty wash water flows out of the chamber through the outlet 59. The valve 47 is closed after the chamber is empty. Once the valves 45 and 57 are open again, fresh rinse water is introduced into the chamber 20. After the chamber 20 is filled, the valves 45 and 47 are once again closed. Subsequently, a rinse cycle is performed. This cycle is generally the fraction of or equal to the wash cycle. One or more potential readings are taken from the rinse solution during or at the end of the rinse cycle. This opens the valves 41 and 46 simultaneously and pumps to pump the rinsing liquid into the conduits 50 and 55 until the rinsing liquid in contact with the electrode probe 70 is equal to the rinsing liquid inside the chamber 20. By turning on 60. If the potential of the rinse liquid following the wash cycle is substantially equal to the time zero potential reading, appropriate cleaning was achieved. Otherwise, the rinse cycle or wash cycle is repeated until the potential reading of the rinse solution achieves the desired value. In this step, the medical device 22 and the instrument 24 inside the chamber 20 may be sterilized in the second step of the two step sequential cleaning and sterilization method.

이온-선택성 전극에 기초한 오염물 검출기를 포함하는 의료 장치 또는 기구의 클리닝 과정을 감시하는 장치의 다른 실시예가 도 10에 예시되어 있다. 도 10은 루멘을 갖는 의료 장치(22) 및 수술 기구(24) 등의 의료 장치 및 기구를 세척하기 위한 세척 챔버(20)를 함유하는 장치(11)를 예시한다. 세척 챔버(20)는 클리닝 및 멸균 모두를 위해서 이용될 수도 있다. 클리닝 및 멸균은 동시에 또는 순차로 일어날 수 있다. 바람직하게는, 클리닝 단계가 챔버(20) 내부에서 멸균 단계 이전에 수행된다. 세척 챔버는 수원(도시하지 않음)에 접속되고, 밸브(52) 및 콘딧(51)을 통해 밸브(43)에 접속된 물 입구(53)를 갖는다. 밸브(43)는 세척 챔버(20) 내부에 직접적으로 유도되는 입구(42)에 직접적으로 접속된다. 세척 챔버(20)는 물 출구(44 및 48)를 역시 갖는다. 물 출구(44)는 밸브(47)에 접속되고, 이후에 물의 드레인 출구(59)에 유도되는 콘딧(54)에 접속된다. 물 드레인 출구(59)는 주로 더러운 물을 세척 챔버(20)에서 퍼지시키기 위해 사용되는 더러운 물의 출구이다. 물 출구(48)는 밸브(49)에 접속되고, 이후에 밸브(62)에 유도되는 콘딧(61)에 접속된다. 밸브(62)는 헹굼수 출구(63)에 유도된다. 물 입구 라인 내의 콘딧(51)은 제1 전극(65) 및 제2 전극(66)을 갖는 제1 전극 프로브(64)를 함유한다. 제1 전극(65)은 전기 케이블(67)에 접속되고, 제2 전극(66)은 전기 케이블(68)에 접속된다. 전기 케이블(67 및 68)은 전극 프로브(64)로부터 이온 선택성 전극 전기 회로 뿐만 아니라 세척 또는 세척 및 멸균 제어 회로를 포함하는 전기 회로(31)에 유도된다. 마찬가지로, 제2 전극 프로브(71)는 밸브(49 및 62) 간의 헹굼수 출구 콘딧(61) 내에 놓인다. 전극 프로브(71)는 제1 전극(73) 및 제2 전극(75)을 갖는다. 전극(73 및 75)은 각각 전기 케이블(77 및 79)에 접속된다. 전기 케이블(77 및 79)은 전기 회로(31)에 직접적으로 접속된다.Another embodiment of a device for monitoring the cleaning process of a medical device or instrument including a contaminant detector based on an ion-selective electrode is illustrated in FIG. 10. FIG. 10 illustrates a device 11 containing a cleaning chamber 20 for cleaning medical devices and instruments, such as medical device 22 having a lumen and surgical instrument 24. The cleaning chamber 20 may be used for both cleaning and sterilization. Cleaning and sterilization can occur simultaneously or sequentially. Preferably, the cleaning step is performed before the sterilization step inside the chamber 20. The cleaning chamber is connected to a water source (not shown) and has a water inlet 53 connected to the valve 43 through the valve 52 and the conduit 51. The valve 43 is directly connected to an inlet 42 which is guided directly inside the cleaning chamber 20. The cleaning chamber 20 also has water outlets 44 and 48. The water outlet 44 is connected to the valve 47 and then to the conduit 54 which is led to the drain outlet 59 of the water. The water drain outlet 59 is mainly an outlet of dirty water used to purge dirty water from the washing chamber 20. The water outlet 48 is connected to the valve 49 and then to the conduit 61 which is guided to the valve 62. The valve 62 is led to the rinse water outlet 63. Conduit 51 in the water inlet line contains a first electrode probe 64 having a first electrode 65 and a second electrode 66. The first electrode 65 is connected to the electric cable 67, and the second electrode 66 is connected to the electric cable 68. Electrical cables 67 and 68 are led from the electrode probe 64 to an electrical circuit 31 that includes a cleaning or cleaning and sterilization control circuit as well as an ion selective electrode electrical circuit. Similarly, the second electrode probe 71 lies in the rinse water outlet conduit 61 between the valves 49 and 62. The electrode probe 71 has a first electrode 73 and a second electrode 75. Electrodes 73 and 75 are connected to electrical cables 77 and 79, respectively. Electrical cables 77 and 79 are directly connected to electrical circuit 31.

도 10에 예시된 본 발명의 장치를 이용하는 의료 장치의 클리닝 과정을 감시하는 본 발명의 방법은 다음과 같이 작동한다: 물 입구 콘딧(51)의 밸브(52 및 43)가 개방되고, 챔버(20)가 클리닝 주기를 위해 충분히 충전될 때까지 물이 물 입구(42)를 통해 세척 챔버(20)로 흐르기 시작한다. 이러한 물은 오염되지 않은 신선하고 깨끗한 물이다. 전위 판독치는 전극 프로브(64)에 의해 이러한 물로부터 얻어지고, 전기 회로(31)는 이러한 판독치를 저장한다. 이어서 밸브(52 및 43)가 폐쇄된다. 제1 클리닝 주기가 세척 챔버(20) 내에서 수행된다. 이러한 클리닝 주기는 일반적으로 약 1시간 미만이다. 바람직하게는, 클리닝 주기는 약 30분 미만이다. 더욱 바람직하게는, 클리닝 주기는 약 15분 미만이다. 밸브(47)는 이러한 제1 클리닝 주기의 종료시에 개방된다. 더러운 세척수는 밸브(47)가 개방된 후 출구(44)를 통해 챔버(20)로부터 배출된다. 밸브(47)는 모든 더러운 세척수가 세척 챔버(20)로부터 배출된 후에 폐쇄된다. 이후, 밸브(53 및 43)는 일단 다시 개방되고, 깨끗하고 신선한 헹굼수가 입구 포트(42)를 통해 세척 챔버(20)로 유입되기 시작한다. 챔버로 흐르는 깨끗하고 신선한 헹굼수의 제2 전위 판독치는 제1 전극 프로브(64)에 의해 취해질 수 있다. 이어서, 밸브(52 및 43)는 폐쇄되고, 챔버(20) 내의 헹굼 주기가 개시된다. 이러한 헹굼 주기는 일반적으로 약 1 시간 미만이다. 바람직하게는, 헹굼 주기는 약 30분 미만이다. 더욱 바람직하게는, 헹굼 주기는 약 15분 미만이다. 헹굼 주기의 종료시에, 헹굼수 출구 라인(61) 내의 밸브(49 및 62)는 개방되어 헹굼수가 제2 전극 프로브(71)를 지나 세척 챔버(20) 외부로 흐르게 한다. 전위 판독치는 전극 프로브(71)에 의해 취해지고, 전기 회로(31)로 전송된다. 전기 회로(31)를 사용하여 전극 프로브(71)에 의해 취한 헹굼수의 전위와 전극 프로브(64)에 의해 취해진 신선하고 깨끗한 헹굼수의 전위를 비교한다. 이들 2 값이 실질적으로 동일한 경우, 이들은 서로 동일하거나 또는 몇% 이내이고, 더 이상 추가의 세척 및 헹굼을 요하지 않는다. 밸브(49 및 63)가 일단 폐쇄되면, 모든 헹굼액은 챔버(20)로부터 배출된다. 그러나, 2개의 판독치가 절대값에서 실질적으로 동일하지 않은 경우, 추가의 헹굼 단계가 이전과 같이 개시되고 수행된다. 제2 헹굼 주기는 제1 헹굼 주기의 기간의 분율이거나 또는 제1 헹굼 주기의 기간과 동일할 수 있다. 전위 판독치는 제1 헹굼 주기 동안 이전과 같이 취해지고, 헹굼액의 전위 판독치는 의료 장치 및 기구와 접촉한 후 신선하고 깨끗한 헹굼액의 전위 판독치와 다시 비교된다. 일단 이들 2개의 판독치가 실질적으로 동일한 경우, 적절한 클리닝이 일어나고, 더 이상의 세척 및 헹굼이 필요치 않다. 이 단계에서, 챔버 내부의 의료 장치(22) 및 기구(24)는 2개의 단계 순차적 클리닝 및 멸균 공정의 제2 단계에서 멸균될 수 있다. 이어서, 챔버(20)는 도어(도시하지 않음)를 통해 개방될 수 있고, 장치(22) 및 기구(24)는 사용되지 않을 수 있다.The method of the invention for monitoring the cleaning process of a medical device using the device of the invention illustrated in FIG. 10 operates as follows: valves 52 and 43 of the water inlet conduit 51 are opened and the chamber 20 is opened. Water begins to flow through the water inlet 42 into the cleaning chamber 20 until) is sufficiently filled for the cleaning cycle. This water is fresh, clean and unpolluted. The potential reading is obtained from this water by the electrode probe 64, and the electrical circuit 31 stores this reading. The valves 52 and 43 are then closed. The first cleaning cycle is performed in the cleaning chamber 20. This cleaning cycle is generally less than about 1 hour. Preferably, the cleaning cycle is less than about 30 minutes. More preferably, the cleaning cycle is less than about 15 minutes. The valve 47 is opened at the end of this first cleaning period. Dirty wash water is discharged from the chamber 20 through the outlet 44 after the valve 47 is opened. The valve 47 is closed after all dirty washing water is discharged from the washing chamber 20. Thereafter, the valves 53 and 43 are once again opened and the clean fresh rinse water begins to flow into the cleaning chamber 20 through the inlet port 42. A second potential reading of clean fresh rinse water flowing into the chamber may be taken by the first electrode probe 64. The valves 52 and 43 are then closed and a rinse cycle in the chamber 20 is started. This rinse cycle is generally less than about 1 hour. Preferably, the rinse cycle is less than about 30 minutes. More preferably, the rinse cycle is less than about 15 minutes. At the end of the rinse cycle, the valves 49 and 62 in the rinse water outlet line 61 are opened to allow rinse water to flow out of the cleaning chamber 20 past the second electrode probe 71. The potential reading is taken by the electrode probe 71 and sent to the electrical circuit 31. The electric circuit 31 is used to compare the potential of the rinsing water taken by the electrode probe 71 with the potential of the fresh and clean rinsing water taken by the electrode probe 64. If these two values are substantially equal, they are equal to or within a few percent of each other and no longer require further washing and rinsing. Once the valves 49 and 63 are closed, all rinse liquid is withdrawn from the chamber 20. However, if the two readings are not substantially equal in absolute value, an additional rinse step is initiated and performed as before. The second rinse cycle may be a fraction of the duration of the first rinse cycle or the same as the duration of the first rinse cycle. The potential reading is taken as before during the first rinse cycle, and the potential reading of the rinse solution is compared with the potential reading of a fresh, clean rinse solution after contact with the medical device and the instrument. Once these two readings are substantially the same, proper cleaning takes place and no further cleaning and rinsing is needed. In this step, the medical device 22 and the instrument 24 inside the chamber may be sterilized in a second step of a two step sequential cleaning and sterilization process. The chamber 20 may then be opened through a door (not shown), and the device 22 and instrument 24 may not be used.

이온-선택성 전극에 기초한 오염물 검출기를 포함하는 의료 장치 또는 기구의 클리닝 과정의 감시 장치의 다른 실시예를 도 11에 예시한다. 도 11은 루멘을 갖는 의료 장치(22) 및 수술 기구(24) 등의 의료 장치 및 기구를 세척하기 위한 챔버(20)를 함유하는 장치(12)를 예시한다. 세척 챔버(20)는 멸균을 위해 이용될 수도 있다. 멸균은 클리닝과 동시에 발생하거나 또는 클리닝 단계 후에 일어날 수 있다. 장치(12)는 출구(48), 밸브(49), 밸브(62), 콘딧(61) 및 헹굼수 출구(63)를 제외하고는 도 10에 예시된 장치(11)의 모든 부품을 함유한다. 장치(12)는 도 10에 예시된 장치(11)와 훨씬 동일한 방법으로 작동한다. 그러나, 도 11에 예시된 장치(12)의 경우에, 모든 헹굼액 및 세척액은 출구(44)를 통해 세척 챔버(20)에서 배출된다. 그렇지 않으면, 도 10에 예시한 바와 같이 장치(11)에 이용되고, 이미 기재한 클리닝 공정을 감시하는 본 발명의 방법의 모든 단계들은 도 11에 예시된 장치(12)에 적용된다. 다시 한 번, 제2 전극 프로브(71)는 세척 주기에 이어 헹굼 주기 동안 또는 그의 종료시에 의료 장치(22) 및 기구와 접촉한 후 헹굼액의 전위 판독치를 취할 것이다. 그러나, 이러한 특수한 실시예에서, 이들 판독치는 도 10에 예시한 장치(11)에서와 같이 콘딧(61) 내부에서보다는 오히려 세척 챔버(20) 내부에서 얻는다. 도 10에 예시한 바의 장치(11)의 주요 이점은 콘딧(61) 내부에 제2 전극 프로브(71)를 배치하는 것이다. 콘딧(61) 내부에 제2 전극 프로브(71)를 배치함으로써 제2 전극 프로브(71)가 오염물에 의해 과도하게 오염되는 것을 완전히 방지하게 된다. 이는 전극 프로브(71)가 정확하고 정밀하게 전위 판독을 반복적으로 수행할 것임을 보장한다. 그러나, 어떤 경우에, 별개의 콘딧(61) 내부에 제2 전극 프로브(71)를 놓을 필요가 없다. 따라서, 도 11에 예시한 장치(12)는 일부 세척 용도에 유용하고, 특히 전극 프로브(71)의 오염물에 의한 오염은 문제되지 않는 것으로 알려졌다.Another embodiment of an apparatus for monitoring a cleaning process of a medical device or instrument comprising a contaminant detector based on an ion-selective electrode is illustrated in FIG. 11. 11 illustrates a device 12 containing a chamber 20 for cleaning medical devices and instruments, such as medical devices 22 having lumens and surgical instruments 24. The cleaning chamber 20 may be used for sterilization. Sterilization can occur simultaneously with the cleaning or after the cleaning step. The device 12 contains all parts of the device 11 illustrated in FIG. 10 except for the outlet 48, the valve 49, the valve 62, the conduit 61 and the rinse water outlet 63. . The device 12 operates in much the same way as the device 11 illustrated in FIG. 10. However, in the case of the apparatus 12 illustrated in FIG. 11, all rinse and wash liquid exits the wash chamber 20 through the outlet 44. Otherwise, all the steps of the method of the present invention used in the apparatus 11 as illustrated in FIG. 10 and monitoring the cleaning process already described are applied to the apparatus 12 illustrated in FIG. Once again, the second electrode probe 71 will take a potential reading of the rinse solution after contact with the medical device 22 and the instrument during or after the rinse cycle following the wash cycle. However, in this particular embodiment, these readings are obtained inside the cleaning chamber 20 rather than inside the conduit 61 as in the device 11 illustrated in FIG. 10. The main advantage of the device 11 as illustrated in FIG. 10 is the placement of the second electrode probe 71 inside the conduit 61. By disposing the second electrode probe 71 inside the conduit 61, the second electrode probe 71 is completely prevented from being excessively contaminated by contaminants. This ensures that electrode probe 71 will repeatedly perform potential readings accurately and precisely. In some cases, however, it is not necessary to place the second electrode probe 71 inside a separate conduit 61. Thus, the apparatus 12 illustrated in FIG. 11 is useful for some cleaning applications, and in particular contamination by the contaminants of the electrode probe 71 is known to be not a problem.

도 10 및 도 11에 예시한 장치들은 예를 들면 무기 오염물을 검출하는 검출기 및 유기 오염물을 검출하는 검출기를 포함하도록 추가로 변형될 수 있다. 이 장치는 챔버(20)와 소통하는 조절 가능한 유체 내에 제2 챔버를 가질 수 있고, 검출기들은 제2 챔버 내에 놓일 수 있다. 오염된 표준물은 예를 들면 제2 챔버 내에 역시 제공될 수 있고, 오염된 표준물에 대한 클리닝 조건 및 오염물 적용 범위가 결정됨으로써 표준물의 청결 정도가 클리닝될 장치의 클리닝의 완료를 지시하도록 작용한다.The devices illustrated in FIGS. 10 and 11 may be further modified to include, for example, a detector for detecting inorganic contaminants and a detector for detecting organic contaminants. The device may have a second chamber in an adjustable fluid in communication with the chamber 20, and the detectors may be placed in the second chamber. Contaminated standards may also be provided in the second chamber, for example, and the cleaning conditions and contaminant coverage for the contaminated standards are determined to serve to indicate the cleanliness of the standards to indicate the completion of cleaning of the device to be cleaned. .

도 12는 이온-선택성 전극에 기초한 오염물 검출기를 포함하는 의료 장치 또는 기구의 클리닝 과정을 감시하는 장치의 다른 실시예를 예시한다. 도 12는 루멘을 갖는 의료 장치(22) 및 수술 기구(24) 등의 의료 장치 및 기구를 세척하기 위한 세척 챔버(20)를 함유하는 장치(13)를 예시한다. 다른 실시예에서와 같이, 세척 챔버(20)는 멸균을 위해 이용될 수도 있다. 세척 챔버(20)는 밸브(43)를 통해 물 입구 콘딧(51)에 접속된 물 입구(42)를 갖는다. 물 입구 콘딧(51)은 물 입구(53)에 접속된다. 물 입구(53)는 수원(도시되지 않음)에 접속된다. 세척 챔버(20)는 도 10 및 도 11에 나타낸 바와 동일하게 배치되고, 접속되고, 물 배수 기능을 갖는 부품(44, 47, 54 및 59)을 역시 갖는다. 도 12에 예시된 본 발명의 장치의 이러한 실시예는 제1 전극(72) 및 제2 전극(74)을 갖는 단일 전극 프로브(70)를 갖는다. 전극(72 및 74)은 전기 케이블(76 및 78) 각각에 접속된다. 전기 케이블(76 및 78)은 전기 회로(31)에 직접적으로 접속된다. 전기 회로(31)는 도 10 및 도 11에 예시한 본 발명의 장치에 대해 기재한 것과 동일한 기능을 수행한다. 전극 프로브(70)는 물 입구(42) 바로 아래에 놓인 작은 물 저장기(81) 내부에 놓인다. 물 저장기(81)는 세척 챔버(20)로 흐르는 초기의 적은 부피의 물을 포획하도록 설계되어 있다. 이는 신선하고 깨끗한 세척수의 전위 판독이 의료 장치(22) 및 기구(24)와 접촉하기 전에 취해지도록 한다. 저장기(81)는 저장기 출구 및 입구 콘딧(83)에 접속된 저장기 출구 및 입구(82)를 갖는다. 저장기 출구 및 입구 콘딧(83)은 저장기 출구 및 입구 밸브(84) 및 저장기 드레인 출구 및 입구(85)를 함유한다.12 illustrates another embodiment of a device for monitoring the cleaning process of a medical device or instrument including a contaminant detector based on ion-selective electrodes. FIG. 12 illustrates a device 13 containing a cleaning chamber 20 for cleaning medical devices and instruments, such as medical device 22 having a lumen and surgical instrument 24. As in other embodiments, the cleaning chamber 20 may be used for sterilization. The cleaning chamber 20 has a water inlet 42 connected to a water inlet conduit 51 via a valve 43. The water inlet conduit 51 is connected to the water inlet 53. The water inlet 53 is connected to a water source (not shown). The cleaning chamber 20 also has components 44, 47, 54 and 59 arranged in the same manner as shown in FIGS. 10 and 11, connected and having a water drainage function. This embodiment of the inventive device illustrated in FIG. 12 has a single electrode probe 70 having a first electrode 72 and a second electrode 74. Electrodes 72 and 74 are connected to electrical cables 76 and 78 respectively. Electrical cables 76 and 78 are connected directly to electrical circuit 31. The electrical circuit 31 performs the same function as described for the apparatus of the present invention illustrated in FIGS. 10 and 11. The electrode probe 70 rests inside a small water reservoir 81 that lies just below the water inlet 42. The water reservoir 81 is designed to capture the initial small volume of water that flows into the cleaning chamber 20. This allows a potential reading of fresh, clean wash water to be taken before contacting the medical device 22 and the instrument 24. The reservoir 81 has a reservoir outlet and an inlet 82 connected to the reservoir outlet and the inlet conduit 83. The reservoir outlet and inlet conduits 83 contain the reservoir outlet and inlet valve 84 and the reservoir drain outlet and inlet 85.

도 12에 예시한 본 발명의 장치를 이용하는, 의료 장치의 클리닝 과정을 감시하는 본 발명의 방법은 다음과 같이 작동한다: 밸브(43)가 개방되고, 신선하고 깨끗한 물 또는 기타 세척액 또는 헹굼액이 입구(42)를 통해 세척 챔버(20)로 흐르게 된다. 물 저장기(81)는 전극 프로브(70)에 의해 신선하고 깨끗한 물의 전위 판독치를 취할 수 있도록 충전된다. 이러한 전위 판독치는 대조 전위 판독치로서 전기 회로(31)에 저장된다. 물은 입구(42)를 통해 세척 챔버(20) 내부로 계속 흐르게 되고 저장기(81)를 충전시킨다. 저장기 밸브(84)가 개방된다. 이어서, 물은 저장기(81)로부터 저장기 콘딧(83) 및 저장기 드레인 출구 및 입구(85)를 통해 세척 챔버(20)로 흘러나온다. 세척 챔버(20)는 세척 주기가 시작될 수 있도록 세척수로 충분히 충전된다. 저장기 밸브(84)가 폐쇄되고, 세척 주기는 도 10 및 도 11에 예시된 본 발명의 장치를 이용하는 본 발명의 방법에 기재된 바와 같이 개시된다. 세척 주기의 개시에 앞서, 밸브(43 및 47)는 액체가 더 이상 세척 챔버(20)로 흐르지 않거나 또는 그로부터 배수되지 않도록 폐쇄된다.The method of the present invention for monitoring the cleaning process of a medical device, using the device of the present invention illustrated in FIG. 12, operates as follows: valve 43 is opened and fresh and clean water or other cleaning or rinsing fluid is applied. It flows through the inlet 42 into the cleaning chamber 20. The water reservoir 81 is charged by the electrode probe 70 to take a potential reading of fresh and clean water. This potential reading is stored in the electrical circuit 31 as the control potential reading. Water continues to flow through the inlet 42 into the cleaning chamber 20 and fills the reservoir 81. The reservoir valve 84 is open. Water then flows out of reservoir 81 into reservoir chamber 20 through reservoir conduit 83 and reservoir drain outlet and inlet 85. The cleaning chamber 20 is sufficiently filled with washing water so that the cleaning cycle can begin. The reservoir valve 84 is closed and the wash cycle is initiated as described in the method of the invention using the apparatus of the invention illustrated in FIGS. 10 and 11. Prior to the commencement of the cleaning cycle, valves 43 and 47 are closed such that liquid no longer flows to or drains from the cleaning chamber 20.

이 시점에서, 전극 프로브(70)는 챔버(20) 내의 더러운 세척액으로부터 전체적으로 또는 부분적으로 분리될 수 있다. 이는 수많은 경로에 의해 달성될 수 있다. 예를 들면, 저장기(81)는 신선한 세척액으로 충전되고, 전극 프로브(70)는 클리닝이 챔버(20) 내에서 수행되는 동안 신선한 세척액 내에 침지됨으로써, 이 전극 프로브는 더러운 세척액에 의해 유발되는 오염으로부터 보호된다. 다른 실시예에서, 전극 프로브(70)는 액체로 이동될 수 있거나 또는 액체와 접촉하지 않을 수 있다. 대안으로, 저장기(81)는 클리닝 공정 동안 이동 가능한 캡(91)으로 뒤덮일 수 있다. 챔버(20)와 소통하는 조절가능한 유체 내에서 제조된 인클로저 또는 제2 챔버가 제공될 수 있고, 검출기가 인클로저 내에 놓일 수 있다. 따라서, 클리닝 공정 동안 챔버(20)와 인클로저 간의 유체 소통은 예를 들면 밸브에 의해 차단되고, 세척액 내의 오염물 농도를 측정할 때 유체 소통이 다시 확립된다.At this point, the electrode probe 70 may be wholly or partially separated from the dirty cleaning liquid in the chamber 20. This can be accomplished by a number of routes. For example, the reservoir 81 is filled with fresh wash solution, and the electrode probe 70 is immersed in the fresh wash liquid while cleaning is performed in the chamber 20, thereby causing the electrode probe to be contaminated by dirty wash solution. Protected from In other embodiments, the electrode probe 70 may be moved to or in no contact with the liquid. Alternatively, the reservoir 81 may be covered with a movable cap 91 during the cleaning process. An enclosure or a second chamber may be provided that is manufactured in an adjustable fluid in communication with the chamber 20 and the detector may be placed within the enclosure. Thus, fluid communication between the chamber 20 and the enclosure during the cleaning process is interrupted by, for example, a valve, and fluid communication is reestablished when measuring the concentration of contaminants in the wash liquid.

세척 주기의 종료시에, 더러운 세척수는 출구(44)를 통해 세척 챔버(20) 외부로 흘러나와 그러한 목적으로 개방된 출구(47)를 통해 드레인 출구(59)로 흐르게 된다. 이어서, 밸브(47)는 폐쇄되고, 신선한 헹굼액이 입구(53)를 통해 세척 챔버(20) 내부로 흐르고, 그러한 목적으로 개방된 밸브(43)를 통해 입구(42)로 흐르게 된다. 다시 한 번, 헹굼액은 저장기(81)로 흘러, 저장기를 충전시키고, 그 후 이미 기재한 바와 동일한 공정으로 헹굼 주기 동안 챔버(20)를 충전시킨다. 밸브(43)가 폐쇄되고, 헹굼 주기는 도 10 및 도 11에 예시된 본 발명의 장치를 이용하는 본 발명의 방법에 이미 기재된 바와 같이 일어난다. 밸브(84)가 개방되고, 헹굼액은 저장기(81)로 흐르게 된다. 대안으로, 챔버(20) 내부의 헹굼액의 레벨은 저장기(81) 양측의 상단보다 더 높아질 수 있고, 헹굼액으로 저장기(81)를 충전시킬 수 있다. 이러한 방식으로, 저장기(81) 내부의 헹굼액의 정확한 전위 판독치는 이것이 세척 챔버(20) 내부의 헹굼액을 대표하도록 취할 수 있다. 이러한 제2 전위 판독치는 신선하고 깨끗한 헹굼액의 전위 판독치와 비교된다. 전위 판독치들의 비교는 본 명세서에서 이미 기재한 바와 같이 정확하게 수행되고, 측정은 충분한 헹굼 및(또는) 클리닝이 이루어지고, 추가의 헹굼 또는 세척 또는 헹굼 주기가 필요한 경우에 이루어진다.At the end of the cleaning cycle, dirty wash water flows out of the cleaning chamber 20 through the outlet 44 and into the drain outlet 59 through the outlet 47 which is open for that purpose. The valve 47 is then closed and fresh rinse liquid flows through the inlet 53 into the wash chamber 20 and through the valve 43 opened for that purpose to the inlet 42. Once again, the rinse liquid flows into the reservoir 81 to fill the reservoir and then to fill the chamber 20 during the rinse cycle in the same process as previously described. The valve 43 is closed and the rinse cycle takes place as already described in the method of the invention using the apparatus of the invention illustrated in FIGS. 10 and 11. The valve 84 is opened and the rinse liquid flows into the reservoir 81. Alternatively, the level of rinse liquid inside the chamber 20 may be higher than the top of both sides of the reservoir 81 and may fill the reservoir 81 with the rinse liquid. In this manner, an accurate potential reading of the rinse solution inside the reservoir 81 can be taken so that it represents a rinse solution inside the wash chamber 20. This second potential reading is compared to the potential reading of a fresh, clean rinse solution. The comparison of the potential readings is performed exactly as already described herein, and the measurement is made when sufficient rinsing and / or cleaning is done and additional rinsing or washing or rinsing cycles are required.

도 13은 이온-선택성 전극에 기초한 오염물 검출기를 포함하는 의료 장치 또는 기구의 클리닝 과정을 감시하는 장치의 다른 실시예를 예시한다. 도 13은 이미 기재한 의료 장치 및 기구를 세척하기 위한 또는 세척 및 멸균하기 위한 세척 챔버(20)를 다시 한 번 함유하는 장치(14)를 예시한다. 도 13에 예시한 장치(14)의 모든 부품들은 부품들(30, 80 및 90)을 제외하고는 도 12에 예시된 장치(13)에서와 동일하게 넘버링한 부품들에 대해 기재된 것과 동일하다.FIG. 13 illustrates another embodiment of a device for monitoring a cleaning process of a medical device or instrument including a contaminant detector based on ion-selective electrodes. FIG. 13 illustrates a device 14 once again containing a cleaning chamber 20 for cleaning or sterilizing and sterilizing previously described medical devices and instruments. All parts of the device 14 illustrated in FIG. 13 are identical to those described for the same numbered parts as in the device 13 illustrated in FIG. 12 except for parts 30, 80 and 90.

부품들(30, 80 및 90)은 도 9에 예시된 부품들(30, 80 및 90)과 동일하고, 동일하게 접속되고, 동일한 기능을 한다. 부품(30)은 세척 조절 시스템이다. 부품(8)은 전극 검출기용 전기 회로이다. 전기 회로(80)는 전기 접속(90)을 통해 세척 조절 시스템(30)에 접속된다. 도 12에 예시된 부품(31)은 도 9 및 도 13에 예시된 부품들(30, 80 및 90)과 동일한 기능을 수행한다.Parts 30, 80, and 90 are identical, identically connected, and function the same as parts 30, 80, and 90 illustrated in FIG. 9. Part 30 is a wash control system. Component 8 is an electrical circuit for an electrode detector. The electrical circuit 80 is connected to the wash control system 30 via an electrical connection 90. The component 31 illustrated in FIG. 12 performs the same function as the components 30, 80 and 90 illustrated in FIGS. 9 and 13.

도 12에 예시된 저장기(81), 저장기 출구 및 입구(82), 저장기 출구 및 입구 밸브(84), 저장기 출구 및 입구 콘딧(83) 및 저장기 드레인 출구 및 입구(85)는 도 13에 예시된 장치(14)에 이용되지 않는다. 장치(14)는 저장기(81) 및 관련 출구 및 입구 부품(82-85)이 전위 판독치를 취하도록 적은 부피의 세척액 또는 헹굼액을 유지하고, 이를 순차로 방출하도록 사용되지 않는 것을 제외하고는 도 12의 장치(13)와 동일한 방식으로 본 발명의 방법을 수행한다. 모든 전위 판독치는 대신에 챔버(20) 내부의 액체로부터 직접적으로 취한다. 제2 프로브(99) 또는 보다 많은 프로브가 추가의 오염물을 감시하기 위해 사용될 수도 있다.The reservoir 81, reservoir outlet and inlet 82, reservoir outlet and inlet valve 84, reservoir outlet and inlet conduit 83 and reservoir drain outlet and inlet 85 illustrated in FIG. Not used in the device 14 illustrated in FIG. Apparatus 14 maintains a small volume of wash or rinse solution such that reservoir 81 and associated outlet and inlet parts 82-85 take a potential reading and are not used to sequentially discharge it. The method of the present invention is performed in the same manner as the device 13 of FIG. All potential readings are taken directly from the liquid inside the chamber 20 instead. Second probe 99 or more probes may be used to monitor for further contaminants.

도 14는 이미 기재한 바의 의료 장치(22) 및 기구(24)를 세척하기 위한 또는 세척 및 멸균시키기 위한 세척 챔버(20)를 함유하는 장치(15)를 예시한다. 장치(15) 역시 챔버(20)에 결합된 인클로저(102)를 갖는다. 인클로저(102)는 챔버(20)와 소통하는 조절가능한 유체 내에 놓인다. 바람직하게는, 챔버(20) 및 인클로저(102)은 밸브(104)에 의해 분리된다. 인클로저(102)는 배수구에 접속될 수 있는 다른 밸브(106)를 구비하고 있다. 화학적 소스(108)는 밸브(110)를 통해 인클로저(102)에 결합된다. 칼라 등의 검출가능한 신호를 발생시키기 위해 세척액 중의 오염물과 반응하기 적절한 화학 물질은 화학적 소스 내에 저장된다. 이들 화학 물질의 예로는 염화물 이온 시약 (Hg(SCN)2), OPA, 알부민 시약, 뷰렛 시약 및 마이크로프로테인-PR을 들 수 있으며, 이들로만 제한되지 않는다.FIG. 14 illustrates a device 15 containing a cleaning chamber 20 for cleaning or for cleaning and sterilizing the medical device 22 and the instrument 24 as already described. The device 15 also has an enclosure 102 coupled to the chamber 20. Enclosure 102 is placed in an adjustable fluid in communication with chamber 20. Preferably, chamber 20 and enclosure 102 are separated by valve 104. Enclosure 102 has another valve 106 that can be connected to the drain. Chemical source 108 is coupled to enclosure 102 via valve 110. Chemicals suitable for reacting with contaminants in the wash solution to generate a detectable signal such as a color are stored in a chemical source. Examples of these chemicals include, but are not limited to, chloride ion reagent (Hg (SCN) 2 ), OPA, albumin reagent, biuret reagent, and microprotein-PR.

사용할 때, 밸브(104)가 개방되고, 챔버(20) 내의 세척액, 클리닝액 또는 헹굼액은 측정이 수행될 때 인클로저(102)로 도입된다. 인클로저(102)로 도입되는 세척액의 양은 조절될 수 있다. 이어서, 밸브(104)가 폐쇄되고, 밸브(110)가 개방됨으로써 화학 물질이 인클로저(102) 내로 도입된다. 일단 화학 물질이 인클로저(102)에 도입되면, 챔버(20) 및 인클로저(102)는 화학 물질이 챔버(20)로 전혀 도입될 수 없도록 서로 완전히 분리되어야 한다. 측정이 완료된 후, 인클로저(102) 내의 액체는 밸브(106)를 통해 배수된다. 인클로저(102)는 인클로저(102)를 클리닝하는 신선한 세척액을 도입하기 위해 다른 깨끗한 세척액 입구(도시하지 않음)를 가져야 한다. 인클로저(102)에 첨가된 화학 물질의 양은 조절된다. 바람직하게는, 인클로저(102) 내의 세척액 내의 화학 물질의 농도는 상이한 측정에서 거의 동일하므로, 화학 물질과 세척액 간의 반응에 의해 발생된 신호의 세기는 세척액 내의 오염물의 함량 만을 반영할 수 있지만, 화학 물질의 농도 자체에 의해서 영향받지 않는다.In use, the valve 104 is opened and the wash, cleaning or rinsing liquid in the chamber 20 is introduced into the enclosure 102 when the measurement is performed. The amount of wash liquor introduced into the enclosure 102 can be adjusted. Subsequently, valve 104 is closed and valve 110 is opened to introduce chemicals into enclosure 102. Once the chemical is introduced into the enclosure 102, the chamber 20 and the enclosure 102 must be completely separated from each other such that no chemical can be introduced into the chamber 20 at all. After the measurement is completed, the liquid in the enclosure 102 is drained through the valve 106. Enclosure 102 should have another clean wash liquid inlet (not shown) to introduce fresh wash liquid to clean enclosure 102. The amount of chemical added to enclosure 102 is controlled. Preferably, since the concentration of chemicals in the wash liquid in the enclosure 102 is about the same in different measurements, the intensity of the signal generated by the reaction between the chemical and the wash liquid may only reflect the content of contaminants in the wash liquid. Is not affected by the concentration itself.

검출기(112) 및 광원(114)을 갖는 분광 광도 미터(100)는 화학 물질에 의해 발생된 신호를 검출하기 위해 제공된다. 검출기(112) 및 광원(114)은 인클로저(102)의 내부 또는 외부에 놓일 수 있다. 이들이 도 14에 나타낸 바와 같이 인클로저(102) 외부에 위치하는 경우, 인클로저(102) 벽의 적어도 일부는 광이 인클로저 내의 세척액의 몸체를 통해 이동하여 검출기(112)에 도달할 수 있도록 광원(114)으로부터 광에 대해 투명해야 한다. 발생된 신호가 칼라일 때, 육안으로 관찰될 수 있으므로, 인간의 눈이 검출기로서 작용할 수 있다.A spectrophotometer 100 having a detector 112 and a light source 114 is provided to detect a signal generated by the chemical. Detector 112 and light source 114 may be placed inside or outside of enclosure 102. When they are located outside the enclosure 102 as shown in FIG. 14, at least a portion of the wall of the enclosure 102 allows the light source 114 to travel through the body of wash liquid within the enclosure and reach the detector 112. It must be transparent to the light from it. When the signal generated is in color, it can be observed with the naked eye, so the human eye can act as a detector.

도 9-13에서 이미 기재한 바의 구조물은 도 14의 장치(15)와 조합될 수 있다. 임의로, 챔버(20)는 진공 펌프 또는 진공 소스(16)에 접속될 수도 있다. 클리닝이 완료될 때, 클리닝된 품목(22 및 24)의 건조를 용이하게 하기 위해 챔버(20)에 진공이 인가될 수 있다. 챔버(20)가 멸균 챔버로서 사용될 수 있도록 멸균 시스템이 제공될 수도 있다. 클리닝 후, 클리닝 및 멸균될 기구를 제거하지 않고 동일한 챔버(20)에서 멸균이 수행될 수 있다. 본 발명의 클리닝 공정에 사용될 멸균 시스템에 대한 제한은 없다. 따라서, 임의의 적절한 멸균 시스템이 클리닝 공정과 조합되어 사용될 수 있다. 필요할 경우, 용해된 오존 또는 염소 이산화물과 조합된 것 등의 조합된 클리닝 및 멸균 용액을 사용함으로써 클리닝 및 멸균이 동시에 수행될 수 있다.The structure as already described in FIGS. 9-13 can be combined with the device 15 of FIG. 14. Optionally, chamber 20 may be connected to a vacuum pump or vacuum source 16. When the cleaning is complete, a vacuum may be applied to the chamber 20 to facilitate drying of the cleaned items 22 and 24. A sterilization system may be provided so that the chamber 20 can be used as a sterilization chamber. After cleaning, sterilization may be performed in the same chamber 20 without removing the instrument to be cleaned and sterilized. There is no restriction on the sterilization system to be used in the cleaning process of the present invention. Thus, any suitable sterilization system can be used in combination with the cleaning process. If necessary, cleaning and sterilization can be performed simultaneously by using a combined cleaning and sterilization solution, such as in combination with dissolved ozone or chlorine dioxide.

도 15a 내지 도 15d는 본 발명의 기타 실시예들에 따른 여러 가지 장치를 나타낸다. 이들 실시예에서, 오염물로 뒤덮인 표준물(120)이 제공된다. 오염물로 뒤덮인 표준물의 목적은 클리닝 공정 동안 클리닝될 품목의 청결도의 표준화된 지시를 제공하는 것이다. 즉, 오염된 표준물(120)은 클리닝될 품목 또는 품목들과 동시에 클리닝될 수 있고, 오염물로 뒤덮인 표준물(120)의 청결도가 감시될 수 있다. 클리닝될 품목의 청결도와 특정 장치 구조를 위한 오염물로 뒤덮인 표준물(120)의 청결도 간의 상관 관계는 실험을 통해 확립될 수 있다. 따라서, 표준물이 특정 정도까지 클리닝될 때, 그것은 클리닝될 품목들의 완벽한 클리닝이 달성되었는지를 나타낼 것이다.15A-15D illustrate various devices in accordance with other embodiments of the present invention. In these embodiments, a standard 120 covered with contaminants is provided. The purpose of standards covered with contaminants is to provide a standardized indication of the cleanliness of the items to be cleaned during the cleaning process. That is, the contaminated standard 120 may be cleaned simultaneously with the item or items to be cleaned and the cleanliness of the standard 120 covered with contaminants may be monitored. Correlation between the cleanliness of the item to be cleaned and the cleanliness of the standard 120 covered with contaminants for a particular device structure can be established through experiments. Thus, when a standard is cleaned to a certain degree, it will indicate that complete cleaning of the items to be cleaned has been achieved.

오염된 표준물의 사용과 연관된 여러 가지 장점이 있다. 예를 들면, 오염된 표준물을 사용함으로써, 누구나 감시에 대한 표준물 및 클리닝 공정 동안 표준물로부터 제거되거나 또는 그 위에 남아있는 오염물의 검출에 대해 초점을 맞출 수 있고, 따라서 감시 방법은 표준화될 수 있다. 표준물(120)의 오염물 수준 및 클리닝 효율이 조절될 수 있다. 표준물(120)은 클리닝될 품목이 노출되는 것과 동일한 효율 또는 효율이 적은 클리닝 환경에 노출될 수 있거나, 또는 표준물(120)은 품목(22 및 24)보다 더 심하게 오염될 수 있으므로써, 표준물이 완전히 클리닝될 "때, 클리닝될 품목은 완전히 클리닝되도록 보장된다. 다른 선택은 품목(22 및 24)보다 심하지 않게 표준물(120)을 오염시키는 것이지만(여기서 표준물은 적은 오염물로 뒤덮임을 의미함), 표준물(120)아 상당히 효율적이지 못한 클리닝 환경에 놓임으로써, 표준물이 클리닝되기 전에, 클리닝될 품목들이 완전히 클리닝될 것이다. 이러한 선택은 검출기가 노출되는 오염물 수준을 감소시키고, 따라서, 오염물에 의해 검출기 표면을 오염시키는 것과 연관된 잠재적인 문제들을 제거한다. 일반적으로, 조건들은 표준물(120)이 특정 레벨까지 클리닝될 때, 품목(22 및 24)이 완전히 클리닝될 수 있도록 셋업될 수 있다. 이는 보다 민감하지 않은 검출기를 사용할 수 있게 한다. 표준물(120)은 이미 기재한 바의 임의의 적절한 오염물 또는 이들의 조합물로 뒤덮일 수 있다. 바람직하게는, 표준물(120)은 클리닝될 품목(22 및 24)에 함유된 것들과 동일한 오염물로 뒤덮일 수 있다. 그러나, 필요할 경우, 표준물(120)은 클리닝될 품목(22 및 24)의 그것과 상이한 오염물로 뒤덮일 수 있다. 이는 표준물에 대한 특정 오염물 및 그러한 유형의 오염물에 특히 적절한 바람직한 유형의 검출 기술의 사용을 허용한다. 표준물(120)의 클리닝과 클리닝될 품목들의 클리닝 간의 적절한 상관 관계가 특정 장치 구조와 연관된 실험을 통해 확립되는 한 많은 다른 선택이 유효하다.There are several advantages associated with the use of contaminated standards. For example, by using contaminated standards, anyone can focus on the detection of contaminants that have been removed from or remain on the standard during the standard and monitoring process for monitoring, and thus the monitoring method can be standardized. have. Contaminant levels and cleaning efficiency of the standard 120 may be controlled. Standard 120 may be exposed to the same or less efficient cleaning environment that the item to be cleaned is exposed, or standard 120 may be more contaminated than items 22 and 24 When the water is completely cleaned, the item to be cleaned is guaranteed to be fully cleaned. Another option is to contaminate the standard 120 no more severely than the items 22 and 24 (where the standard is covered with less contaminants). By placing the standard 120 in a very inefficient cleaning environment, the items to be cleaned will be completely cleaned before the standard is cleaned, this selection reduces the level of contaminants to which the detector is exposed, and thus, Eliminates potential problems associated with contaminating the detector surface with contaminants In general, conditions may indicate that standard 120 is to be cleaned to a certain level. , Items 22 and 24 can be set up so that they can be cleaned thoroughly.This allows the use of less sensitive detectors .. Standard 120 can be any suitable contaminant or combination thereof as already described. Preferably, the standard 120 may be covered with the same contaminants as those contained in the items 22 and 24 to be cleaned, however, if necessary, the standard 120 may be cleaned. It may be covered with contaminants that are different from those of items 22 and 24. This allows the use of specific contaminants to standards and the use of preferred types of detection techniques particularly suited to those types of contaminants Cleaning of Standards 120 Many other choices are valid as long as an appropriate correlation between the cleaning and the cleaning of the items to be cleaned is established through experimentation involving a particular device structure.

도 15a는 인클로저(102) 내에 위치하는 오염물 검출기(122) 및 오염물로 뒤덮인 표준물(120)을 갖는 장치(16)를 예시한다. 표준물(120)은 오염물로 뒤덮인 임의의 적절한 표면일 수 있다. 예를 들면, 표준물(120)은 지지체에 이동가능하게 결합되는 것이 바람직한 적절한 물질 조각 또는 플레이트일 수 있다. 바람직하게는, 표준물(120)과 지지체(124) 간의 접속은 표준물의 접촉 영역이 오염되지 않는 방식으로 이루어진다. 품목(22 및 24)의 그것에 비해 상대적으로 표준물(120)의 클리닝 효율을 제거하기 위한 여러 가지 방식이 있다. 예를 들면, 밸브(104)는 챔버(20)와 인클로저(102) 간의 유체 소통을 조절하기 위해 상이한 레벨로 조정될 수 있다. 보다 큰 밸브(104)는 보다 양호한 유체 소통을 제공할 수 있으므로, 챔버(20) 및 인클로저(102) 내의 클리닝 효율은 서로 근접하게 될 것이다. 다른 선택은 인클로저(102) 또는 챔버(20)내에 또는 모두에 조정가능한 교반 시스템을 제공한다. 교반 레벨을 조정함으로써, 인클로저(102) 또는 챔버(20) 내의 클리닝 효율은 소정의 레벨로 조정될 수 있다. 장치(16)의 다른 부분은 도 14의 그것과 유사하다. 일 실시예에서, 밸브(104)는 클리닝 공정 동안 소정의 레벨에서 개방되고, 인클로저(102) 내의 세척액의 오염물 레벨은 검출기(122)에 의해 감시된다.FIG. 15A illustrates a device 16 having a contamination detector 122 located within the enclosure 102 and a standard 120 covered with contaminants. Standard 120 may be any suitable surface covered with contaminants. For example, standard 120 may be a suitable piece of material or plate that is movably coupled to a support. Preferably, the connection between the standard 120 and the support 124 is made in such a way that the contact area of the standard is not contaminated. There are various ways to eliminate the cleaning efficiency of the standard 120 relative to that of the items 22 and 24. For example, the valve 104 can be adjusted to different levels to regulate fluid communication between the chamber 20 and the enclosure 102. Larger valve 104 may provide better fluid communication, so the cleaning efficiency in chamber 20 and enclosure 102 will be close to each other. Another option provides adjustable agitation systems in or both of enclosure 102 or chamber 20. By adjusting the agitation level, the cleaning efficiency in the enclosure 102 or chamber 20 can be adjusted to a predetermined level. The other part of the device 16 is similar to that of FIG. 14. In one embodiment, the valve 104 is opened at a predetermined level during the cleaning process, and the contaminant level of the cleaning liquid in the enclosure 102 is monitored by the detector 122.

다른 실시예에서, 도 14에 나타낸 바와 유사한 장치가 사용되고, 유일한 차이는 오염물로 뒤덮인 표준물(120)이 인클로저(102) 내에 놓인다는 것이다. 이러한 경우에, 표준물(120)은 소정의 파장 범위에 대해 투명한 물질로 제조된다. 바람직하게는, 표준물(120)은 특정 범위 파장의 광을 흡수하는 특정 화합물을 생산하는 화학적 소스(108) 내에 포함된 화학 물질과 반응하는 오염물로 뒤덮인 편평한 표면을 갖는다(도 14 참조). 화학적 소스 없이 광원(114) 및 분광 광도 미터(112)를 사용할 수도 있다.In another embodiment, an apparatus similar to that shown in FIG. 14 is used, the only difference being that the standard 120 covered with contaminants is placed within enclosure 102. In this case, the standard 120 is made of a material that is transparent to the desired wavelength range. Preferably, standard 120 has a flat surface covered with contaminants that react with chemicals contained in chemical source 108 that produce a particular compound that absorbs light of a particular range of wavelengths (see FIG. 14). Light source 114 and spectrophotometer 112 may be used without a chemical source.

도 15b는 표준물(120)이 인클로저(102) 내에 놓이지 않고, 대신에 오목부에 노인 또 다른 실시예를 나타낸다. 이 도면에 나타낸 바와 같이, 표준물(120)은 지지체(122)에 이동가능하게 결합된다. 바람직하게는, 표준물(120)은 한쪽 측면 또는 양쪽 측면 상에 오염물로 뒤덮인 표면을 갖는 편평한 플레이트이다. 지지체(122)는 오목부(130)의 벽 상에 설치된다. 바람직하게는, 지지체(122)가 이동가능하고, 표준물은 여러 위치에서 지지체(122)에 결합될 수 있으므로, 오목부(130) 내의 표준물(120)의 위치가 조정될 수 있다. 오목부(130)는 상이한 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 도 15b에 나타낸 바와 같이 챔버(20)의 벽으로부터 분기되는 2개의 측벽(132)을 갖는 경사진 갭일 수 있다. 2개의 측벽(132)은 서로에 대해 평행해질 수도 있다. 필요할 경우, 오목부(130)는 한쪽 단부만이 챔버(20)에 대해 개방된 둘러싸인 측벽을 가질 수도 있다. 제한된 공간 때문에, 오목부(130)의 클리닝 효율은 품목(22 및 24)이 놓인 영역보다 더 낮아지고, 오목부(130)가 더 깊어지고 더 좁아질수록, 클리닝 효율이 더 작아진다. 따라서, 표준물(120)의 상대적인 클리닝 효율은 이를 오목부(130)의 상이한 위치에 배치함으로써 조정될 수 있다. 챔버(20) 내의 교반 레벨은 클리닝 효율을 조절하기 위해 사용될 수도 있다.FIG. 15B shows another embodiment in which the standard 120 does not lie within the enclosure 102, but instead in a recess. As shown in this figure, the standard 120 is movably coupled to the support 122. Preferably, standard 120 is a flat plate having a contaminated surface on one or both sides. The support 122 is installed on the wall of the recess 130. Preferably, since the support 122 is movable and the standard can be coupled to the support 122 at various locations, the position of the standard 120 in the recess 130 can be adjusted. The recess 130 may have a different shape. For example, it may be an inclined gap with two sidewalls 132 diverging from the wall of the chamber 20 as shown in FIG. 15B. The two side walls 132 may be parallel to each other. If desired, the recess 130 may have an enclosed sidewall with only one end open to the chamber 20. Because of the limited space, the cleaning efficiency of the recess 130 is lower than the area in which the items 22 and 24 are placed, and the deeper and narrower the recess 130 is, the smaller the cleaning efficiency is. Thus, the relative cleaning efficiency of the standard 120 can be adjusted by placing it at different locations in the recess 130. Stirring levels in the chamber 20 may be used to adjust the cleaning efficiency.

광원(114) 및 검출기(112)는 오목부(130)의 2개의 반대 측면에 제공된다. 측벽(132)은 광원(114)으로부터 광에 대해 투명한 물질로 제조된다. 표준물(120)은 광원(114)으로부터 광에 대해 투명한 물질로 제조된다. 따라서, 석영은 양쪽 측벽(132) 및 표준물(120)에 대해 적절한 물질이다. 도 15c 및 15d는 오목부(130)의 2가지 다른 구조를 예시한다. 도 15c에 나타낸 배열에서, 오목부(130)는 챔버(20)의 코너에 위치한다. 광원(114)은 오목부(130)에 근접한 공간 내의 챔버(20) 외부에 놓인다. 도 15d에 나타낸 배열에서, 오목부(130)는 챔버(20)의 코너에 역시 위치하지만, 바깥쪽으로 돌출한다. 광원(114) 및 검출기(112)는 오목부(130)에 근접한 공간 내의 챔버(20) 외부에 놓인다. 사용될 표준물(120)이 편평한 표면을 갖는 경우, 이 표면은 임의의 적절한 방향, 수직, 수평 또는 각으로 놓일 수 있다. 광원(114)으로부터 광 빔은 수직, 수평 또는 임의의 다른 각일 수 있다.The light source 114 and the detector 112 are provided on two opposite sides of the recess 130. Sidewall 132 is made of a material that is transparent to light from light source 114. Standard 120 is made of a material that is transparent to light from light source 114. Thus, quartz is a suitable material for both sidewalls 132 and standards 120. 15C and 15D illustrate two different structures of recess 130. In the arrangement shown in FIG. 15C, the recess 130 is located at the corner of the chamber 20. The light source 114 lies outside the chamber 20 in the space proximate the recess 130. In the arrangement shown in FIG. 15D, the recess 130 is also located at the corner of the chamber 20 but protrudes outward. The light source 114 and detector 112 lie outside the chamber 20 in a space proximate the recess 130. If the standard 120 to be used has a flat surface, this surface may be placed in any suitable direction, vertical, horizontal or angle. The light beam from the light source 114 can be vertical, horizontal or any other angle.

도 15a-15d에 예시된 장치는 적절한 유형의 1개 이상의 다른 검출기, 진공 펌프 또는 클리닝, 멸균 시스템 이후에 품목들을 진공 건조시키기 위한 진공 소스를 추가로 포함하도록 용이하게 채택될 수 있다.The apparatus illustrated in FIGS. 15A-15D can be readily adapted to further include a vacuum source for vacuum drying items after one or more other detectors, vacuum pumps or cleaning, sterilization systems of the appropriate type.

일반적으로, 도 9-15d에 예시된 본 발명의 장치의 실시예는 1개 이상의 추가의 오염물 검출기를 사용할 수 있다. 단백질을 검출하기에 적절한 오염물 검출기가 특히 유용하게 부가된다. 그러한 실시예에서, 무기 오염물을 검출하기 위한 1개 이상의 검출기를 단백질 및 기타 유기 종을 검출하기에 적절한 자외선-가시 광선 분광 분석 검출기와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. 후자 유형의 검출기의 예는 220 nm의 검출 파장을 사용하는 분광 광도 미터이고, 그 원리중의 하나는 모든 단백질 및 많은 유기 분자들에 공통적인 자외선 흡수 파장이 체내에서 발견되었다. 260, 265, 280 nm를 포함하는 많은 다른 파장 역시 적절하다. 다른 바람직한 오염물 검출기 조합은 단백질을 검출하기 위해 색채 측정 자동 적정기와 함께 1개 이상의 검출기를 사용하는 것이다. 또 다른 바람직한 검출기 조합은 이온-선택성 전극 검출기로 탁도 측정 검출기를 사용하는 것이다. 상기한 것들 이외의 검출기들의 조합이 역시 사용될 수 있다. 도 9-15d에 예시된 모든 장치는 진공 챔버로서 역시 작용하는 챔버(20)를 사용할 수 있음으로써, 진공 소스를 갖는 챔버 내에서 진공 건조가 수행될 수 있다. 액상 또는 기상 멸균을 위한 여러 가지 멸균 시스템이 도 9-15d에 예시된 본 발명의 장치에 조합될 수 있다. 길로 좁은 루멘 장치가 클리닝 및(또는) 멸균될 때, 챔버(20)는 2개의 서브-챔버 내에 개별적으로 놓인 루멘의 2개의 개방된 단부를 갖는 밀봉가능한 경계면에 의해 분리되는 2개의 서브-챔버로 추가로 분할될 수 있다. 2개의 서브-챔버들 간에 압력차가 발생할 수 있으므로써, 클리닝 또는 멸균제 액체가 루멘을 통해 흐른다. 따라서, 루멘은 보다 효율적으로 클리닝되고 멸균될 수 있다.In general, embodiments of the device of the invention illustrated in FIGS. 9-15D may use one or more additional contaminant detectors. Contaminant detectors suitable for detecting proteins are particularly usefully added. In such embodiments, it is desirable to use one or more detectors for detecting inorganic contaminants in combination with ultraviolet-visible spectroscopic detectors suitable for detecting proteins and other organic species. An example of the latter type of detector is a spectrophotometer that uses a detection wavelength of 220 nm, and one of its principles has been found in the body in ultraviolet absorption wavelengths common to all proteins and many organic molecules. Many other wavelengths are also suitable, including 260, 265, 280 nm. Another preferred contaminant detector combination is to use one or more detectors with a chromatographic autotitrator to detect proteins. Another preferred detector combination is to use a turbidity detector as an ion-selective electrode detector. Combinations of detectors other than those described above may also be used. All of the apparatus illustrated in FIGS. 9-15D can use chamber 20 which also acts as a vacuum chamber, whereby vacuum drying can be performed in a chamber with a vacuum source. Various sterilization systems for liquid or gaseous sterilization can be combined in the apparatus of the invention illustrated in FIGS. 9-15D. When the narrow narrow lumen device is cleaned and / or sterilized, the chamber 20 is divided into two sub-chambers separated by a sealable interface having two open ends of lumens individually placed in the two sub-chambers. It can be further divided. As a pressure differential can occur between the two sub-chambers, the cleaning or sterilant liquid flows through the lumen. Thus, lumens can be cleaned and sterilized more efficiently.

상기 실시예들은 단지 예시의 목적으로 제공되었고, 본 발명을 제한시키려는 것이 아니며, 본 발명의 정신 및 범위에서 벗어나지 않는 많은 변화가 가능하다.The above embodiments are provided for illustrative purposes only and are not intended to limit the invention, and many variations are possible without departing from the spirit and scope of the invention.

도 1은 실온에서 탈이온수 중의 염화나트륨 접종된(inoculated) 스테인레스강 블레이드들(stainless blades)의 염화나트륨 방출률을 나타내는 그래프.1 is a graph showing sodium chloride release rate of sodium chloride inoculated stainless steel blades in deionized water at room temperature.

도 2는 실온에서 탈이온수 중의 알루미늄 용액 접종된 스테인레스강 블레이드의 알부민 및 염화나트륨 방출률을 나타내는 그래프.2 is a graph showing albumin and sodium chloride release rates of stainless steel blades inoculated with aluminum solution in deionized water at room temperature.

도 3은 실온에서 탈이온수 중의 RPMI 조직 배양 배지 + 10% 소의 태아 혈청(FBS) 오염된 스테인레스강 블레이드의 염화나트륨 및 단백질 방출률을 나타내는 그래프.FIG. 3 is a graph showing sodium chloride and protein release rates of RPMI tissue culture medium + 10% fetal bovine serum (FBS) contaminated stainless steel blade in deionized water at room temperature.

도 4는 실온에서 탈이온수 중의 소의 태아 혈청 접종된 스테인레스강 블레이드의 염화나트륨 및 단백질 방출률을 나타내는 그래프.4 is a graph showing sodium chloride and protein release rates of fetal bovine serum inoculated stainless steel blades in deionized water at room temperature.

도 5는 23℃, 200 RPM의 교반(agitation) 속도에서 1% 도데실황산나트륨(sodium dodecylsulfate) 용액 중의 소(bovine)의 완전혈(whole blood) 접종된 스테인레스강 블레이드의 염화나트륨 및 단백질 방출률을 나타내는 그래프.FIG. 5 is a graph showing the sodium chloride and protein release rates of bovine whole blood inoculated stainless steel blades in 1% sodium dodecylsulfate solution at 23 ° C., 200 RPM agitation rate. .

도 6은 23℃, 200 RPM의 교반 속도에서 1% 도데실황산나트륨 용액 중의 소의 완전혈 접종된 폴리테트라플루오로에틸렌 스트립의 염화나트륨 및 단백질 방출률을 나타내는 그래프.FIG. 6 is a graph showing sodium chloride and protein release rates of bovine fully blood inoculated polytetrafluoroethylene strips in 1% sodium dodecyl sulfate solution at a stirring rate of 23 ° C., 200 RPM.

도 7은 21℃, 45℃ 및 상이한 교반 속도에서 1% 도데실황산나트륨 용액 중의 소의 완전 혈 접종된 스테인레스강 블레이드의 단백질 방출률을 나타내는 그래프.FIG. 7 is a graph showing the protein release rate of fully inoculated stainless steel blades of bovine in 1% sodium dodecyl sulfate solution at 21 ° C., 45 ° C. and different stirring rates.

도 8은 상이한 온도에서 탈이온수 중의 소의 완전혈 접종된 폴리테트라플루오로에틸렌 스트립의 단백질 방출률을 나타내는 그래프.FIG. 8 is a graph showing the protein release rate of whole blood inoculated polytetrafluoroethylene strips of bovine in deionized water at different temperatures.

도 9는 본 발명의 방법이 실시될 수 있는 본 발명 장치의 일 실시예를 나타내는 개략도.9 is a schematic representation of one embodiment of the inventive device in which the method of the present invention may be practiced.

도 10은 본 발명의 방법이 실시될 수 있는 본 발명 장치의 제2 실시예를 나타내는 개략도.10 is a schematic representation of a second embodiment of the inventive device in which the method of the present invention may be practiced.

도 11은 본 발명의 방법이 실시될 수 있는 본 발명 장치의 제3 실시예를 나타내는 개략도.Fig. 11 is a schematic diagram showing a third embodiment of the device of the present invention in which the method of the present invention may be implemented.

도 12는 본 발명의 방법이 실시될 수 있는 본 발명 장치의 제4 실시예를 나타내는 개략도.12 is a schematic representation of a fourth embodiment of the inventive device in which the method of the present invention may be practiced.

도 13은 본 발명의 방법이 실시될 수 있는 본 발명 장치의 제5 실시예를 나타내는 개략도.Fig. 13 is a schematic diagram showing a fifth embodiment of the apparatus of the present invention in which the method of the present invention may be implemented.

도 14는 오염물의 검출을 용이하게 하는 화학 원료를 갖는, 본 발명의 다른 실시예에 따른 장치의 개략도.14 is a schematic diagram of an apparatus according to another embodiment of the present invention having a chemical raw material that facilitates detection of contaminants.

도 15a 내지 도 15d는 오염물로 뒤덮인 표준물을 갖는, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 장치의 개략도.15A-15D are schematic diagrams of an apparatus according to another embodiment of the present invention having standards covered with contaminants.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

20: 세척 챔버 22: 의료 장치20: cleaning chamber 22: medical device

24: 수술 기구 40, 44: 액체 출구24: surgical instruments 40, 44: liquid outlet

41, 47, 46, 57: 밸브 50, 55, 58: 액체 콘딧41, 47, 46, 57: valves 50, 55, 58: liquid conduits

56: 액체 입구 59: 드레인 출구56: liquid inlet 59: drain outlet

60: 액체 펌프 64, 70, 71: 전극 프로브60: liquid pump 64, 70, 71: electrode probe

81: 물 저장기 102: 인클로저81: water reservoir 102: enclosure

104: 밸브 112, 122: 검출기104: valve 112, 122: detector

114: 광원114: light source

Claims (8)

의료 기구용의 클리닝 과정을 감시하기 위한 장치에 있어서,An apparatus for monitoring a cleaning process for a medical device, 클리닝 액체로 상기 기구를 수용하여 클리닝하기 위한 챔버;A chamber for receiving and cleaning the instrument with a cleaning liquid; 상기 챔버 내에 위치되고 상기 챔버와 조절가능하게 유체 연통(fluid communication)하는 미리정해진 양의 오염물을 포함하는 표준물로서, 상기 챔버 내의 액체와 유체 연통하는 상기 표준물;18. A standard comprising a predetermined amount of contaminants located within said chamber and in adjustable fluid communication with said chamber, said standard comprising: a standard in fluid communication with a liquid in said chamber; 상기 챔버로부터 상기 표준물을 제거함이 없이 상기 표준물 상의 오염물의 양의 지시(indication)를 제공하는 검출기; 및A detector that provides an indication of the amount of contaminants on the standard without removing the standard from the chamber; And 상기 장치 내의 상기 클리닝된 기구를 멸균하는데 적합한 멸균기를 포함하는, 의료 기구용 클리닝 과정 감시 장치.And a sterilizer suitable for sterilizing the cleaned instrument in the device. 제 1 항에 있어서, 상기 지시는 상기 오염물의 농도, 전위, 도전율, 특정 파장에 대한 투명도, 또는 상기 클리닝을 위해 사용된 클리닝/헹굼(rinsing) 액체의 색으로 이루어진 군(group)으로부터 선택된 신호인, 의료 기구용 클리닝 과정 감시 장치.The method of claim 1, wherein the indication is a signal selected from the group consisting of the concentration, potential, conductivity of the contaminant, transparency to a particular wavelength, or a color of the cleaning / rinsing liquid used for the cleaning. Equipment for cleaning process of medical instruments. 제 1 항에 있어서, 상기 표준물을 통해 이동하여 상기 검출기에 도달하는 미리정해진 파장의 광 빔(light beam)을 생성하는 광원을 더 포함하는, 의료 기구용 클리닝 과정 감시 장치.The apparatus of claim 1, further comprising a light source that travels through the standard to produce a light beam of a predetermined wavelength reaching the detector. 제 2 항에 있어서, 상기 표준물은 상기 챔버와 조절가능하게 유체 연통하는 인클로저 내에 놓이는, 의료 기구용의 클리닝 과정 감시 장치.The apparatus of claim 2, wherein the standard is placed in an enclosure in adjustable fluid communication with the chamber. 제 4 항에 있어서, 상기 검출기는 상기 인클로저 내에 위치되는 전극을 포함하는, 의료 기구용의 클리닝 과정 감시 장치.The apparatus of claim 4, wherein the detector comprises an electrode located within the enclosure. 제 1 항에 있어서, 상기 검출기는 이온-선택성 전극들, 도전율, 분광분석, 이온 크로마토그래피, 모세관 전기영동, 고성능 액체 크로마토그래피, 액체 크로마토그래피, 방사선활성, 중력측정, 적외선 분광분석, 분압측정 및 탁도측정으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 의료 기구용 클리닝 과정 감시 장치.The method of claim 1, wherein the detector comprises ion-selective electrodes, conductivity, spectroscopy, ion chromatography, capillary electrophoresis, high performance liquid chromatography, liquid chromatography, radioactivity, gravity, infrared spectroscopy, partial pressure measurement and A cleaning process monitoring apparatus for a medical device, the apparatus selected from the group consisting of turbidity measurements. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버에 접속된 진공 펌프를 더 포함하고, 상기 챔버는 또한 진공 챔버로서 기능하는, 의료 기구용 클리닝 과정 감시 장치.The apparatus of claim 1, further comprising a vacuum pump connected to the chamber, wherein the chamber also functions as a vacuum chamber. 제 1 항에 있어서, 멸균 시스템을 더 포함하는, 의료 기구용 클리닝 과정 감시 장치.The apparatus of claim 1, further comprising a sterilization system.
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