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KR100688825B1 - Manufacturing Method of Printed Circuit Board Using Projection Welding Method - Google Patents

Manufacturing Method of Printed Circuit Board Using Projection Welding Method Download PDF

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KR100688825B1
KR100688825B1 KR1020040115161A KR20040115161A KR100688825B1 KR 100688825 B1 KR100688825 B1 KR 100688825B1 KR 1020040115161 A KR1020040115161 A KR 1020040115161A KR 20040115161 A KR20040115161 A KR 20040115161A KR 100688825 B1 KR100688825 B1 KR 100688825B1
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bump
conductive material
dry film
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명은 코어(core)재를 사용하지 않는 코어리스(coreless) 공법으로서 서로 다른 접점에 전류를 일시에 통전시킴으로써 피용접재의 범프와 가압에 의해서 전류 통로가 제한적으로 형성되는 프로젝션 용접(projection welding) 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention is a coreless method that does not use a core material. Projection welding in which current paths are limited by bump and pressurization of a welded material by energizing current at different contacts at a time. It relates to a method of manufacturing a printed circuit board using the method.

본 발명에 따른 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법은 전도성 물질층에 범프를 형성하는 제 1 단계; 상기 전도성 물질층의 범프가 형성된 면에 열 가소성 수지를 도포하는 제 2 단계; 상기 열 가소성 수지층에 전도성 물질을 도포하는 제 3 단계; 프로젝션 용접 방식에 의해 범프와 전도성 물질층의 접점을 용접하는 제 4 단계; 및 소정의 패턴을 포함하는 회로를 형성하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing a printed circuit board using the projection welding method according to the present invention includes a first step of forming a bump in a conductive material layer; A second step of applying a thermoplastic resin to the bump-formed surface of the conductive material layer; Applying a conductive material to the thermoplastic resin layer; A fourth step of welding the contacts between the bump and the conductive material layer by a projection welding method; And a fifth step of forming a circuit including a predetermined pattern.

프로젝션, 범프, 열 가소성 수지, 드라이 필름Projection, Bump, Thermoplastic, Dry Film

Description

프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법{Method for fablicating print circuit board using method for projection welding}Method for fablicating print circuit board using method for projection welding}

도 1a 내지 도 1f는 종래의 제 1 실시예에 의해 제조된 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.1A to 1F are cross-sectional views showing the flow of a method of manufacturing a printed circuit board manufactured according to the first embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2g는 종래의 제 2 실시예에 의해 제조된 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.2A to 2G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board manufactured according to the second embodiment of the present invention.

도 3a 내지 도 3e는 종래의 제 3 실시예에 의해 제조된 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.3A to 3E are cross-sectional views showing the flow of a method of manufacturing a printed circuit board manufactured according to the third embodiment of the prior art.

도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.4A to 4G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the first embodiment of the present invention.

도 5a 내지 도 5g는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.5A to 5G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the second embodiment of the present invention.

도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.6A to 6G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the third embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.7A to 7G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the fourth embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100 : 원판 304 : 피압압체100 disc 304: pressure member

101 : 절연층 305 : 덧댐판101: insulation layer 305: backing plate

102a, 102b : 동박 306 : 동박102a, 102b: Copper foil 306: Copper foil

103a, 103b : 동도금층 307 : 보호막103a, 103b: copper plating layer 307: protective film

104a, 104b : 드라이 필름 308 : 도통홀104a, 104b: Dry Film 308: Through Hole

201 : 절연층 401 : 하부 구리층201: insulating layer 401: lower copper layer

202a, 202b : 동박 402 : 드라이 필름202a, 202b: copper foil 402: dry film

203a, 203b : 동도금층 403 : 동도금층203a, 203b: copper plating layer 403: copper plating layer

204 : 전도성 페이스트 404 : 범프204: conductive paste 404: bump

205a, 205b : 드라이 필름 405 : 열 가소성 수지205a, 205b: dry film 405: thermoplastic resin

301 : 동박 406 : 상부 구리층301: copper foil 406: upper copper layer

302 : 범프 A, B : 도통홀302: bump A, B: through hole

303 : 합성수지 시트303: Synthetic Resin Sheet

본 발명은 인쇄회로기판의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 코어(core)재를 사용하지 않는 코어리스(coreless) 공법으로서 서로 다른 접점에 전류를 일시에 통전시킴으로써 피용접재의 범프와 가압에 의해서 전류 통로가 제한적으로 형성되는 프로젝션 용접(projection welding) 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제 조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board, and more particularly, to a bumpless and pressurized material of a to-be-welded material by applying a current to a different contact at a time as a coreless method without using a core material. The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board using a projection welding method in which current paths are limited.

최근, 양면형 인쇄회로기판 혹은 다층형 인쇄회로기판에 있어서는 양면 도전 패턴등의 배선층간의 전기적인 접속을 다음과 같은 방법으로 수행하고 있다. 먼저, 양면형 인쇄회로기판의 경우, 양면 동박기판의 소정위치에 드릴링(혹은 천공) 가공을 수행하고, 드릴링(혹은 천공)후 생긴 홀의 내벽면을 포함하는 전면에 화학 도금처리후, 전기도금처리로 홀속 내벽의 금속층을 두껍게 하고 도통의 신뢰성을 높인 배선층간의 전기적인 접속을 수행하고 있다.Recently, in a double-sided printed circuit board or a multilayered printed circuit board, electrical connection between wiring layers such as a double-sided conductive pattern is performed in the following manner. First, in the case of a double-sided printed circuit board, drilling (or drilling) processing is performed at a predetermined position of the double-sided copper foil substrate, and after chemical plating treatment on the entire surface including the inner wall surface of the hole formed after drilling (or drilling), electroplating treatment The electrical connection between the wiring layers, which makes the metal layer on the inner wall of the furnace thick and thickens the conduction reliability, is performed.

또한, 다층 인쇄회로기판의 경우는, 기판의 양면에 있는 동박을 각각 패턴화 한 후, 그 패턴상에 절연층을 이용하여 동박을 적층 및 배치하고, 가열가압 방법에 의해 일체화한 뒤, 양면형 인쇄회로기판의 적층수를 늘리는 방식으로 제조하고 있다. 전술한 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서는, 배선층간의 전기적인 접속을 도금방법에 의해 수행하고 있고, 또다른 방법으로는 양면 동박기판의 소정위치에 드릴링(혹은 천공)하고, 이 홀내에 도전성 페이스트를 유입시켜, 홀내에 유입된 도전성 페이스트의 수지분을 경화시킨 후, 배선층간을 전기적으로 접속하는 방법이 행해지고 있다.In the case of a multilayer printed circuit board, the copper foils on both sides of the substrate are patterned, and the copper foils are laminated and arranged on the pattern using an insulating layer, and then integrated by a heating and pressing method. It is manufactured by increasing the number of laminated printed circuit boards. In the above-described method of manufacturing a printed circuit board, the electrical connection between the wiring layers is performed by a plating method. In another method, the conductive paste is drilled (or drilled) at a predetermined position on the double-sided copper foil substrate, and a conductive paste is inserted into the hole. After making it flow in and hardening resin powder of the electrically conductive paste which flowed in the hole, the method of electrically connecting between wiring layers is performed.

도 1a 내지 도 1f는 종래의 제 1 실시예에 의해 제조된 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.1A to 1F are cross-sectional views showing the flow of a method of manufacturing a printed circuit board manufactured according to the first embodiment of the present invention.

도 1a에서와 같이, 절연층(101) 및 절연층(101)의 양면에 동박(102a, 102b)을 포함하는 동박적층판인 원판(100)을 준비하고, 도 1b에서와 같이, 레이져를 이용하여 원판(100)의 양면에 전기적 도통을 위한 도통홀(A)을 형성한다.As shown in FIG. 1A, an original plate 100, which is a copper-clad laminate including copper foils 102a and 102b, is prepared on both surfaces of the insulating layer 101 and the insulating layer 101, and as shown in FIG. 1B, using a laser. Conductive holes A are formed on both sides of the disc 100 for electrical conduction.

이후, 도 1c에서와 같이, 원판(100)의 표면과 도통홀(A)의 내부를 동도금(103a, 103b)한다. 절연층(101)상에서는 전기가 필요한 전해 동도금을 실시할 수 없기 때문에 통상적으로 무전해 동도금을 먼저 수행하고 그 다음 전해 동도금을 수행한다.Thereafter, as shown in FIG. 1C, the surface of the disc 100 and the inside of the through hole A are copper plated 103a and 103b. Since the electrolytic copper plating that requires electricity cannot be performed on the insulating layer 101, electroless copper plating is usually performed first, followed by electrolytic copper plating.

그리고, 도 1d에서와 같이, 드라이 필름(104a, 104b)을 도포하고 노광 및 현상공정을 한다. 이후, 도 1e에서와 같이, 노광 및 현상공정을 거쳐 경화된 드라이 필름(104a, 104b)을 에칭 레지스트로 사용하여 소정의 회로 패턴(103a, 103b)을 형성한다.Then, as shown in FIG. 1D, the dry films 104a and 104b are coated and subjected to exposure and development processes. Thereafter, as shown in FIG. 1E, predetermined circuit patterns 103a and 103b are formed by using the dry films 104a and 104b cured through the exposure and development processes as etching resists.

최종적으로, 도 1f에서와 같이, 드라이 필름(104a, 104b)을 박리하면 소정의 회로 패턴(103a, 103b)을 포함하는 내층이 형성된다.Finally, as illustrated in FIG. 1F, when the dry films 104a and 104b are peeled off, an inner layer including the predetermined circuit patterns 103a and 103b is formed.

다음, 도 2a 내지 도 2g는 종래의 제 2 실시예에 의해 제조된 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.Next, FIGS. 2A to 2G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board manufactured according to the second embodiment of the present invention.

도 2a에서와 같이, 절연층(201) 및 절연층(201)의 양면에 동박(202a, 202b)을 포함하는 동박적층판인 원판(200)을 준비하고, 도 2b에서와 같이, 레이져를 이용하여 원판(200)의 절연층(201) 및 양면 동박(202a, 202b)에 도통홀(B)을 형성한다.As shown in FIG. 2A, an original plate 200, which is a copper clad laminate including copper foils 202a and 202b, is prepared on both surfaces of the insulating layer 201 and the insulating layer 201, and as shown in FIG. 2B, using a laser. The through hole B is formed in the insulating layer 201 and the double-sided copper foils 202a and 202b of the master plate 200.

이후, 도 2c에서와 같이, 원판(200)의 표면과 도통홀(B)의 내부를 동도금(203a, 203b)한다. 절연층(201) 위에서는 전기가 필요한 전해 동도금을 실시할 수 없기 때문에 통상적으로 무전해 동도금을 먼저 수행하고 그 다음 전해 동도금을 수행한다.Thereafter, as shown in FIG. 2C, the surface of the disc 200 and the inside of the through hole B are copper plated 203a and 203b. Since the electrolytic copper plating that requires electricity cannot be performed on the insulating layer 201, electroless copper plating is usually performed first, followed by electrolytic copper plating.

또한, 도 2d에서와 같이, 도통홀(B) 내부를 전도성 페이스트(204)로 충진한 후 버퍼등으로 연마시킨다. 그리고, 도 2e에서와 같이, 드라이 필름(205a, 205b)을 도포하고 노광 및 현상공정을 한다. Also, as shown in FIG. 2D, the conductive hole B is filled with the conductive paste 204 and then polished with a buffer or the like. Then, as shown in FIG. 2E, the dry films 205a and 205b are applied, and the exposure and development processes are performed.

이후, 도 2f에서와 같이, 노광 및 현상공정을 거쳐 경화된 드라이 필름(205a, 205b)을 에칭 레지스트로 사용하여 소정의 회로 패턴(203a, 203b)을 형성하고, 최종적으로, 도 2g에서와 같이, 드라이 필름(205a, 205b)을 박리하면 소정의 회로 패턴(203a, 203b)을 포함하는 내층이 형성된다.Thereafter, as shown in FIG. 2F, predetermined circuit patterns 203a and 203b are formed by using the dry films 205a and 205b cured through the exposure and development processes as etching resists, and finally, as shown in FIG. 2G. When the dry films 205a and 205b are peeled off, an inner layer including the predetermined circuit patterns 203a and 203b is formed.

이와 같은 제 1 실시예에서는 기판에 배선층간의 전기적인 접속용의 비아홀(A) 형성, 형성된 비아홀(A) 내벽을 포함한 도금 처리 공정등을 필요로 하기때문에, 인쇄회로기판의 제조 공정이 단순하지 못하고 복잡한 문제점이 있었다. 한편, 제 2 실시예에서도 제 1 실시예와 마찬가지로 비아홀(B) 형성 과정이 필요로 하고, 게다가, 비아홀(B) 내부에 균일한 도전성 페이스트(204)를 충진하는 것이 어렵고, 전기적인 접속에 있어서의 신뢰성에 문제가 있었다.In this first embodiment, since the via hole A for electrical connection between the wiring layers is formed on the substrate, and the plating process including the inner wall of the formed via hole A is required, the manufacturing process of the printed circuit board is not simple. There was a complicated problem. On the other hand, also in the second embodiment, as in the first embodiment, the via hole B formation process is required, and in addition, it is difficult to fill the uniform conductive paste 204 inside the via hole B, and in electrical connection, There was a problem with its reliability.

또한, 제 1 실시예 및 제 2 실시예는 비아홀(A,B) 형성을 필요로 하기 때문에 인쇄회로기판의 저비용화등에의 대응할 수 없는 문제점이 있었다.In addition, since the first and second embodiments require the formation of via holes A and B, there is a problem that the cost of the printed circuit board cannot be reduced.

게다가, 제 1 실시예 및 제 2 실시예는, 인쇄회로기판에서 배선층간의 접속에 있어서 비아홀(A,B)이 형성되어 있기 때문에, 비아홀(A,B) 영역에 배선을 형성 및 배치할 수 없고, 배선 밀도의 향상이 제약되는 것과 동시에, 전자 부품의 실장 밀도 향상도 저해된다고 하는 문제가 있었다.In addition, in the first and second embodiments, since the via holes A and B are formed in the connection between the wiring layers in the printed circuit board, wiring cannot be formed and arranged in the via hole A and B regions. In addition, there is a problem that the improvement of the wiring density is restricted and the improvement of the mounting density of the electronic component is also inhibited.

그 다음, 도 3a 내지 도 3e는 종래의 제 3 실시예에 의해 제조된 인쇄회로기 판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.3A to 3E are cross-sectional views showing the flow of the manufacturing method of the printed circuit board manufactured by the third embodiment of the prior art.

도 3a에서와 같이, 먼저, 인쇄회로기판의 제조에 사용되는 전해 동박(301)을 준비하고 동박(301)상에 도전성 페이스트가 인쇄된 범프(302)를 적층한다.As shown in FIG. 3A, first, an electrolytic copper foil 301 used for manufacturing a printed circuit board is prepared, and a bump 302 printed with a conductive paste is laminated on the copper foil 301.

다음, 도 3b에서와 같이, 합성 수지 시트(303), 실리콘 고무판으로 형성된 피압압체(304) 및 덧댐판(305)을 배치하여 가열·가압·냉각 기구가 포함된 프레스 장치에 장착해, 가압하지 않고 가온시켜 일괄 적층한다.Next, as shown in FIG. 3B, the synthetic resin sheet 303, the press member 304 formed of the silicone rubber plate, and the backing plate 305 are disposed and mounted on a press apparatus including a heating, pressing and cooling mechanism, and do not pressurize. Heated without lamination to batch.

그다음, 도 3c에서와 같이, 온도가 250℃으로 상승한 시점에서, 합성 수지 시트(303)를 관삽한 적층체를 얻을 수 있고, 이후, 3d에서와 같이, 전해 동박(306) 및 보호막(307)을 각각 적층한다.Then, as shown in FIG. 3C, when the temperature rises to 250 ° C., a laminate obtained by inserting the synthetic resin sheet 303 can be obtained. Then, as in 3D, the electrolytic copper foil 306 and the protective film 307 are obtained. Lay each one.

최종적으로, 도 3e에서와 같이, 270℃으로 가온시킨 후 가압하여 냉각시키면 보호막(307)이 떨어지고 도통홀(308)을 갖춘 양면인쇄회로기판을 얻을 수 있다.Finally, as shown in FIG. 3E, when heated to 270 ° C. and then pressurized to cool, the protective film 307 may fall and a double-sided printed circuit board having a through hole 308 may be obtained.

여기서, 종래의 제 3 실시예는 도통홀 형성을 위한 드릴링 및 도금 충진의 공정이 생략되었지만, 범프 연결시 고열 압착 방식에 의한 열 구배에 의해 접합 신뢰성이 떨어지는 문제점이 있었다.Here, in the third embodiment of the prior art, the process of drilling and plating filling for forming the through hole is omitted, but there is a problem in that the joint reliability is lowered due to the thermal gradient by the high temperature compression method when connecting the bumps.

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 기술적 과제는 공정이 단순화되고 범프와 동박간의 높은 접합신뢰성을 갖는 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는 것이다.
The technical problem of the present invention for solving the above problems is to provide a method of manufacturing a printed circuit board using a projection welding method which has a simplified process and high bonding reliability between bumps and copper foil.

상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조방법은 전도성 물질층에 범프를 형성하는 제 1 단계; 상기 전도성 물질층의 범프가 형성된 면에 열 가소성 수지를 도포하는 제 2 단계; 상기 열 가소성 수지층에 전도성 물질을 도포하는 제 3 단계; 프로젝션 용접 방식에 의해 범프와 전도성 물질층의 접점을 용접하는 제 4 단계; 및 소정의 패턴을 포함하는 회로를 형성하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above technical problem, a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention comprises a first step of forming a bump on the conductive material layer; A second step of applying a thermoplastic resin to the bump-formed surface of the conductive material layer; Applying a conductive material to the thermoplastic resin layer; A fourth step of welding the contacts between the bump and the conductive material layer by a projection welding method; And a fifth step of forming a circuit including a predetermined pattern.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a manufacturing method of a printed circuit board using the projection welding method according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.4A to 4G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection welding method according to the first embodiment of the present invention.

도 4a에서와 같이, 얇은 구리코일(401)상에 드라이 필름(402)을 적층한다. 여기서, 드라이 필름(402)은 범프 형성용 드라이 필름을 도포하는 것이 바람직하다.As in FIG. 4A, the dry film 402 is laminated on the thin copper coil 401. Here, it is preferable that the dry film 402 apply | coats the dry film for bump formation.

다음, 도 4b에서와 같이, 도포된 드라이 필름(402)을 소정의 패턴을 포함하는 아트워크필름 또는 글래스 마스크를 이용하여 노광 및 현상 공정을 실시한다. 여기서 도포된 드라이 필름(402)은 어디티브 법(additive)에 의한 도금 레지스트로 이용되며 노광 공정에 의해 경화된 부분은 소정의 패턴을 형성하고, 경화되지 않은 부분은 현상 공정에 의해 제거된다.Next, as illustrated in FIG. 4B, the coated dry film 402 is subjected to an exposure and development process using an artwork film or a glass mask including a predetermined pattern. The applied dry film 402 is used as a plating resist by an additive method, and a portion cured by an exposure process forms a predetermined pattern, and an uncured portion is removed by a development process.

그 다음, 도 4c에서와 같이, 전해 동도금(403)을 실시하여 얇은 구피포일 (401)을 두껍게 성장시켜 드라이 필름(402)의 패턴에 따른 범프(404)를 형성하고 드라이 필름(402)을 박리한다. 이때 구리호일(401)의 성장 두께는 범프(404)의 성장속도를 고려하여 구리호일(401)이 원하는 두께가 되도록 성장시키다. 여기서, 전해 동도금층(403)을 형성하는 방법은 원판(400)을 동도금 작업통에 침식시킨 후 직류 정류기를 이용하여 전해 동도금(403)을 수행한다. 이러한 전해 동도금(403)은 도금될 면적을 계산하여 직류 정류기에 적당한 전류를 동을 석출하는 방식을 사용하는 것이 바람직하다.Then, as shown in FIG. 4C, electrolytic copper plating 403 is performed to grow the thin goofy foil 401 thickly to form a bump 404 according to the pattern of the dry film 402, and to peel off the dry film 402. do. At this time, the growth thickness of the copper foil 401 is grown in consideration of the growth rate of the bump 404 so that the copper foil 401 to the desired thickness. Here, in the method of forming the electrolytic copper plating layer 403, the original plate 400 is eroded into the copper plating working cylinder, and then the electrolytic copper plating 403 is performed using a DC rectifier. The electrolytic copper plating 403 is preferably used to calculate the area to be plated to deposit a suitable current in the DC rectifier.

전해 동도금(403) 공정은 동도금층(403)의 물리적 특성이 무전해 동도금층보다 우수하고, 두꺼운 동도금층(403)을 형성하기 용이한 장점이 있다.In the electrolytic copper plating 403 process, the physical properties of the copper plating layer 403 are superior to the electroless copper plating layer, and there is an advantage in that a thick copper plating layer 403 is easily formed.

이러한 전해 동도금층(403)을 형성하기 위한 동도금 인입선은 별도로 형성된 동도금 인입선을 사용할 수 있으나, 본 발명에 따른 바람직한 실시예에서, 전해 동도금층을 형성하기 위한 동도금 인입선은 구리 포일(401)을 사용하는 것이 바람직하다.The copper plating lead wire for forming the electrolytic copper plating layer 403 may use a copper plating lead wire formed separately, but in a preferred embodiment of the present invention, the copper plating lead wire for forming the electrolytic copper plating layer uses a copper foil 401. It is preferable.

이후, 도 4d에서와 같이, 열가소성 수지(405)를 도포하고 밀착한다. 여기서, 열가소성 수지(405)는 폴리에틸렌, 나일론, 폴리아세탈수지, 염화비닐수지, 폴리스티렌, ABS수지, 아크릴수지 등을 사용하는 것이 바람직하다.Thereafter, as shown in FIG. 4D, the thermoplastic resin 405 is coated and adhered. Here, the thermoplastic resin 405 is preferably polyethylene, nylon, polyacetal resin, vinyl chloride resin, polystyrene, ABS resin, acrylic resin and the like.

그다음, 도 4e에서와 같이, 불필요한 열가소성 수지(405)를 연마하고 구리(406)를 도포한다. 여기서 불필요한 열가소성 수지(405)를 연마하기 위해 버퍼등을 사용하는 것이 바람직하다.Then, as in FIG. 4E, unnecessary thermoplastic resin 405 is polished and copper 406 is applied. It is preferable to use a buffer or the like for polishing the unnecessary thermoplastic resin 405 here.

그리고, 도 4f에서와 같이, 양면의 구리층(403, 406)에 전기를 흘려서 프로 젝트 용접을 실시한다. 여기서, 양면의 구리층(403, 406)에 전기를 흘려주면 범프 접점이 녹으면서 용접이 되기 때문에 접합 신뢰성이 향상된다. 프로젝션 용접은 피용접재의 범프(404)와 가압에 의해서 전류 통로가 제한적으로 형성되고, 저항열은 범프(404)와 그 상대 피용접재의 제한된 전류 통로에서 발생하여 접촉부를 용융시켜서 용접된다.Then, as shown in Fig. 4F, the project welding is performed by flowing electricity to the copper layers 403 and 406 on both sides. Here, when electricity is supplied to the copper layers 403 and 406 on both sides, the bump contact is welded while melting, so that the joining reliability is improved. Projection welding is limited in the current path by the bump 404 and the pressure of the welded material, the resistance heat is generated in the limited current path of the bump 404 and its relative welded material is welded by melting the contact.

최종적으로 도 4g에서와 같이, 양면에 회로 패턴(403, 406)을 형성한다. 여기서, 양면의 회로 패턴(403, 406)은 일반적인 회로형성단계를 거쳐 형성한다.Finally, as in FIG. 4G, circuit patterns 403 and 406 are formed on both sides. Here, the circuit patterns 403 and 406 on both sides are formed through a general circuit forming step.

도 5a 내지 도 5g는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.5A to 5G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection welding method according to the second embodiment of the present invention.

도 5a에서와 같이, 구리층(501) 및 구리층(501)의 양면에 드라이 필름(502, 503)을 도포한 원판을 준비한다. 여기서 구리층(501)의 상면에는 범프 형성용 드라이 필름(502)을 도포하고 구리층의 하면에는 노광 및 내도금용 드라이 필름(503)을 도포하는 것이 바람직하다. 또한, 제 1 실시예에 쓰인 구리층(401)에 비해 두꺼운 구리층(501)을 사용한다. 즉, 구리층(501)이 전해도금이 되지 않기 때문에 미리 원하는 도금 두께의 도금층을 준비하면 된다.As shown in FIG. 5A, original plates coated with dry films 502 and 503 on both surfaces of the copper layer 501 and the copper layer 501 are prepared. It is preferable to apply the bump forming dry film 502 to the upper surface of the copper layer 501 and to apply the dry film 503 for exposure and plating to the lower surface of the copper layer. In addition, a thicker copper layer 501 is used than the copper layer 401 used in the first embodiment. That is, since the copper layer 501 is not electroplated, what is necessary is just to prepare the plating layer of desired plating thickness in advance.

다음, 도 5b에서와 같이, 구리층(501) 양면의 드라이 필름(502, 503)에 노광 및 현상을 한다. 여기서 노광 공정에 의해 경화된 부분은 소정의 패턴을 형성하고, 경화되지 않은 부분은 현상 공정에 의해 제거된다.Next, as shown in FIG. 5B, the dry films 502 and 503 on both surfaces of the copper layer 501 are exposed and developed. Here, the part hardened | cured by the exposure process forms a predetermined pattern, and the part which is not hardened is removed by the image development process.

그리고, 도 5c에서와 같이, 전해 도금(504)을 실시하여 드라이 필름(502, 503)의 패턴에 따라 범프(504)를 형성하고, 드라이 필름(502, 503)을 제거한다. 여기서, 전해 동도금층(504)을 형성하는 방법은 원판(500)을 동도금(504) 작업통에 침식시킨 후 직류 정류기를 이용하여 전해 동도금(504)을 수행한다. 이러한 전해 동도금(504)은 도금될 면적을 계산하여 직류 정류기에 적당한 전류를 동을 석출하는 방식을 사용하는 것이 바람직하다.5C, electrolytic plating 504 is performed to form bumps 504 according to the patterns of the dry films 502 and 503, and the dry films 502 and 503 are removed. Here, in the method of forming the electrolytic copper plating layer 504, the electroplated copper plating 504 is performed by using a direct current rectifier after eroding the original plate 500 in the copper plating 504 working cylinder. The electrolytic copper plating 504 is preferably used to calculate the area to be plated to deposit a suitable current in the DC rectifier.

이후, 도 5d에서와 같이, 열가소성 수지(505)를 도포하고 밀착한다. 여기서, 열가소성 수지(505)는 폴리에틸렌, 나일론, 폴리아세탈수지, 염화비닐수지, 폴리스티렌, ABS수지, 아크릴수지 등을 사용하는 것이 바람직하다.Thereafter, as shown in FIG. 5D, the thermoplastic resin 505 is coated and adhered. Here, the thermoplastic resin 505 is preferably polyethylene, nylon, polyacetal resin, vinyl chloride resin, polystyrene, ABS resin, acrylic resin and the like.

그다음, 도 5e에서와 같이, 불필요한 열가소성 수지(505)를 연마하고 구리층(506)을 도포한다. 여기서 불필요한 열가소성 수지(505)를 연마하기 위해 버퍼등을 사용하는 것이 바람직하다.Then, as in FIG. 5E, the unnecessary thermoplastic resin 505 is polished and the copper layer 506 is applied. It is preferable to use a buffer or the like for polishing the unnecessary thermoplastic resin 505 here.

그리고, 도 5f에서와 같이, 양면의 구리층(501, 506)에 전기를 흘려서 프로젝트 용접을 실시한다. 여기서, 양면의 구리층(501, 506)에 전기를 흘려주면 범프(504) 접점이 녹으면서 용접이 되기 때문에 접합 신뢰성이 향상된다. 또한, 프로젝션 용접은 피용접재의 범프(504)와 가압에 의해서 전류 통로가 제한적으로 형성되고, 저항열은 범프(504)와 그 상대 피용접재의 제한된 전류 통로에서 발생하여 접촉부를 용융시켜서 용접된다.Then, as in FIG. 5F, electricity is supplied to the copper layers 501 and 506 on both sides to perform project welding. In this case, when electricity is supplied to the copper layers 501 and 506 on both sides, the bump 504 contacts are welded while melting, thereby improving the joining reliability. In addition, the projection welding is limited in the current path by the bump 504 and the pressure of the material to be welded, the heat of resistance is generated in the limited current path of the bump 504 and its relative to-be-welded material to be welded by melting the contact portion.

최종적으로 도 5g에서와 같이, 양면에 회로 패턴(501, 506)을 형성한다.Finally, as in FIG. 5G, circuit patterns 501 and 506 are formed on both sides.

여기서, 양면의 회로 패턴(501, 506)은 일반적인 회로형성단계를 거쳐 형성한다.Here, the circuit patterns 501 and 506 on both sides are formed through a general circuit forming step.

도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로젝션 용접 방법을 이 용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.6A to 6G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection welding method according to the third embodiment of the present invention.

먼저 도 6a에서와 같이, 두께가 두꺼운 구리층(601)상에 드라이 필름(602)을 도포한다. 여기서 범프(603)를 형성하기 위해 두께가 두꺼운 구리층(601)을 준비하는 것이 바람직하다. 이때 구리층(601)의 두께는 범프(603)쪽 면과 반대면이 같이 에칭되므로 에칭속도등을 고려하여 에칭후에 원하는 구리층(601) 두께와 범프(603)가 되도록 미리 두꺼운 구리층(601)을 준비한다. 또한, 드라이 필름(602)은 범프 형성용 드라이 필름(602)을 도포하는 것이 바람직하다.First, as shown in FIG. 6A, a dry film 602 is coated on a thick copper layer 601. Here, it is preferable to prepare a thick copper layer 601 to form the bump 603. At this time, since the thickness of the copper layer 601 is opposite to the surface of the bump 603 side, the thickness of the copper layer 601 is thicker in advance so as to be the desired thickness of the copper layer 601 and the bump 603 after etching in consideration of the etching rate. Prepare. Moreover, it is preferable that the dry film 602 apply | coats the dry film 602 for bump formation.

다음, 도 6b에서와 같이, 구리층(601) 상부면의 드라이 필름(602)에 노광 및 현상 공정을 수행한다. 여기서, 노광 공정에 의해 드라이 필름(602)의 경화된 부분은 소정의 패턴을 형성하고, 드라이 필름(602)의 경화되지 않은 부분은 현상 공정에 의해 제거된다. 또한, 현상액은 탄산나트륨(Na2CO3)이나 탄산칼륨(K2CO 3)수용액을 사용한다.Next, as shown in FIG. 6B, an exposure and development process is performed on the dry film 602 of the upper surface of the copper layer 601. Here, the cured portion of the dry film 602 by the exposure process forms a predetermined pattern, and the uncured portion of the dry film 602 is removed by the developing process. As the developer, an aqueous solution of sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) or potassium carbonate (K 2 CO 3 ) is used.

그리고, 도 6c에서와 같이, 에칭 공정 및 드라이 필름(602)을 박리하여 범프를 형성한다. 여기서, 소정의 패턴이 형성된 드라이 필름(602)을 에칭 레지스트로 사용하고 나머지 부분은 습식 에칭 방식에 의해 에칭한다. 또한, 습식 에칭시 에칭시간을 적당히 조정하여 에칭하는 것이 보다 바람직하다.6C, the etching process and the dry film 602 are peeled off to form bumps. Here, the dry film 602 in which the predetermined pattern is formed is used as an etching resist, and the remaining portions are etched by a wet etching method. Moreover, it is more preferable to etch by adjusting the etching time at the time of wet etching suitably.

이후, 도 6d에서와 같이, 열가소성 수지(604)를 도포하고 밀착한다. 여기서, 열가소성 수지(604)는 폴리에틸렌, 나일론, 폴리아세탈수지, 염화비닐수지, 폴리스티렌, ABS수지, 아크릴수지 등을 사용하는 것이 바람직하다.Thereafter, as shown in FIG. 6D, the thermoplastic resin 604 is coated and adhered. Here, the thermoplastic resin 604 is preferably polyethylene, nylon, polyacetal resin, vinyl chloride resin, polystyrene, ABS resin, acrylic resin and the like.

그다음, 도 6e에서와 같이, 불필요한 열가소성 수지(604)를 연마하고 구리층(605)을 도포한다. 여기서 불필요한 열가소성 수지(604)를 연마하기 위해 버퍼등을 사용하는 것이 바람직하다.Then, as in FIG. 6E, the unnecessary thermoplastic resin 604 is polished and the copper layer 605 is applied. It is preferable to use a buffer or the like for polishing the unnecessary thermoplastic resin 604 here.

그리고, 도 6f에서와 같이, 양면의 구리층(601, 605)에 전기를 흘려서 프로젝트 용접을 실시한다. 여기서, 양면의 구리층(601, 605)에 전기를 흘려주면 범프(603) 접점이 녹으면서 용접이 되기 때문에 접합 신뢰성이 향상된다. 또한, 프로젝션 용접은 피용접재의 범프(603)와 가압에 의해서 전류 통로가 제한적으로 형성되고, 저항열은 범프(603)와 그 상대 피용접재의 제한된 전류 통로에서 발생하여 접촉부를 용융시켜서 용접된다.6F, project welding is performed by flowing electricity to the copper layers 601 and 605 on both sides. Here, when electricity is supplied to the copper layers 601 and 605 on both sides, the bump 603 contacts are melted and welded, so that the joining reliability is improved. In the projection welding, a current path is limitedly formed by the bump 603 and pressure of the welded material, and resistance heat is generated in the limited current path of the bump 603 and its relative welded material to be welded by melting the contact portion.

최종적으로 도 6g에서와 같이, 양면에 회로 패턴(601, 605)을 형성한다. 여기서, 양면의 회로 패턴(601, 605)은 일반적인 회로형성단계를 거쳐 형성한다.Finally, as in FIG. 6G, circuit patterns 601 and 605 are formed on both sides. Here, the circuit patterns 601 and 605 on both sides are formed through a general circuit forming step.

도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법의 흐름을 나타내는 단면도이다.7A to 7G are cross-sectional views illustrating a flow of a method of manufacturing a printed circuit board using the projection welding method according to the fourth embodiment of the present invention.

먼저 도 7a에서와 같이, 제 3 실시예에 비해 비교적 두께가 얇은 구리층(701)상하부에 드라이 필름(702, 703)을 도포한다. 제 3실시예에서 언급한 구리층(601)에 비해 비교적 얇은 구리층(701)을 쓰는 이유는 양면에칭이 되는 제 3 실시예와 달리 범프(704)쪽만 에칭이 되기 때문이다. 여기서, 양면 회로를 위한 상부의 드라이 필름(702)은 범프 형성용 드라이 필름(702)을 도포하고 하부의 드라이 필름(703)은 노광 및 내에칭용 드라이 필름(703)을 도포하는 것이 바람직하다.First, as shown in FIG. 7A, dry films 702 and 703 are applied to upper and lower copper layers 701 having a relatively thin thickness as compared with the third embodiment. The reason why the relatively thin copper layer 701 is used in comparison with the copper layer 601 mentioned in the third embodiment is that only the bump 704 is etched, unlike the third embodiment, in which both surfaces are etched. Here, it is preferable that the upper dry film 702 for the double-sided circuit is coated with the bump forming dry film 702 and the lower dry film 703 is coated with the dry film 703 for exposure and etching.

다음, 도 7b에서와 같이, 구리층(701) 양면의 드라이 필름(702, 703)에 노광 및 현상 공정을 수행한다. 여기서 드라이 필름(702, 703)의 노광 공정에 의해 경화된 부분은 소정의 패턴을 형성하고, 경화되지 않은 부분은 현상 공정에 의해 에칭된다. 여기서, 현상액은 탄산나트륨(Na2CO3)이나 탄산칼륨(K2CO3 )수용액을 사용한다.Next, as shown in FIG. 7B, exposure and development processes are performed on the dry films 702 and 703 on both sides of the copper layer 701. Here, the part hardened | cured by the exposure process of the dry films 702 and 703 forms a predetermined pattern, and the part which is not hardened is etched by the image development process. Here, the developer uses sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) or potassium carbonate (K 2 CO 3 ) aqueous solution.

그리고, 도 7c에서와 같이, 에칭 공정 및 드라이 필름(702, 703)을 박리하여 범프(704)를 형성한다. 여기서, 소정의 패턴이 형성된 드라이 필름(702, 703)을 에칭레지스트로 사용하고 나머지 부분은 습식 에칭 방식에 의해 에칭한다. 또한, 습식 에칭시 에칭시간을 적당히 조정하여 에칭하는 것이 보다 바람직하다.As shown in FIG. 7C, the etching process and the dry films 702 and 703 are peeled off to form the bumps 704. Here, dry films 702 and 703 having a predetermined pattern are used as etching resists, and the remaining portions are etched by a wet etching method. Moreover, it is more preferable to etch by adjusting the etching time at the time of wet etching suitably.

이후, 도 7d에서와 같이, 열가소성 수지(705)를 도포하고 밀착한다. 여기서, 열가소성 수지(705)는 폴리에틸렌, 나일론, 폴리아세탈수지, 염화비닐수지, 폴리스티렌, ABS수지, 아크릴수지 등을 사용하는 것이 바람직하다.Thereafter, as shown in FIG. 7D, the thermoplastic resin 705 is coated and adhered. Here, the thermoplastic resin 705 is preferably polyethylene, nylon, polyacetal resin, vinyl chloride resin, polystyrene, ABS resin, acrylic resin and the like.

그다음, 도 7e에서와 같이, 불필요한 열가소성 수지(705)를 연마하고 구리층(706)을 도포한다. 여기서 불필요한 열가소성 수지(705)를 연마하기 위해 버퍼등을 사용하는 것이 바람직하다.Then, as in FIG. 7E, the unnecessary thermoplastic resin 705 is polished and the copper layer 706 is applied. It is preferable to use a buffer or the like in order to polish the unnecessary thermoplastic resin 705 here.

그리고, 도 7f에서와 같이, 양면의 구리층(701, 706)에 전기를 흘려서 프로젝트 용접을 실시한다. 여기서, 양면의 구리층(701, 706)에 전기를 흘려주면 범프(704) 접점이 녹으면서 용접이 되기 때문에 접합 신뢰성이 향상된다. 또한, 프로젝션 용접은 피용접재의 범프(704)와 가압에 의해서 전류 통로가 제한적으로 형성되고, 저항열은 범프(704)와 그 상대 피용접재의 제한된 전류 통로에서 발생하여 접촉부를 용융시켜서 용접된다.Then, as in FIG. 7F, electricity is supplied to the copper layers 701 and 706 on both sides to perform project welding. Here, when electricity is supplied to both surfaces of the copper layers 701 and 706, the bump 704 contact is welded while melting, thereby improving the joining reliability. In addition, in the projection welding, a current path is limitedly formed by the bump 704 and the pressurized material to be welded, and resistance heat is generated in the limited current path of the bump 704 and its relative welded material to be welded by melting the contact portion.

최종적으로 도 7g에서와 같이, 양면에 회로 패턴(701, 706)을 형성한다. 여기서, 양면의 회로 패턴(701, 706)은 일반적인 회로형성단계를 거쳐 형성한다.Finally, as in FIG. 7G, circuit patterns 701 and 706 are formed on both sides. Here, the circuit patterns 701 and 706 on both sides are formed through a general circuit forming step.

이상에서 본 발명에 대하여 설명하였으나, 이는 일실시예에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 얼마든지 다양한 변화 및 변형이 가능함은 본 기술분야에서 통상적으로 숙련된 당업자에게 분명할 것이다. 하지만, 이러한 변화 및 변형이 본 발명의 범위 내에 속한다는 것은 이하 특허청구범위를 통하여 확인될 것이다.Although the present invention has been described above, this is only one embodiment, and it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. . However, it will be confirmed through the claims that such changes and modifications fall within the scope of the present invention.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법에 의하면 일반적으로 행하여 지는 고열 압착 방식의 범프 접착 신뢰성에 비해 월등히 좋은 접합 신뢰성(일반 고열 압착 방식 ≒ 0.6∼0.8 kgf/cm, 프로젝션 ≒ 2 kgf/cm이상)을 나타내는 효과가 있다.As described above, according to the method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the present invention, the bonding reliability is much better than that of the bump bonding reliability of the conventional high temperature compression method (general high temperature compression method ≒ 0.6 to 0.8 kgf / cm , Projection ≒ 2 kgf / cm or more).

또한, 본 발명에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법에 의하면 도통홀 형성을 위한 드릴링 및 무전해도금 공정이 없어 공정을 단순화시킬 수 있으며, 그에 따라 제조 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the present invention, there is no drilling and electroless plating process for the formation of a through hole, thereby simplifying the process, thereby reducing the manufacturing cost. .

또한, 본 발명에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법에 의하면 층 두께를 자유로이 조정하여 미소 두께의 기판을 만들어 전기적 신호의 손실없이 신호 전송이 가능하고 직경 50㎛ 이하의 범프 제작이 가능하여 미세 회로 형성이 가능하도록 하는 효과가 있다. In addition, according to the method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the present invention, by freely adjusting the layer thickness to make a substrate of a small thickness, it is possible to transmit signals without loss of electrical signals and to manufacture bumps with a diameter of 50 μm or less. There is an effect to enable the formation of a fine circuit.                     

또한, 본 발명에 따른 프로젝션 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법에 의하면 관통홀이 존재하지 않으므로 설계의 자유도를 향상시키고, 배선 밀도를 증가시키는 효과가 있다.In addition, according to the method of manufacturing a printed circuit board using the projection method according to the present invention, since the through hole does not exist, there is an effect of improving the degree of freedom in design and increasing the wiring density.

Claims (5)

전도성 물질층에 범프를 형성하는 제 1 단계;Forming a bump in the conductive material layer; 상기 전도성 물질층의 범프가 형성된 면에 열 가소성 수지를 도포하는 제 2 단계;A second step of applying a thermoplastic resin to the bump-formed surface of the conductive material layer; 상기 열 가소성 수지층에 전도성 물질을 도포하는 제 3 단계;Applying a conductive material to the thermoplastic resin layer; 프로젝션 용접 방식에 의해 범프와 전도성 물질등을 용접하는 제 4 단계; 및A fourth step of welding the bump and the conductive material by a projection welding method; And 소정의 패턴을 포함하는 회로를 형성하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법.A method of manufacturing a printed circuit board using a projection welding method, comprising the step of forming a circuit including a predetermined pattern. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 단계는,The first step is, 전도성 물질층의 일면에 범프 형성용 드라이 필름을 도포하는 제 1-1 단계;Step 1-1 applying a bump forming dry film to one surface of the conductive material layer; 상기 도포된 범프 형성용 드라이 필름은 범프 형성 부위에 대응되는 경화되지 않은 부분을 현상하여 범프 패턴을 형성하는 제 1-2 단계; 및The coated bump forming dry film may include forming a bump pattern by developing an uncured portion corresponding to a bump forming part; And 전도성 물질층에 전해 도금하여 전도성 물질층의 하부면이 도금되는 상기 전도성 물질층의 상부면에 형성된 식각된 범프 패턴 내부를 전도성 물질로 도금하여 범프를 형성하고, 상기 범프 형성용 드라이 필름을 제거하는 제 1-3 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법.Electroplating the conductive material layer to form a bump by plating the inside of the etched bump pattern formed on the upper surface of the conductive material layer on which the lower surface of the conductive material layer is plated with a conductive material, and removing the dry film for bump formation A method for manufacturing a printed circuit board using a projection welding method, comprising the steps 1-3. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 단계는,The first step is, 전도성 물질층의 일면에 범프용 드라이 필름 및 다른 일면에 노광 및 내도금용 드라이 필름을 도포하는 제 1-1 단계;A first step of applying a bump dry film on one surface of the conductive material layer and a dry film for exposure and plating on the other surface; 상기 도포된 범프 형성용 드라이 필름은 범프 형성 부위에 대응되는 경화되지 않은 부분을 현상하여 범프 패턴을 형성하는 제 1-2 단계; 및The coated bump forming dry film may include forming a bump pattern by developing an uncured portion corresponding to a bump forming part; And 상기 전도성 물질층의 상부면에 형성된 식각된 범프 패턴 내부를 전도성 물질로 도금하여 범프를 형성하고 양측의 드라이 필름을 제거하는 제 1-3 단계를 특징으로 하는 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법.Manufacturing a printed circuit board using the projection welding method, characterized in that the first step of forming the bumps and removing the dry film on both sides by plating the inside of the etched bump pattern formed on the upper surface of the conductive material layer with a conductive material Way. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 단계는,The first step is, 전도성 물질층의 일면에 범프 형성용 드라이 필름을 도포하는 제 1-1 단계;Step 1-1 applying a bump forming dry film to one surface of the conductive material layer; 상기 도포된 범프 형성용 드라이 필름은 범프 형성 부위에 대응하는 범프 패턴 이외의 경화되지 않은 부분을 현상하는 제 1-2 단계; 및The coated bump forming dry film may further include developing the uncured portions other than the bump patterns corresponding to the bump forming portions; And 상기 전도성 물질층의 상기 드라이 필름이 적층된 면에 대하여 범프 패턴에 대응하는 부분을 제외한 나머지 부분을 소정의 깊이로 에칭하여 범프를 형성함과 반대면을 소정 두께로 에칭하며, 상기 범프 형성용 드라이 필름을 제거하는 제 1-3 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법.Etching the remaining portions except the portion corresponding to the bump pattern to a predetermined depth with respect to the surface on which the dry film of the conductive layer is stacked to form a bump, and etching the opposite surface to a predetermined thickness, and drying the bump forming A method of manufacturing a printed circuit board using a projection welding method comprising the step 1-3 of removing the film. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 단계는,The first step is, 전도성 물질층의 일면에 범프용 드라이 필름 및 다른 일면에 노광 및 내도금용 드라이 필름을 도포하는 제 1-1 단계;A first step of applying a bump dry film on one surface of the conductive material layer and a dry film for exposure and plating on the other surface; 상기 도포된 범프 형성용 드라이 필름은 범프 형성 부위에 대응하는 범프 패턴 이외의 경화되지 않은 부분을 현상하는 제 1-2 단계; 및The coated bump forming dry film may further include developing the uncured portions other than the bump patterns corresponding to the bump forming portions; And 상기 전도성 물질층을 에칭하여 범프 형상을 형성하고 양측의 드라이 필름을 제거하는 제 1-3 단계를 특징으로 하는 프로젝션 용접 방법을 이용한 인쇄회로기판의 제조방법.And forming a bump shape by etching the conductive material layer and removing dry films on both sides of the conductive material layer.
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