KR100644501B1 - Method for producing hollow porous structure and hollow porous structure formed therefrom - Google Patents
Method for producing hollow porous structure and hollow porous structure formed therefrom Download PDFInfo
- Publication number
- KR100644501B1 KR100644501B1 KR1020050091596A KR20050091596A KR100644501B1 KR 100644501 B1 KR100644501 B1 KR 100644501B1 KR 1020050091596 A KR1020050091596 A KR 1020050091596A KR 20050091596 A KR20050091596 A KR 20050091596A KR 100644501 B1 KR100644501 B1 KR 100644501B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- carbon
- aluminosilicate
- composite structure
- silica
- porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 100
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 79
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 59
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 56
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 38
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000002775 capsule Substances 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 7
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 claims description 2
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- -1 sensors Substances 0.000 abstract description 6
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- NLMKTBGFQGKQEV-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-hexadecoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO NLMKTBGFQGKQEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 3
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IEQAICDLOKRSRL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-dodecoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO IEQAICDLOKRSRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- HNUQMTZUNUBOLQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-octadecoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO HNUQMTZUNUBOLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKXYOQDLERSFPT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-octadecoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO JKXYOQDLERSFPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QYOVMAREBTZLBT-KTKRTIGZSA-N CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO QYOVMAREBTZLBT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000007833 carbon precursor Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012500 ion exchange media Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910021392 nanocarbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000007783 nanoporous material Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002336 sorption--desorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/10—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising silica or silicate
- B01J20/16—Alumino-silicates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/20—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising free carbon; comprising carbon obtained by carbonising processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/28—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof characterised by their form or physical properties
- B01J20/28002—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
- B01J20/28004—Sorbent size or size distribution, e.g. particle size
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/20—Silicates
- C01B33/26—Aluminium-containing silicates, i.e. silico-aluminates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/04—Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Abstract
본 발명은 넓은 비표면적과 다중의 세공을 갖는 중공형 다공성 구조체의 제조방법 및 그로부터 형성된 중공형 다공성 구조체에 관한 것으로서, 본 발명의 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체의 제조방법은 (S1) 탄소 성분과 실리카 성분이 복합된 탄소-실리카 복합 구조체를 준비하는 단계; (S2) 상기 탄소-실리카 복합 구조체를 용매하에서 계면활성제와 반응시켜 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 형성하는 단계; 및 (S3) 상기 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 열처리하여 계면활성제 성분을 제거하는 단계를 포함한다. 본 발명의 제조방법에 따라 형성된 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체는 다중의 세공구조, 넓은 비표면적과 큰 세공부피를 갖으며, 탄소와 알루미노실리케이트의 유기/무기 복합 구조체의 특성으로 인해 촉매, 흡착제, 센서, 전극물질, 분리 및 정제용이나 수소 및 약물의 저장용과 같은 광범위한 용도로 널리 이용될 수 있다.The present invention relates to a method for manufacturing a hollow porous structure having a large specific surface area and multiple pores and a hollow porous structure formed therefrom, wherein the method for manufacturing a hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure of the present invention is (S1). Preparing a carbon-silica composite structure comprising a carbon component and a silica component; (S2) reacting the carbon-silica composite structure with a surfactant in a solvent to form a carbon-aluminosilicate composite structure; And (S3) heat treating the carbon-aluminosilicate composite structure to remove the surfactant component. The hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure formed according to the present invention has a multi-pore structure, a large specific surface area and a large pore volume, and due to the characteristics of the organic / inorganic composite structure of carbon and aluminosilicate It can be widely used for a wide range of applications such as catalysts, adsorbents, sensors, electrode materials, separation and purification or for storage of hydrogen and drugs.
Description
명세서 내에 통합되어 있고 명세서의 일부를 구성하는 첨부도면은 발명의 현재의 바람직한 실시예를 예시하며, 다음의 바람직한 실시예의 상세한 설명과 함께 본 발명의 원리를 설명하는 역할을 할 것이다. The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of the specification, illustrate the presently preferred embodiments of the invention and, together with the description of the following preferred embodiments, serve to explain the principles of the invention.
도 1은 나노 카본볼 및 본 발명의 일실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된 구조체들의 TEM 사진이다.1 is a TEM picture of the structure formed by the nano carbon ball and the manufacturing process according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된 다공성 구조체 조성물의 SEM 사진이다.Figure 2 is a SEM photograph of the porous structure composition formed according to the manufacturing process according to an embodiment of the present invention.
도 3a는 본 발명의 일실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된, 다양한 Si/Al 몰비를 갖는 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다.FIG. 3A illustrates X-ray diffraction (XRD) patterns of carbon-aluminosilicate composite structures having various Si / Al molar ratios formed according to an embodiment of the present invention. FIG.
도 3b는 본 발명의 일실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된, 다양한 Si/Al 몰비를 갖는 중공형 다공성 탄소-알루미노 복합 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다.FIG. 3B is a diagram illustrating X-ray diffraction (XRD) patterns of hollow porous carbon-alumino composite structures having various Si / Al molar ratios formed according to an embodiment of the present invention.
도 3c는 일실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된, 다양한 Si/Al 몰비를 갖 는 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다.FIG. 3C is a diagram illustrating X-ray diffraction (XRD) patterns of hollow porous aluminosilicate structures having various Si / Al molar ratios formed according to one embodiment.
도 4a 및 4b는 본 발명의 일실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체, 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체 및 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 N2 흡착/탈착 등온선 및 이들에 대응하는 포어 크기 분포 곡선을 각각 나타낸 도면이다.4A and 4B illustrate N 2 adsorption on carbon-aluminosilicate composite structures, hollow porous carbon-aluminosilicate composite structures, and hollow porous aluminosilicate structures formed according to a manufacturing process according to one embodiment of the invention. Figures showing the desorption isotherm and the pore size distribution curves corresponding thereto.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체, 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체 및 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다.5 is an X-ray diffraction pattern of the carbon-aluminosilicate composite structure, the hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure, and the hollow porous aluminosilicate structures formed according to a manufacturing process according to an embodiment of the present invention. XRD) shows the pattern.
도 6a 및 6b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체, 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체 및 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 N2 흡착/탈착 등온선 및 이들에 대응하는 세공 크기 분포 곡선을 각각 나타낸 도면이다.6A and 6B illustrate N 2 adsorption on carbon-aluminosilicate composite structures, hollow porous carbon-aluminosilicate composite structures, and hollow porous aluminosilicate structures formed according to a manufacturing process according to another embodiment of the present invention. A diagram showing desorption isotherms and pore size distribution curves corresponding thereto.
본 발명은 넓은 비표면적과 세공을 갖는 중공형 다공성 구조체의 제조방법 및 그로부터 형성된 중공형 다공성 구조체에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a hollow porous structure having a large specific surface area and pores and a hollow porous structure formed therefrom.
넓은 비표면적과 균일한 세공을 가지고 있는 나노다공성 물질들은 흡착제, 촉매 지지체, 분리 및 정제 공정, 그리고 이온 교환 매체로서 광범위하게 사용되고 있다 [문헌 : Corma, A. Chem. Rev., 1997, 97, 2373. ]. 특히, 조절된 다공성을 갖는 새로운 나노구조 물질의 합성은 신소재 분야에서 새롭게 연구되고 있는 부분이다. Nanoporous materials with large specific surface areas and uniform pores have been widely used as adsorbents, catalyst supports, separation and purification processes, and ion exchange media [Corma, A. Chem. Re v., 1997 , 97 , 2373.]. In particular, the synthesis of new nanostructured materials with controlled porosity is a new area of research in new materials.
최근, 주형 방법(templating method)을 이용한 다공성 탄소 물질의 합성이 많은 연구 그룹에 의해서 보고되고 있다. 예를 들면, 나노 구조의 탄소 물질은 다양한 유형의 제올라이트를 템플릿으로 사용하여 화학적 증착(CVD) 및/또는 침지 방법에 의해 제조되며, 메조다공성 탄소 및 폴리머의 나노캐스팅은 메조다공성 분자체, MCM-48 및 SBA-15를 주형으로 사용하여 수행된다는 것이 보고되었다[문헌 : a) S. B. Yoon, J. Y. Kim, J.-S. Yu, Chem. Commun. 2002, 1536. b) J. Y. Kim, S. B. Yoon, F. Kooli, J.-S. Yu, J. Mater. Chem. 2001, 11, 2912. c] R. Ryoo, S. H. Joo, S. Jun, J. Phys. Chem. B. 1999, 103, 7743. d] J. Lee, S. Yoon, T. Hyeon, S. M. Oh, K. B. Kim, Chem. Commun. 1999. 2177. e] H. Yang, Q. Shi, X. Liu, S. Xie, D. Jiang, F. Zhang, C. Yu, B. Tu, D. Zhao, Chem. Commun. 2002, 2842. f] C. Vix-Cuterl, S. Boulard, J. Parmentier, J. Werckmann, J. Patarin, Chem. Lett. 2002, 106. g] A. Lu, A. Kiefer, W. Schidt, F. Schuth, Chem. Mater. 2004, 16, 100. h] S. B. Yoon, J. Y. Kim, J.-S. Yu, Chem. Commun. 2003, 1740. i] S. H. Joo, S. J. Choi, I. Oh, J. Kwak, Z. Liu, O. Terasaki, R. Ryoo, Nature 2001, 412,169. j] S. S. Kim, D. K. Lee, J. Shah, T. J. Pinnavaia, Chem. Commun. 20003, 1436. k] A. Vinu, C. Streb, V. Murugesan, M. Hartman, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 8297. l] W. H. Zhang, C. Liang, H. Sun, Z.Shen, Y. Guan, P. Ying, Can, Li, Adv. Mater. 2002, 14, 1776. 참조]. 이렇게 얻어진 새로운 구조를 갖는 다공성 탄소 물질들은 그들의 새로운 세공 크기 분포, 큰 세공 부피, 넓은 비표면적과 새로운 골격 구조에 기인하여 수소 저장 및 방출, 약물 저장 및 운반물질, 전극 물질 및 센서 등 더 광범위한 용도로 사용될 수 있다. Recently, the synthesis of porous carbon materials using the templating method has been reported by many research groups. For example, nanostructured carbon materials are prepared by chemical vapor deposition (CVD) and / or immersion methods using various types of zeolites as templates, and nanocasting of mesoporous carbon and polymers is carried out using mesoporous molecular sieves, MCM- It has been reported that it is performed using 48 and SBA-15 as a template. A) SB Yoon, JY Kim, J.-S. Yu, Chem. Commun. B) JY Kim, SB Yoon, F. Kooli, J.-S. 2002, 1536. Yu, J. Mater. Chem. 2001, 11, 2912. c] R. Ryoo, SH Joo, S. Jun, J. Phys. Chem. B. 1999, 103, 7743. d] J. Lee, S. Yoon, T. Hyeon, SM Oh, KB Kim, Chem. Commun. 1999. 2177. e] H. Yang, Q. Shi, X. Liu, S. Xie, D. Jiang, F. Zhang, C. Yu, B. Tu, D. Zhao, Chem. Commun. 2002, 2842. f] C. Vix-Cuterl, S. Boulard, J. Parmentier, J. Werckmann, J. Patarin, C hem. Lett . 2002, 106. g] A. Lu, A. Kiefer, W. Schidt, F. Schuth, Chem. Mater. 2004, 16, 100. h] SB Yoon, JY Kim, J.-S. Yu, Chem. Commun. 2003, 1740. i] SH Joo, SJ Choi, I. Oh, J. Kwak, Z. Liu, O. Terasaki, R. Ryoo, Nature 2001, 412,169. j] SS Kim, DK Lee, J. Shah, TJ Pinnavaia, Chem. Commun . 20003, 1436. k] A. Vinu, C. Streb, V. Murugesan, M. Hartman, J. Phys. Chem .
이와 같이, 다공성 물질에서 세공 크기, 세공 분포, 세공 배열 구조 등은 중요한 인자가 될 수 있다. 일반적으로 다공성 물질은 세공의 크기에 따라, 마이크로다공성(<2nm), 메조다공성(2~50nm) 및 마크로다공성(>50nm) 물질로 나눌 수 있는데, 다양한 용도를 만족시킬 수 있도록 이중의 세공 크기나 물질을 달리한 다공성 구조체에 대한 개발이 계속되고 있다. As such, the pore size, pore distribution, pore arrangement structure, etc. in the porous material can be an important factor. Generally, porous materials can be divided into microporous (<2nm), mesoporous (2-50nm), and macroporous (> 50nm) materials according to the pore size. Development of porous structures with different materials continues.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 넓은 비표면적과 큰 세공부피를 갖으며, 다중의 세공 크기를 갖는 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 구조체의 제조방법 및 이로부터 형성된 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has a large specific surface area and a large pore volume, and a method of preparing a hollow porous carbon-aluminosilicate structure having multiple pore sizes and a hollow porous aluminosilicate structure formed therefrom. To provide.
본 발명의 다른 기술적 과제는 넓은 비표면적과 큰 세공부피를 갖으며, 알루미노실리케이트로 된 중공형 다공성 알루미노 실리케이트 구조체를 제공하는데 있다.Another technical problem of the present invention is to provide a hollow porous aluminosilicate structure made of aluminosilicate having a large specific surface area and a large pore volume.
본 발명의 또 다른 기술적 과제는 전술한 중공형 다공성 구조체들과 ZSM-5형 다공성 알루미노실리케이트 구조체가 균일하게 혼합된 다공성 구조체 조성물을 제공하는데 있다.Another technical problem of the present invention is to provide a porous structure composition in which the above-described hollow porous structures and the ZSM-5 type porous aluminosilicate structure are uniformly mixed.
상기 첫 번째 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체의 제조방법은 (S1) 탄소 성분과 실리카 성분이 복합된 탄소-실리카 복합 구조체를 준비하는 단계; (S2) 상기 탄소-실리카 복합 구조체를 용매하에서 계면활성제와 반응시켜 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 형성하는 단계; 및 (S3) 상기 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 열처리하여 계면활성제 성분을 제거하는 단계를 포함한다.In order to achieve the first object, the method of manufacturing a hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure of the present invention (S1) preparing a carbon-silica composite structure in which the carbon component and silica component; (S2) reacting the carbon-silica composite structure with a surfactant in a solvent to form a carbon-aluminosilicate composite structure; And (S3) heat treating the carbon-aluminosilicate composite structure to remove the surfactant component.
전술한 제조방법에 따라 형성된 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체는 중공 코어부가 형성된 다공성 탄소 캡슐 및 상기 탄소 캡슐의 표면에 형성된 다공성 알루미노실리케이트 피복층으로 구성된다 The hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure formed according to the above-described manufacturing method is composed of a porous carbon capsule having a hollow core portion and a porous aluminosilicate coating layer formed on the surface of the carbon capsule.
상기 두번째 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체의 제조방법은 (S1) 탄소 성분과 실리카 성분이 복합된 탄소-실리카 복합 구조체를 준비하는 단계; (S2) 상기 탄소-실리카 복합 구조체를 용매하에서 계면활성제와 반응시켜 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 형성하는 단계; 및 (S3) 상기 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 열처리하여 계면활성제 성분과 탄소성분을 모두 제거하는 단계를 포함한다.In order to achieve the second object, the manufacturing method of the hollow porous aluminosilicate structure of the present invention (S1) preparing a carbon-silica composite structure in which the carbon component and silica component; (S2) reacting the carbon-silica composite structure with a surfactant in a solvent to form a carbon-aluminosilicate composite structure; And (S3) heat treating the carbon-aluminosilicate composite structure to remove both the surfactant component and the carbon component.
본 발명의 세번째 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 다공성 구조체 조성물은 (a) 중공 코어부가 형성된 다공성 탄소 캡슐과 상기 탄소 캡슐의 표면에 형성된 다공성 알루미노실리케이트 피복층을 포함하는 다수의 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체 또는 중공 코어부가 형성된 다수의 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체; 및 (b) 다수의 ZSM-5형 다공성 알루미노실리케이트 구조체를 포함하게 된다.In order to achieve the third object of the present invention, the porous structure composition of the present invention comprises (a) a plurality of hollow porous carbon- comprising a porous carbon capsule having a hollow core portion and a porous aluminosilicate coating layer formed on the surface of the carbon capsule. Aluminosilicate composite structures or a plurality of hollow porous aluminosilicate structures having hollow core portions; And (b) a plurality of ZSM-5 type porous aluminosilicate structures.
이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.
먼저, 본 발명의 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체와 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체의 제조방법에 대하여 상술한다.First, the hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure and the hollow porous aluminosilicate structure of the present invention will be described in detail.
탄소 성분과 실리카 성분이 복합된 탄소-실리카 복합 구조체는 다양한 방법으로 준비할 수 있다(S1 단계). 일예로서, 본 출원인의 특허출원 제10-2003-94009호에 이러한 탄소-실리카 복합 구조체에 대한 제조방법이 상세히 기술되어 있다. 상기 문헌은 본 발명의 레퍼런스로서 통합된다. 이를 살펴 보면 다음과 같다.The carbon-silica composite structure in which the carbon component and the silica component are combined may be prepared by various methods (step S1). As an example, the applicant's patent application No. 10-2003-94009 describes a method for producing such a carbon-silica composite structure in detail. This document is incorporated by reference of the present invention. This is as follows.
구형의 실리카 입자를 준비한다. 실리카 입자는 예를 들어 테트라에톡시실란, 테트라메틸오르토실리케이트, 테트라에틸오르토실리케이트와 같은 실리카 전구체로부터 공지의 스토버 공정(Stober, W.; Fink, A.; Bohn, E. J. Colloid Inter. Sci. 1968, 26, 62)에 따라 합성할 수 있다. 이 외에도 다양한 실리카 입자의 제조방법이 공지되어 있으며, 제조방법에 따라 실리카 입자의 크기를 예를 들어 10 내지 1000nm 정도로 다양하게 조절할 수 있다.Spherical silica particles are prepared. Silica particles are known from known silica precursors such as tetraethoxysilane, tetramethylorthosilicate and tetraethylorthosilicate (Stober, W .; Fink, A .; Bohn, EJ Colloid Inter. Sci. 1968). , 26, 62). In addition to this, various methods for producing silica particles are known, and the size of the silica particles may be variously adjusted, for example, about 10 to 1000 nm depending on the production method.
이어서, 구형의 실리카 입자와 실리카 전구체 및 계면활성제를 용매하에서 반응시켜 구형의 실리카 입자 표면에 실리카와 계면활성제 성분으로 이루어진 쉘부를 성장시킨다. 실리카 전구체로는 테트라에톡시실란, 테트라메틸오르토실리케이트, 테트라에틸오르토실리케이트 등을 단독으로 또는 이들을 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다. 사용 가능한 다양한 종류의 계면활성제들, 예를 들어 양이온 계면활성제들, 소중합체의 비이온성 계면활성제들, 그리고 블록 공중합체들이 공지되어 있다. 예를 들어, 양이온 계면활성제들로는 테트라알킬암모늄 이온 ( (Cn)4 A+X- ; n = 1 ~ 4, X = OH, Cl, Br, I)과 알킬트리메틸 암모늄 이온 ( Cn-TMA+X- ; n = 10 ~ 20, X = Cl, Br, I) 등을 사용할 수 있고. 비이온성 계면활성제들로는 Brij52, C16H33(OCH2CH2)2OH, designated C16EO2, Brij30, C12EO4; Brij56, C16EO10; Brij58, C16EO20; Brij76, C18EO10; Brij78, C16EO20; Brij97, C18H35EO10; Brij35, C12EO23; TritonX-100, CH3C(CH3)2 CH2C(CH3)2C6H4(OCH2CH2)10OH; TritonX-114, CH3C(CH3)2CH2C (CH3)2C6H4(OCH2CH2)5OH로 지정된 Brij52, C16H33(OCH2CH2)2OH 와 같은 알킬 폴리 (에틸렌 옥사이드) (PEO) 소중합체의 계면활성제들을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. Subsequently, the spherical silica particles, the silica precursor, and the surfactant are reacted in a solvent to grow a shell portion composed of the silica and the surfactant component on the surface of the spherical silica particles. As a silica precursor, tetraethoxysilane, tetramethyl orthosilicate, tetraethyl orthosilicate, etc. can be used individually or in mixture of 1 or more types, It is not limited to this. Various kinds of surfactants that can be used are known, for example cationic surfactants, nonionic surfactants of oligomers, and block copolymers. For example, the cationic surfactant include a tetraalkylammonium ion ((C n) 4 A + X -; n = 1 ~ 4, X = OH, Cl, Br, I) and an alkyl trimethyl ammonium ions (C + n -TMA X -; n = 10 ~ 20 , X = Cl, Br, I) and the like. Nonionic surfactants include Brij52, C 16 H 33 (OCH 2 CH 2 ) 2 OH, designated C 16 EO 2 , Brij30, C 12 EO 4 ; Brij 56, C 16 EO 10 ; Brij 58, C 16 EO 20 ; Brij 76, C 18 EO 10 ; Brij 78 , C 16 EO 20 ; Brij97, C 18 H 35 EO 10 ;
그런 다음, 쉘부가 형성된 결과물을 예를 들어 500 내지 600도로 열처리하여 쉘부의 계면활성제 성분을 제거하면, 계면활성제 성분이 제거된 자리에 소정 직경의 기공들이 형성된 실리카 쉘부를 갖는 실리카 주형 입자를 얻는다. 기공의 크기와 쉘부의 두께는 계면활성제의 종류, 실리카 전구체의 종류 및 몰비를 변화시킴으로서 조절이 가능한데, 쉘부의 두께는 예를 들어 50 내지 500nm정도로 조절할 수 있다. Then, the resultant shell portion is heat-treated, for example, 500 to 600 degrees to remove the surfactant component of the shell portion, to obtain silica mold particles having a silica shell portion with pores of a predetermined diameter in the place where the surfactant component is removed. The size of the pores and the thickness of the shell portion can be adjusted by changing the type of surfactant, the type and the molar ratio of the silica precursor, the thickness of the shell portion can be adjusted to about 50 to 500nm, for example.
이어서, 쉘부에 기공이 형성된 실리카 주형 입자에 고분자 전구체, 예를 들어 아크릴로 니트릴, 페놀-포름알데히드, 디비닐벤젠과 같은 모노머를 쉘부에 형성된 기공 안으로 주입하고 중합시켜 고분자-실리카 복합 구조체를 형성한다. 고분자 전구체는 그 특성에 따라 공지된 적절한 방법으로 중합반응 시키는데, 일반적으로 60 내지 80도의 온도에서 약 12시간 동안 중합 반응시킨다. Subsequently, polymer precursors such as acrylonitrile, phenol-formaldehyde and divinylbenzene are injected into the pores formed in the shell portion and polymerized into silica mold particles having pores formed in the shell portion to form a polymer-silica composite structure. . The polymer precursor is polymerized by a suitable method known in accordance with its properties, and is generally polymerized for about 12 hours at a temperature of 60 to 80 degrees.
그런 다음, 고분자 중합체가 함유된 실리카 구조체인 고분자-실리카 복합 구조체의 고분자 성분을 탄화시켜 탄소-실리카 복합 구조체를 형성한다. 고분자 성분의 탄화는 예를 들어 1,000도 정도로 질소분위기 하에서 열처리하면 된다. Then, the polymer component of the polymer-silica composite structure, which is a silica structure containing the polymer polymer, is carbonized to form a carbon-silica composite structure. The carbonization of the polymer component may be performed in a nitrogen atmosphere at about 1,000 degrees, for example.
이와 같이, 공지의 방법에 따라 준비한 탄소-실리카 복합 구조체는 용매하에서 계면활성제와 반응시켜 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 형성한다(S2 단계). 사용될 수 있는 계면활성제는 전술한 바와 같으며, 사용된 계면활성제에 따라 다르나, 예를 들어 실온에서 10 내지 30분 정도 교반한 다음, 고온/고압 반응기를 이용하여 80 ~ 250도에서 12 시간 내지 7일 동안 반응시킨다. 탄소-실리카 복합 구조체의 실리카 성분은 계면활성제와 반응하여 구조체 외부로 빠져 나가서 외부에서 성장하여 ZSM-5형과 같은 알루미노실리케이트 구조체를 형성하게 되고, 일부는 탄소 구조체의 표면에 계면활성제를 포함하는 알루미노실리케이트 피복층을 형성하므로서 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체가 된다. As such, the carbon-silica composite structure prepared according to a known method is reacted with a surfactant in a solvent to form a carbon-aluminosilicate composite structure (step S2). The surfactants that can be used are as described above, depending on the surfactants used, but for example, after stirring for 10 to 30 minutes at room temperature, and then 12 hours to 7 at 80 to 250 degrees using a high temperature / high pressure reactor React for days. The silica component of the carbon-silica composite structure reacts with the surfactant to escape to the outside of the structure and grow outside to form an aluminosilicate structure such as ZSM-5 type, and some include the surfactant on the surface of the carbon structure. The aluminosilicate coating layer is formed to form a carbon-aluminosilicate composite structure.
얻어진 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 열처리하여 계면활성제 성분을 제거하면(S3 단계), 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체가 얻 어진다. 계면활성제의 제거는 예를 들어 아르곤 또는 질소와 같은 비활성 기체하에서 300 내지 1000도의 온도에서 1 ~ 24시간 열처리하면 된다. 이에 따라, 매크로 기공 크기인 중공 코어부를 갖는 다공성 탄소 캡슐과, 탄소 캡슐의 표면에 형성되여 다른 크기의 기공들을 갖는 다공성 알루미노실리케이트 피복층으로 구성된 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체가 얻어진다. 이와는 달리, 얻어진 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체를 열처리하여 계면활성제 성분과 탄소 성분까지 모두 제거하면 알루미노실리케이트 성분만이 남게 되는데, 이에 따라 매크로 기공 크기인 중공 코어부를 갖으며, 많은 기공들이 형성된 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체가 얻어진다. 탄소 성분까지 모두 제거하기 위해서는 예를 들어 산소나 공기 중에서 400 내지 1000도로 1 ~ 24시간 열처리하면 되는데, 전술한 바와 같이 비활성 기체 하에서 열처리하여 계면활성제를 먼저 제거한 후, 탄소 성분을 순차적으로 제거할 수도 있다..When the obtained carbon-aluminosilicate composite structure is heat-treated to remove the surfactant component (step S3), a hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure is obtained. The removal of the surfactant may be performed for 1 to 24 hours at a temperature of 300 to 1000 degrees under an inert gas such as, for example, argon or nitrogen. As a result, a hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure composed of a porous carbon capsule having a macropore size hollow core portion and a porous aluminosilicate coating layer formed on the surface of the carbon capsule and having pores of different sizes are obtained. On the contrary, when the obtained carbon-aluminosilicate composite structure is heat-treated to remove both the surfactant component and the carbon component, only the aluminosilicate component remains, thus having a hollow core portion having a macropore size, and having many pores formed therein. A type porous aluminosilicate structure is obtained. In order to remove all the carbon components, for example, heat treatment may be performed at 400 to 1000 degrees in oxygen or air for 1 to 24 hours. As described above, the carbon components may be sequentially removed after the surfactant is first removed by heat treatment under an inert gas. have..
전술한 구조체들은 외부에서 성장하여 형성된 ZSM-5형과 같은 다공성 알루미노실리케이트 구조체와 함께 혼합물의 형태로 존재하게 되며, 이 혼합물은 매우 균일하게 혼합된 상태이다.The structures described above are present in the form of a mixture together with a porous aluminosilicate structure such as ZSM-5 type formed by external growth, and the mixture is mixed very uniformly.
본 발명의 제조방법에 따라 형성된 중공형 다공성 구조체들은 실리카 성분의 Si/Al 몰비와 사용하는 계면활성제 종류에 따라 형성되는 기공의 크기와 형태를 변화시킬 수 있다. Hollow porous structures formed according to the method of the present invention can change the size and shape of the pores formed according to the Si / Al molar ratio of the silica component and the type of surfactant used.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예 들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예 들에 한정되는 것으로 해석 되어서는 안된다. 본 발명의 실시예 들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples. However, embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, the scope of the present invention should not be construed as limited to the embodiments described below. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.
실시예 1Example 1
구형의 실리카 입자를 중심으로 가지고, 메조다공성(mesoporous) 껍질(shell)을 가지는 실리카(silica)의 합성은 1l용량의 polypropylene(PP) bottle에 Stber-Bohn-Fink 방법으로 합성한 약 400nm크기의 구형 실리카 입자 (200ml)와 water (400ml)를 넣고 약 5min 정도 실온에서 stirring하였다. Synthesis of silica with mesoporous shells centered on spherical silica particles was carried out using a Stber-Bohn-Fink method in a 1 l polypropylene (PP) bottle. Silica particles (200ml) and water (400ml) were added thereto and stirred for about 5min at room temperature.
그런 다음, 계면활성제인 alkyltrimethylammonium bromide (CnTMABr, n= 12 ~ 18)를 각각 6.59×10-3mol씩 absolute ethanol (20ml)과 water (40ml)의 mixture에 녹인 혼합용액을 넣어 주고, 이것을 bottle의 뚜껑을 막은 채로 실온에서 약 1시간 정도 stirring하였다. 그런 후에 TEOS (4.3ml)을 빨리 넣어주고, 이것을 실온에서 약 3~5 min정도 stirring 해준 후 stirring을 멈추고 magnetic bar를 제거한 뒤에 70도의 dry-oven에 1일 동안 방치한 후, AlCl3 용액을 넣어 SCMS silica를 침강시켜 분리하고, dry-oven에 넣어 건조하였다. 건조된 sample을 계면활성제를 제거하기 위하여 공기 중에서 tube furnace를 이용해 550도에서 7시간 동안 calcination 과정을 통해 구형의 실리카 입자를 중심으로 가지고, 40 ~ 60nm의 메조다공성(mesoporous) 껍질(shell)을 가지는 silica입자 (SCMS silica)를 합성하였 다. Then, 6.59 × 10 -3 mol of alkyltrimethylammonium bromide (CnTMABr, n = 12-18), a surfactant, was dissolved in a mixture of absolute ethanol (20ml) and water (40ml), respectively, and this was added to the bottle cap. Stirred at room temperature for about 1 hour while blocking. Then add TEOS (4.3ml) quickly, stir this at room temperature for about 3 ~ 5 min, stop stirring, remove the magnetic bar, leave it in a dry-oven at 70 degrees for 1 day, and then add AlCl 3 solution. SCMS silica was separated by sedimentation and dried in dry-oven. In order to remove the surfactant, the dried sample has a spherical silica particle through a calcination process at 550 ° C for 7 hours using a tube furnace in air, and has a mesoporous shell of 40 to 60 nm. Silica particles (SCMS silica) were synthesized.
상기 합성된 SCMS 실리카 나노 입자의 메조세공에 탄소 전구체로 페놀과 파라포름알데히드를 이용하여 중합한 후, 합성된 고분자-실리카 복합 구조체를 700 ~ 1000도의 비활성기체 하에서 탄화시켜 탄소-실리카 복합 구조체를 합성하였다. After synthesizing the mesopores of the synthesized SCMS silica nanoparticles using phenol and paraformaldehyde as a carbon precursor, carbon-silica composite structure was synthesized by carbonizing the synthesized polymer-silica composite structure under an inert gas of 700 to 1000 degrees. It was.
상기 합성된 탄소-실리카 복합 구조체 10g (탄소/실리카 ; 2.76g/7.24g)을 1.0M 테트라프로필암모늄하이드록사이드(tetrapropylammonium hydroxide, TPAOH) 50g과 균일하게 섞은 후, Teflon bottle에 넣고 100도에서 24시간 동안 반응시켰다. 얻어진 as-synthesized NCB/ZSM-5 복합체는 원심분리 또는 filtering하여 분리한 후, 건조 오븐에서 건조하여 얻었다. 건조된 as-synthesized NCB/ZSM-5 복합체는 사용된 계면활성제를 제거하기 위하여 1도/min ~ 10도/min의 승온 속도로 Ar 또는 N2와 같은 비활성 기체하에서 300 내지 1000도의 온도에서 1 ~ 24h 시간 동안 열처리하여 얻었다.10 g (carbon / silica; 2.76 g / 7.24 g) of the synthesized carbon-silica composite structure was uniformly mixed with 50 g of 1.0 M tetrapropylammonium hydroxide (TPAOH), and then placed in a Teflon bottle at 24 ° C. The reaction was carried out for a time. The obtained as-synthesized NCB / ZSM-5 composite was separated by centrifugation or filtering, and then dried in a drying oven. Dried as-synthesized NCB / ZSM-5 composites are used at temperatures of 300 to 1000 degrees under an inert gas such as Ar or N 2 at an elevated rate of 1 degree / min to 10 degrees / min to remove the surfactant used. Obtained by heat treatment for 24 h.
실시예Example 2 2
전술한 방법으로 얻은 탄소-실리카 복합 구조체 10g (탄소/실리카 ; 2.76g/7.24g)을 증류수 271.5g에 세틸트리메틸암모늄브로마이드 (cetyltrimethylammonium bromide, CTABr) 9.46g과 수산화나트륨(sodium hydroxide, NaOH) 4.83g을 녹인 계면활성제 용액과 균일하게 섞은 후, Teflon bottle에 넣고 90 ~ 100도에서 2 ~ 4일 동안 반응시켰다. 얻어진 as-synthesized NCB/메조다공성 알루미노실리케이트 복합체는 원심분리 또는 filtering하여 분리한 후, 건조 오븐에서 건조하여 얻었다. 건조된 as-synthesized NCB/ 메조다공성 알루미노실리케이트 복합체는 사용된 계면활성제를 제거하기 위하여 1도/min ~ 10도/min의 승온속도로 질소가스 하에서 300 내지 1000도의 온도에서 1 ~ 24h 시간 동안 열처리하여 얻었다.10 g (carbon / silica; 2.76 g / 7.24 g) of the carbon-silica composite structure obtained by the above-described method were added to 271.5 g of distilled water, 9.46 g of cetyltrimethylammonium bromide (CTABr) and 4.83 g of sodium hydroxide (NaOH). After mixing uniformly with the dissolved surfactant solution, it was put in a Teflon bottle and reacted for 2 to 4 days at 90 ~ 100 degrees. The obtained as-synthesized NCB / mesoporous aluminosilicate complex was separated by centrifugation or filtering and then dried in a drying oven. The dried as-synthesized NCB / mesoporous aluminosilicate complex was heat-treated for 1 to 24 h at a temperature of 300 to 1000 degrees under nitrogen gas at an elevated rate of 1 degree / min to 10 degrees / min to remove the surfactant used. Obtained.
실시예Example 3 3
실시예 1의 제조방법 과정에서 얻은 as-synthesized NCB/ZSM-5 복합체를 공기중에서 600 내지 700도의 온도에서 5~6시간 열처리하여 탄소성분을 제거하였다.The as-synthesized NCB / ZSM-5 composite obtained in the manufacturing method of Example 1 was heat-treated at 600 to 700 degrees in air for 5 to 6 hours to remove carbon components.
도 1은 발명의 하나의 구현예에 따른 투과전자현미경 (TEM) 사진들로, (a)는 탄소/실리카 복합체를 HF 용액을 이용하여 실리카를 선택적으로 제거하여 얻어진 매크로다공성 중공형 중심과 메조세공이 균일하게 분포된 메조다공성 탄소 캡슐에 대한 TEM 사진이고, (b)는 실시예 1에 따라 탄소-실리카 복합체를 계면활성제로써 TPAOH(tetrapropylammonium hydroxide) 용액을 이용하여 고온/고압 하에서 수열반응 후에 얻어진 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체의 TEM 사진이고, (c)는 실시예 1에 따라 계면활성제 성분을 열처리하여 제거한 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체의 TEM 사진이고, (d)는 실시예 3에 따라 계면활성제와 탄소 성분을 모두 제거한 후에 얻어진 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체에 대한 TEM 사진이다. 도 2의 (a) 및 (b)는 각각 실시예 1의 제조방법에 따라 다수의 ZSM-5형 알루미노실리케이트 구조체를 포함하는 다공체 조성물의 SEM 사진 및 그 확대도이다. 도 1 및 2를 참조하면, 매크로 크기의 중공 코어부와, 메조세공이 균일하게 분포된 메조다공성 탄소 캡슐과 그 표면에 형성된 마이크로다공성 구조를 갖는 알루미노실리케이트의 유기/무기 복합체와, 일반적인 형태로 얻어지는 ZSM-5형 알루미노실리케이트 구조체 입자들이 매우 균일하게 섞여 합성되었음을 보여준다. 도 3a, 3b, 그리고 3c는 Si/Al의 몰비를 조절하여 형성된 다양한 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체의 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다. 도 3a는 본 발명의 실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된, 다양한 Si/Al 몰비를 갖는 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다. 도 3b는 본 발명의 실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된, 다양한 Si/Al 몰비를 갖는 중공형 다공성 탄소-알루미노 복합 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다. 도 3c는 실시예에 따른 제조공정에 따라 형성된, 다양한 Si/Al 몰비를 갖는 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다.1 is a transmission electron microscope (TEM) picture according to one embodiment of the invention, (a) is a macroporous hollow center and mesopores obtained by selectively removing the silica in the carbon / silica composite using HF solution TEM image of this uniformly distributed mesoporous carbon capsule, (b) is a carbon obtained after the hydrothermal reaction under high temperature / high pressure using a TPAOH (tetrapropylammonium hydroxide) solution with a carbon-silica complex as a surfactant according to Example 1 -TEM picture of the aluminosilicate composite structure, (c) is a TEM picture of the hollow porous carbon-aluminosilicate composite structure removed by heat treatment of the surfactant component according to Example 1, (d) is shown in Example 3 Therefore, the TEM image of the hollow porous aluminosilicate structure obtained after removing both the surfactant and the carbon component. 2 (a) and 2 (b) are SEM photographs and enlarged views of porous body compositions including a plurality of ZSM-5 type aluminosilicate structures according to the preparation method of Example 1, respectively. 1 and 2, organic / inorganic composites of aluminosilicates having a macrosized hollow core portion, a mesoporous carbon capsule in which mesopores are uniformly distributed, and a microporous structure formed on the surface thereof, and in a general form The resulting ZSM-5 type aluminosilicate structure particles were shown to be very homogeneously mixed and synthesized. 3A, 3B, and 3C show X-ray diffraction (XRD) patterns of various hollow porous carbon-aluminosilicate composite structures formed by controlling the molar ratio of Si / Al. FIG. 3A illustrates X-ray diffraction (XRD) patterns for carbon-aluminosilicate composite structures having various Si / Al molar ratios formed according to a fabrication process in accordance with an embodiment of the present invention. FIG. 3B is a view showing X-ray diffraction (XRD) patterns of hollow porous carbon-alumino composite structures having various Si / Al molar ratios formed according to a manufacturing process according to an embodiment of the present invention. FIG. 3C is a diagram illustrating X-ray diffraction (XRD) patterns for hollow porous aluminosilicate structures having various Si / Al molar ratios formed according to a fabrication process according to an embodiment. FIG.
도 4a 및 4b는 본 발명의 실시예 1에 따른 제조공정에 따라 형성된 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체, 중공형 다공성 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체 및 중공형 다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 N2 흡착/탈착 등온선 및 이들에 대응하는 포어 크기 분포 곡선을 각각 나타낸 도면이다.4A and 4B illustrate N 2 adsorption on carbon-aluminosilicate composite structures, hollow porous carbon-aluminosilicate composite structures, and hollow porous aluminosilicate structures formed according to a manufacturing process according to Example 1 of the present invention. Figures showing the desorption isotherm and the pore size distribution curves corresponding thereto.
도 5는 본 발명의 실시예 2에 따른 제조공정에 따라 형성된 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체, 중공형 다공성 탄소-메조다공성 알루미노실리케이트 복합 구조체 및 중공형 메조다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 X-레이 회절(XRD) 패턴을 나타낸 도면이다.5 is X- for the carbon-aluminosilicate composite structure, the hollow porous carbon-mesoporous aluminosilicate composite structure, and the hollow mesoporous aluminosilicate structures formed according to the manufacturing process according to Example 2 of the present invention. A diagram showing a ray diffraction (XRD) pattern.
도 6a 및 6b는 본 발명의 실시예 2와 3에 따른 제조공정에 따라 형성된 탄소-알루미노실리케이트 복합 구조체, 중공형 다공성 탄소-메조다공성 알루미노 복합 구조체 및 중공형 메조다공성 알루미노실리케이트 구조체들에 대한 N2 흡착/탈착 등온선 및 이들에 대응하는 세공 크기 분포 곡선을 각각 나타낸 도면이다.Figure 6a and 6b is a carbon-aluminosilicate composite structure, hollow porous carbon-mesoporous alumino composite structure and hollow mesoporous aluminosilicate structures formed according to the manufacturing process according to Examples 2 and 3 of the present invention For N 2 Figures showing adsorption / desorption isotherms and pore size distribution curves corresponding thereto.
전술한 바와 같이, 본 발명의 제조방법에 따라 얻어진 중공형 다공성 구조체들은 넓은 비표면적과 큰 세공 부피를 갖으며, 그 구조적 특이성으로 인하여 촉매, 흡착제, 센서, 전극 물질 및 저장 물질과 같은 광범위한 용도로 널리 이용될 수 있다.As described above, the hollow porous structures obtained according to the method of the present invention have a large specific surface area and a large pore volume, and because of their structural specificity, they are used for a wide range of applications such as catalysts, adsorbents, sensors, electrode materials and storage materials. It can be widely used.
Claims (12)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050091596A KR100644501B1 (en) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | Method for producing hollow porous structure and hollow porous structure formed therefrom |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050091596A KR100644501B1 (en) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | Method for producing hollow porous structure and hollow porous structure formed therefrom |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100644501B1 true KR100644501B1 (en) | 2006-11-10 |
Family
ID=37654254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050091596A Expired - Fee Related KR100644501B1 (en) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | Method for producing hollow porous structure and hollow porous structure formed therefrom |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100644501B1 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101435945B1 (en) | 2008-07-07 | 2014-09-01 | 삼성전자 주식회사 | Absorbent/catalyst shell having a hollow core and the manufacturing method thereof |
WO2017070336A1 (en) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
KR102049466B1 (en) * | 2019-05-15 | 2019-11-27 | 서울대학교산학협력단 | Manufacturing method of hollow lightweight aggregate using nitrogen gases |
KR20200136627A (en) * | 2019-05-28 | 2020-12-08 | 인하대학교 산학협력단 | Hollow Mesoporous Carbon nanoparticles encapsulating sulfur and Method for Manufacturing the same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020018747A1 (en) | 2000-05-25 | 2002-02-14 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Ultrastable porous aluminosilicate structures |
KR20050000702A (en) * | 2003-06-24 | 2005-01-06 | 주식회사 엘지생활건강 | A electrophoretic particle, manufacturing method and electrophoretic display having the same |
KR20050109859A (en) * | 2004-05-17 | 2005-11-22 | 한국지질자원연구원 | A method for surface modification of carbon nanotube for thermal resistance |
-
2005
- 2005-09-29 KR KR1020050091596A patent/KR100644501B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020018747A1 (en) | 2000-05-25 | 2002-02-14 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Ultrastable porous aluminosilicate structures |
KR20050000702A (en) * | 2003-06-24 | 2005-01-06 | 주식회사 엘지생활건강 | A electrophoretic particle, manufacturing method and electrophoretic display having the same |
KR20050109859A (en) * | 2004-05-17 | 2005-11-22 | 한국지질자원연구원 | A method for surface modification of carbon nanotube for thermal resistance |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101435945B1 (en) | 2008-07-07 | 2014-09-01 | 삼성전자 주식회사 | Absorbent/catalyst shell having a hollow core and the manufacturing method thereof |
US10988556B2 (en) | 2015-10-21 | 2021-04-27 | King Abdullah University Of Science And Technology | Cationic polymers and porous materials |
EP3689925A1 (en) * | 2015-10-21 | 2020-08-05 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
US10196465B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-05 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
CN108431059B (en) * | 2015-10-21 | 2023-10-10 | 沙特阿拉伯石油公司 | Cationic polymers and porous materials |
EP3365381B1 (en) * | 2015-10-21 | 2020-04-22 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
EP3680264A1 (en) * | 2015-10-21 | 2020-07-15 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
CN108431059A (en) * | 2015-10-21 | 2018-08-21 | 沙特阿拉伯石油公司 | cationic polymer and porous material |
US11066491B2 (en) | 2015-10-21 | 2021-07-20 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
EP3686226A1 (en) * | 2015-10-21 | 2020-07-29 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
EP3705507A1 (en) * | 2015-10-21 | 2020-09-09 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
US10759881B2 (en) | 2015-10-21 | 2020-09-01 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
WO2017070336A1 (en) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | Saudi Arabian Oil Company | Cationic polymers and porous materials |
KR102049466B1 (en) * | 2019-05-15 | 2019-11-27 | 서울대학교산학협력단 | Manufacturing method of hollow lightweight aggregate using nitrogen gases |
KR20200136627A (en) * | 2019-05-28 | 2020-12-08 | 인하대학교 산학협력단 | Hollow Mesoporous Carbon nanoparticles encapsulating sulfur and Method for Manufacturing the same |
KR102366129B1 (en) | 2019-05-28 | 2022-02-22 | 인하대학교 산학협력단 | Hollow Mesoporous Carbon nanoparticles encapsulating sulfur and Method for Manufacturing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Xue et al. | Evaporation‐induced coating and self‐assembly of ordered mesoporous carbon‐silica composite monoliths with macroporous architecture on polyurethane foams | |
Shi et al. | Highly ordered mesoporous silicon carbide ceramics with large surface areas and high stability | |
Taguchi et al. | Carbon monoliths possessing a hierarchical, fully interconnected porosity | |
US7326396B2 (en) | Method for preparing nanoporous carbons with enhanced mechanical strength and the nanoporous carbons prepared by the method | |
KR101608850B1 (en) | Hollow porous carbon particles and their synthetic method | |
KR100878559B1 (en) | Mesoporous silica particles and preparation method thereof | |
CN1884191A (en) | Material with hirarchized porosity, comprising silicium | |
JP2012530680A (en) | Zeolite nanosheets with multiple or single plate structure, regularly or irregularly arranged, having a skeleton thickness corresponding to the size of one single unit crystal lattice or the size of a single unit crystal lattice of 10 or less And similar substances | |
WO2012005449A2 (en) | Zeolite or an analogous material thereof including mesopores arranged regularly or irregularly, and preparation method for same | |
JP2009221050A (en) | Self-standing mesoporous carbon thin film | |
CN106905536A (en) | A kind of method of the materials of Fast back-projection algorithm multi-stage porous ZIF 8 | |
Fuertes et al. | Template synthesis of mesoporous carbons from mesostructured silica by vapor deposition polymerisation | |
KR20120137111A (en) | Preparation method of core-shell silica particle with mesoporous shell | |
Zhang et al. | Facilely controlled synthesis of a core-shell structured MOF composite and its derived N-doped hierarchical porous carbon for CO 2 adsorption | |
Muramoto et al. | Preparation of periodic mesoporous organosilica with large mesopores using silica colloidal crystals as templates | |
CN115043412B (en) | Porous carbon material and preparation method and application thereof | |
KR100644501B1 (en) | Method for producing hollow porous structure and hollow porous structure formed therefrom | |
Yan et al. | Synthesis of spherical ordered mesoporous carbons from direct carbonization of silica/triblock-copolymer composites | |
KR101786544B1 (en) | N-doped microporous carbon nanospheres, and method for preparing thereof | |
CN113184877B (en) | Hollow octahedral NaP molecular sieve and preparation method thereof | |
Li et al. | Synthesis and characterization of hollow mesoporous carbon spheres with a highly ordered bicontinuous cubic mesostructure | |
CN112919459A (en) | Method for preparing three-dimensional ordered microporous carbon at low temperature on large scale | |
KR100933740B1 (en) | Core-shell type silica particles having mesoporous shells and preparation method thereof | |
Hao et al. | Synthesis of large-pore phenyl-bridged mesoporous organosilica with thick walls by evaporation-induced self-assembly for efficient benzene adsorption | |
Xia et al. | Synthesis of hollow spherical mesoporous N-doped carbon materials with graphitic framework |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20050929 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20060929 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20061102 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20061101 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20090902 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20100927 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20110915 Year of fee payment: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20110915 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120914 Year of fee payment: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120914 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |