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KR100625038B1 - Novel polymers and thin film compositions containing them - Google Patents

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KR100625038B1
KR100625038B1 KR1020030084062A KR20030084062A KR100625038B1 KR 100625038 B1 KR100625038 B1 KR 100625038B1 KR 1020030084062 A KR1020030084062 A KR 1020030084062A KR 20030084062 A KR20030084062 A KR 20030084062A KR 100625038 B1 KR100625038 B1 KR 100625038B1
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Abstract

본 발명은 다음 화학식 1로 표시되는 신규한 공중합체와, 여기에 경화용 촉매 및 용제를 첨가하여 이루어진 박막 조성물을 제공하는 바, 신규한 본 발명의 중합체를 포함하는 박막 조성물은 경화용 촉매(산발생제 또는 라디칼 개시제)나 보조 경화제를 첨가함에 따라 열 경화성 또는 광 경화성 평탄화막(Overcoat)이 되며 칼라필터 제조 시 요구되는 투명성, 평탄도 및 경도가 우수한 평탄화막을 제조할 수 있다.The present invention provides a novel copolymer represented by the following Chemical Formula 1, and a thin film composition comprising a curing catalyst and a solvent added thereto, wherein the thin film composition comprising the polymer of the present invention is a curing catalyst (acid). By adding a generator or a radical initiator) or an auxiliary curing agent, it becomes a thermosetting or photocurable flattening film (Overcoat), and can produce a flattening film having excellent transparency, flatness and hardness required in manufacturing a color filter.

Figure 112003044597736-pat00001
Figure 112003044597736-pat00001

상기 식에 있어서, X는 올레핀 또는 하이드록시기, 카르복실산기, 에테르기, 나이트릴기 및 에스테르로부터 선택된 기능기를 갖는 올레핀 단량체로부터 유래된 것이고, R1과 R3는 서로 다른 것으로 수소원자 또는 메틸기이며, R2와 R 4는 서로 다른 것으로 수소원자, 글리시딜기메틸기, 하이드록시알킬기 또는 탄소수 1 내지 33인 알킬기이고, Y는 케톤, 에스테르, 하이드록시, 에테르, 할로겐, 니트릴 및 알콕시로부터 선택된 기능기를 갖거나 갖지 않는 올레핀 화합물 또는 스타이렌 유도체, 또는 아크릴로나이트릴 단량체로부터 유래된 것이며, 반복 단위인 l, m, n, o는 l은 0<l/(l+m+n+o)<0.7, m은 0.1<m/(l+m+n+o)<0.7, n은 0≤n/(l+m+n+o)<0.5 및 0≤o/(l+m+n+o)<0.5인 조건을 만족한다. In the above formula, X is derived from an olefin monomer having a functional group selected from an olefin or a hydroxyl group, a carboxylic acid group, an ether group, a nitrile group and an ester, and R 1 and R 3 are different from each other and are a hydrogen atom or a methyl group. , R 2 and R 4 are different from each other hydrogen, glycidyl methyl group, hydroxyalkyl group or alkyl group having 1 to 33 carbon atoms, Y is a functional group selected from ketones, esters, hydroxy, ether, halogen, nitrile and alkoxy Derived from olefin compounds or styrene derivatives or acrylonitrile monomers, with or without repeating units l, m, n, o where l is 0 <l / (l + m + n + o) <0.7 , m is 0.1 <m / (l + m + n + o) <0.7, n is 0≤n / (l + m + n + o) <0.5 and 0≤o / (l + m + n + o) The condition of <0.5 is satisfied.

Description

신규 중합체 및 이를 함유한 박막 조성물{Novel acrylate polymer and thin film composition comprising it} Novel acrylate polymer and thin film composition comprising it             

도 1 및 도 2는 화학식 2로 표시되는 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터이고, 1 and 2 are 1 H-NMR data and GPC data for the polymer represented by Formula 2,

도 3 및 도 4는 화학식 3로 표시되는 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터이고, 3 and 4 are 1 H-NMR data and GPC data for the polymer represented by Formula 3,

도 5 및 도 6은 화학식 4로 표시되는 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터이고, 5 and 6 are 1 H-NMR data and GPC data for the polymer represented by Formula 4,

도 7 및 도 8은 화학식 5로 표시되는 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터이고, 7 and 8 are 1 H-NMR data and GPC data for the polymer represented by Formula 5,

도 9 및 도 10은 화학식 6으로 표시되는 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터이고, 9 and 10 are 1 H-NMR data and GPC data for the polymer represented by Chemical Formula 6;

본 발명은 열이나 빛에 의해 중합체가 가교반응에 의해 경화되는 신규 중합체 및 이를 함유한 박막 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 빛이나 열에 의해 발생된 라디칼이나 강산에 의해 가교반응이 진행되어 경도가 높은 박막을 형성할 수 있는 신규한 중합체와 이를 포함하는 TFT-LCD 등의 박막 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a novel polymer in which a polymer is cured by a crosslinking reaction by heat or light and a thin film composition containing the same. More specifically, the crosslinking reaction is progressed by radicals or strong acids generated by light or heat, and thus the hardness is high. A novel polymer capable of forming a thin film and a thin film composition such as a TFT-LCD comprising the same.

최근 LCD 산업의 급속한 발전에 따라 박막에 대한 관심이 높아지고 있다. Recently, with the rapid development of the LCD industry, interest in thin films is increasing.

박막 기술의 이용은 초미세 반도체 공정에서부터 일반 생활가전 및 가구에 이르기까지 다양해지고 있다. 예를 들어, 반도체 제조 공정에서는 빛의 반사를 막아주기 위한 반사방지막, 생활가전이나 가구에 있어서는 표면 물성을 높이기 위한 외부 코팅 그리고 LCD 공정에서는 내부 평탄화 및 컬러필터 상부를 보호하기 위해 박막 조성물을 사용하고 있다.The use of thin film technology is diversified from ultrafine semiconductor processes to general household appliances and furniture. For example, the semiconductor manufacturing process uses anti-reflective coatings to prevent light reflections, external coatings to improve surface properties in household appliances and furniture, and LCD processes use thin film compositions to protect internal planarization and top of color filters. have.

박막을 제조하는 기술은 크게 2가지로 분류할 수 있다. 그 첫 번째 방법은 라디칼 개시제를 사용하여 경화시키는 방법이다. 이 경우 주로 사용하는 중합체는 말단에 미반응 아크릴 기능기를 가진 중합체이다. 미반응 아크릴 기능기는 라디칼과 열에 의해 중합이 이루어지며 그 박막은 더욱 단단한 막으로 변화된다. 박막 제조의 다른 방법으로는 에폭시 기능기가 포함된 중합체를 사용하는 방법이다. 이 경우에는 아민 성분의 가교제 또는 양이온 촉매를 사용하여 가교 반응을 진행시킨다. Techniques for manufacturing thin films can be broadly classified into two types. The first method is to cure using a radical initiator. In this case, the polymer mainly used is a polymer having an unreacted acrylic functional group at its terminal. Unreacted acrylic functional groups are polymerized by radicals and heat, and the thin film is converted into a harder film. Another method of thin film production is to use a polymer containing an epoxy functional group. In this case, crosslinking reaction is advanced using the crosslinking agent or cation catalyst of an amine component.

라디칼 개시제를 이용하여 박막을 제조하는 기술은 공기중의 산소를 차단해 야 한다는 번거로움이 있는 반면에 양이온이나 아민에 의해 박막을 제조하는 기술은 산소를 차단하지 않아도 되는 장점이 있다.The technique of preparing a thin film by using a radical initiator has the inconvenience of blocking oxygen in the air, while the technique of manufacturing a thin film by cations or amines does not need to block oxygen.

박막 조성물은 중합체, 경화용 촉매(산발생제 또는 라디칼 개시제), 보조 경화제, 계면활성제 및 약간의 첨가제 그리고 이를 녹이는 용매 등을 포함한다. 일반적으로 중합체의 경우에는 아크릴레이트 중합체 또는 우레탄 중합체를 사용하는 경우가 일반적이다. 그런데, 이들 중합체의 경우 중합체 자체의 유리전이 온도가 낮기 때문에 경도가 높은 박막을 제조하는데 어려움이 있다. 또한 일반 유기 용매에 대한 용해도도 떨어져 박막을 균일하게 코팅하는데 어려움이 따른다. Thin film compositions include polymers, curing catalysts (acid generators or radical initiators), auxiliary curing agents, surfactants and some additives, and solvents for dissolving them. In the case of polymers in general, acrylate polymers or urethane polymers are generally used. However, in the case of these polymers, since the glass transition temperature of the polymer itself is low, it is difficult to prepare a thin film having high hardness. In addition, it is difficult to uniformly coat the thin film because of its poor solubility in general organic solvents.

아크릴레이트 중합체에 있어서 경도가 떨어지는 단점을 보완하기 위해 탄화수소(hydrocarbon) 기능기가 많이 도입된 이소보닐 아크릴레이트(isobornyl acrylate)와 같은 단량체를 도입하기도 하였다. 그러나 이러한 기능기를 도입하더라도 용매에 대한 용해도나 코팅에 대한 균일성 등을 확보하는 데는 어려움이 여전히 존재한다.In order to compensate for the disadvantage of the hardness of the acrylate polymer, a monomer such as isobornyl acrylate (isobornyl acrylate) in which a lot of hydrocarbon functional groups have been introduced has been introduced. However, even if such functional groups are introduced, there are still difficulties in ensuring solubility in solvents and uniformity of coatings.

이에, 본 발명자들은 박막 조성물에 사용되는 아크릴레이트 중합체의 단점을 보완하기 위한 방법을 모색하던 중, 중합체의 주쇄에 노보넨(norbonene)과 같은 올레핀 화합물을 도입한 결과 아크릴레이트가 갖고 있는 낮은 유리전이온도, 용매에 대한 용해성, 박막 형성시 균일성 등을 향상시킬 수 있으며, 또한 아크릴레이트 단량체의 측쇄 부분에 관능기를 도입함으로써 강산이나 라디칼에 의해 경화될 수 있 는 관능기를 포함되도록 한 신규한 중합체를 개발하게 되었다. Therefore, the inventors of the present invention, while searching for a method to compensate for the shortcomings of the acrylate polymer used in the thin film composition, introduced the olefin compound such as norbonene into the main chain of the polymer, the low glass transition of the acrylate It is possible to improve the temperature, solubility in solvents, uniformity when forming a thin film, and to introduce a functional group into the side chain portion of the acrylate monomer, and to include a functional group that can be cured by a strong acid or radical. Developed.

본 발명의 목적은 유리전이 온도가 높고 용매에 대한 용해도가 높아 박막 조성물로서 유용한 신규 중합체를 제공하는 데 그 목적이 있다. An object of the present invention is to provide a novel polymer useful as a thin film composition having a high glass transition temperature and high solubility in a solvent.

또한, 본 발명은 이같은 신규 중합체를 함유함으로써 투과도와 평탄화도가 향상된 박막 조성물을 제공하는 데도 그 목적이 있다. In addition, an object of the present invention is to provide a thin film composition having improved permeability and flatness by containing such a novel polymer.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 신규 중합체는 다음 화학식 1로 표시되는 것임을 그 특징으로 한다.The novel polymer of the present invention for achieving the above object is characterized by that represented by the following formula (1).

화학식 1Formula 1

Figure 112003044597736-pat00002
Figure 112003044597736-pat00002

상기 식에 있어서, X는 올레핀 또는 하이드록시기, 카르복실산기, 에테르기, 나이트릴기 및 에스테르로부터 선택된 기능기를 갖는 올레핀 단량체로부터 유래된 것이고, R1과 R3는 서로 다른 것으로 수소원자 또는 메틸기이며, R2와 R 4는 서로 다른 것으로 수소원자, 글리시딜메틸기, 하이드록시알킬기 또는 탄소수 1 내지 33인 알킬기이고, Y는 케톤, 에스테르, 하이드록시, 에테르, 할로겐, 니트릴 및 알콕시로부터 선택된 기능기를 갖거나 갖지 않는 올레핀 화합물 또는 스타이렌 유도체, 또는 아크릴로나이트릴 단량체로부터 유래된 것이며, 반복 단위인 l, m, n, o는 l은 0<l/(l+m+n+o)<0.7, m은 0.1<m/(l+m+n+o)<0.7, n은 0≤n/(l+m+n+o)<0.5 및 0≤o/(l+m+n+o)<0.5인 조건을 만족한다. In the above formula, X is derived from an olefin monomer having a functional group selected from an olefin or a hydroxyl group, a carboxylic acid group, an ether group, a nitrile group and an ester, and R 1 and R 3 are different from each other and are a hydrogen atom or a methyl group. , R 2 and R 4 are different from each other hydrogen, glycidylmethyl, hydroxyalkyl or alkyl group having 1 to 33 carbon atoms, Y is a functional group selected from ketones, esters, hydroxy, ethers, halogens, nitriles and alkoxy Derived from olefin compounds or styrene derivatives or acrylonitrile monomers, with or without repeating units l, m, n, o where l is 0 <l / (l + m + n + o) <0.7 , m is 0.1 <m / (l + m + n + o) <0.7, n is 0≤n / (l + m + n + o) <0.5 and 0≤o / (l + m + n + o) The condition of <0.5 is satisfied.

또한, 본 발명에 따른 박막 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 공중합체와 산발생제 및 용제를 포함하는 것임을 그 특징으로 한다.
In addition, the thin film composition according to the present invention is characterized in that it comprises a copolymer represented by the formula (1), an acid generator and a solvent.

본 발명은 중합체 주쇄 부분에 올레핀 관능기가 포함된 아크릴레이트 중합체와 이를 함유한 박막 조성물로 이루어진다.The present invention consists of an acrylate polymer containing an olefin functional group in the polymer backbone and a thin film composition containing the same.

<중합체><Polymer>

본 발명에 따라 얻어진 상기 화학식 1로 표시되는 신규한 중합체는 주쇄에 올레핀 유도체인 단량체(와 하이드록시알킬기, 하이드록시기, 글리시딜기 또는 알킬기 중에서 선택된 기능기를 가진 아크릴 또는 메타아크릴 단량체)를 포함하고, 측쇄에는 하이드록시기 또는 에폭시기 등과 같은 경화가 가능한 관능기를 포함하는 것이 그 특징이다. 경우에 따라서는 평탄화도, 경도, 접착력 등을 향상시키기 위해 스타이렌 유도체 또는 아크릴로나이트릴 또는 하이드록시기 등이 포함된 올레핀 유도체를 단량체로 추가하여 중합체를 합성할 수도 있다. The novel polymer represented by the formula (1) obtained according to the present invention comprises a monomer (and an acrylic or methacrylic monomer having a functional group selected from hydroxyalkyl group, hydroxy group, glycidyl group or alkyl group) in the main chain. The side chain is characterized by including a functional group capable of curing, such as a hydroxyl group or an epoxy group. In some cases, the polymer may be synthesized by adding a styrene derivative or an olefin derivative including an acrylonitrile or a hydroxyl group as a monomer in order to improve flatness, hardness, adhesion, and the like.

또한 본 중합체는 일반적으로 강산이나 라디칼에 의해 경화될 수 있는 관능기를 포함하고 있지만 경우에 따라서는 포함하지 않을 수도 있다. In addition, the polymer generally contains a functional group that can be cured by a strong acid or radical, but may not be included in some cases.

중합체는 중합체 내의 단량체의 종류 및 함량에 따라 그 물리적 화학적 성능이 달라지게 된다. 일반적으로 중합체가 친수성이 강하면 접착력은 증가하나 박막의 경도가 떨어지는 단점이 있다. 또한 친수성이나 소수성이 너무 높으면 유기 용 매에 대한 용해도가 떨어지는 단점을 갖는다.Polymers have different physical and chemical performances depending on the type and content of monomers in the polymer. In general, when the polymer is hydrophilic, the adhesive strength increases, but the hardness of the thin film is deteriorated. In addition, if the hydrophilicity or hydrophobicity is too high, solubility in organic solvents is poor.

상기 화학식 1로 표시되는 공중합체는 블록 공중합체, 랜덤 공중합체 또는 그래프트 공중합체일 수 있다. The copolymer represented by Formula 1 may be a block copolymer, a random copolymer or a graft copolymer.

상기 화학식 1로 표시되는 중합체의 중합방법은 통상적인 방법에 의해 할 수 있으나 라디칼 중합이 바람직하다. Polymerization of the polymer represented by the formula (1) can be carried out by conventional methods, but radical polymerization is preferred.

라디칼 중합 개시제로는 아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 벤조일 퍼옥시드 (BPO), 라우릴 퍼옥시드, 아조비스이소카프로니트릴, 아조비스이소발레로니트릴, 그리고 tert-부틸 히드로 퍼옥시드 등과 같이 일반적인 라디칼 중합개시제로 사용하는 것이면 특별한 제한은 없다. 중합 반응은 괴상중합, 용액중합, 현탁중합, 괴상-현탁중합, 유화중합 등의 방법으로 시행할 수 있으며, 중합용매로는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 할로겐화벤젠, 디에틸에테르, 테트라하이드로퓨란, 에스테르류, 에테르류, 락톤류, 케톤류, 아미드류 중에서 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다. Radical polymerization initiators are common such as azobisisobutyronitrile (AIBN), benzoyl peroxide (BPO), lauryl peroxide, azobisisocapronitrile, azobisisovaleronitrile, and tert-butyl hydroperoxide. There is no particular limitation as long as it is used as a radical polymerization initiator. The polymerization reaction can be carried out by bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, block-suspension polymerization, emulsion polymerization, etc.The polymerization solvent is benzene, toluene, xylene, halogenated benzene, diethyl ether, tetrahydrofuran, ester 1 type or more can be selected and used out of the said, ether, lactone, ketone, and amide.

중합온도는 촉매의 종류에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있다. Polymerization temperature can be suitably selected and used according to the kind of catalyst.

그리고, 중합체의 분자량 분포는 중합 개시제의 사용량과 반응시간을 변경하여 적절히 조절할 수 있다. The molecular weight distribution of the polymer can be appropriately adjusted by changing the amount of use of the polymerization initiator and the reaction time.

중합이 완료된 후 반응 혼합물에 남아있는 미반응 단량체 및 부생성물들은 용매에 의한 침전법으로 제거하는 것이 바람직하다. It is preferable to remove the unreacted monomers and by-products remaining in the reaction mixture after the polymerization is completed by precipitation with a solvent.

한편, 중합반응시 원료의 투입방법을 몇 가지로 나누어 볼 수 있다. 모든 원료를 한꺼번에 반응기에 넣은 후 반응을 진행시키는 방법과 반응속도가 올레핀에 비하여 빠른 아크릴레이트 단량체를 서서히 적하시키는 방법, 그리고 개시제와 아 크릴레이트를 적하시키는 방법, 마지막으로 모든 원료를 용매가 들어있는 반응기에 서서히 적하시키는 방법 등을 들 수 있다. 일반적으로 아크릴레이트 단량체 또는 개시제와 아크릴레이트 단량체를 서서히 적하시키는 방법이 주쇄에 올레핀 단량체가 많이 포함될 수 있다. 올레핀 단량체를 주쇄에 많이 포함시키기 위해서는 이 방법 외에 올레핀을 아크릴레이트 단량체에 비해 과량으로 사용하는 방법도 가능하나, 이 경우 반응이 끝난 후 미 반응 올레핀 단량체을 제거하는 번거로움이 있다.On the other hand, it can be divided into several methods of input of raw materials during the polymerization reaction. Put all the raw materials into the reactor at once and proceed with the reaction, slow dropping of the acrylate monomer which is faster than olefin, and dropping the initiator and acrylate, and finally, all raw materials with solvent The method of dripping into a reactor gradually is mentioned. In general, a method of slowly dropping an acrylate monomer or an initiator and an acrylate monomer may include a large number of olefin monomers in the main chain. In order to include a large number of olefin monomers in the main chain, in addition to this method, a method in which an olefin is used in excess of the acrylate monomer is possible, but in this case, there is a problem of removing unreacted olefin monomer after the reaction is completed.

일반적으로 올레핀과 아크릴레이트는 중합반응이 진행되지 않은 것으로 알려져 있는 데, 노보넨(norbonene) 유도체와 3차 올레핀의 경우에는 아크릴레이트 모노머와 중합반응이 진행된다. 그러나 이들 올레핀도 메타아크릴레이트와는 거의 공중합반응이 진행되지 않고 메타아크릴레이트 단독 중합반응이 진행된다. 메타아크릴레이트도 아크릴레이트와 이들 올레핀과의 삼중 중합을 진행할 경우에는 중합반응이 진행된다.Generally, olefins and acrylates are known to have not undergone polymerization. In the case of norbornene derivatives and tertiary olefins, polymerization occurs with acrylate monomers. However, these olefins also hardly copolymerize with methacrylate and proceed with methacrylate homopolymerization. The methacrylate also undergoes a polymerization reaction when triple polymerization of acrylates and these olefins proceeds.

이에 바람직하기로는 상기 화학식 1로 표시되는 중합체의 반복단위가 (l+m)/(l+m+n+o)〉0.5를 만족하는 것이다. 이들 올레핀과 아크릴레이트 중합반응은 아크릴레이트 단독 중합에서 보다는 중합체의 분자량은 크게 떨어진다. 그러나 일반 박막용 중합체로는 매우 적합한 상태의 분자량을 나타낸다.Preferably, the repeating unit of the polymer represented by Formula 1 satisfies (l + m) / (l + m + n + o)> 0.5. These olefin and acrylate polymerizations are significantly lower in molecular weight than in acrylate homopolymerization. However, as a polymer for general thin films, it shows a molecular weight in a very suitable state.

상기 화학식 1로 표시되는 중합체의 겔퍼미션 크로마토그래피(GPC)에 의한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하 "Mw"하 함)은 2,000 내지 1,000,000인 바, 박막으로서의 도포성 및 경도 등을 고려하면 3,000-50,000인 것이 바람직하다. 중합체의 분자량 분포는 1.0 내지 5.0이 바람직하며, 특히 바람직하게는 1.0 내지3.0 이다.The polystyrene reduced weight average molecular weight (hereinafter referred to as "Mw") by gel permeation chromatography (GPC) of the polymer represented by Chemical Formula 1 is 2,000 to 1,000,000, considering the applicability, hardness, etc. as a thin film, 3,000-50,000 Is preferably. The molecular weight distribution of the polymer is preferably 1.0 to 5.0, particularly preferably 1.0 to 3.0.

<박막 조성물><Thin Film Composition>

상기와 같은 화학식 1로 표시되는 화합물을 박막 조성물로 사용할 수 있는 바, 박막조성물은 상기와 같은 화학식 1로 표시되는 화합물 10 내지 20중량%, 총 고체성분 100중량부에 대해 산발생제 0.1중량부 내지 30중량부, 및 용제를 제외한 총 조성물 100중량부에 대하여 용매 250 내지 400중량부, 필요에 따라 상기 화학식 1로 표시되는 중합체 100중량부에 대하여 35 내지 50중량부의 첨가제를 포함한다
박막 조성물의 구성요소를 살피면 다음과 같다.
화학식 1로 표시되는 화합물
상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 박막 조성물로 사용할 수 있다.
The compound represented by the formula (1) can be used as a thin film composition , the thin film composition is 0.1 to 20 parts by weight of the acid generator based on 10 to 20% by weight of the compound represented by the formula (1), 100 parts by weight of the total solid component To 30 parts by weight, and 250 to 400 parts by weight of solvent based on 100 parts by weight of the total composition excluding the solvent, and 35 to 50 parts by weight of additives based on 100 parts by weight of the polymer represented by Formula 1 as necessary.
Looking at the components of the thin film composition is as follows.
Compound represented by formula (1)
The compound represented by Formula 1 may be used as a thin film composition.


경화용 촉매(산발생제 또는 라디칼 개시제)Curing catalyst (acid generator or radical initiator)

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산발생제는 화합물의 특성에 따라 열이나 광에 의해 산을 발생시킨다. 열이나 광에 의해 산이 발생되는 화합물에는 오니움계인 요드니움염(iodonium salts), 술포니움염(sulfonium salts), 포스포니움염, 디아조니움염, 피리디니움염, secondary-알킬-톨루엔술폰네이트 그리고 아미드류 등이 있다.
라디칼 개시제로는 다음과 같은 것들을 사용할 수 있는데, 이들은 일반적으로 흔히 사용하는 스위스 시바사의 Igacure 시리즈로서, 예를 들면, Igacure 184, Igacure 500, Igacure 369, Igacure 907 등의 상품명으로 나타낼 수 있다. 이들 화합물의 구체적인 구조식은 다음과 같다.

Figure 112005057584367-pat00020

Acid generators generate acids by heat or light, depending on the properties of the compound. Compounds that generate acid by heat or light include onium-based iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, diazonium salts, pyridinium salts, secondary-alkyl-toluenesulfonates and amido Drew.
As the radical initiator, the following may be used, which are generally commonly used Igacure series manufactured by Shiva, Switzerland, and may be represented, for example, under the trade names Igacure 184, Igacure 500, Igacure 369, and Igacure 907. Specific structural formulas of these compounds are as follows.
Figure 112005057584367-pat00020

특히 secondary-알킬-톨루엔술폰네이트의 경우 보관안정성이나 합성법이 간단하여 용이하게 사용할 수 있는 산발생제이다. 여기서, secondary-알킬 부분은 경우에 따라 폴리머형, 관능기가 포함된 형 등을 총칭하여 표현한 것이다. 예를 들어 설명하면, 사이클로헥실기 또는 사이클로펜틸기 등은 150℃ 전후에서 산이 발생되는 반면에 노보넨과 같은 치환체는 110℃ 전후에서 산을 발생시킨다. 그리고 tert-알킬-톨루엔술폰네이트의 경우 보관안정성이 떨어지는 반면에 primary-알킬-톨루엔술폰네이트의 경우에는 열적 안정성이 뛰어나 매우 높은 온도에서 산이 발생되는 단점이 있다.In particular, secondary-alkyl-toluenesulfonate is an acid generator that can be used easily because of its storage stability and synthesis method. Here, the secondary-alkyl moiety is a general expression of the polymer type, the type including the functional group, and the like. For example, a cyclohexyl group or a cyclopentyl group generates an acid at about 150 ° C., while a substituent such as norbornene generates an acid at around 110 ° C. In the case of tert-alkyl-toluenesulfonate, the storage stability is inferior, whereas in the case of primary-alkyl-toluenesulfonate, thermal stability is excellent and acid is generated at a very high temperature.

상기의 산발생제 또는 라디칼 개시제는 총 고체성분 100중량부에 대해 0.1중량부 내지 30중량부, 바람직하게는 0.3중량부 내지 10중량부로 사용하는 것이 좋다. 상기의 산발생제 또는 개시제는 단독으로 사용하거나 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 만일 산발생제 또는 라디칼 개시제의 함량이 박막 조성물 총 고체성분 100중량부에 대해 0.1중량부 미만이면 경화 속도가 늦어지거나 충분한 경화가 일어나지 않는 단점이 있고, 30중량부 초과면 상대적으로 단량체의 함량이 높아져 코팅 물성이 나빠지거나 부반응이 많이 진행되어 투명도 등이 좋지 못한 문제가 있다. The acid generator or radical initiator may be used in an amount of 0.1 parts by weight to 30 parts by weight, preferably 0.3 parts by weight to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid component. Said acid generator or initiator may be used individually or in mixture of 2 or more types. If the content of the acid generator or radical initiator is less than 0.1 part by weight based on 100 parts by weight of the total solid component of the thin film composition, there is a disadvantage in that the curing speed is slow or sufficient curing does not occur. There is a problem that the coating properties deteriorate or the side reactions progress a lot, so transparency is not good.

경우에 따라서는 촉매 사용없이 강한 열로 가교 반응을 진행시킬 수도 있다. 그러나, 보편적으로는 촉매를 사용하는 것이 경도 측면에서는 유리하다.In some cases, the crosslinking reaction may proceed with strong heat without using a catalyst. However, it is generally advantageous to use a catalyst in terms of hardness.

첨가제additive

본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 중합체 중 자체 내에 경화 반응이 진행될 수 있는 관능기가 있는 경우에는 별도의 중합체나 경화 부재료를 첨가할 필요는 없으나, 경우에 따라서는 박막의 경도를 조절하거나 접착력을 높이기 위한 수단으로 부재료를 첨가할 수 있다. In the polymer represented by Formula 1 according to the present invention, if there is a functional group capable of undergoing a curing reaction in itself, it is not necessary to add a separate polymer or a curing material, but in some cases, the hardness of the thin film may be adjusted or the adhesive force may be adjusted. Subsidiary materials can be added as a means for increasing.

특히 이들 부재료는 경화 정도를 높이기 위해 글리시딜기가 2개 이상 치환된 폴리올류의 중합체 또는 단량체, 그리고 치환체가 없는 폴리올류 또는 페놀 유도체를 사용할 수도 있다.
또 다른 첨가제로는 박막의 균일성을 높이거나 용액의 혼화성을 높이기 위해 계면활성제를 사용할 수도 있다.
In particular, these subsidiary materials may use polymers or monomers of polyols in which two or more glycidyl groups are substituted in order to increase the degree of curing, and polyols or phenol derivatives without substituents.
As another additive, a surfactant may be used to increase the uniformity of the thin film or increase the miscibility of the solution.

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용매menstruum

본 발명에서의 박막 조성물이 균일하고 평탄한 도포막을 얻기 위해서는 적당한 증발속도와 점성을 가진 용매에 용해시켜 사용한다. 이러한 물성을 가진 용매로는 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필 에테르, 메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔브 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필 에테르 아세테이트, 메틸 이소프로필 케톤, 시클로헥사논, 메틸 2-히드록시프로피온네이트, 에틸 2-히드록시프로피온네이트, 2-헵타논, 에틸 카비톨, 에틸 락테이트, 감마-부티로락톤 등이며, 경우에 따라서는 이들 단독 또는 2종 이상의 혼합 용매를 사용한다. 용매의 사용량은 용매의 물성 즉, 휘발성, 점도 등에 따라 적당량 사용하여 박막이 균일하게 형성될 수 있도록 조절한다.In order to obtain a uniform and flat coating film, the thin film composition of the present invention is used by dissolving in a solvent having a suitable evaporation rate and viscosity. Solvents having these properties include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate , Propylene glycol monopropyl ether acetate, methyl isopropyl ketone, cyclohexanone, methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, 2-heptanone, ethyl carbitol, ethyl lactate, gamma-butyro Lactone and the like, and in some cases, these alone or two or more kinds of mixed solvents are used. The amount of the solvent is adjusted to uniformly form the thin film using an appropriate amount depending on the physical properties of the solvent, that is, volatility, viscosity, and the like.


본 발명을 하기 합성예 및 실시예로서 구체적으로 설명한다. 그러나 본 발명이 이들 합성예와 실시예로 한정되는 것은 아니다.

The present invention will be specifically described as the following Synthesis Examples and Examples. However, the present invention is not limited to these synthesis examples and examples.

<중합체의 합성>Synthesis of Polymer

합성예 1] 화학식 2로 표시되는 중합체 합성Synthesis Example 1 Synthesis of Polymer Represented by Chemical Formula 2

Figure 112003044597736-pat00003
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노보넨 97g과 AIBN 7g을 에틸 아세테이트 400g에 녹인 후 반응기를 65℃까지 승온하였다. 이 반응기에 메틸 아크릴레이트 44g과 하이드록시에틸 아크릴레이트 60g을 4시간에 걸쳐 서서히 적하시켰다. 적하가 끝나면 같은 온도에서 12시간 동안 교반한 후 상온으로 냉각시켰다. 냉각된 반응물을 과량의 헥산 용액에 적하시키면 흰색 침전물을 얻는다. 이 침전물을 진공 건조시켜 118g의 화학식 2의 중합체를 얻었다.After dissolving 97 g of norbornene and 7 g of AIBN in 400 g of ethyl acetate, the reactor was heated to 65 ° C. 44 g of methyl acrylate and 60 g of hydroxyethyl acrylate were slowly added dropwise to the reactor over 4 hours. After dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 12 hours and then cooled to room temperature. The cooled reactant is added dropwise into excess hexane solution to give a white precipitate. This precipitate was dried in vacuo to give 118 g of the polymer of formula (2).

얻어진 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터를 도 1 및 도 2에 나타내었다. 1 H-NMR data and GPC data for the obtained polymer are shown in FIGS. 1 and 2.

합성예 2]화학식 3으로 표시되는 중합체 합성Synthesis Example 2 Synthesis of Polymer Represented by Chemical Formula 3

Figure 112003044597736-pat00004
Figure 112003044597736-pat00004

노보넨 350g과 AIBN 14g을 에틸 아세테이트 1408g에 녹인 후 반응기를 65℃까지 승온하였다. 이 반응기에 메틸 아크릴레이트 176g과 하이드록시에틸 아크릴레이트 151g 그리고 아크릴릭 산 27g을 4시간에 걸쳐 서서히 적하시켰다. 적하가 끝나면 같은 온도에서 12시간 동안 교반한 후 상온으로 냉각시켰다. 냉각된 반응물을 과량의 헥산 용액에 적하시키면 흰색 침전물을 얻는다. 이 침전물을 진공 건조시켜 404g의 화학식 3의 중합체를 얻었다.After dissolving 350 g of norbornene and 14 g of AIBN in 1408 g of ethyl acetate, the reactor was heated to 65 ° C. 176 g of methyl acrylate, 151 g of hydroxyethyl acrylate and 27 g of acrylic acid were slowly added dropwise to the reactor over 4 hours. After dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 12 hours and then cooled to room temperature. The cooled reactant is added dropwise into excess hexane solution to give a white precipitate. This precipitate was dried in vacuo to give 404 g of the polymer of formula (3).

얻어진 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터를 도 3 및 도 4에 나타내었다. 1 H-NMR data and GPC data for the obtained polymer are shown in FIGS. 3 and 4.

합성예 3] 화학식 4로 표시되는 중합체 합성Synthesis Example 3 Synthesis of Polymer Represented by Chemical Formula 4

Figure 112003044597736-pat00005
Figure 112003044597736-pat00005

노보넨 80g과 AIBN 9g을 에틸 아세테이트 360g에 녹인 후 반응기를 65℃까지 승온하였다. 이 반응기에 메틸 아크릴레이트 40g과 하이드록시에틸 아크릴레이트 50g 그리고 글리시딜 메타아크릴레이트 10g을 4시간에 걸쳐 서서히 적하하였다. 적하가 끝나면 같은 온도에서 12시간 동안 교반한 후 상온으로 냉각시켰다. 냉각된 반응물을 과량의 헥산 용액에 적하시키면 흰색 침전물을 얻는다. 이 침전물을 진공 건조시켜 106g의 화학식 4의 중합체를 얻었다.After dissolving 80 g of norbornene and 9 g of AIBN in 360 g of ethyl acetate, the reactor was heated to 65 ° C. 40 g of methyl acrylate, 50 g of hydroxyethyl acrylate and 10 g of glycidyl methacrylate were slowly added dropwise to the reactor over 4 hours. After dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 12 hours and then cooled to room temperature. The cooled reactant is added dropwise into excess hexane solution to give a white precipitate. This precipitate was dried in vacuo to yield 106 g of a polymer of formula (4).

얻어진 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터를 도 5 및 도 6에 나타내었다. 1 H-NMR data and GPC data for the obtained polymer are shown in FIGS. 5 and 6.

합성예 4] 화학식 5로 표시되는 중합체 합성Synthesis Example 4 Synthesis of Polymer Represented by Chemical Formula 5

Figure 112003044597736-pat00006
Figure 112003044597736-pat00006

3-메틸-3-부텐올 50g과 AIBN 7.5g을 에틸 아세테이트 300g에 녹인 후 반응기를 70℃까지 승온하였다. 이 반응기에 메틸 아크릴레이트 60g과 하이드록시에틸 아크릴레이트 15g 그리고 글리시딜 메타아크릴레이트 25g을 4시간에 걸쳐 서서히 적하하였다. 적하가 끝나면 같은 온도에서 4시간 동안 교반한 후 상온으로 냉각시켰다. 냉각된 반응물을 과량의 헥산 용액에 적하시키면 흰색 침전물을 얻는다. 이 침전물을 진공 건조시켜 105g의 화학식 5의 중합체를 얻었다. After dissolving 50 g of 3-methyl-3-butenol and 7.5 g of AIBN in 300 g of ethyl acetate, the reactor was heated to 70 ° C. 60 g of methyl acrylate, 15 g of hydroxyethyl acrylate and 25 g of glycidyl methacrylate were slowly added dropwise to the reactor over 4 hours. After dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours and then cooled to room temperature. The cooled reactant is added dropwise into excess hexane solution to give a white precipitate. This precipitate was dried in vacuo to yield 105 g of the polymer of formula (5).

얻어진 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터를 도 7 및 도 8에 나타내었다. 1 H-NMR data and GPC data for the obtained polymer are shown in FIGS. 7 and 8.

합성예 5]화학식 6으로 표시되는 중합체 합성Synthesis Example 5 Synthesis of Polymer Represented by Chemical Formula 6

Figure 112003044597736-pat00007
Figure 112003044597736-pat00007

노보넨 30g과 AIBN 7.5g을 에틸 아세테이트 300g에 녹인 후 반응기를 70℃까지 승온하였다. 이 반응기에 이소보닐 아크릴레이트 45g과 하이드록시에틸 아크릴레이트 30g 그리고 글리시딜 메타아크릴레이트 45g을 4시간에 걸쳐 서서히 적하시켰다. 적하가 끝나면 같은 온도에서 4시간 동안 교반한 후 상온으로 냉각시켰다. 냉각된 반응물을 과량의 헥산 용액에 적하시키면 흰색 침전물을 얻는다. 이 침전물을 진공 건조시켜 114g의 화학식 6의 중합체를 얻었다.After dissolving 30 g of norbornene and 7.5 g of AIBN in 300 g of ethyl acetate, the reactor was heated to 70 ° C. 45 g of isobonyl acrylate, 30 g of hydroxyethyl acrylate and 45 g of glycidyl methacrylate were slowly added dropwise to the reactor over 4 hours. After dropping, the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours and then cooled to room temperature. The cooled reactant is added dropwise into excess hexane solution to give a white precipitate. This precipitate was dried in vacuo to give 114 g of polymer of formula (6).

얻어진 중합체에 대한 1H-NMR 데이터와 GPC 데이터를 도 9 및 도 10에 나타내었다. 1 H-NMR data and GPC data for the obtained polymer are shown in FIGS. 9 and 10.

<박막조성물의 제조 및 성능시험><Manufacturing and performance test of thin film composition>

실시예 1Example 1

상기 합성예 1에서 얻어진 화학식 2의 중합체 15g과 3∼6관능기를 가지고 있는 아크릴레이트 모노머로 Aldrich 사의 Dipentaerythritol penta-/hexa-acrylate 7g, 광개시제로는 스위스 시바사의 Igacure907 0.5g을 용매로는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하 PGMEA) 77g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하였다. 15 g of the polymer of Chemical Formula 2 obtained in Synthesis Example 1 and 7 g of an acrylate monomer having 3 to 6 functional groups, Aldrich's Dipentaerythritol penta- / hexa-acrylate 7 g, a photoinitiator Igacure907 0.5 g of Siva, Switzerland, propylene glycol mono A thin film composition was prepared by dissolving in 77 g of methyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA) and filtering with a 0.2 µm membrane filter.

얻어진 조성물을 R.G.B(Red, Green, Blue) 도포 공정까지 끝난 칼라필터 기판에 700rpm으로 10초간 회전 도포하고 100℃에서 120초간 가열하여 박막을 형성하였다. 박막이 형성된 R.G.B 칼라필터 기판을 350W 수은 램프에서 방출되는 자외선으로 경화시켜 평탄화막을 형성하였다.The obtained composition was spun onto the color filter substrate completed until the R.G.B (Red, Green, Blue) coating step at 700 rpm for 10 seconds and heated at 100 ° C. for 120 seconds to form a thin film. The thin film-formed R.G.B color filter substrate was cured with ultraviolet light emitted from a 350W mercury lamp to form a planarization film.

경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.9~3.2㎛의 두께로 형성되며, 95% 이상의 평탄도와 경도 측정 결과 4H의 연필경도를 가진다. The flattening film formed by curing is formed to a thickness of 2.9-3.2㎛ including R.G.B, and has a flatness of 95% or more and a pencil hardness of 4H as a result of hardness measurement.

또한 가시광선 영역에서의 투과도를 측정하기 위하여 공정이 진행되지 않은 투명한 LCD용 Glass에 700rpm으로 10초간 회전 도포하고 100℃에서 120초간 가열하여 박막을 형성하였다. 박막이 형성된 LCD용 Glass를 350W 수은 램프에서 방출되는 자외선으로 경화시켜 평탄화막을 형성하였다. 경화되어 형성된 평탄화막은 1~1.5㎛ 두께로 형성되며 95% 이상의 투과도를 보였다.In addition, in order to measure the transmittance in the visible light region to form a thin film by rotating the coating for 10 seconds at 700rpm on a transparent glass for LCD for 10 seconds and then heated at 100 ℃. The thin film-formed LCD glass was cured with ultraviolet light emitted from a 350W mercury lamp to form a flattening film. The flattening film formed by curing was formed to a thickness of 1 ~ 1.5㎛ and showed a transmittance of 95% or more.

이때, 경도의 측정은 Pencil Tester법으로 수행하였고, 투과도는 UV Spectrophotometer로 측정하였으며, 평탄도는 SEM(Scanning Electron Microscope)으로 측정하였다.At this time, the hardness was measured by the Pencil Tester method, the transmittance was measured by UV Spectrophotometer, the flatness was measured by SEM (Scanning Electron Microscope).

실시예 2Example 2

상기 합성예 1에서 얻어진 화학식 2의 중합체 대신에 상기 합성예 2에서 얻어진 화학식 3의 중합체를 사용하여 실시예 1과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.9~3.2㎛의 두께로 형성되며, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 95% 이상의 평탄도와 95% 이상의 투과도를 보였다.Instead of the polymer of Formula 2 obtained in Synthesis Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1 using the polymer of Formula 3 obtained in Synthesis Example 2 as a result of the flattening film formed by curing the thickness of 2.9 ~ 3.2 ㎛ including RGB It was formed as, had a pencil hardness of 4H when measured in the same manner as in Example 1, showed a flatness of 95% or more and a transmittance of 95% or more.

실시예 3Example 3

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체 16g, 산발생제로서 요드니움염5g을 용매 PGMEA 82g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하였다.16 g of the polymer of Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 and 5 g of iodide salt as an acid generator were dissolved in 82 g of solvent PGMEA, and then filtered through a 0.2 μm membrane filter to prepare a thin film composition.

얻어진 조성물을 R.G.B(Red, Green, Blue) 도포 공정까지 끝난 칼라필터 기판에 700rpm으로 10초간 회전 도포하고 100℃에서 120초간 가열하여 박막을 형성하였다. 박막이 형성된 R.G.B 칼라필터 기판을 220℃오븐에서 40분간 경화시켜 평탄화막을 형성하였다.The obtained composition was spun onto the color filter substrate completed until the R.G.B (Red, Green, Blue) coating step at 700 rpm for 10 seconds and heated at 100 ° C. for 120 seconds to form a thin film. The R.G.B color filter substrate on which the thin film was formed was cured at 220 ° C. for 40 minutes to form a flattening film.

경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.5~3.2㎛의 두께로 형성되고, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 90% 이상의 평탄도를 보였다.The flattening film formed by curing was formed to a thickness of 2.5 to 3.2 μm including R.G.B, and had a pencil hardness of 4H as measured in the same manner as in Example 1, and showed flatness of 90% or more.

또한 가시광선 영역에서의 투과도를 측정하기 위하여 공정이 진행되지 않은 투명한 LCD용 Glass에 700rpm으로 10초간 회전 도포하고 100℃에서 120초간 가열하여 박막을 형성하였다. 박막이 형성된 LCD용 Glass를 220℃오븐에서 40분간 경화시켜 평탄화막을 형성하였다.In addition, in order to measure the transmittance in the visible light region to form a thin film by rotating the coating for 10 seconds at 700rpm on a transparent glass for LCD for 10 seconds and then heated at 100 ℃. The thin film-formed LCD glass was cured at 220 ° C. for 40 minutes to form a flattening film.

경화되어 형성된 평탄화막은 0.9~1.5㎛ 두께로 형성되며 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 95% 이상의 투과도를 보였다.The flattening film formed by curing was formed to a thickness of 0.9 ~ 1.5㎛ and showed a transmittance of 95% or more when measured in the same manner as in Example 1.

실시예 4Example 4

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체 대신에 상기 합성예 4에서 얻어진 화학식 5의 중합체를 사용하여 실시예 3과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경 화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.5~3.2㎛의 두께로 형성되고, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 90% 이상의 평탄도와 95% 이상의 투과도를 보였다. Instead of the polymer of Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 was carried out in the same manner as in Example 3 using the polymer of Formula 5 obtained in Synthesis Example 4 as a result of the cured planarization film formed of 2.5 ~ 3.2㎛ including RGB Formed to a thickness, and measured in the same manner as in Example 1 had a pencil hardness of 4H, showed a flatness of 90% or more and transmittance of 95% or more.

실시예 5Example 5

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체 대신에 상기 합성예 5에서 얻어진 화학식 6의 중합체를 사용하여 실시예 3과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.5~3.2㎛의 두께로 형성되고, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 85% 이상의 평탄도와 95% 이상의 투과도를 보였다.Instead of the polymer of Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 was carried out in the same manner as in Example 3 using the polymer of Formula 6 obtained in Synthesis Example 5 as a result of the cured flattening film is 2.5 ~ 3.2㎛ thickness including RGB It was formed as, the measurement method in the same manner as in Example 1 had a pencil hardness of 4H, showed flatness of more than 85% and transmittance of more than 95%.

실시예 6Example 6

상기 실시예 4, 5, 6에서 보조경화제로서 페놀기가 있는 단량체로 Aldrich 사의 1,1,1-Tris(4-hydroxyphenyl)ethane을 각각 7g씩 첨가한 후 용해시켜 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 실시예 3과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.8~3.5㎛의 두께로 형성되며, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 90% 이상의 평탄도를 보였다.In Examples 4, 5 and 6, 7g of Aldrich's 1,1,1-Tris (4-hydroxyphenyl) ethane was added as a monomer having a phenol group as a co-curing agent, respectively, and dissolved and filtered through a 0.2 μm membrane filter. Was prepared in the same manner as in Example 3. As a result, the flattening film formed by curing was formed to a thickness of 2.8 to 3.5 μm including RGB, and had a pencil hardness of 4H when measured in the same manner as in Example 1, and was visible The light transmittance showed more than 95% transmittance and more than 90% flatness.

실시예 7Example 7

상기 실시예 6에서 보조 경화제로 페놀기가 있는 단량체 대신 페놀기가 있는 폴리머인 니폰소다사의 Polyhydroxystyrene을 사용하여 실시예 6과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 3.0~4.0㎛의 두께 로 형성되며, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 90% 이상의 평탄도를 보였다.In Example 6, a polyphenolstyrene of Nippon Soda Co., Ltd., a polymer having a phenol group instead of a monomer having a phenol group, was used as an auxiliary curing agent. It was formed as, and has a pencil hardness of 4H when measured in the same manner as in Example 1, showed a transmittance of 95% or more and a flatness of 90% or more in the visible light region.

실시예 8Example 8

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체와 상기 합성예 4에서 얻어진 화학식 5의 중합체를 4:5∼1:1의 비율로 섞고 산발생제로서 요드니움염5g을 용매 PGMEA 82g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 상기 실시예 3과 동일하게 수행하였으며, 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 3.0~4.0㎛의 두께로 형성되고, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 94% 이상의 평탄도를 보였다.The polymer of Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 and the polymer of Formula 5 obtained in Synthesis Example 4 were mixed at a ratio of 4: 5 to 1: 1, and 5 g of iodide salt as an acid generator was dissolved in 82 g of solvent PGMEA, followed by 0.2 The thin film composition was prepared by filtration with a 탆 membrane filter. The thin film composition was performed in the same manner as in Example 3, and as a result, the flattening film formed by curing was formed to a thickness of 3.0 to 4.0 탆 including RGB, in the same manner as in Example 1. When measured, it had a pencil hardness of 4H, and showed a transmittance of 95% or more and a flatness of 94% or more in the visible region.

실시예 9Example 9

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체와 상기 합성예 5에서 얻어진 화학식 6의 중합체를 2:3~1:1의 비율로 섞고 산발생제로서 요드니움염5g을 용매 PGMEA 82g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 상기 실시예 3과 동일하게 수행하였으며, 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 3.0~4.0㎛의 두께로 형성되며, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 90% 이상의 평탄도를 보였다.The polymer of Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 and the polymer of Formula 6 obtained in Synthesis Example 5 were mixed at a ratio of 2: 3 to 1: 1, and 5 g of iodide salt as an acid generator was dissolved in 82 g of solvent PGMEA, followed by 0.2 The thin film composition was prepared by filtration with a 탆 membrane filter. The thin film composition was performed in the same manner as in Example 3, and the cured flattening layer was formed to a thickness of 3.0 to 4.0 탆 including RGB, in the same manner as in Example 1. It had a pencil hardness of 4H when measured, and exhibited 95% or more transmittance and 90% or more flatness in the visible light region.

실시예 10Example 10

상기 합성예 4에서 얻어진 화학식 5의 중합체와 상기 합성예 5에서 얻어진 화학식 6의 중합체를 2:1∼1:1비율로 섞고 산발생제로서 요드니움염 5g을 용매 PGMEA 82g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 상기 실시예 3과 동일하게 수행하였으며, 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 3.0~3.2㎛의 두께로 형성되며, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 95% 이상의 평탄도를 보였다.The polymer of Formula 5 obtained in Synthesis Example 4 and the polymer of Formula 6 obtained in Synthesis Example 5 were mixed at a ratio of 2: 1 to 1: 1, and 5 g of iodide salt was dissolved in 82 g of solvent PGMEA as an acid generator, followed by 0.2 μm. A thin film composition was prepared by filtration with a membrane filter. The thin film composition was performed in the same manner as in Example 3. As a result, the flattening film formed by curing was formed to a thickness of 3.0 to 3.2 μm including RGB, and measured in the same manner as in Example 1. It had a pencil hardness of 4H, and showed over 95% transmittance and over 95% flatness in the visible region.

실시예 11Example 11

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체 18g을 용매 PGMEA 81g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 상기 실시예 3과 동일하게 수행하였으며, 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.5~3.2㎛의 두께로 형성되고, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 HB~3H의 연필경도를 가지며, 70% 이상의 평탄도와 95% 이상의 투과도를 보였다.18 g of the polymer of Chemical Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 was dissolved in 81 g of a solvent PGMEA, filtered through a 0.2 μm membrane filter to prepare a thin film composition, and the same process as in Example 3 was performed. It is formed to a thickness of 2.5 ~ 3.2㎛, and has a pencil hardness of HB ~ 3H when measured in the same manner as in Example 1, showed a flatness of 70% or more and transmittance of 95% or more.

실시예 12Example 12

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체 대신에 상기 합성예 4에서 얻어진 화학식 5의 중합체로 상기 실시예 11과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.3~3.2㎛의 두께로 형성되고, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 HB~3H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 70% 이상의 평탄도를 보였다.Instead of the polymer of Chemical Formula 4 obtained in Synthesis Example 3, the polymer of Chemical Formula 5 obtained in Synthesis Example 4 was carried out in the same manner as in Example 11, and the resultant cured flattening film was formed at a thickness of 2.3 to 3.2 μm including RGB. It was formed, and measured in the same manner as in Example 1 had a pencil hardness of HB ~ 3H, and showed a transmittance of 95% or more and a flatness of 70% or more in the visible light region.

실시예 13Example 13

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체 대신에 상기 합성예 5에서 얻 어진 화학식 6의 중합체로 상기 실시예 11과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.3~3.2㎛의 두께로 형성되고, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 HB~3H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 70% 이상의 평탄도를 보였다.Instead of the polymer of Chemical Formula 4 obtained in Synthesis Example 3, the polymer of Chemical Formula 6 obtained in Synthesis Example 5 was carried out in the same manner as in Example 11, and as a result, the planarized film formed by curing had a thickness of 2.3 to 3.2 μm including RGB. When formed in the same manner as in Example 1 had a pencil hardness of HB ~ 3H, and showed a transmittance of 95% or more and a flatness of 70% or more in the visible region.

실시예 14Example 14

상기 실시예 11, 12, 13의 중합체 각각에 보조경화제로서 페놀기가 있는 단량체로 Aldrich 사의 1,1,1-Tris(4-hydroxyphenyl)ethane을 각각 7g씩 첨가한 후 용해시켜 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 상기 실시예 3과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.8~3.5㎛의 두께로 형성되며, 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 90% 이상의 평탄도를 보였다.In each of the polymers of Examples 11, 12, and 13, 7 g of Aldrich's 1,1,1-Tris (4-hydroxyphenyl) ethane was added as a monomer having a phenol group as an auxiliary curing agent, respectively, and dissolved and filtered through a 0.2 μm membrane filter. The thin film composition was prepared in the same manner as in Example 3, and the cured flattening film was formed to have a thickness of 2.8 to 3.5 μm, including RGB, and measured at 4H in pencil hardness. In the visible region, the transmittance was 95% or more and 90% or more.

실시예 15Example 15

상기 실시예 14에서 보조 경화제로 페놀기가 있는 단량체 대신 페놀기가 있는 폴리머인 니폰소다사의 Polyhydroxystyrene을 사용하여 상기 실시예 14와 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.3~3.2㎛의 두께로 형성되고 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 4H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 80% 이상의 평탄도를 보였다.In Example 14, a polyphenolstyrene of Nippon Soda Co., Ltd., a polymer having a phenol group instead of a monomer having a phenol group, was used as the auxiliary curing agent, in the same manner as in Example 14, and the resultant cured flattening film was 2.3 to 3.2 μm including RGB. Formed to a thickness and measured in the same manner as in Example 1 had a pencil hardness of 4H, in the visible region showed more than 95% transmittance and 80% or more flatness.

실시예 16Example 16

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체와 상기 합성예 4에서 얻어진 화학식 5의 중합체를 1:1의 비율로 섞고 용매 PGMEA 81g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 실시예 3과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.3~3.2㎛의 두께로 형성되고 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 HB~3H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 70% 이상의 평탄도를 보였다.The polymer of Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 and the polymer of Formula 5 obtained in Synthesis Example 4 were mixed at a ratio of 1: 1, dissolved in 81 g of solvent PGMEA, and filtered through a 0.2 μm membrane filter to prepare a thin film composition. The flattening film formed by hardening as a result of step 3 was formed to have a thickness of 2.3 to 3.2 μm including RGB, and had a pencil hardness of HB to 3H as measured in the same manner as in Example 1, and in the visible region 95 More than% transmittance and more than 70% flatness.

실시예 17Example 17

상기 합성예 3에서 얻어진 화학식 4의 중합체와 상기 합성예 5에서 얻어진 화학식 6를 1:1의 비율로 섞고 용매 PGMEA 81g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 상기 실시예 3과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.3~3.2㎛의 두께로 형성되고 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 HB~3H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 70% 이상의 평탄도를 보였다.The polymer of Chemical Formula 4 obtained in Synthesis Example 3 and Chemical Formula 6 obtained in Synthesis Example 5 were mixed at a ratio of 1: 1, dissolved in 81 g of solvent PGMEA, and then filtered through a 0.2 μm membrane filter to prepare a thin film composition. As a result, the flattening film formed by curing was formed to have a thickness of 2.3 to 3.2 μm including RGB, and had a pencil hardness of HB to 3H as measured in the same manner as in Example 1, and was 95% in the visible region. The above transmittance and flatness of 70% or more were shown.

실시예 18Example 18

상기 합성예 4에서 얻어진 화학식 4의 중합체와 상기 합성예 5에서 얻어진 화학식 6의 중합체를 1:1의 비율로 섞고 용매 PGMEA 81g에 용해시킨 후 0.2㎛ 막 필터로 여과하여 박막 조성물을 조제하여 실시예 3과 동일하게 수행하였으며 그 결과 경화되어 형성된 평탄화막은 R.G.B를 포함하여 2.3~3.2㎛의 두께로 형성되고 상기 실시예 1과 같은 방법으로 측정시 HB~3H의 연필경도를 가지며, 가시광선 영역에서 95% 이상의 투과도와 70% 이상의 평탄도를 보였다.The polymer of Formula 4 obtained in Synthesis Example 4 and the polymer of Formula 6 obtained in Synthesis Example 5 were mixed at a ratio of 1: 1, dissolved in 81 g of solvent PGMEA, and filtered using a 0.2 μm membrane filter to prepare a thin film composition. The flattening film formed by hardening as a result of step 3 was formed to have a thickness of 2.3 to 3.2 μm including RGB, and had a pencil hardness of HB to 3H as measured in the same manner as in Example 1, and in the visible region 95 More than% transmittance and more than 70% flatness.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명의 중합체를 포함하는 박막 조성 물은 경화용 촉매(산발생제 또는 라디칼 개시제)나 보조 경화제를 첨가함에 따라 열 경화성 또는 광 경화성 평탄화막(Overcoat)이 되며 칼라필터 제조 시 요구되는 투명성, 평탄도 및 경도가 우수한 평탄화막을 제조할 수 있다.As described in detail above, the thin film composition including the polymer of the present invention becomes a thermosetting or photo-curable flattening film (overcoat) by adding a curing catalyst (acid generator or radical initiator) or an auxiliary curing agent, thereby producing a color filter. A flattening film having excellent transparency, flatness, and hardness required at the time can be manufactured.

Claims (7)

다음 화학식 1로 표시되는 중합체.The polymer represented by the following formula (1). 화학식 1Formula 1
Figure 112003044597736-pat00008
Figure 112003044597736-pat00008
상기 식에 있어서, X는 올레핀 또는 하이드록시기, 카르복실산기, 에테르기, 나이트릴기 및 에스테르로부터 선택된 기능기를 갖는 올레핀 단량체로부터 유래된 것이고, In the above formula, X is derived from an olefin monomer having a functional group selected from an olefin or a hydroxyl group, a carboxylic acid group, an ether group, a nitrile group and an ester, R1과 R3는 서로 다른 것으로 수소원자 또는 메틸기이며, R 1 and R 3 are different from each other and are a hydrogen atom or a methyl group, R2와 R4는 서로 다른 것으로 수소원자, 글리시딜메틸기, 하이드록시알킬기 또는 탄소수 1 내지 33인 알킬기이고, R 2 and R 4 are different from each other and are a hydrogen atom, a glycidylmethyl group, a hydroxyalkyl group or an alkyl group having 1 to 33 carbon atoms, Y는 케톤, 에스테르, 하이드록시, 에테르, 할로겐, 니트릴 및 알콕시로부터 선택된 기능기를 갖거나 갖지 않는 올레핀 화합물 또는 스타이렌 유도체, 또는 아크릴로나이트릴 단량체로부터 유래된 것이며, Y is derived from an olefin compound or a styrene derivative, or an acrylonitrile monomer, with or without a functional group selected from ketones, esters, hydroxy, ethers, halogens, nitriles and alkoxy, 반복 단위인 l, m, n, o는 l은 0<l/(l+m+n+o)<0.7, m은 0.1<m/(l+m+n+o)<0.7, n은 0≤n/(l+m+n+o)<0.5 및 0≤o/(l+m+n+o)<0.5인 조건을 만족한다. Repeating units l, m, n, o are 0 <l / (l + m + n + o) <0.7, m is 0.1 <m / (l + m + n + o) <0.7, n is 0 The following conditions are satisfied:? N / (l + m + n + o) <0.5 and 0? O / (l + m + n + o) <0.5.
제 1 항에 있어서, (l+m)/(l+m+n+o)〉0.5를 만족하는 것임을 특징으로 하는 중합체. The polymer according to claim 1, wherein (l + m) / (l + m + n + o)> 0.5 is satisfied. 적어도 1종 이상의 다음 화학식 1로 표시되는 중합체, 경화용 촉매 및 용제를 포함하는 박막 조성물.A thin film composition comprising at least one polymer represented by the following general formula (1), a curing catalyst and a solvent. 화학식 1Formula 1
Figure 112003044597736-pat00009
Figure 112003044597736-pat00009
상기 식에 있어서, X는 올레핀 또는 하이드록시기, 카르복실산기, 에테르기, 나이트릴기 및 에스테르로부터 선택된 기능기를 갖는 올레핀 단량체로부터 유래된 것이고, In the above formula, X is derived from an olefin monomer having a functional group selected from an olefin or a hydroxyl group, a carboxylic acid group, an ether group, a nitrile group and an ester, R1과 R3는 서로 다른 것으로 수소원자 또는 메틸기이며, R 1 and R 3 are different from each other and are a hydrogen atom or a methyl group, R2와 R4는 서로 다른 것으로 수소원자, 글리시딜메틸기, 하이드록시알킬기 또는 탄소수 1 내지 33인 알킬기이고, R 2 and R 4 are different from each other and are a hydrogen atom, a glycidylmethyl group, a hydroxyalkyl group or an alkyl group having 1 to 33 carbon atoms, Y는 케톤, 에스테르, 하이드록시, 에테르, 할로겐, 니트릴 및 알콕시로부터 선택된 기능기를 갖거나 갖지 않는 올레핀 화합물 또는 스타이렌 유도체, 또는 아 크릴로나이트릴 단량체로부터 유래된 것이며, Y is derived from an olefin compound or a styrene derivative, or an acrylonitrile monomer, with or without a functional group selected from ketones, esters, hydroxy, ethers, halogens, nitriles and alkoxy, 반복 단위인 l, m, n, o는 l은 0<l/(l+m+n+o)<0.7, m은 0.1<m/(l+m+n+o)<0.7, n은 0≤n/(l+m+n+o)<0.5 및 0≤o/(l+m+n+o)<0.5인 조건을 만족한다.Repeating units l, m, n, o are 0 <l / (l + m + n + o) <0.7, m is 0.1 <m / (l + m + n + o) <0.7, n is 0 The following conditions are satisfied:? N / (l + m + n + o) <0.5 and 0? O / (l + m + n + o) <0.5.
제 3 항에 있어서, 경화용 촉매는 산발생제 또는 라디칼 개시제인 것임을 특징으로 하는 박막 조성물.4. The thin film composition according to claim 3, wherein the curing catalyst is an acid generator or a radical initiator. 제 4 항에 있어서, 산발생제는 술포니움 염류와 secondary-알킬 톨루엔술폰네이트류 중에서 선택된 1종 이상의 것임을 특징으로 하는 박막 조성물.The thin film composition according to claim 4, wherein the acid generator is at least one selected from sulfonium salts and secondary-alkyl toluenesulfonates. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 경화용 촉매는 총 고체성분 100 중량부에 대하여 0.1∼30 중량부로 포함되는 것임을 특징으로 하는 박막 조성물. The thin film composition according to claim 3 or 4, wherein the curing catalyst is included in an amount of 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid component. (2회 정정) 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 첨가제로서는 페놀 유도체를 더 포함하는 것임을 특징으로 하는 박막 조성물. (Twice correction) The thin film composition of Claim 3 or 4 which further contains a phenol derivative as an additive.
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