KR100600049B1 - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 메탈레이어의 수정없이 신호의 셋업/홀드타임을 조절할 수 있는 반도체메모리소자를 제공하기 위한 것으로, 이를 위한 본 발명으로 해당 퓨즈의 연결 여부를 통해 제1 내지 제N 제어신호를 생성하는 제어신호 생성수단; 상기 제1 내지 제N 제어신호가 모두 비활성화된 경우 디폴트-제어신호를 활성화시키기 위한 디폴트-제어신호 생성수단; 및 입력신호를 상기 제1 내지 제N 제어신호 또는 상기 디폴트-제어신호에 해당하는 만큼 지연시켜 출력시키기 위한 지연량 조절수단을 구비하는 반도체메모리소자를 제공한다.The present invention is to provide a semiconductor memory device that can adjust the setup / hold time of the signal without modification of the metal layer, the present invention for this control to generate the first to Nth control signal through the connection of the fuse Signal generating means; Default-control signal generating means for activating a default-control signal when all of the first to Nth control signals are deactivated; And delay amount adjusting means for delaying and outputting an input signal by the first to Nth control signals or the default control signal.
퓨즈옵션, 지연, 메탈 레이어, 수율, 셋업/홀드타임Fuse Options, Delay, Metal Layer, Yield, Setup / Hold Time
Description
도 1은 셋업타임 및 홀드타임의 개념 설명을 위한 도면.1 is a view for explaining the concept of the setup time and hold time.
도 2는 일반적인 반도체메모리소자의 외부신호 입력장치를 도시한 도면.2 is a diagram illustrating an external signal input device of a general semiconductor memory device.
도 3은 도 1의 어드레스-지연부의 내부회로도.3 is an internal circuit diagram of an address-delay unit of FIG.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체메모리소자의 외부신호 입력장치를 도시한 도면.4 is a diagram illustrating an external signal input device of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 5는 제어신호 생성부의 내부 회로도.5 is an internal circuit diagram of a control signal generator.
도 6은 디폴트-제어신호 생성부의 구현소자를 도시한 도면.6 is a diagram showing an implementation element of a default-control signal generation unit;
도 7은 지연량 조절부의 내부 회로도.7 is an internal circuit diagram of a delay amount adjusting unit.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
100 : 제어신호 생성부100: control signal generator
200 : 디폴트-제어신호 생성부200: default control signal generator
300 : 지연량 조절부300: delay amount adjusting unit
본 발명은 반도체 설계 기술에 관한 것으로, 특히 메탈레이어의 수정없이 셋업/홀드타임을 조절할 수 있는 반도체메모리소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
일반적으로 SDRAM(Synchronous Dynimic Random Access Memory)은 고속화, 저전력화라는 목표를 가지고 발전하고 있다. 특히, CPU 속도가 증가함에 따라 DRAM의 처리속도를 증가시키기 위해 DDR, DDR2 같은 방식이 사용되고 있다.In general, SDRAM (Synchronous Dynimic Random Access Memory) is developing with the goal of high speed and low power. In particular, as CPU speed increases, methods such as DDR and DDR2 are used to increase the processing speed of DRAM.
이와같이, DRAM의 처리 속도가 증가함에도 불구하고, 클럭의 라이징에 동기하여 외부로 부터 인가되는 명령신호, 어드레스 및 데이터를 인가받고, 클럭의 라이징에 동기하여 데이터를 출력하는 SDRAM의 기본 방식은 변하지 않고 있다.As described above, despite the increase in the processing speed of DRAM, the basic method of SDRAM which receives command signals, addresses and data from outside in synchronization with the rising of the clock and outputs the data in synchronizing with the rising of the clock remains unchanged. have.
예를 들어, 외부의 칩셋(ChipSet)은 CLK, /RAS, /CAS, /CS, /WE와 같은 제어신호들과 어드레스들을 클럭의 라이징을 기준으로 DRAM에 인가하면, DRAM은 내부의 버퍼를 통해 이를 내부 신호로 변환시키게 된다. 그런데, 외부의 칩셋과 DRAM의 핀 사이의 지연은 각각의 핀에 따라 다르기 때문에, 칩셋에서 제어신호들과 어드레스를 클럭에 동기시켜 DRAM에 인가한다고 하더라 DRAM의 핀에 따라 신호를 인식하거나 또는 인식하지 못하는 경우가 발생한다.For example, when an external chipset (ChipSet) applies control signals and addresses such as CLK, / RAS, / CAS, / CS, and / WE to the DRAM based on the rising of the clock, the DRAM is transferred through the internal buffer. This is converted into an internal signal. However, since the delay between the external chipset and the pins of the DRAM is different for each pin, the chipset says that the control signals and the address are synchronized to the clock and applied to the DRAM. It can't happen.
따라서, 입출력되는 신호를 클럭의 라이징에 정확하게 동기시키는 것이 아니라, 신호와 클럭의 라이징에지 사이에 시간적 여유를 준다. 이와같은 시간적 여유를 타이밍 마진이라고 하며, 이는 스펙으로 정해진다.Therefore, the input and output signals are not synchronized to the rising of the clock accurately, but time is allowed between the rising edge of the clock and the clock. This time margin is called timing margin, which is specified by the specification.
도 1은 셋업타임 및 홀드타임의 개념 설명을 위한 도면이다.1 is a view for explaining the concept of the setup time and hold time.
도면에 도시된 바와 같이, 입력신호(/rasb)가 인식되기 위해서는 클럭(clk)의 라이징에지 이전에 셋업타임(Setup time, tIS)을, 클럭의 라이징 에지 이후에 홀드타임(Hold time, tIH)을 만족해야 한다.As shown in the figure, in order for the input signal / rasb to be recognized, a setup time (tIS) is set before the rising edge of the clock clk, and a hold time (tIH) after the rising edge of the clock. Must be satisfied.
즉, 셋업타임은 입력을 신호로 제대로 인식하기 위해, 클럭 라이징에 대해 입력신호가 먼저 들어와야 하는 값을 정의한 것이고, 홀드 타임은 신호가 클럭 라이징 에지로 부터 지속적으로 유지되어야 하는 값을 정의한 것이다.In other words, the setup time defines the value that the input signal must come in for the clock rising in order to properly recognize the input as a signal, and the hold time defines the value that the signal must keep from the clock rising edge.
한편, 칩셋에서 스펙에 맞도록 CLK 및 제어신호들을 DRAM에 인가하면, DRAM은 셋업/홀드타임의 스펙에 맞도록 메탈 레이어 옵션을 통해 입력신호의 지연을 조절하여 입력받게 된다.On the other hand, if the chipset applies CLK and control signals to the DRAM to meet the specifications, the DRAM receives the input signal by adjusting the delay of the input signal through the metal layer option to meet the specifications of the setup / hold time.
전술한 바와같이 DRAM의 외부 입력신호를 내부신호로 변환하는 과정을 도시한 다음 도 2을 참조하여 구체적으로 살펴보도록 한다.As described above, a process of converting an external input signal of a DRAM into an internal signal will be described in detail with reference to FIG. 2.
도 2는 일반적인 반도체메모리소자의 외부신호 입력장치를 도시한 도면이다.2 is a diagram illustrating an external signal input device of a general semiconductor memory device.
도 2를 참조하면, 반도체메모리소자의 외부신호 입력장치는 각각의 (clk, add<0:M>, rasb)외부신호를 인가받기 위한 복수의 패드(12, 14, 16)와, 패드(12, 14, 16)의 출력신호(clkd, an<0:M>, rasbd)를 내부 전원전압 레벨로 풀-스윙(full-SWing)시켜 출력하기 위한 버퍼부(22, 24, 26)와, 클럭-버퍼부(22)의 출력신호(clk2n)의 라이징 에지에 동기된 라이징에지-클럭(clkp3b)을 생성하기 위한 클럭 트리거부(32)와, 어드레스-버퍼부(24) 및 제어신호-버퍼부(26)의 출력신호를 지연시키기 위한 지연부(34, 36)와, 라이징에지-클럭(clkp3b)에 응답하여 어드레스-지연부(34)의 출력신호를 래치하여 내부-어드레스(in_add<0:M>)로 출력하기 위한 어 드레스-래치부(42)와, 라이징에지-클럭(clkp3b)에 응답하여 제어신호-지연부(36)의 출력신호(rasb2n)를 래치하여 내부-제어신호(ras4b)로 출력하기 위한 제어신호-래치부(44)를 구비한다.Referring to FIG. 2, an external signal input device of a semiconductor memory device includes a plurality of
다음에서는 반도체메모리소자가 외부신호를 인가받는 과정을 살펴보도록 한다.Next, a process in which the semiconductor memory device receives an external signal will be described.
먼저, 외부의 칩셋은 0 ∼ 0.5V로 스몰-스윙(small-SWing)하는 펄스 형태로 제어신호(rasb), 어드레스(add<0:M>), 및 클럭(clk)를 반도체메모리소자에 인가한다. 이와같이 반도체메모리소자의 패드(12, 14, 16)로 인가된 신호는 버퍼부(22, 24, 26)를 통해 전원전압이 갖는 레벨로 풀-스윙하게 된다.First, the external chipset applies the control signal rasb, the address add <0: M>, and the clock clk to the semiconductor memory device in the form of small-swing pulses from 0 to 0.5V. do. As such, the signals applied to the
이어, 클럭 트리거부(32)는 풀-스윙하는 클럭(clk2n)의 라이징 에지를 감지하여 라이징에지-클럭(clkp3b)을 생성한다.Next, the
또한, 지연부(34, 36)는 각각 어드레스-버퍼부(24) 및 제어신호-버퍼부(26)의 출력신호(add21b<0:M>, ras2b)를 지연시켜 출력시킨다. 이는 전술한 바와같이 칩셋으로 부터 DRAM 핀에 인가되기까지 각각 다른 지연을 가지므로, 칩셋에서 신호를 클럭에 앞서 인가하고 반도체메모리소자는 지연부를 통해 라이징에지-클럭(clkp3b)에 동기될 수 있도록 인가된 신호들의 지연량을 조절하는 것이다.The
이어, 어드레스-래치부(42) 및 제어신호-래치부(44)는 라이징에지-클럭(clkp3b)에 응답하여 해당 어드레스-버퍼부(34) 및 제어신호-버퍼부(36)의 출력신호(add2n<0:M>, rasb2n)를 래치하여, 내부-어드레스(in_add<0:M>) 및 내부-제어신호(ras4b)로 출력한다.Subsequently, the
도 3은 도 2의 어드레스-지연부(34)의 내부회로도로서, 각 어드레스 비트단위로 구비된다. 그리고 이들 모두는 동일한 회로소자로 구현되므로, 예시로서 어드레스 add2n<0>에 대해 살펴보도록 한다.3 is an internal circuit diagram of the address-
도 3을 참조하면, 어드레스-지연부(34)는 입력노드와 출력노드 사이에 직렬 연결된 복수의 단위지연소자(34_1, …, 34_X, …, 34_N)와, 각 단위지연소자(34_1, …, 34_X, …, 34_N)와 출력노드 사이에 연결된 복수개의 메탈옵션(mt_opt<0>, mt_opt<1>, …, mt_opt<X>, …, mt_opt<N>)을 구비한다.Referring to FIG. 3, the address-
따라서, 지연부의 출력신호가 라이징에지-클럭(clkp3b)에 동기되지 못하여 래치부가 신호를 인식하지 못하는 경우, 메탈옵션(mt_opt)을 통해 입력신호가 거치는 단위지연소자의 개수를 조절하여 입력신호가 갖는 지연량을 조절한다.Therefore, when the output signal of the delay unit is not synchronized with the rising edge clock (clkp3b) and the latch unit does not recognize the signal, the number of unit delay elements through which the input signal passes through the metal option (mt_opt) is adjusted. Adjust the delay amount.
참고적으로, 제어신호-지연부(36)도 어드레스-지연부(34)와 동일한 회로적 구현을 갖는다.For reference, the control signal-
전술한 바와같이 종래기술에 따른 반도체메모리소자는 입력신호가 클럭에 대한 셋업/홀드타임 스펙을 만족시키도록 지연량을 조절하기 위해, 메탈레이어를 형성하는 마스크를 수정하여 재생산하기 때문에, 경제적, 물리적, 시간적 손실을 갖는다.As described above, the semiconductor memory device according to the prior art is reproduced by modifying the mask forming the metal layer in order to adjust the delay amount so that the input signal meets the setup / hold time specification for the clock. , Has time loss.
또한, 테스트된 제품이 스펙을 미세하게 벗어난다고 할지라도, 메탈 레이어 옵션 조절을 해야하기 때문에 생산된 제품을 폐기해야 한다.In addition, even if the tested product is slightly out of specification, it must be discarded because the metal layer option must be adjusted.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 메탈레이어의 수정없이 신호의 셋업/홀드타임을 조절할 수 있는 반도체메모리소자를 제공하는데 그 목적이 있다.
The present invention has been proposed to solve the above problems of the prior art, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device capable of adjusting the setup / hold time of a signal without modifying the metal layer.
상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따른 반도체메모리소자는 해당 퓨즈의 연결 여부를 통해 제1 내지 제N 제어신호를 생성하는 제어신호 생성수단; 상기 제1 내지 제N 제어신호가 모두 비활성화된 경우 디폴트-제어신호를 활성화시키기 위한 디폴트-제어신호 생성수단; 및 입력신호를 상기 제1 내지 제N 제어신호 또는 상기 디폴트-제어신호에 해당하는 만큼 지연시켜 출력시키기 위한 지연량 조절수단을 구비한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device, including: control signal generation means for generating first to Nth control signals through connection of a corresponding fuse; Default-control signal generating means for activating a default-control signal when all of the first to Nth control signals are deactivated; And delay amount adjusting means for delaying and outputting an input signal by the first to Nth control signals or the default control signal.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. do.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체메모리소자의 외부신호 입력장치를 도시한 도면으로, 이를 종래기술에 따른 소자(도 2참조)에 비교하여 볼때 각 어드레스 및 제어신호를 지연시키기 위한 어드레스-지연부(400) 및 제어신호-지연부(500)만이 달라진 것을 알 수 있다. 따라서, 지연부(400, 500) 이외의 블록에 대해서는 동일한 도면부호를 사용하고, 구체적 설명은 생략하도록 한다.FIG. 4 is a diagram illustrating an external signal input device of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, which is compared with a conventional device (see FIG. 2) according to the related art. It can be seen that only the
또한, 어드레스-지연부(400) 및 제어신호-지연부(500)는 지연시키기 위해 인 가받는 신호만이 다르고 구현소자 및 동작은 동일하므로, 예시로서 어드레스-지연부(400)만을 살펴보도록 한다.In addition, the address-
도 4를 참조하면, 어드레스-지연부(400)는 해당 퓨즈의 연결 여부를 통해 제1 내지 제N 제어신호(ctr<0:N>)를 생성하는 제어신호 생성부(100)와, 제1 내지 제N 제어신호(ctr<0:N>)가 모두 비활성화된 경우 디폴트-제어신호(dft_ctr)를 활성화시키기 위한 디폴트-제어신호 생성부(200)와, 입력신호(add21b<0:M>)를 제1 내지 제N 제어신호(ctr<0:N>) 또는 디폴트-제어신호(ctr<0:N>)에 해당하는 만큼 지연시켜 출력시키기 위한 지연량 조절부(300)를 구비한다.Referring to FIG. 4, the address-
각 블록의 회로 구현소자는 다음 도면을 참조하여 살펴보도록 한다.The circuit implementation of each block will be described with reference to the following drawings.
도 5는 제어신호 생성부(100)의 내부 회로도로서, 제어신호 생성부는 각각의 제어신호(ctr<0:N>) 별로 구비되므로 제1 제어신호(ctr<0>)에 대해서만 살펴보도록 한다.FIG. 5 is an internal circuit diagram of the
제어신호 생성부(120)는 전원전압(VDD)과 노드(n1) 사이에 연결된 퓨즈(122)와, 노드(n1)와 접지전압(GND) 사이에 연결된 캐패시터(C1)와, 노드(n1)에 걸린 신호를 반전시키기 위한 인버터(I1)와, 인버터(I1)의 출력신호를 게이트 입력으로 가지며 노드(n1)와 접지전압(GND) 사이에 드레인-소스 경로를 갖는 NMOS 트랜지스터(NM1)와, 인버터(I1)의 출력신호를 반전시켜 제1 제어신호(ctr<0>)로 출력하기 위한 인버터(I2)를 구비한다.The
따라서, 제어신호 생성부(120)는 퓨즈(122)가 연결되어 있으면 제어신호(ctr<0>)를 논리레벨 'H'로 비활성화시키고, 퓨즈(122)의 연결이 끊어지면 제어신 호(ctr<0>)를 논리레벨 'L'로 활성화시킨다.Therefore, the
도 6은 디폴트-제어신호 생성부(200)의 구현소자를 도시한 도면으로서, 디폴트-제어신호 생성부(200)는 제1 내지 제N 제어신호(ctr<0:N>)를 입력으로 갖는 부정배타논리합게이트(XNR1)를 구비한다.FIG. 6 is a diagram illustrating an implementation element of the default
이와같이 디폴트-제어신호 생성부(200)는 부정배타논리합게이트(XNR1)로 구현되었기 때문에, 제어신호(ctr<0:N>)가 적어도 하나라도 다른 논리레벨을 갖는 경우에는 디폴트-제어신호(dft_ctr)를 논리레벨 'H'로 비활성화시키고, 모든 제어신호(ctr<0:N>)가 동일한 논리레벨을 갖는 경우에는 디폴트-제어신호(dft_ctr)를 논리레벨 'L'로 활성화시킨다.As described above, since the default-control
디폴트-제어신호 생성부(200)가 디폴트-제어신호(dft_ctr)를 활성화시키는 경우는 초기동작 시 퓨즈 컷팅이 이뤄지지 않아 입력신호를 디폴트 지연량만큼 지연시켜 출력시키기 위한 것으로, 모든 제어신호(ctr<0:N>)가 동일한 논리레벨을 갖는 것을 통해 이를 감지한다. 따라서, 디폴트 제어신호 생성부(200)는 퓨즈의 컷팅으로 하나의 제어신호라도 활성화되면, 디폴트-제어신호(dft_ctr)를 비활성화 시킨다.When the default
또한, 디폴트-제어신호(dft_ctr)가 활성화된 경우 입력신호는 설계 시 예상했던 지연량을 디폴트로 갖고 출력된다.In addition, when the default control signal dft_ctr is activated, the input signal is output with the delay amount expected by design.
도 7은 지연량 조절부(300)의 내부 회로도로서, 지연량 조절부(300)는 입력노드와 출력노드 사이에 직렬로 연결된 복수의 단위지연소자(310_1, …, 310_X, …, 310_N+3)와, 제1 내지 제N 제어신호(ctr<0:N>)와 디폴트-제어신호에 각각 제어 받으며 단위지연소자의 연결노드와 출력노드 사이에 연결된 복수의 스위치(SW_1, …, SW_x, …, SW_n+3)를 구비한다.7 is an internal circuit diagram of the
지연량 조절부(300)는 입력된 하나의 신호를 제어신호에 해당하는 지연만큼 지연시키뒤 출력시키는 것인데, 전술한 지연량 조절부(도 7참조)는 어드레스(add21b<0:M>)의 모든 비트가 지연된 과정을 표현하기 위해 비트 만큼의 지연량 조절부를 도시한 것이다.The delay
다음에서는 어드레스-지연부(400)를 통해 입력신호(add21b<0:M>)의 지연량이 조절되는 과정을 살펴보도록 한다. 참고적으로, 어드레스 한 비트에 대해서만 고려하도록 한다.Next, the process of adjusting the delay amount of the input signal add21b <0: M> through the address-
먼저, 초기동작 시에는 제어신호 생성부(100)의 모든 퓨즈가 연결되어 있으므로, 제1 내지 제N 제어신호(ctr<0:N>)는 논리레벨 'H'를 가져 비활성화된다. 따라서, 디폴트-제어신호 생성부(200)는 모든 제어신호(ctr<0:N>)의 비활성화에 응답하여 디폴트-제어신호(dft_ctr)를 생성한다.First, since all the fuses of the
이어, 지연량 조절부(300) 내 디폴트-제어신호(dft_ctr)에 제어받는 스위치(SW_x)가 출력노드에 연결되므로, 입력신호(add2n<0>)는 스위치(SW_x)의 이전에 위치하는 단위지연소자(310_1, , 310_x-1)들을 거쳐 출력되게 된다. 즉, 연결된 스위치(SW_x)의 이전까지의 단위지연소자(310_1, , 310_x-1)가 갖는 지연만큼을 입력신호(add2n<0>)가 지연을 갖고 출력(in_add<0>)되게 된다.Subsequently, since the switch SW_x controlled by the default control signal dft_ctr in the delay
이와같은 과정을 통해 출력된 신호(in_add<0>)의 셋업/홀드타임이 스펙을 만족시키는지 측정하여, 만족시키지 못하는 경우에는 만족시키기 위한 지연량을 측정 하여 이에 해당하는 제어신호생성부(100) 내 퓨즈를 컷팅시켜준다. 따라서, 해당 제어신호가 활성화되어 지연량조절부(300)는 이에 응답하여 입력신호(add2n<0>)를 지연시켜 출력시킨다.By measuring whether the setup / hold time of the signal (in_add <0>) output through the above process satisfies the specification, and if it does not satisfy, the delay amount to satisfy the measurement signal is measured and the corresponding control signal generator 100 ) Cut the fuse inside. Therefore, the corresponding control signal is activated and the delay
참고적으로, 디폴트-제어신호(dft_ctr)의 활성화로 입력신호(in_add<0>)가 갖게되는 지연량은 설계 시 예상한 값이다.For reference, the delay amount of the input signal in_add <0> due to activation of the default control signal dft_ctr is an expected value at design time.
전술한 바와같이 본 발명에 따른 지연부를 갖는 반도체메모리소자는 퓨즈를 통해 신호의 셋업/홀드타임의 조절이 가능하기 때문에, 웨이퍼 테스트에서 스펙을 벗어나는 제품을 수정할 수 있어 수율을 향상시킨다. As described above, since the semiconductor memory device having the delay unit according to the present invention can adjust the setup / hold time of the signal through the fuse, it is possible to modify a product that is out of specification in the wafer test, thereby improving the yield.
한편, 전술한 본 발명에서는 지연부를 어드레스, 또는 제어신호의 지연량을 조절하는 경우를 예시로서 설명하였으나, 본 발명은 이에 의해 제한받지 않고 반도체메모리소자 내 신호가 갖는 셋업/홀드타임을 조절하기 위한 부분에는 모두 적용 가능하다.Meanwhile, in the above-described present invention, the delay unit adjusts the address or the delay amount of the control signal as an example. However, the present invention is not limited thereto and the present invention is not limited thereto. All parts are applicable.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be clear to those of ordinary knowledge.
전술한 본 발명에 따른 반도체메모리소자는 퓨즈 옵션을 통해 신호의 셋업/홀드타임을 조절할 수 있기 때문에, 웨이퍼 테스트에서 스펙을 벗어난 제품을 수정 할 수 있어 수율을 향상시킨다.
Since the semiconductor memory device according to the present invention can adjust the setup / hold time of the signal through the fuse option, it is possible to modify the product out of specification in the wafer test to improve the yield.
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