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KR100515609B1 - Droplet deposition apparatus - Google Patents

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KR100515609B1
KR100515609B1 KR1019980708634A KR19980708634A KR100515609B1 KR 100515609 B1 KR100515609 B1 KR 100515609B1 KR 1019980708634 A KR1019980708634 A KR 1019980708634A KR 19980708634 A KR19980708634 A KR 19980708634A KR 100515609 B1 KR100515609 B1 KR 100515609B1
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크리스토퍼 데이비드 필립스
스티븐 템플
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자아 테크날러쥐 리미티드
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Abstract

드롭-온-디맨드 압전 물질 프린트헤드는 그 길이를 따라 전극(26)을 구비한 압전 물질(10)에 의해 형성된 채널벽을 가진다 잉크 공급 도관으로 개방된 채널의 부분에서, 압전 물질은 국부적으로 기능을 정지 즉, 전극의 폭을 감소 또는 전극과 압전 물질 사이에 낮은 유전 상수를 가진 물질을 개재시켜 기능을 저하시킨다. 그 결과로 용량성 부하가 낮아진다.The drop-on-demand piezoelectric material printhead has a channel wall formed by piezoelectric material 10 with electrodes 26 along its length. In the portion of the channel opened by the ink supply conduit, the piezoelectric material functions locally. That is, the width of the electrode is reduced or the function is lowered by interposing a material having a low dielectric constant between the electrode and the piezoelectric material. As a result, the capacitive load is lowered.

Description

액체방울 침착 장치{DROPLET DEPOSITION APPARATUS}Droplet deposition apparatus {DROPLET DEPOSITION APPARATUS}

본 발명은 액체방을 침착 장치에 관한 것으로, 특히 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 간격을 두어 배치되어 있고 각각은 마주보는, 압전물질을 포함하는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널로 구성되고 압전물질을 포함하는 하부시트를 구비한 잉크젯 프린트헤드에 관한 것이다. 본 발명은 이러한 장치를 제조하는 방법도 포함하고 있다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a deposition apparatus, in particular arranged by spaced apart from each other in an arrangement direction perpendicular to its length, each of which being opposed by a sidewall comprising a piezoelectric material and a bottom surface extending between the sidewalls. An inkjet printhead having a bottomsheet comprising piezoelectric material and comprising a plurality of parallel, upper open channels at least partially defined. The invention also includes a method of making such a device.

이러한 프린트헤드는, 예를 들어 EP-A-0 277 703, EP-A-0 278 590 및 EP-A-0 364 136에 공지되어 있으며, 잉크 챔버의 체적을 변경시켜 잉크 방울을 분사하기 위하여 그 전단모드에서 동작하는 압전 물질을 사용한다. EP-A-0 341 929에는 이러한 액츄에이터를 구동하는 방법이 기술되어 있으며 각 액츄에이터가 용량 부하를 가진다는 것을 명백하게 한다. 일반적으로, 구동회로의 사이즈와 비용에 영향을 주는 이러한 용량 부하는 전류 및 전력을 필요로 한다. 더욱이, 프린트헤드 자체의 회로와 전극에 흐르는 전류는 잉크의 점도에 영향을 주는 열을 발생할 수 있으며, 많은 타입의 잉크젯 장치에 있어 이러한 경우에 잉크 점도의 변화가 인쇄된 이미지에서 배치 에러로서 나타나는 분사된 잉크 방울의 점도에 편차를 야기한다는 것을 본 발명자는 알게 되었다.Such printheads are known, for example, from EP-A-0 277 703, EP-A-0 278 590 and EP-A-0 364 136, to change the volume of the ink chamber to eject ink droplets. Use piezoelectric materials operating in shear mode. EP-A-0 341 929 describes a method of driving such an actuator and makes it clear that each actuator has a capacitive load. In general, these capacitive loads, which affect the size and cost of the drive circuit, require current and power. Moreover, the current flowing through the circuits and the electrodes of the printhead itself can generate heat that affects the viscosity of the ink, and in many types of inkjet devices, the jetting of the ink viscosity changes in this case appears as a placement error in the printed image. The inventors have found that this causes a variation in the viscosity of the ink droplets.

프린트헤드에서의 압전물질의 사용이, 압전활동이 실제적으로 요구되는 영역, 즉 채널의 "액티브"(폐쇄된) 부분으로 제한하고, 프린트헤드의 나머지 부분에 대하여 낮은 유전계수를 가지는 물질을 이용함으로써, 프린트헤드의 용량 부하를 감소시키는 것이 제안되고 있다. 이것은 실제적으로 인서트와 베이스를 지나는 채널을 형성하고 각 채널의 길이를 따라 전극을 침착시키는 압전 물질을 "함께(letting in)" 낮은 유전 베이스에 삽입함으로써 달성될 수 있다. 압전 물질을 포함하는 각 채널벽의 부분만이 전극을 통해 인가된 전기장에 반응하여 뒤틀리며, 각 벽의 나머지와 기타 관련된 연결영역은 저용량성 부하로 있게 된다. 그러나 압전 물질을 '함께' 삽입하는 공정은 복잡기 때문에 이 기술은 고비용이 든다.The use of piezoelectric material in the printhead is limited to areas where piezoelectric activity is actually desired, i.e., the "active" (closed) portion of the channel, and by using a material having a low dielectric constant for the rest of the printhead. It is proposed to reduce the capacitive load of the printhead. This can be accomplished by inserting a piezoelectric material into the low dielectric base "letting in", which actually forms a channel through the insert and the base and deposits the electrode along the length of each channel. Only a portion of each channel wall comprising the piezoelectric material is warped in response to an electric field applied through the electrode, leaving the rest of each wall and other associated connection areas with a low capacitive load. However, this technique is expensive because the process of inserting piezoelectric materials together is complex.

도 1은 본 발명이 적용될 수 있는 종래의 잉크젯 프린트헤드 한 형태를 도시한 사시도.1 is a perspective view showing one form of a conventional inkjet printhead to which the present invention can be applied.

도 2는 도 1의 A-A선을 따라 절취한 도 1의 프린트헤드의 단면도.2 is a cross-sectional view of the printhead of FIG. 1 taken along line A-A of FIG.

도 3a,b 및 c는 각각 B-B선, C-C선 및 D-D선을 따라 절취한 도 1의 프린트헤드부의 단면도.3A, 3B and 3C are cross-sectional views of the printhead portion of FIG. 1 taken along lines B-B, C-C and D-D, respectively.

도 4는 도 2에 대응하며 본 발명의 제 1 측면을 포함하는 단면도.4 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 and including a first aspect of the invention.

도 5a,b 및 c는 도 4의 B'-B'선, C'-C'선 및 D'-D'선을 따라 취한, 도 3a 내지 c의 단면에 대응하는 단면도5a, b and c are cross-sectional views corresponding to the cross-sections of FIGS. 3a to c, taken along lines B'-B ', C'-C' and D'-D 'of FIG.

도 6은 도 2에 대응하는, 본 발명의 제 2 측면을 포함하는 단면도.6 is a sectional view including the second aspect of the present invention, corresponding to FIG.

도 7a,b 및 c는 도 6의 B"-B", C"-C" 및 D"-D"선을 따라 취한, 도 3a 내지 c의 단면에 대응하는 단면도.FIGS. 7A, 7B and 7C are cross-sectional views corresponding to the cross sections of FIGS. 3A-C taken along lines B ″ -B ″, C ″ -C ″ and D ″ -D ″ in FIG. 6; FIG.

도 8은 본 발명의 제 2 측면에 따른 채널벽을 통한 단면을 나타낸 도면.8 shows a cross section through a channel wall according to a second aspect of the invention;

도 9는 도 6에 대응하는, 본 발명의 제 2 측면에 다른 방법을 예시한 단면도.9 is a cross-sectional view illustrating another method in accordance with the second aspect of the present invention, corresponding to FIG. 6;

도 10은 본 발명을 포함하는 다른 프린트헤드의 채널의 종축을 따라 절취한 단면도.10 is a cross-sectional view cut along the longitudinal axis of the channel of another printhead incorporating the present invention.

본 발명은 공지된 구조보다 낮은 용량성 부하를 가지며 제조가 복잡하지 않은 프린트헤드를 갖는다. 이러한 프린트헤드의 제조방법도 본 발명에 포함된다.The present invention has a printhead that has a lower capacitive load than known structures and is not complicated to manufacture. Such a printhead manufacturing method is also included in the present invention.

따라서, 본 발명은, 압전물질에 의해 형성되고, 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 이격되어 있으며 각각은 마주보는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널을 형성하는 하부시트와;Accordingly, the present invention is a plurality of parallel, formed by piezoelectric materials, spaced apart from each other in an arrangement direction perpendicular to the length thereof, each defined at least in part by opposing side walls and a bottom surface extending between the side walls. A lower sheet forming an upper open channel;

상기 측벽은 상기 압전물질과 상기 압전물질에 전기장을 인가하는 전극을 포함하여 상기 측벽의 가로 변위를 가능케하며,The side wall may include the piezoelectric material and an electrode for applying an electric field to the piezoelectric material to allow horizontal displacement of the sidewall.

상기 채널의 상기 하부면과 마주보고 상기 채널과 근접하도록 상기 측벽의 상부에서 결합되는 상부 시트를 포함하고,An upper sheet coupled at the top of the sidewall to face the bottom surface of the channel and proximate the channel;

상기 채널에는 액체가 공급되며 상기 채널로부터의 액체방울을 분사하는 노즐과 연통되어 있으며, 각 채널은 액체방울 공급수단과 연통되어 있고 상기 채널축과 평행하게 놓인 부분에서 개방되어 있는 하나의 부분과 상기 채널축과 평행하게 놓인 모든 부분에서 속박되어 있는 다른 부분을 가지며,The channel is supplied with liquid and is in communication with a nozzle for ejecting droplets from the channel, each channel being in communication with the liquid supply means and open at a portion parallel to the channel axis and All other parts parallel to the channel axis, with other parts bound

각 채널의 상기 하나의 부분에서 상기 압전물질을 포함하는 각 측벽은 각 채널의 상기 하나의 부분의 측벽에서 가로 변위가 일어나지 않도록 기능하지 않는 것을 특징으로 하는 액체방울 침착 장치를 제공한다.Each sidewall comprising the piezoelectric material in the one portion of each channel does not function to prevent lateral displacement from occurring in the sidewall of the one portion of each channel.

불필요한 채널의 '개방'부에서의 벽의 횡 배치 뿐만아니라 이러한 '개방'부에서의 벽의 불능에 의해, 전체 용량성부하의 감소는 압전 물질의 균일한 층을 포함하는 베이스에서 채널을 형성하는 실질적으로 종래의 기술에 따라 제조된 프린트 헤드로 달성될 수 있다는 것을 본 발명자는 알게 되었다. 따라서, 상기한 복잡한 제조방법을 회피할 수 있다.In addition to the transverse placement of the wall at the 'open' portion of the unwanted channel, as well as the inability of the wall at this 'open' portion, the reduction in the overall capacitive load can be achieved by forming a channel at the base comprising a uniform layer of piezoelectric material. The inventor has found that it can be achieved with a print head made substantially in accordance with the prior art. Therefore, the above complicated manufacturing method can be avoided.

본 발명의 바람직한 제 1 측면에 따르면, 그 길이에 수직인 배치 방향으로 상호 간격을 두고 있으며 각각은 마주보는, 압전 물질을 포함하는 측벽과 상기 측벽에 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널로 이루어지며 수직인 방향으로 극성을 가지는 압전물질층을 가지는 하부시트; 및According to a first preferred aspect of the invention, at least partly defined by a sidewall comprising a piezoelectric material facing each other in an arrangement direction perpendicular to its length and a bottom surface extending therebetween A lower sheet having a plurality of parallel, upper open channels and having a piezoelectric material layer having a polarity in a vertical direction; And

상기 채널의 하부면과 직면하고 상기 측벽에 결합되어 상기 채널의 상부에서 근접하는 상부 시트를 포함하고,A top sheet facing the bottom surface of the channel and coupled to the sidewall and proximate at the top of the channel,

상기 채널에는 액체가 공급되고 상기 채널로부터의 액체방울 분사를 위한 노즐과 연통하고,The channel is supplied with liquid and in communication with a nozzle for spraying droplets from the channel,

각 채널은 액체방울 공급 수단과 연통하는 채널축에 평행하게 놓인 부분에서 개방되어 있는 하나의 부분과 채널축에 평행하게 놓인 모든 부분에서 폐쇄되어 있는 다른 부분을 가지며,Each channel has one part open at the part parallel to the channel axis in communication with the liquid supply means and another part closed at all the parts parallel to the channel axis,

상기 측벽의 대향하는 측에 전극이 설치되어 액츄에이터와 관련된 채널로부터의 액체방울을 분사하는 전단모드 액츄에이터를 이루며, 각 전극은 채널 길이를 실질적으로 연장시키고,Electrodes are provided on opposite sides of the sidewall to form a shear mode actuator for ejecting droplets from the channel associated with the actuator, each electrode substantially extending the channel length,

상기 채널의 하나의 부분에서는, 압전물질보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층이 상기 측벽의 대향하는 측에 설치되어 있는 상기 전극중 적어도 하나와 상기 압전물질 사이에 개재되어 있는 액체방울 침착 장치를 제공한다.In one portion of the channel, there is provided a droplet deposition apparatus in which a layer of material having a lower dielectric constant than the piezoelectric material is interposed between the piezoelectric material and at least one of the electrodes provided on opposite sides of the sidewall. .

이러한 장치는 상기한 바와 같이 "함께" 압전 삽입체와 관련된 복잡성이 없이 종래의 설계보다 낮은 용량을 얻게된다. 잉크 공급 수단으로 개방된 채널의 상기 한 부분에서, 벽을 놓을 필요는 없다. 따라서, 이러한 부분의 전극은 압전 물질보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층에 의해 채널벽의 압전 물질로부터 분리되어 압전물질 부분을 사용할 수 없게 된다. 이 한 부분에서 채널벽의 반대측의 전극 사이의 용량성 부하는 (채널의 다른 "폐쇄된" 부분의 경우에) 압전물질로만 얻어진 것보다 낮으며 이것에 의해 프린트헤드의 전체 용량성 부하의 감소에 기여한다.Such devices achieve lower capacities than conventional designs without the complexity associated with piezoelectric inserts as described above. In said one part of the channel opened by the ink supply means, it is not necessary to lay the wall. Therefore, the electrode of this portion is separated from the piezoelectric material of the channel wall by the material layer having a lower dielectric constant than the piezoelectric material, so that the piezoelectric material portion cannot be used. In this part the capacitive load between the electrodes on the opposite side of the channel wall (in the case of other "closed" parts of the channel) is lower than that obtained only with piezoelectric material, thereby reducing the total capacitive load of the printhead. Contribute.

특별한 실시예에 따르면, 상기 한 부분 및 다른 부분은 각각 동일 평면 상부면을 가지는 측벽에 의해 적어도 부분적으로 한정되고 실질적으로 일정한 높이를 가지며, 상기 한 부분 및 다른 부분의 각 측벽의 높이는 실질적으로 동일하다. 이러한 실시예는 특히 제조에 따르며, 적어도 채널의 전방부에서 요구되는 채널 가공 깊이에는 편차가 없다. 이러한 실시예에서, 채널의 다른 부분은 노즐과 같은 일정한 깊이로 연장될 수 있다. 이와는 무관하게, 상기 한 부분 및 다른 부분은 인접할 수 있다.According to a particular embodiment, said one portion and the other portion are at least partially defined by the sidewalls having the same planar top surface and have a substantially constant height, and the height of each sidewall of said one portion and the other portion is substantially the same. . This embodiment is in particular manufacturing and there is no variation in the channel depth of processing required at least in the front of the channel. In such embodiments, other portions of the channel may extend to a constant depth, such as a nozzle. Irrespective of this, the one part and the other part may be adjacent.

바람직하게는 측벽의 반대측에 설치된 전극은 상기 하부면으로부터 이격되어 각 채널 측벽의 상부에 위치한다. 이러한 배열은 공지된 "각도 도포" 원리를 이용하여 침착하는데 특히 유용하다. 특히, 전극은 상기 한 부분에서 상기 다른 부분에서 각 채널의 깊이를 대략 절반만큼 연장시킬 수 있으며, 전극은 바람직하게는 각 채널벽의 높이의 10% 전후로 연장된다.Preferably, an electrode provided on the opposite side of the side wall is positioned above the respective channel sidewalls and spaced apart from the bottom surface. This arrangement is particularly useful for depositing using the known "angle application" principle. In particular, the electrode can extend approximately one half of the depth of each channel in said one part in said other part, and the electrode preferably extends around 10% of the height of each channel wall.

상기 각 채널이 상기 한 부분 또는 다른 부분의 채널벽보다 낮은 높이의 채널벽을 가지는 추가 부분을 포함하는 경우에, 전극은 상기 각 채널의 추가 부분의 하부와 마주보는 채널벽에 설치되고, 상기 전극과 각 채널의 대향벽 및 하부 사이에 개재된 압전 물질보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층이 설치된다. 이러한 다른 부분에서의 전극들은 채널내의 전극과 외부 드라이버 칩 사이의 연결점으로서 기능한다. 이들 전극과 높이가 감소된 채널벽 사이의 낮은 유전 물질층은 이들 영역의 용량성 부하를 감소시킨다.Where each channel comprises an additional portion having a channel wall of a height lower than the channel wall of the one or the other portion, an electrode is provided on the channel wall facing the lower portion of the additional portion of each channel, and the electrode And a material layer having a lower dielectric constant than the piezoelectric material interposed between the opposite walls and the bottom of each channel. The electrodes in this other part serve as a connection point between the electrode in the channel and the external driver chip. The low dielectric material layer between these electrodes and the reduced channel wall reduces the capacitive loading of these regions.

본 발명의 일측면에 따르면 (a) 압전 물질층을 포함하는 하부 시트에 다수의 평행 채널을 형성하는 단계와, (b) 상기 각 채널의 제 1 부분과 마주보는 측벽중 적어도 하나에, 압전 물질보다 낮은 유전 상수를 가지는 물질의 층을 증착하고, 상기 채널 각각의 제 2 부분의 마주보는 측벽이 상기 물질에 관계없이 유지되는 단계와, (c) 상기 채널의 제 1 및 제 2 부분의 마주보는 측벽에 전극 물질을 침착하는 단계를 포함하는 액체방울 침착 장치의 제조방법을 제공한다. 또한, 이 방법은 공지된 침착 방법의 사용에 의한 복잡성이 없이 저용량성 프린트헤드를 제조할 수 있도록 한다.According to one aspect of the invention, (a) forming a plurality of parallel channels in a lower sheet comprising a layer of piezoelectric material, and (b) at least one of the sidewalls facing the first portion of each channel, the piezoelectric material Depositing a layer of material having a lower dielectric constant and maintaining opposite sidewalls of the second portion of each of the channels independent of the material; and (c) facing the first and second portions of the channel. Provided is a method of making a droplet deposition apparatus comprising depositing an electrode material on a sidewall. This method also makes it possible to produce low capacity printheads without the complexity of using known deposition methods.

유리하게는, 본 방법은 상기 각 채널의 상기 제 1 부분의 적어도 하나의 마주보는 측벽에 상기 물질층을 침착하기에 앞서 상기 각 채널의 상기 제 2 부분을 마스킹하고 그리고 나서 상기 채널의 상기 제 1 및 제 2 부분의 마주보는 측벽에 전극 물질을 침착하기에 앞서 상기 제 2 부분을 언마스킹하는 것을 포함한다.Advantageously, the method masks the second portion of each channel prior to depositing the layer of material on at least one opposing sidewall of the first portion of each channel. And unmasking the second portion prior to depositing electrode material on opposite sidewalls of the second portion.

전극 물질은 상기 벽을 향하여 그 면과 마주보는 채널에 각도를 두어 금속 증기빔에 의해 침착된다.Electrode material is deposited by the metal vapor beam at an angle to the channel facing the face towards the wall.

본 발명의 제 1 측면에 따르면, 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 간격을 두어 배치되고, 각각은 높이를 가지는 마주보는, 압전물질을 포함하는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널로 이루어지고 수직인 방향으로 극성을 가지는 압전물질층을 포함하는 하부시트; 상기 채널의 하부면과 마주보고 상기 측벽에 결합되어 상기 채널의 상부에 근접하는 상부 시트를 포함하고, 상기 채널에는 액체가 공급되고 상기 채널로부터 액체방울 분사하는 노즐과 연통하며, 각 채널은 채널측에 평행하게 놓인 모든 부분에서 폐쇄되어 있는 부분을 가지고, 상기 측벽의 대향하는 측에는 전극이 설치되어 액츄에이터와 관련된 채널로부터의 액체방을 분사를 위한 전단모드 액츄에이터를 이루고, 각 전극은 실질적으로 채널길이를 연장시키며, 압전물질보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층이 각 채널의 상기 부분을 제외한 영역에 상기 전극의 적어도 하나와 상기 압전물질 사이에 개재되어 있는 액체방을 참착 장치를 제공한다.According to a first aspect of the present invention, there is at least a space between the opposite sidewalls comprising a piezoelectric material and a lower surface extending between the sidewalls, each being spaced apart in an arrangement direction perpendicular to the length thereof. A bottom sheet comprising a plurality of parallel, upper open channels defined in part and comprising a piezoelectric material layer polarized in a vertical direction; A top sheet facing the bottom surface of the channel and coupled to the sidewall and proximate to the top of the channel, the channel being in communication with a nozzle supplied with liquid and spraying droplets from the channel, each channel being channel side Having a closed portion in all portions placed parallel to and having electrodes on opposite sides of the sidewall, forming a shear mode actuator for ejecting a liquid chamber from the channel associated with the actuator, each electrode substantially extending the channel length. And a material chamber having a dielectric constant lower than that of the piezoelectric material is interposed between at least one of the electrodes and the piezoelectric material in a region excluding the portion of each channel.

본 발명의 제 1 측면에 따르면, 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 간격을 두었으며, 각각은 높이를 가지는 마주보는, 압전물질을 포함하는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널로 이루어지고 압전 물질을 포함하는 하부시트; 상기 채널의 하부면과 마주보고 상기 채널의 상부에서 근접하도록 상기 측벽에 결합된 상부시트를 포함하고, 상기 채널에는 액체가 공급되고 상기 채널로부터 액체방울을 분사하기 위한 노즐과 연통하고, 각 채널은 채널축에 평행하게 놓인 모든 부분에서 폐쇄되어 있는 부분을 가지며, 상기 측벽의 상기 압전물질로 전극이 전기장을 인가하며, 각 채널의 상기 부분을 제외한 영역에서, 압전물질보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층이 상기 전극중 적어도 하나와 상기 측벽의 압전물질 사이에 개재되는 것을 특징으로하는 액체방울 침착 장치가 제공된다.According to a first aspect of the present invention, there is at least partially spaced apart from each other in the direction of placement perpendicular to its length, each of which has an opposite sidewall having a height and a bottom surface extending between said sidewalls. A lower sheet consisting of a plurality of parallel, upper open channels defined by the piezoelectric material; An upper sheet coupled to the sidewall facing the lower surface of the channel and proximate at the top of the channel, the channel being supplied with liquid and in communication with a nozzle for ejecting droplets from the channel, each channel being A layer of material having a closed portion in all portions parallel to the channel axis, an electrode applying an electric field to the piezoelectric material of the sidewalls, and having a dielectric constant lower than that of the piezoelectric material in the region excluding the portion of each channel The droplet deposition apparatus is provided between at least one of the electrodes and the piezoelectric material of the side wall.

본 발명의 바람직한 제 2 측면에 의해서도 유사한 장점이 제공되며, 이것은 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 간격을 두고 각각은 평탄한 상부면을 가지는 마주보는, 압전물질을 포함하는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널로 이루어지고 수직인 방향으로 극성을 가지는 압전물질층을 가지는 하부시트; 상기 채널의 하부면과 마주보며 상기 채널의 상부에서 근접하도록 상기 측벽에 결합되는 상부시트를 포함하고, 상기 채널에는 액체가 공급되고 상기 채널로부터 액체방울을 분사하는 노즐과 연통되고, 각 채널은 액체방울 공급 수단과 연통하는 채널측에 평행하게 놓인 부분에서 개방된 하나의 부분과 채널축에 평행하게 놓인 모든 부분에서 폐쇄되어 있는 다른 부분을 가지며, 상기 측벽의 대향하는 측에 전극이 설치되어 액츄에이터와 관련된 채널로부터의 액체방울을 분사하는 전단모드 액츄에이터를 이루고, 각 채널의 상기 하나의 부분에 설치된 전극이 각 채널의 다른 부분에 설치된 전극보다 각 측벽의 높이의 비율이 더욱 작게 연장된 액체방울 침착 장치에 관한 것이다.Similar advantages are also provided by the second preferred aspect of the present invention, which extends between the sidewalls and the sidewalls comprising opposing piezoelectric materials, each having a flat top surface, spaced from each other in a direction perpendicular to the length thereof. A lower sheet consisting of a plurality of parallel, upper open channels defined at least in part by a lower surface being formed and having a piezoelectric material layer polarized in a vertical direction; A top sheet facing the bottom surface of the channel and coupled to the sidewall to proximate at the top of the channel, the channel being in communication with a nozzle supplied with liquid and spraying droplets from the channel, each channel being liquid It has one part open at the part parallel to the channel side communicating with the drop supply means, and another part closed at all the parts parallel to the channel axis, and an electrode is installed on the opposite side of the side wall to the actuator. A droplet deposition apparatus that forms a shear mode actuator for injecting droplets from associated channels, wherein an electrode provided in said one portion of each channel extends a smaller proportion of the height of each sidewall than an electrode provided in the other portion of each channel. It is about.

이러한 장치는 간단한 방식으로 종래의 설계보다 낮은 용량을 얻게된다. 잉크 공급 수단으로 개방되어 있는 채널의 한 부분에 있어서, 이 벽들이 대체될 필요가 없으며 그 결과 이러한 부분의 전극은 채널의 폐쇄된 부분에서 활성 전압을 전극으로 이동시키기에 충분하지만 개방 부분에서 압전 물질을 구동하기에는 불충분한 채널 벽 높이의 (더 작은) 비율을 연장시킬 필요가 있으므로, 국부적으로 사용될 수 없다. 3폐쇄된 부분에서, 전극은 벽이 채널 벽을 하방으로 이동하기에 충분히 큰 비율로 연장된다. 이 방법에서, 상기 하나의 (개방) 부분에서의 채널벽의 용량성 부하는 종래의 설계에 비하여 감소되어 전체로서 프린트헤드의 용량의 감소를 야기한다.Such a device achieves a lower capacity than a conventional design in a simple manner. In one part of the channel that is open to the ink supply means, these walls do not have to be replaced so that the electrode of this part is sufficient to move the active voltage to the electrode in the closed part of the channel but in the open part the piezoelectric material It is necessary to extend the (smaller) ratio of the channel wall height that is insufficient to drive it, so it cannot be used locally. In the closed part, the electrode extends at a rate large enough for the wall to move the channel wall downward. In this method, the capacitive load of the channel wall in the one (open) portion is reduced compared to the conventional design, resulting in a reduction in the capacity of the printhead as a whole.

특별한 실시예에 따르면, 상기 하나 및 다른 부분은 실질적으로 일정한 높이의 측벽에 의해 적어도 부분적으로 한정되어, 상기 하나 및 다른 부분의 각 측벽의 높이는 실질적으로 동일하다. 이러한 실시예는 제조에 특히 적합하며, 채널의 전방부에서 요구되는 채널 가공 깊이에는 편차가 없다. 이러한 실시예에서, 상기 채널의 다른 부분은 노즐과 같은 일정한 깊이로 연장될 수 있다. 이와는 무관하게, 상기 하나 및 다른 부분은 연속적이다.According to a particular embodiment, the one and the other part are at least partially defined by sidewalls of substantially constant height such that the height of each sidewall of the one and the other part is substantially the same. This embodiment is particularly suitable for manufacturing and there is no variation in the channel processing depth required at the front of the channel. In such embodiments, the other portion of the channel may extend to a constant depth, such as a nozzle. Regardless, the one and the other part is continuous.

바람직하게는 측벽의 반대측에 설치된 전극은 상기 하부면에서 이격되어 있는, 각 채널 측벽의 상부에 위치한다. 이러한 배열은 공지된 "각도 도포" 원리를 이용하여 침착하는데 매우 유용하다. 특히, 상기 하나의 부분에서, 전극은 바람직하게는 각 채널벽의 높이의 10% 전후에 걸쳐 연장된다.Preferably an electrode provided on the opposite side of the side wall is located on top of each channel side wall, spaced apart from the bottom surface. This arrangement is very useful for depositing using the known "angle application" principle. In particular, in one such part, the electrode preferably extends around 10% of the height of each channel wall.

제 2 측면에 따르면 본 발명은 상기 하나 및 다른 채널부의 길이비가 대략 2이상인 실시예에서 특히 유리하다.According to a second aspect the invention is particularly advantageous in embodiments in which the length ratio of the one and the other channel portion is approximately two or more.

본 발명은, (a) 평면 상부면을 가지는 채널벽에 의해 분리되는 다수의 평행한 채널을 압전물질층을 포함하는 하부 시트에 형성하는 단계, (b) 각 측벽 높이의 제 1 비율로 상기 각 채널의 제 1 부분의 마주보는 측벽에 전극 물질을 침착하는 단계, (c) 각 측벽의 높이의, 제 1 비율과 다른 제 2 비율로 상기 각 채널의 제 2 부분의 마주보는 측벽에 전극 물질을 침착하는 단계를 포함하는 제조 방법을 포함한다.(A) forming a plurality of parallel channels separated by a channel wall having a planar top surface in a lower sheet comprising a layer of piezoelectric material, (b) said angle at a first ratio of each sidewall height Depositing electrode material on opposite sidewalls of the first portion of the channel; (c) depositing electrode material on opposite sidewalls of the second portion of each channel at a second ratio different from the first ratio of the height of each sidewall. A method of manufacture comprising the step of depositing.

또한, 공지된 침착 방법의 개선점은 복잡성이 없이 저용량 헤드를 제조할 수 있도록 한다.In addition, improvements in known deposition methods allow the manufacture of low volume heads without complexity.

바람직한 실시예에 따르면, 본 방법은 각 측벽 높이의 제 1 비율로 상기 각 채널의 제 1 부분의 마주보는 벽에 전극물질을 침착하기에 앞서 상기 각 채널의 제2 부분을 마스킹하는 단계와, 상기 각 채널의 제 1 및 제 2 부분의 마주보는 측벽에 전극물질을 침착하기에 앞서 상기 제 2 부분을 언마스킹하는 단계를 포함한다. 이러한 절차는 실현하기가 간단하며 침착 단계 사이에서의 진공의 브레이킹을 필요로 하지 않는다. 유리하게는, 제 1 비율은 상기 제 2 비율보다 크고, 제 2 비율은 바람직하게는 벽 높이의 10% 보다 크지 않다. 이는 상기 벽과 그 표면과 마주보는 채널각으로 향하는 금속 증기 빔에 의한 물질 침착 기술의 개선된 점으로 달성될 수 있으며, 상기 제 1 부분에서의 침착 각도는 상기 제 2 부분에서의 침착 각도보다 경사가 급하다.According to a preferred embodiment, the method comprises: masking a second portion of each channel prior to depositing electrode material on opposite walls of the first portion of each channel at a first ratio of each sidewall height; Unmasking the second portion prior to depositing electrode material on opposite sidewalls of the first and second portions of each channel. This procedure is simple to realize and does not require breaking of the vacuum between deposition steps. Advantageously, the first ratio is greater than the second ratio, and the second ratio is preferably no greater than 10% of the wall height. This can be achieved with an improvement in the material deposition technique by means of a metal vapor beam directed at the channel angle facing the wall and its surface, the deposition angle in the first part being inclined than the deposition angle in the second part. Urgent.

본 발명이 도면을 참조하여 예로서만 기술된다.The invention is described by way of example only with reference to the drawings.

도 1 내지 3은 전단 모드(shear mode)에서 동작하는 압전 벽 액츄에이터를 포함하고, 예를 들어 US-A-5 016 028에서 공지된 전형적인 잉크젯 프린트헤드(8)를 나타낸다. 이것은 연결용 트랙(14)을 나타낸 부분만이 예시되어 있는 회로기판(12)에 실장된 압전 물질의 베이스(10)를 포함한다.1-3 show piezoelectric wall actuators operating in a shear mode, and show, for example, a typical inkjet printhead 8 known from US-A-5 016 028. It comprises a base 10 of piezoelectric material mounted on a circuit board 12 where only the part showing the connecting track 14 is illustrated.

예를 들어 US-A-5016028에 기술된 것과 같이, 다수의 평행 그루브가 압전 물질층으로 연장되는 베이스(10)에 형성되어 있다. 각 그루브는 상부면을 가지는 대향하는 액츄에이터 벽(22)에 의해 분리되는 잉크 채널(20)을 제공하기 위하여 비교적 깊은 전방부와, 위치(23)에 연결용 트랙을 제공하기 위하여 비교적 얕은 후방부를 포함한다. 전방부와 후방부는 채널의 "런아웃(runout)" 부분 R에 의해 연결되며, 그 반경은 채널을 형성하는데 사용되는 커팅 디스크의 반경으로 결정되며 (예를 들어 상기한 EP-A-0 364 136에 개시되어 있다).As described, for example, in US-A-5016028, a number of parallel grooves are formed in the base 10 extending into the piezoelectric material layer. Each groove comprises a relatively deep front portion to provide an ink channel 20 separated by opposing actuator walls 22 having an upper surface and a relatively shallow rear portion to provide a connection track at position 23. do. The front part and the rear part are connected by the "runout" part R of the channel, the radius of which is determined by the radius of the cutting disc used to form the channel (for example in EP-A-0 364 136 described above). Is disclosed).

도 3에 예시된 것과 같이, 그루브를 형성한 후에, 벽의 상부에서 채널 높이의 대략 절반만큼 연장된, 잉크 채널(20)의 대향면의 전방부 전극(26)에 제공하기 위하여 금속 도금이 침착되고(도 3a 및 b), 후방부에는 각 채널(20)의 전극에 연결된 연결용 트랙(24)을 제공하기 위하여 침착된다(도 3c). 벽의 상부는 금속 도금되지 않아서 트랙(24)과 전극(26)이 각 채널에 대한 활성 분리 전극을 형성한다. 이러한 금속화 기술은, 예를 들어 상기한 EP-A-0 364 136에 공지되어 있다.As illustrated in FIG. 3, after forming the grooves, metal plating is deposited to provide to the front electrode 26 on the opposite side of the ink channel 20, which extends by approximately half of the channel height at the top of the wall. 3a and b, the rear part is deposited to provide a connecting track 24 connected to the electrodes of each channel 20 (Fig. 3c). The top of the wall is not metal plated so that the tracks 24 and the electrodes 26 form active separation electrodes for each channel. Such metallization techniques are known, for example, from EP-A-0 364 136, supra.

잉크로부터의 전극부의 전기적 분리를 위한 패시밴트층(passivant layer)으로 베이스(10)를 침착하고 선택적으로 코팅한 뒤에, 베이스(10)는 도 1에 도시된 것과 같이 회로기판(12)에 실장되고 베이스부(10)의 연결용 트랙(24)을 회로기판(12)의 연결용 트랙(14)에 연결하는 와이어 본딩 연결부(28)가 만들어진다.After depositing and selectively coating the base 10 with a passivant layer for electrical separation of the electrode portion from the ink, the base 10 is mounted on the circuit board 12 as shown in FIG. A wire bonding connection 28 is made which connects the connecting track 24 of the base 10 to the connecting track 14 of the circuit board 12.

액츄에이터 벽(22)의 상부에 본딩함으로써 커버(16)가 고정되어 다수의 "폐쇄된(closed)" 채널(20)을 형성한다. 일 단부에서는, 각 채널은 보급 잉크의 공급으로의 접근을 가지며, 도시한 예에서 이것은 커버(16)의 윈도우(27)를 지난다. 각 채널의 타단부에서는, 프린트헤드에 결합된 노즐판(17)에 (유리하게는 UV 엑시머 레이저 제거에 의해) 형성될 수 있는 노즐(30)이 위치한다.Bonding on top of the actuator wall 22 secures the cover 16 to form a plurality of "closed" channels 20. At one end, each channel has access to the supply of replenishment ink, which in the example shown passes through the window 27 of the cover 16. At the other end of each channel is located a nozzle 30 which can be formed (advantageously by UV excimer laser ablation) on the nozzle plate 17 coupled to the printhead.

이 예에서, 프린트헤드는 잉크 채널(20)로 인출되는, 윈도우(27)를 지나 잉크 공급부에서 노즐(30)로 잉크를 전달하도록 작동된다. 예를 들어 EP-A-0 277 703에 공지된 바와 같이, 채널벽의 측면중에서 전극에 적절한 전압 파형의 인가는 전단모드에서 채널벽의 극성 압전물질의 차례로 변형시키는 벽과 각 채널에 대하여 횡방향으로 편향시키기 위한 벽을 지나 설정되는 전위차를 야기한다. 따라서, 잉크 채널을 속박하는 벽중 하나 또는 모두가 편향될 수 있다.In this example, the printhead is operated to deliver ink from the ink supply to the nozzle 30 past the window 27, which is drawn into the ink channel 20. As known, for example, from EP-A-0 277 703, the application of an appropriate voltage waveform to the electrode on the side of the channel wall is transverse to the respective channels and walls which in turn deform the polar piezoelectric material of the channel wall in shear mode. Causes a potential difference that is set across the wall for deflection. Thus, one or both of the walls constraining the ink channel can be deflected.

채널로의 벽의 이동은 채널 용량을 감소시키고 베이스와 커버에 의해 각각 상부와 하부에서 폐쇄되어 있고 각 채널벽에 의해 양측에서 폐쇄되어 있는 채널 길이를 따라 잉크의 압력을 설정한다 이 길이는 채널의 "액티브(active)" 길이로 알려져 있으며 도 1 및 2에서 "L"로 지칭되어 있다. 압력의 소실은 잉크 방울이 노즐로부터 분출되도록 한다.The movement of the wall into the channel reduces the channel capacity and sets the pressure of the ink along the channel length, which is closed at the top and bottom by the base and cover, respectively, and closed at both sides by each channel wall. Known as the "active" length and referred to as "L" in FIGS. 1 and 2. Loss of pressure causes ink droplets to eject from the nozzle.

상기한 바와 같이, 기술된 종류의 프린트헤드는 용량성 부하(capacitive load)를 제공하며, (도 3a 및 b에 해당하는) 전방부에서는 캐패시터가 양측에 위치하는 채널벽과 전극에 의해 형성되고, 채널의 후방부에서는 (보다 줄어든) 벽 뿐만 아니라 압전 베이스가 연결용 트랙(24)과 결합하여 용량성 효과에 기여한다는 것을 이해할 것이다.As described above, the printhead of the type described provides a capacitive load, and in the front part (corresponding to FIGS. 3A and B), the capacitor is formed by channel walls and electrodes located on both sides, It will be appreciated that at the rear of the channel, the piezoelectric base as well as the (reduced) wall contributes to the capacitive effect in conjunction with the connecting track 24.

도 4는 도 2에 대응하는 단면도로서 본 발명의 제 1 측면에 따른 프린트헤드를 예시하고 있다. 도 5는 대응하는 단면도를 나타낸다. 도 4의 프린트헤드의 "액티브" 길이의 구조가 종래의 헤드와 같이 있으며, 전극(26')이 벽 아래로 대략 절반정도 연장한다.4 illustrates a printhead according to the first aspect of the invention as a cross-sectional view corresponding to FIG. 2. 5 shows a corresponding cross section. The "active" length structure of the printhead of Figure 4 is like a conventional head, with electrodes 26 'extending approximately half way down the wall.

그러나, 일측에서 잉크 공급 윈도우(27)로 개방되어 있어 채널의 "액티브"길이가 아닌 전깊이 채널("N"으로 지칭) 부분에 있어서, 전극(26")은 벽의 매우 상부를 따라서만 연장된다. 이것은 액티브 채널부의 연결용 트랙(24)에서 전극(26')까지 작동 신호를 전달하고, 도 5b에서 명백한 것과 같이 채널 전극 사이에 위치한 압전 물질의 영역을 감소시킴으로써 이 채널부의 용량 부하를 상당히 감소시키기에 충분하다 (이것은 상대 유전상수 K를 가지는 물질의 두께 L에 의해 분리되는 영역A의 판을 가지는 평행판 캐패시터의 용량 C이 C=K.eo>A/L로 주어지는 원리를 따르며, 여기서 eo는 자유공간의 유전율임)However, at one side open to the ink supply window 27 so that in the full-depth channel (referred to as "N") rather than the "active" length of the channel, the electrode 26 "extends only along the very top of the wall. This delivers an actuation signal from the connecting track 24 of the active channel portion to the electrode 26 'and significantly reduces the capacitive load of the channel portion by reducing the area of piezoelectric material located between the channel electrodes as is apparent in FIG. Is sufficient to reduce (this follows the principle that the capacity C of a parallel plate capacitor with a plate of region A separated by the thickness L of the material having a relative dielectric constant K is given by C = K.eo> A / L, where eo is the permittivity of free space)

줄어든 깊이의 전극(26")은 "런아웃(runout)"부 R에 유리하게 사용되기 때문에 종래의 방식으로 형성되는 연결용 트랙(24)과 결합된다.The reduced depth electrode 26 " is advantageously used in the " runout " portion R and thus is coupled with the connecting track 24 formed in a conventional manner.

상기 서로 다른 높이의 트랙(26',26")의 제조에 관해서는, 전적으로 그렇지는 않지만 금속 증기 침착에 의해 유리하게 달성될 수 있다. 이 기술의 원리는 EP-A-0 364 136에 잘 설명되어 있으므로 여기에서는 상세히 설명하지 않을 것이다. 채널형 압전체는 몸체의 평면에 수직으로 향하는, 즉 채널 측벽에 실질적으로 평행하게 금속 증기빔에 노출되지만, 그루브의 후방부 "C"는 차폐된다. 도 5c에서 점선(60)으로 나타낸 것과 같이, 금속은 와이어 본딩 공정을 견디기에 충분한 두께, 전형적으로 2~4 ㎛의 연결용 트랙(24)을 형성하도록 침착된다.With regard to the production of the tracks 26 ', 26 "of different heights, this is not entirely but advantageously achieved by metal vapor deposition. The principle of this technique is well described in EP-A-0 364 136. The channel-like piezoelectric body is exposed to the metal vapor beam facing perpendicular to the plane of the body, ie substantially parallel to the channel sidewalls, but the rear portion “C” of the groove is shielded. As indicated by dashed line 60 in FIG. 6, the metal is deposited to form a connecting track 24 of thickness, typically 2-4 μm, sufficient to withstand the wire bonding process.

그리고 프린트헤드의 액티브 길이 L를 형성하기 위한 채널부에 대한 차폐가 제거되고 채널형 몸체와 금속 증기 빔이 도 5a에 도시한 위치로 서로 회전하여 전극은 (125㎛의 전형적인 도금 깊이의 상승을 제공하는) 벽의 높이의 대략 절반에 대한 부분 L의 채널벽에, 금속 증기빔과 수직으로 배열된 면에서 1㎛의 침착과 전형적으로 같은 두께로 침착된다. 각 채널의 두 측벽이 코팅되도록 상대적인 회전은 두 번 수행될 필요가 있다는 것을 이해할 것이다. 이 공정은 EP-A-0 364 136호에 개시되어 있는 전극 침착 방법에 해당한다.And shielding of the channel portion to form the active length L of the printhead is removed and the channeled body and the metal vapor beam rotate to each other in the position shown in FIG. 5A so that the electrode provides a rise in typical plating depth of 125 [mu] m. To the channel wall of the portion L to approximately half of the height of the wall, typically deposited at a thickness equal to 1 μm in the plane perpendicular to the metal vapor beam. It will be appreciated that relative rotation needs to be performed twice so that the two sidewalls of each channel are coated. This process corresponds to the electrode deposition method disclosed in EP-A-0 364 136.

마지막으로, 채널의 나머지, 즉 N과 R 부분의 차폐가 제거되고 채널형 몸체와 금속 증기빔이 도 5b에 도시된 얕은 각도로 다시 서로 회전되고, 이것에 의해 이전 단계에서 액티브 영영에 침착된 전극(26')의 상부를 따라 R,N 부분에서 얕은 전극(26")(전형적으로 깊이 25 ㎛)이 침착된다. 채널의 액티브 영역에서, 얕은 전극은 액티브 영역의 길이를 따라 도전하는 데 도움이 되며, 이는 고저항율을 가지는 전극 물질이 사용되는 경우에 특히 유리하다. 또한, 다른 벽의 상부를 따라 침착되도록 추가 회전이 요구된다.Finally, the remainder of the channel, i.e. the N and R portions, is removed and the channeled body and the metal vapor beam are rotated back to each other at the shallow angle shown in FIG. 5B, whereby the electrode deposited on the active permanent in the previous step. A shallow electrode 26 "(typically 25 [mu] m deep) is deposited in the R and N portions along the top of 26 '. In the active region of the channel, the shallow electrode helps to challenge along the length of the active region. This is particularly advantageous when electrode materials with high resistivity are used, and further rotation is required to be deposited along the top of the other walls.

상기한 방법은 각 침착 공정에서 침착 파라미터가 도금될 특정 영역에서 최적의 전극 특성을 얻도록 맞추어진다는 이점을 갖는다. 따라서, 침착의 제 1 단계는 고속 침착으로 수행될 수 있어 와이어 본딩 공정동안 세라믹 기판에 부착된 채로 유지되는 연결 트랙을 형성하기 충분한 양의 금속층을 배치할 수 있다. 한편, 채널의 액티브 길이에서의 전극 침착의 제 2 단계는 채널의 액티브 부분의 벽에 침착된 전극이 전기적 연성을 나타내도록 낮은 침착 속도에서 수행될 수 있다. 얕은 전극(26")이 침차되는 최종 단계는 이 전극이 수직에 근접하게 놓인 각도로 침착된다는 점을 반영하는 고침착도로 수행될 수 있다.The method described above has the advantage that in each deposition process the deposition parameters are tailored to obtain optimum electrode properties in the particular area to be plated. Thus, the first step of deposition can be performed with high speed deposition to place a sufficient amount of metal layer to form a connection track that remains attached to the ceramic substrate during the wire bonding process. On the other hand, the second step of electrode deposition at the active length of the channel can be performed at a low deposition rate such that the electrode deposited on the wall of the active portion of the channel exhibits electrical ductility. The final step in which the shallow electrode 26 "is settled may be performed with a high degree of deposition which reflects that the electrode is deposited at an angle lying close to the vertical.

도금시 양호한 에지를 얻기 위하여 채널 베이스(10)와 금속 증기원 사이에, 바람직하게는 채널 요소(10)에 인접하게 위치한 물리적인 마스크에 의해 달성될 수 있다. 마스크는 진공 시스템에서 사용하기에 적합한 금속, 예를 들어 폴리이미드 등의 금속에서 이상적으로 제조된다. 각 마스크는 도포될 영역에 해당하는 곳에 형성된 홀을 가지며, 상기한 방법에 따라, 채널형 베이스에서 그것들을 잡아 당기거나 밀어 제거하거나 또는 그것들을 움직여 적절한 침착 단계 이후에 차례로 개방된다. 바람직하게는 각 마스크는 진공챔버를 개방하지 않고 제거되며, 이는 연속적으로 형성된 전극층 사이에서 산화막이 형성되게 한다.It can be achieved by a physical mask located between the channel base 10 and the metal vapor source, preferably adjacent the channel element 10, in order to obtain good edges in the plating. The mask is ideally made from metals suitable for use in vacuum systems, for example metals such as polyimide. Each mask has holes formed in areas corresponding to the areas to be applied, and according to the method described above, they are opened in turn after the appropriate deposition step by pulling or sliding them off or moving them in the channeled base. Preferably each mask is removed without opening the vacuum chamber, which causes an oxide film to be formed between the successively formed electrode layers.

교번 전극 침착 방법은 채널의 전길이를 따라 얕은 전극을 침착하는 단계를 포함한다. EP-A-0 364 136호에서 공지된 종래의 방식에서는 채널의 비액티브 부분 "N"을 차폐하는 마스크는 채널의 액티브 부분 "L"내의 벽의 절반 깊이의 전극과 채널의 얕은 후방부 "C"의 연결 트랙을 침착에 앞서 챔버에 도입된다.Alternating electrode deposition methods include depositing shallow electrodes along the entire length of the channel. In the conventional manner known from EP-A-0 364 136, the mask shielding the inactive portion "N" of the channel is an electrode half the depth of the wall in the active portion "L" of the channel and the shallow rear portion "C" of the channel. Connection tracks are introduced into the chamber prior to deposition.

벽 상부의 원치 않는 금속 침착은 예를 들어 EP-A-0 397 441에서 공지된 것과 같은 열가소성 "리프트 오프" 필름에 의해, 또는 EP-A-0 364 136과 같은 침착 후에 래핑함으로써 회피될 수 있다. 예를 들어 전극(26' 또는 26")의 연이은 배치의 코스내에서 연결 트랙과 같은 영역에서의 추가 배치는 연결트랙의 필요한 초기 배치 두께를 계산할 때 유리하게 고려된다 (예를 들면, 요홈의 후방 부분("C")에서 처음으로 도포될 필요가 있는 전극 물질의 2㎛와 연속 도포 단계에서 후방 부분내에 도포되는 전극 물질은 3 내지 4㎛만을 연결 트랙의 필요한 초기 도포 두께를 계산할 때 계산하는 것이 양호하다.Undesired metal deposition on the walls can be avoided, for example, by thermoplastic "lift off" films as known in EP-A-0 397 441 or by lapping after deposition such as EP-A-0 364 136. . Further arrangements in areas such as connecting tracks, for example in the course of subsequent arrangements of electrodes 26 'or 26 ", are advantageously taken into account when calculating the required initial placement thickness of the connecting tracks (e.g., behind the grooves). 2 μm of electrode material that needs to be applied for the first time in part (“C”) and electrode material that is applied in the rear part in a continuous application step is calculated only when calculating the required initial application thickness of the connecting track. Good.

도 4 및 5는 압전 물질층에 수직으로 극성을 띠고 단일 방향으로 수직인 압전물질의 벽을 가지는 프린트헤드(소위 EP-A-0 354 136에 개시된 "캔틸레버 구조"에 적용된 본 발명의 상술한 측면을 예시한다. 그러나, 본 발명은 이러한 수단에 한정되지 않고 예를 들어 EP-A-0 277 703호에서 공지된 바와 같이 압전 물질이 대향하는 두 방향으로 극성화된 "쉐브론(Cheveron)" 구조를 가지는 프린트헤드에 동등하게 적용될 수 있다. 후자의 구조는 "캔틸레버" 구조보다 낮은 동작 전압을 필요로 하는 장점을 갖는 반면에 높은 용량성 부하를 가지는 단점이 있다. 따라서, 본 발명은 매우 적절하게 사용될 수 있다. 상기한 EP-A-0 277 703호에서 알 수 있듯이, 이러한 구조는 벽의 전체 길이를 연장시키기 위하여 채널의 액티브 부분(L)에서 전극을 필요로 한다. 비액티브 부분에서, 얕은 전극의 높이는 캔틸레버에서 사용되는 것과 동일한, 즉 전형적으로 25㎛ 및/또는 벽 높이의 20%를 넘지 않는다. WO 92/09436에는 "캔틸레버" 구조에 관하여 상기에 기술된 것과 같은 제조 기술을 반드시 사용하여 "쉐브론" 구조를 만들 수 있는 적층물이 기재되어 있다.Figures 4 and 5 illustrate aspects of the invention as applied to a printhead (so-called "cantilever structure" disclosed in EP-A-0 354 136, having a wall of piezoelectric material perpendicular to the piezoelectric material layer and perpendicular to a single direction). However, the present invention is not limited to these means and, for example, as disclosed in EP-A-0 277 703, a "Cheveron" structure is polarized in two opposite directions in which the piezoelectric material is opposed. The latter structure has the advantage of requiring a lower operating voltage than the " cantilever " structure, while having the disadvantage of having a high capacitive load. As can be seen from EP-A-0 277 703 above, this structure requires an electrode in the active portion L of the channel to extend the entire length of the wall. The height of the silver electrode is not the same as that used in the cantilever, ie typically not more than 25 μm and / or 20% of the wall height. Laminates are described that can produce "chevron" structures.

도 6은 도 2에 대응하는 단면도로서 본 발명의 다른 측면에 따른 프린트헤드를 예시하며, 도 7은 대응하는 단면도를 도시한다. 이전 측면에서, 프린트헤드의 "액티브" 길이의 구조는 종래의 헤드와 같으며, "캔틸레버" 액츄에이터의 경우에 압전물질의 벽의 대략 절반만큼 연장한다.6 illustrates a printhead according to another aspect of the present invention as a cross-sectional view corresponding to FIG. 2, and FIG. 7 shows a corresponding cross-sectional view. In the previous aspect, the "active" length structure of the printhead is the same as a conventional head, extending about half of the wall of piezoelectric material in the case of a "cantilever" actuator.

이와는 대조적으로, 잉크 공급 윈도우(27)로 일측에서 개방되어 있어 "액티브" 길이의 일부가 아닌 전깊이 채널부(N)는 압전물질보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층(40)이 전극(26)과 채널벽(22)의 압전물질 사이에 배치된 점에서 종래구조와 다르다. 이것이 도 7b의 단면도에 예시되어 있다.In contrast, the full depth channel portion N, which is open at one side with the ink supply window 27 and is not part of the "active" length, has a dielectric layer lower than that of the piezoelectric material. And the piezoelectric material of the channel wall 22 are different from the conventional structure. This is illustrated in the cross-sectional view of FIG. 7B.

이 채널부에서의 채널벽의 용량성 부하는 종래 설계의 단일 캐패시터라기 보다 직렬 연결된 세 개의 캐패시터로 표현될 수 있다. 도 8에 예시된 것과 같이, 캐패시터 C1는 벽(22) 자체의 압전 물질에 의해 형성된 캐패시터 C2에 부가하여 벽의 측의 층(40)을 거쳐 형성된다. 압전 물질보다 낮은 유전상수를 가진 물질을 선택함으로서, 직렬 캐패시터 C1, C2의 총용량은 압전 물질만의 것보다 적게 만들 수 있다. (대략적으로 총용량은 1/Ctotal=1/C2+2/C1으로 주어지고, C1의 낮은 값은 Ctotal의 낮은 값으로 주어지는 것을 볼 수 있다).The capacitive load of the channel wall in this channel portion can be represented by three capacitors connected in series rather than a single capacitor of a conventional design. As illustrated in FIG. 8, the capacitor C1 is formed via the layer 40 on the side of the wall in addition to the capacitor C2 formed by the piezoelectric material of the wall 22 itself. By selecting a material having a lower dielectric constant than the piezoelectric material, the total capacity of the series capacitors C1 and C2 can be made less than that of the piezoelectric material alone. (Approximately the total capacity is given by 1 / C total = 1 / C 2 + 2 / C 1, a low value of C 1 can be seen that given a low value of total C).

도 7c에 나타낸 것과 같이, 이러한 기술은 연결 트랙의 영역 C 뿐만 아니라 런아웃 영역 R에 유리하게 적용될 수 있다.As shown in FIG. 7C, this technique can be advantageously applied to the runout area R as well as the area C of the connecting track.

본 발명의 이전 측면에 대하여, 이러한 측면은 그 차체로 공지된 침착 기술을 이용하여 달성될 수 있다. 압전 물질보다 낮은 유전상수를 가지는 물질로서, 실리콘 니트라이드가 사용될 수 있다. 이것은 (납 지르코늄 티타네이트(PZT)와 같은 압전 물질을 대한 약 3600의 값과 비교하여) 약 8의 상대 유전상수를 가지며 채널 전극을 위한 보호 부동 코팅으로서 잉크젯 프린트헤드에 통상적으로 사용된다.With respect to the previous aspect of the invention, this aspect can be achieved using a deposition technique known as the vehicle body. As a material having a lower dielectric constant than the piezoelectric material, silicon nitride may be used. It has a relative dielectric constant of about 8 (compared to a value of about 3600 for a piezoelectric material such as lead zirconium titanate (PZT)) and is commonly used in inkjet printheads as a protective floating coating for channel electrodes.

이러한 물질은 WO 95/07820호에서 공지된 기술을 이용하여 채널벽에 침착되며 마스킹된 채널의 액티브 부분 L을 유지할 수 있다. 실리콘 니트라이드층은 전형적으로 0.3 내지 0.5㎛의 두께를 가진다. 침착 공정은 인입되는 저유전 물질이 채널의 액티브 길이를 보호하지 않도록 배열된 단일 마스크만을 필요로한다. 도 9에 도시된 바와 같이, 마스크(70)는 액티브 영역 L에서 벽(22)의 상부와 근접되도록 하고 걸리는 영역(72) 아래를 인입되는 저 유전물질이 관통하도록 침착기술이 사용되기 때문에 액티브 영역 L 아래의 연장되어야 한다 또한, 매스크(70)는 실제적인 두께를 가져야만 하며 도포 과정중에 과열과 뒤틀림을 회피하기 위하여 열전도성이어야만 한다. 그러므로 이는 2 내지 3 mm 두께의 알루미늄으로 제조된다.Such materials can be deposited on the channel walls using the technique known from WO 95/07820 and retain the active portion L of the masked channel. The silicon nitride layer typically has a thickness of 0.3 to 0.5 mu m. The deposition process requires only a single mask arranged so that the low-k material that is introduced does not protect the active length of the channel. As shown in FIG. 9, the mask 70 is in the active region L because the deposition technique is used to bring it close to the top of the wall 22 and to penetrate the low dielectric material that enters under the entrained region 72. It should extend below L. In addition, the mask 70 must have a practical thickness and must be thermally conductive to avoid overheating and warping during the application process. It is therefore made of aluminum of 2-3 mm thickness.

전극들은 상기한 바와 같은 종래의 방법으로 채널의 전체 길이에 걸쳐 연속적으로 도포된다. 사실상, 도포제는 채널벽의 보이는 표면보다 전극들의 도포를 위하여 더스무스한 표면을 제공하는 것으로 믿어지며, 그결과로서 채널의 비액티브부분은 피로를 덜 받는다.The electrodes are applied continuously over the entire length of the channel in a conventional manner as described above. In fact, the applicator is believed to provide a smoother surface for the application of the electrodes than the visible surface of the channel wall, as a result of which the inactive portions of the channel are less fatigued.

본 발명의 이전 측면에 대하여, 열가소성 "리프트 오프" 필름 또는 래핑(lapping)의 사용은 채널벽의 상부에 침착된 낮은 유전 물질과 전극을 제거하는데 만족할만하다는 것이 판명되었다. 또한, 본 발명은 압전 물질이 압전 물질층에 수직 방향으로 극성이 있는 경우에 "캔틸레버", "쉐브론' 등의 프린트헤드 구조에 동등하게 적용가능하다.For the previous aspects of the present invention, it has been found that the use of thermoplastic "lift off" films or lappings is satisfactory for removing electrodes and low dielectric materials deposited on top of the channel walls. Further, the present invention is equally applicable to printhead structures such as "cantilevers" and "chevrons" when the piezoelectric material is polar in the direction perpendicular to the piezoelectric material layer.

다른 많은 절연 물질 및/또는 다른 도포 기술이 낮은 유전층을 위한 실리콘 니트라이드 대신에; 산화물, 특히 실리콘 옥사이드, 알루미늄 옥사이드, 알루미늄 니트라이드 및 다이어몬드형 카본을 사용할 수 있다. 적절한 물질의 선택은 낮은 유전층과 단일 도포 장치를 이용하여 도포되는 채널 전극을 허용하며 제조 시간(한 기계로부터 다른 기계로의 채널을 가진 요소를 이동할 필요가 없어서)과 주 설비면에서 매우 이로운 결과를 낳는다. 예를 들면, 알루미늄으로 증착시키거나 채널 요소(channelled component)에 질소 이온 또는 자유 라디칼을 가함으로써 알루미늄질화물의 저유전층이 챔버내에서 채널 요소에 침착될 수 있다. 채널의 연속적인 배출은 상기한 EP-A-0 364 136호로부터 공지된 방법으로 동일 챔버내에서 채널벽상의 전극으로서 도포될 알루미늄을 증기화하는 것을 허용한다.Many other insulating materials and / or other application techniques may be used instead of silicon nitride for low dielectric layers; Oxides, in particular silicon oxide, aluminum oxide, aluminum nitride and diamond type carbon can be used. Choosing the right material allows channel electrodes to be applied using a low dielectric layer and a single applicator, and has very beneficial results in terms of manufacturing time (no need to move elements with channels from one machine to another) and in main equipment. Gives birth For example, a low dielectric layer of aluminum nitride can be deposited in the channel element in the chamber by depositing with aluminum or by applying nitrogen ions or free radicals to the channeled component. Continuous discharge of the channel allows vaporizing the aluminum to be applied as an electrode on the channel wall in the same chamber in a manner known from EP-A-0 364 136 above.

상기한 양태의 여러 변경은 본 발명의 범위내에서 가능하다. 예를 들면, 상기한 양태는 전극과 채널 측면벽 사이에 개재된 낮은 유전체 물질층과 얇은 전극을 가진 채널의 비액티브 부분 "N"을 조합하여 사용할 수도 있다. 또는 본 발명의 하나 또는 두 양태는 다른 용량-감소 수단과 결합하여 사용하여도 된다.Many modifications of the above embodiments are possible within the scope of the invention. For example, the above embodiment may use a combination of the low dielectric material layer interposed between the electrode and the channel sidewall and the inactive portion " N " of the channel with the thin electrode. Alternatively, one or both aspects of the invention may be used in combination with other dose-reducing means.

채널의 액티브 및 비액티브 길이의 상대 치수는 도면에 도시된 것으로부터 변경할 수도 있는데: EP-A-0 422 870호(저 용량성 부하는 특히 높은 구동 주파수의 견지에서 특히 중요하다)에 설명한 종류의 높은 주파수 작업은 1 내지 10mm 범위, 예를 들면 4mm의 낮은 단부에서 액티브 채널 길이(L)가 요구되며, 한편 채널의 종방향 내의 매니폴드 구멍의 치수는 현존하는 잉크 공급 장치 구조 등에 부합하도록 과도한 압력 강하없이 충분한 잉크가 유동하도록 실제적으로 일정, 예를 들면 10mm로 유지할 필요가 있다. 요약하면 본 발명은 비액티브 전길이 대 액티브 전길이의 비가 약 2 또는 그 이상을 가지는 프린트헤드가 특히 양호하다.The relative dimensions of the active and inactive lengths of the channels may be varied from those shown in the figures: of the kind described in EP-A-0 422 870 (low capacitive loads are particularly important in view of particularly high drive frequencies). High frequency operation requires an active channel length (L) in the low end of the range of 1 to 10 mm, for example 4 mm, while the dimensions of the manifold apertures in the longitudinal direction of the channel are excessively pressured to conform to existing ink supply structures and the like. It is necessary to keep it substantially constant, for example 10 mm, so that sufficient ink flows without dropping. In summary, the present invention is particularly preferred for printheads having a ratio of inactive full length to active full length of about 2 or more.

이러한 프린트헤드의 중요한 다른 치수는: 전 채널 깊이는 300㎛, 채널의 액티브 부분의 전극 깊이는 150㎛, 전 깊이 부분(L, N)의 채널 벽 폭은 62㎛, 연결트랙(C)의 길이는 7.4mm, 연결 트랙 부분의 채널벽 폭은 47㎛, 작동기(C+R+N+L)의 전체 길이는 11.5mm, 액티브 길이(L)는 1.5mm이다.Other important dimensions of this printhead are: 300 μm full channel depth, 150 μm electrode depth of active portion of the channel, 62 μm channel wall width of full depth portions (L, N), length of connecting track (C) Is 7.4 mm, the channel wall width of the connecting track portion is 47 μm, the overall length of the actuator (C + R + N + L) is 11.5 mm, and the active length (L) is 1.5 mm.

이러한 구조에서 본 발명을 사용하면 도면에 도시된 종류의 프린트헤드보다 프린트헤드의 용량성 부하의 비례적인 큰 감소가 있다는 것을 알게 될 것이다. 예를 들면, 본 발명의 한 양태에 따라서, 상기한 치수를 가진 단일 채널벽의 비액티브 부분내에서 25㎛의 깊이의 얇은 전극의 사용은 일정한 높이 150㎛의 전극을 사용하여 같은 벽을 위하여 540pF의 값을 가진 것과 비교하여 전체 용량이 354pF의 벽을 가지는 결과를 낳는다. 본 발명의 다른 양태에 따른 낮은 유전 도포 필름의 사용은 190pF의 전체 벽 용량을 가지며 한편 두 양태의 사용은 140pF의 벽 용량을 가질 것이다. 이러한 값은 벽 단독(129pF)의 액티브 부분에 의해 나타난 것과 매우 유사하다.It will be appreciated that using the present invention in such a structure there is a proportionately large reduction in the capacitive load of the printhead over printheads of the kind shown in the figures. For example, in accordance with one aspect of the present invention, the use of a thin electrode of 25 μm depth in the inactive portion of a single channel wall having the above dimensions may be used for a same wall using an electrode of constant height 150 μm for 540 pF. This results in a wall with a total capacity of 354pF compared with the value of. The use of a low dielectric application film according to another aspect of the present invention will have a total wall capacity of 190 pF while the use of both embodiments will have a wall capacity of 140 pF. This value is very similar to that shown by the active portion of the wall alone (129pF).

본 발명은 도면에 도시된 프린트헤드의 구조에만 한정되는 것이 아니며: 도포액은 EP-A-0 364 136호에 도시된 바와 같은 채널 기초부내의 구멍 즉, 채널축과 평행하게 놓인 모든 채널 측면을 통하여 공급될 수도 있다. 유사하게, 도면에 도시된바와 같이 채널축상에 위치될 필요가 없는 노즐은 커버 또는 기초부(이른바 "톱-슈터" 및 "바텀-슈터" 구조)또는 종래 기술에서 공지된 다른 곳에 위치시킬 수도 있다. 본 발명에 따른 장치가 본원에 설명된 방법에 한정될 필요는 없으며 예를 들면, 전극 및/또는 낮은 유전층의 선택적인 적용은 상부 커버 채널을 가진 기초부에 결합시킨후 고려할 수도 있다. 또한, 채널을 가진 기초부와 상부층은 분리 조립체에 병합될 수도 있으며, 이들 각각은 제조 단계가 따로 적용된다.The invention is not limited only to the structure of the printhead shown in the figures: the coating liquid is directed to the holes in the channel base as shown in EP-A-0 364 136, i.e. all channel sides lying parallel to the channel axis. It can also be supplied through. Similarly, nozzles that do not need to be located on the channel axis as shown in the figures may be located on a cover or foundation (so-called "top-shooter" and "bottom-shooter" structures) or elsewhere known in the art. . The device according to the invention need not be limited to the method described herein and, for example, selective application of the electrode and / or low dielectric layer may be considered after coupling to the base with the top cover channel. In addition, the base with the channel and the top layer may be incorporated into a separation assembly, each of which is subjected to a manufacturing step separately.

본 발명은 예를 들면, WO 95/18717호에 설명된 "웨이퍼 스케일" 제조 방법과 구조에 적용할 수 있음은 물론이다. 도포 및 전극 도포 매스크는 적용할 필요가 있다. 이들 구조에 있어서 잉크는 채널의 측면보다는 단부로부터 공급되며 예를 들면, 도 10에 도시된 바와 같은 채널 종방향 축에 직각으로 놓인 매니폴드(100)로부터 공급되며, 낮은 유전 물질은 채널의 폐쇄된 부분("액티브" 130)의 외측에 놓여있는 이들 영역(120)내에서 채널을 가진 요소(110)와 전극 물질(105) 사이에 단순히 배열된다.The invention is, of course, applicable to the "wafer scale" manufacturing method and structure described in WO 95/18717, of course. Application and electrode application masks need to be applied. In these structures the ink is supplied from the end rather than from the side of the channel and from, for example, manifold 100 lying perpendicular to the channel longitudinal axis as shown in FIG. Within these regions 120 lying outside of the portion (“active” 130) it is simply arranged between the element material having a channel 110 and the electrode material 105.

본 발명은 상기한 구조에 다른 방법으로 극성화된 압전 물질을 구비한 구조에 적용가능하며 작동 전극에 대응하는 다른 장치를 가진다. 이러한 장치의 예가 US-A-5 235 352호에 설명되어 있는데 이는 채널의 어레이 방향에 평행하게 극성화된 압전 물질을 포함한 채널-분리 벽을 가지며 극성화 방향에 직각으로 그들의 벽내에 위치한 전극에 의해 전기장을 받는다. 낮은 유전층은 전극과 채널의 비액티브, 비폐쇄 부분에 대응하는 벽의 이들 부분내의 압전 물질 사이에 적용된다. 본 명세서(이는 청구범위를 포함) 및/또는 도면에 도시된 각 특징은 다른 개시 및/또는 도시된 특징에 독립적으로 병합될 수도 있다.The present invention is applicable to a structure having piezoelectric material polarized in a different manner to the above structure and has another device corresponding to the working electrode. An example of such a device is described in US-A-5 235 352, which has a channel-separating wall containing piezoelectric material polarized parallel to the array direction of the channel and is positioned by electrodes located in their walls perpendicular to the polarization direction. Receives an electric field. The low dielectric layer is applied between the electrode and the piezoelectric material in these portions of the wall corresponding to the inactive, non-closed portions of the channel. Each feature illustrated in this specification (including the claims) and / or in the figures may be independently incorporated into other disclosures and / or illustrated features.

여기에 첨부된 요약서는 본 발명의 명세서를 요약한다.The abstract appended hereto summarizes the specification of the present invention.

드롭-온-디맨드 압전 프린트헤드는 길이를 따라 전극(26)을 가진 압전 물질(10)에 의해 형성된 채널벽을 가진다. 잉크 공급 도관으로 개방된 채널 부분은 국부적으로 사용 불능 즉, 전극과 압전 물질 사이의 낮은 유전 상수의 물질(40)를 개재시키거나 또는 전극의 폭을 감소시켜 달성한다. 그 결과로서 낮은 용량성 부하가 되는 결과를 낳는다.The drop-on-demand piezoelectric printhead has a channel wall formed by piezoelectric material 10 with electrodes 26 along its length. The portion of the channel opened into the ink supply conduit is achieved by interposing a material 40 of low dielectric constant between the electrode and the piezoelectric material locally or by reducing the width of the electrode. The result is a low capacitive load.

Claims (23)

압전물질에 의해 형성되고, 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 이격되어 있으며 각각은 마주보는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널을 형성하는 하부시트; 및Formed by piezoelectric materials and spaced apart from each other in a direction perpendicular to the length, each forming a plurality of parallel, upper open channels defined at least in part by opposing sidewalls and a bottom surface extending between the sidewalls; A lower sheet; And 상기 채널의 상기 하부면과 마주보고 상기 측벽에 결합되어, 상기 채널에 채널축과 평행하게 놓인 모든 부분에서 속박되어 있는 폐쇄부와 액체방울 공급수단과 연통하는, 상기 채널축과 평행하게 놓인 부분에서 개방되어 있는 개방부를 제공하는 상부시트를 포함하고,In a portion lying parallel to the channel axis, facing the bottom surface of the channel and in communication with the droplet supply means and the closure portion bound to all of the portions lying parallel to the channel axis in the channel. A topsheet providing an open opening, 상기 측벽은 상기 압전물질에 의해 형성되고 상기 측벽의 가로변위를 일으키도록 상기 압전물질에 전기장을 인가하기 위한 전극을 포함하고, 상기 전극은 상기 채널 길이를 연장시키고,The sidewalls are formed by the piezoelectric material and include electrodes for applying an electric field to the piezoelectric material to cause lateral displacement of the sidewalls, the electrodes extending the channel length, 상기 채널에는 액체가 공급되며 상기 채널로부터의 액체방울을 분사하는 노즐과 연통되어 있으며,The channel is supplied with liquid and is in communication with a nozzle for ejecting droplets from the channel, 상기 개방부의 측벽부는 각 채널의 상기 개방부의 측벽에서 가로 변위가 일어나지 않도록 기능하지 않는 액체방울 침착 장치.And the side wall portion of the opening portion does not function so that no lateral displacement occurs in the side wall of the opening portion of each channel. 제 1항에 있어서, 각 채널의 개방부에 있어서, 상기 압전물질의 유전상수보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층이 상기 벽의 대향하는 측에 설치된 적어도 하나의 전극과 상기 압전물질 사이에 배치되어 상기 압전 물질이 기능할 수 없도록 하는 액체방울 침착 장치.The piezoelectric material of claim 1, wherein in the opening of each channel, a layer of material having a dielectric constant lower than that of the piezoelectric material is disposed between the piezoelectric material and at least one electrode provided on an opposite side of the wall. Droplet deposition apparatus that prevents the piezoelectric material from functioning. 제 1항에 있어서, 각 채널의 상기 개방부에 설치된 전극은 각 채널의 상기 폐쇄부에 설치되어 있는 전극의 각 측벽 높이의의 비율보다 적은 비율로 연장되어 상기 개방부의 압전물질의 구동을 무력화하여 기능할 수 없게 되는 액체방울 침착장치.The method of claim 1, wherein the electrode provided in the opening of each channel extends at a rate less than the ratio of the height of each side wall of the electrode provided in the closure of each channel to disable the driving of the piezoelectric material of the opening. A droplet deposition device that can no longer function. 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 이격되어 있으며 각각은 마주보는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널로 이루어졌으며, 상기 층에 수직인 방향으로 극성을 가지는 압전 물질층을 가지는 하부시트; 및Spaced apart from each other in a direction perpendicular to the length, each consisting of a plurality of parallel, upper open channels at least partially defined by opposing sidewalls and a bottom surface extending between the sidewalls and perpendicular to the layer. A lower sheet having a piezoelectric material layer having a polarity in a direction; And 상기 채널의 상기 하부면과 마주보고 상기 측벽에 결합되어, 상기 채널에 상기 채널축과 평행하게 놓인 모든 부분에서 폐쇄되어 있는 폐쇄부와 액체방을 공급수단과 연통되어 있고 상기 채널축과 평행하게 놓인 부분에서 개방되어 있는 개방부를 제공하는 상부시트를 포함하고,A liquid chamber and a closing portion which are coupled to the side wall facing the lower surface of the channel and closed at all portions lying parallel to the channel axis in the channel, in communication with the supply means and in parallel with the channel axis. A topsheet providing an opening that is open at the portion, 상기 채널에는 액체가 공급되며 상기 채널로부터의 액체방울을 분사하는 노즐과 연통되어 있으며,The channel is supplied with liquid and is in communication with a nozzle for ejecting droplets from the channel, 상기 측벽의 대향하는 측에 전극이 설치되어 액츄에이터와 관련된 채널로부터 액체방울을 분사하는 전단모드 액츄에이터를 이루며,Electrodes are provided on the opposite side of the side wall to form a shear mode actuator for injecting droplets from the channel associated with the actuator, 각 전극은 상기 채널 길이를 연장시키고,Each electrode extends the channel length, 상기 채널의 개방부에 있어서 상기 압전물질의 보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층이 상기 측벽의 대향하는 측에 설치되어 있는 상기 전극중 적어도 하나와 상기 압전물질 사이에 개재되어 있는 액체방울 침착 장치.And a material layer having a lower dielectric constant of the piezoelectric material in the opening of the channel is interposed between the piezoelectric material and at least one of the electrodes provided on the opposite side of the sidewall. 제 4항에 있어서, 상기 각 채널은 상기 개방부 또는 폐쇄부의 채널벽보다 더욱 작은 높이의 채널벽을 가지는 추가 부분과, 상기 마주보는 채널벽에 설치되는 전극과, 상기 각 채널의 상기 추가 부분의 하부를 포함하며, 각 채널의 상기 전극과 상기 마주보는 벽과 하부 사이에는 압전물질 보다 낮은 유전상수를 가지는 물질층이 개재되어 있는 액체방울 침착 장치.5. The apparatus of claim 4, wherein each channel comprises: an additional portion having a channel wall of a height smaller than the channel wall of the open or closed portion, an electrode provided on the opposite channel wall, and the additional portion of each channel. And a material layer having a lower dielectric constant than a piezoelectric material between the electrode of each channel and the opposing wall and the bottom of each channel. 제 4항의 액체방울 침착 장치를 제조하는 방법으로서,A method of manufacturing the droplet deposition apparatus of claim 4, (a) 압전 물질충을 구비한 하부 시트내에 다수의 평행한 채널을 형성하는 단계와;(a) forming a plurality of parallel channels in a lower sheet with a piezoelectric material charge; (b) 물질은 압전 물질보다 낮은 유전 상수를 가지며, 상기 각 채널의 제 2 부분의 대향 측면벽은 상기 물질 없이 남아 있으며, 상기 각 채널의 제 1 부분의 적어도 하나의 대향 측면벽상에 물질층을 도포하는 단계와;(b) the material has a lower dielectric constant than the piezoelectric material, and opposing sidewalls of the second portion of each channel remain without the material, and a layer of material on at least one opposing sidewall of the first portion of each channel Applying; (c) 상기 채널의 상기 제 1 및 제 2 부분의 대향 측면벽상에 전극 물질을 도포하는 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 액체방울 침착 장치를 제조하는 방법.(c) applying an electrode material on opposite sidewalls of said first and second portions of said channel. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, (d) 상기 각 채널의 상기 제 1 부분의 적어도 하나의 대향 측면벽상에 상기 물질층을 도포하기 전에 상기 각 채널의 상기 제 2 부분을 매스킹하는 단계와;(d) masking said second portion of each channel prior to applying said layer of material on at least one opposing side wall of said first portion of each channel; (e) 상기 채널의 제 1 및 제 2 부분의 대향 측면벽상에 전극 물질을 도포하기 전에 상기 제 2 부분을 언매스킹하는 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 방법.(e) unmasking said second portion before applying electrode material on opposite sidewalls of said first and second portions of said channel. 제 6항에 있어서, 상기 벽을 향하여 그 면과 마주보는 채널과 각을 두어 금속 증기빔에 의해 전극 물질이 침착되는 방법.7. The method of claim 6, wherein the electrode material is deposited by a metal vapor beam at an angle with the channel facing the face towards the wall. 그 길이에 수직인 배치방향으로 상호 이격되어 있으며 각각은 평행한 상부면을 가지는 마주보는 측벽과 상기 측벽 사이에서 연장되는 하부면에 의해 적어도 부분적으로 한정되는 다수의 평행한, 상부 개방 채널로 이루어졌으며, 상기 층에 수직인 방향으로 극성을 가지는 압전 물질층을 포함하는 하부시트; 상기 채널의 상기 하부면과 마주보고 상기 채널의 상부와 근접하도록 상기 측벽에 결합된 상부시트를 포함하고, 상기 채널에는 액체가 공급되며 상기 채널로부터의 액체방울을 분사하는 노즐과 연통되어 있으며, 각 채널은 상기 채널측과 평행하게 놓인 모든 부분에서 폐쇄되어 있는 폐쇄부와 액체방울 공급수단과 연통되어 있고 상기 채널축과 평행하게 놓인 부분에서 개방되어 있는 개방부를 가지고, 상기 측벽의 대향하는 측에 전극이 설치되어 액츄에이터와 관련된 채널로부터 액체방울을 분사하는 전단모드 액츄에이터를 이루며, 각 전극은 상기 채널 길이를 연장시키고, 각 채널의 상기 개방부에 설치되어 있는 전극은 각 채널의 상기 폐쇄부에 설치되어 있는 전극보다 각 측벽의 높이 비율이 작게 연장되는 액체방울 침착 장치.Each consisting of a plurality of parallel, upper open channels spaced apart from each other in a direction perpendicular to the length thereof, each at least partially defined by opposing sidewalls having parallel upper surfaces and a lower surface extending between the sidewalls; A lower sheet including a piezoelectric material layer having a polarity in a direction perpendicular to the layer; An upper sheet coupled to the sidewall facing the lower surface of the channel and proximate the upper portion of the channel, the channel being in fluid communication with a nozzle for injecting droplets from the channel, each The channel has a closed portion closed at all portions parallel to the channel side and an open portion in communication with the droplet supply means and open at the portion parallel to the channel axis and having an electrode on the opposite side of the side wall. Is installed to form a shear mode actuator for injecting droplets from a channel associated with the actuator, each electrode extending the channel length, and an electrode provided at the opening of each channel is installed at the closure of each channel. A droplet deposition apparatus in which a height ratio of each sidewall extends smaller than an electrode. 제 4항 또는 9항에 있어서, 상기 하나의 부분 및 다른 부분은 일정한 높이의 측벽에 의해 적어도 부분적으로 한정되어, 상기 개방부와 상기 폐쇄부의 각 측벽의 높이가 동일한 액체방울 침착 장치.10. The droplet deposition apparatus of claim 4 or 9, wherein the one portion and the other portion are at least partially defined by sidewalls of constant height such that the height of each sidewall of the opening portion and the closure portion is the same. 제 4항 또는 9항에 있어서, 각 채널에 대하여, 상기 채널의 상기 폐쇄된 부분에 인접하게 노즐이 놓여 있는 액체방울 침착 장치.10. The droplet deposition apparatus of claim 4 or 9, wherein for each channel a nozzle is placed adjacent the closed portion of the channel. 제 4항 또는 9항에 있어서, 각 채널에 대하여, 상기 개방부와 폐쇄부는 연속적인 것을 특징으로 하는 액체방울 침착 장치.10. A droplet deposition apparatus according to claim 4 or 9, wherein for each channel, the openings and closures are continuous. 제 6항에 있어서, 상기 전극은 바람직하게는 상기 개방부의 각 채널 높이의 10% 전후로 연장된 액체방울 침착 장치.7. The droplet deposition apparatus of claim 6, wherein the electrode preferably extends around 10% of the height of each channel of the opening. 제 6항에 있어서, 상기 폐쇄부에서 연장되는 전극은 각 채널벽의 대략 절반 또는 전체 깊이로 연장되어 있는 액체방울 침착 장치.7. The droplet deposition apparatus of claim 6, wherein the electrode extending from the closure extends to approximately half or the entire depth of each channel wall. 제 4항 또는 9항에 있어서, 상기 개방 채널부 및 폐쇄 채널부의 길이의 비율은 대략 2 이상인 액체방울 침착 장치.10. A droplet deposition apparatus according to claim 4 or 9, wherein the ratio of the lengths of the open and closed channel portions is approximately two or more. 제 9항의 액체방울 침착 장치를 제조하는 방법으로서,A method of manufacturing the droplet deposition apparatus of claim 9, (a) 압전 물질층을 구비한 하부 시트내에 동일 평면 상부를 가진 채널벽에 의해 분리된 다수의 평행 채널을 형성하는 단계와;(a) forming a plurality of parallel channels separated by channel walls having a coplanar top in a lower sheet with a layer of piezoelectric material; (b) 각 측면벽 높이의 제 1 부분에 걸쳐 상기 각 채널의 제 1 부분의 대향 측면벽상에 전극 물질을 도포하는 단계와;(b) applying electrode material on opposite sidewalls of the first portion of each channel over a first portion of each sidewall height; (c) 제 1 및 제 2 부분은 다르며, 각 측면벽 높이의 제 2 부분에 걸쳐 상기 각 채널의 제 2 부분의 대향벽상에 전극 물질을 도포하는 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 액체방울 침착 장치를 제조하는 방법.(c) the first and second portions are different, and the droplet deposition apparatus comprises applying an electrode material on opposite walls of the second portion of each channel over a second portion of each sidewall height. How to prepare. 제 16항에 있어서,The method of claim 16, (d) 각 측면벽 높이의 제 1 부분에 걸쳐 상기 각 채널의 제 1부분의 대향벽 상에 전극 물질을 도포하기 전에 상기 각 채널의 상기 제 2 부분을 매스킹하는 단계와;(d) masking said second portion of each channel prior to applying electrode material onto the opposing wall of the first portion of each channel over a first portion of each side wall height; (e) 상기 각 채널의 상기 제 1 및 제 2부분의 대향 측면벽상에 전극 물질을 도포하기 전에 상기 제 2 부분을 언매스킹하는 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 방법.(e) unmasking said second portion prior to applying electrode material on opposing sidewalls of said first and second portions of each channel. 제 16항에 있어서, 상기 벽을 향하여 그 면과 마주보는 채널에 각도를 두어 금속 증기 빔에 의해 전극물질이 증착되며, 상기 제 1 부분에서의 침착 각도는 상기 제 2 부분에서의 침착 각도보다 경사가 급한 방법.17. The electrode material of claim 16, wherein the electrode material is deposited by means of a metal vapor beam at an angle in a channel facing the face towards the wall, the deposition angle in the first portion being inclined than the deposition angle in the second portion. Urgent way. 압전 요소의 표면을 코팅하는 방법으로서,A method of coating the surface of a piezoelectric element, 상기 요소를 챔버에 위치시키는 단계와, 상기 표면을 금속 증기빔에 노출시키는 단계와, 상기 챔버가 진공을 포함하는 상태와 상기 요소의 표면에 자유 라디칼 이온이 가해지는 상태를 절환하는 단계를 포함하는 방법.Positioning the element in a chamber, exposing the surface to a metal vapor beam, and switching the state in which the chamber contains a vacuum and the state in which free radical ions are applied to the surface of the element. Way. 제 19항에 있어서, 상기 이온 또는 자유기는 산소 또는 질소인 방법.20. The method of claim 19, wherein the ion or free group is oxygen or nitrogen. 제 20항에 있어서, 상기 금속 증기 빔은 증기화된 알루미늄인 것을 특징으로 하는 방법.21. The method of claim 20, wherein the metal vapor beam is vaporized aluminum. 제 19항에 있어서, 상기 요소는 사이에 기초부와 두 개의 대향 측면벽을 각각 가지는 채널내에 형성되어 있으며, 코팅은 상기 측면벽상에 도포되는 것을 특징으로 하는 방법.20. The method of claim 19, wherein the element is formed in a channel, each having a foundation and two opposite sidewalls therebetween, wherein a coating is applied on the sidewalls. 제 22항에 있어서, 챔버가 진공인 상태에서, 금속 증기 빔은 상기 채널벽에 대하여 0이 아닌 각도로 대향되는 것을 특징으로 하는 방법.23. The method of claim 22, wherein with the chamber in vacuum, the metal vapor beam is opposed at an angle other than zero with respect to the channel wall.
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