[go: up one dir, main page]

KR100468594B1 - 액정표시소자및그제조방법 - Google Patents

액정표시소자및그제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100468594B1
KR100468594B1 KR1019970038572A KR19970038572A KR100468594B1 KR 100468594 B1 KR100468594 B1 KR 100468594B1 KR 1019970038572 A KR1019970038572 A KR 1019970038572A KR 19970038572 A KR19970038572 A KR 19970038572A KR 100468594 B1 KR100468594 B1 KR 100468594B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent electrode
color filter
electrodeposition
filter layer
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
KR1019970038572A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990016123A (ko
Inventor
문규선
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1019970038572A priority Critical patent/KR100468594B1/ko
Publication of KR19990016123A publication Critical patent/KR19990016123A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100468594B1 publication Critical patent/KR100468594B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명에 의한 액정표시소자 및 그 제조방법은, 복수의 데이터 라인 및 게이트 라인에 각각 접속되도록, 박막트랜지스터와 화소전극이 구비된 TFT 기판의, 화소전극 상에 전착법을 이용하여 제 1 내지 제 3 칼라 필터층을 순차 반복적으로 각각 형성하는 공정 및, 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 상에 투명전극을 형성하는 공정으로 이루어져, 1) 보호층 증착 공정없이 곧바로 투명전극을 형성하는 것이 가능하게 되므로 공정 단순화 및 비용 절감을 실현할 수 있게 되고, 2) 폴리 실리콘 TFT의 경우, 화소전극에 R, G, B 각각의 구동 파형을 인가할 수 있으므로, 전압이 인가된 투명전극 상에만 선택적으로 전착액 성분이 석출되도록 하는 것이 가능하여, 비정질 실리콘 TFT에서 요구되는 별도의 포토 마스크없이도 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 형성이 가능하게 된다.

Description

액정표시소자 및 그 제조방법
본 발명은 노우트 북 퍼스널 컴퓨터(note book PC)등에 사용되는 액정표시소자(liquid crystal dispay:이하, LCD라 한다) 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 TFT 기판의 화소전극 상에 색상을 표현하는 칼라 필터층을 형성한 LCD 및 그 제조방법에 관한 것이다.
근래에 고품위 TV(high definition TV:이하, HDTV라 한다) 등의 새로운 첨단 영상기기가 개발됨에 따라 브라운관(CRT) 대신에 LCD, ELD(electro luminescence display), VFD(vacuum fluorescence display), PDP(plasma display panel) 등과 같은 평판 표시기에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.
그중에서도 LCD는 평판 표시기의 대표적인 기술로써 박형, 저가, 저소비 전력 구동이 가능할 뿐 아니라 집적회로와의 정합성이 좋은 등의 특징을 가져 랩 톱 컴퓨터(lap top computer)나 포켓 컴퓨터(pocket computer)의 표시외에 차량 적재용, 칼라 TV의 화상용으로서 그 용도를 급속하게 확대하고 있다.
이러한 특성을 갖는 상기 LCD는 상부기판인 C/F(color filter) 기판과 하부기판인 TFT 기판이 서로 대향되도록 배치되고, 그 사이에 유전 이방성을 갖는 액정이 삽입되는 구조를 가져, 화소 선택용 어드레스(address) 배선(예컨대, 데이터 구동회로 및 게이트 구동회로)을 통해 수십만개의 화소에 부가된 TFT를 스위칭 동작시켜 해당 화소에 전압을 인가해 주는 방식으로 LCD가 구동되게 된다.
이때, 상기 상부기판에 형성되는 칼라 필터층은 염색법, 안료를 이용한 안료 분산법, 인쇄법, 전착법 등으로 제조되는데, 여기서는 일 예로서 본 발명과 직접적으로 관련된 전착법을 이용한 종래의 칼라 필터 제조방법을 살펴보고자 한다. 상기 제조방법은 크게 4 단계로 구분되는데, 이를 도 1 내지 도 4에 제시된 공정수순도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
제 1 단계로서, 도 1에 도시된 바와 같이 사진식각공정을 이용하여 CP(cutting, polishing) 처리를 한 C/F 기판(예컨대, 유리 기판)(10) 상에 복수의 제 1 투명전극(12)을 형성한다.
제 2 단계로서, 도 2에 도시된 바와 같이 전착법을 이용하여 상기 투명전극(12) 상에 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(14),(16),(18)으로서, R(red) 패턴과 G(green) 패턴 및 B(blue) 패턴을 순차적으로 형성한다. 이때, 상기 전착법을 이용한 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(14),(16),(18) 형성 공정은, 다음의 (a) ~ (c) 과정을 거쳐 진행된다.
(a) 과정으로서, 먼저 상기 투명전극(12)을 포함한 기판(10) 전면에 감광막을 증착한 다음, 포토 마스크를 이용하여 제 1 칼라 필터층(14)이 형성될 부분의 투명전극(12) 표면이 노출되도록 상기 감광막을 식각처리한다. 이어, 투명전극(12)이 형성된 기판이 양극 전극판에 접속되도록, 전해질 용매가 담겨진 전착조 내에 기판(10)을 담그고, 전하 조정제가 첨가된 고분자 수지(전하를 갖는 가용성 수지)와 착색 안료를 상기 전해질 용매 중에 용해(분산)시켜 준 뒤, 상기 전착조 내의 전극에 전압을 걸어 주어 표면이 노출된 투명전극(12) 상에만 선택적으로 전착액 성분이 석출되도록 하여 제 1 칼라 필터층(14)으로서, 최적화된 레드 분광특성을 갖는 R 패턴을 형성한다.
(b) 과정으로서, 패터닝된 상기 감광막을 제거하고 다시 그 전면에 감광막을 증착한 다음, 포토 마스크를 이용하여 제 2 칼라 필터층(16)이 형성될 부분의 투명전극(12) 표면이 노출되도록 상기 감광막을 식각처리하고, (a) 과정과 동일한 방법으로 표면이 노출된 상기 투명전극(12) 상에만 선택적으로 전착액 성분이 석출되도록 하여, 제 2 칼라 필터층(16)으로서, 최적화된 그린 분광특성을 갖는 G 패턴을 형성한다.
(c) 과정으로서, 패터닝된 상기 감광막을 제거하고 다시 그 전면에 감광막을 증착한 다음, 포토 마스크를 이용하여 제 3 칼라 필터층(18)이 형성될 부분의 투명전극(12) 표면이 노출되도록 상기 감광막을 식각처리하고, (a) 과정과 동일한 방법으로 표면이 노출된 상기 투명전극(12) 상에만 선택적으로 전착액 성분이 석출되도록 하여, 제 3 칼라 필터층(18)으로서, 최적화된 블루 분광특성을 갖는 B 패턴을 형성한다.
제 3 단계로서, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(14),(16),(18)과 투명전극(12)을 포함한 기판 상의 소정 부분에, 외부 충격으로부터 이들을 보호하고 평활성이 좋도록 하기 위하여, 표면 경도가 높고 광투과성이 우수한 유기 투명 수지(예컨대, 아크릴, 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리우레탄 등)를 소정 두께로 형성하고, 약 200℃ 정도의 온도를 갖는 베이크 오븐(bake oven)에서 1시간 정도 가열하여 보호층(20)을 형성한다.
제 4 단계로서, 도 4에 도시된 바와 같이 액정 구동을 위한 전압을 인가시켜 주기 위하여, 상기 보호층(20) 상에 제 2 투명전극(22)을 1500Å 이하의 두께로 형성해 주므로써, 상부기판 제조를 완료한다.
그러나, 상기에 언급된 공정을 적용하여 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(14),(16),(18)을 형성할 경우에는, 3회의 포토 마스크를 이용한 식각 공정이 요구되므로 LCD 제조 공정 자체가 복잡하고 까다롭다는 단점이 발생하게 된다.
이에 본 발명의 과제는, LCD 제조시 TFT 기판의 화소전극 상에 색상을 표현하는 칼라 필터층을 형성해 주므로써, 공정단순화를 기할 수 있도록 한 LCD 및 그 제조방법을 제공함에 있다.
상기 과제를 달성하기 위하여 본 발명에서는, 복수의 데이터 라인 및 게이트 라인에 각각 접속되도록, TFT와 제1 투명전극이 형성된 TFT 기판과, 상기 제1 투명전극 상에 순차 반복적으로 각각 형성된 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 및, 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 표면에 형성된 제2 투명전극으로 이루어진 LCD가 제공된다.
상기 과제를 달성하기 위하여 본 발명에서는, 복수의 데이터 라인 및 게이트 라인에 각각 접속되도록, TFT와 제1 투명전극이 구비된 TFT 기판의, 제1 투명전극 상에 전착법을 이용하여 제 1 내지 제 3 칼라 필터층을 순차 반복적으로 형성하는 공정 및, 전착법을 이용하여 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 상에 제 2 투명전극을 형성하는 공정으로 이루어진 LCD 제조방법이 제공된다.
이와 같이 공정을 진행할 경우, 제 1 내지 제 3 칼라 필터층이, 제1 투명전극을 구동하기 위한 데이터 구동회로 및 게이트 구동회로와 동일 기판(TFT 기판) 상에 형성되므로, 보호층 증착 공정없이 곧바로 제2 투명전극을 형성하는 것이 가능하여 공정 단순화를 기할 수 있게 된다. 또한, 상기 LCD가 구동회로가 집적된 폴리 실리콘 TFT일 경우에는 전압이 인가된 제1 투명전극 상에만 선택적으로 전착액 성분이 석출되도록 하는 것이 가능하여, 별도의 포토 마스크없이도 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 형성이 가능하게 된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.
본 발명은 액정에 선택적으로 전압을 인가할 수 있는 구동회로가 집적된 폴리 실리콘 TFT나 또는 구동회로가 집적되지 않은 비정질 실리콘 TFT의 화소 전극 상에 색상을 표현하는 칼라 필터층을 형성해 주므로써, 공정단순화를 기할 수 있도록 하는데 주안점을 둔 기술로서, 이를 도 5 내지 도 7에 제시된 공정수순도를 참조하여 제 4 단계로 구분하여 살펴보면 다음과 같다.
제 1 단계로서, 도 5에 도시된 바와 같이 TFT 기판(100) 상에 복수의 데이터 라인 및 게이트 라인에 각각 접속되도록, 박막트랜지스터(T)와 ITO 또는 SnO2 재질의 제1 투명전극(102)을 형성한다.
제 2 단계로서, 도 6에 도시된 바와 같이 전착법을 이용하여 상기 제1 투명전극(102) 상에 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108)을 순차 반복적으로 각각 형성한다. 이때, 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108) 형성 공정은 상기 TFT가 비정질 실리콘 TFT인지 아니면 폴리 실리콘 TFT인지에 따라 크게 두가지 방법으로 대변되는데, 이를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
먼저, 구동회로가 집적되지 않은 비정질 실리콘 TFT인 경우에 대하여 살펴본다. 비정질 실리콘 TFT의 경우, 전착법을 이용한 칼라 필터층 형성시, R, G, B 전착을 위한 각 구동 파형을 선택적으로 제1 투명전극(102) 상에 인가할 수 없는 관계로 인하여, 각각의 칼라 필터층 형성시마다 포토 마스크를 이용한 마스크 패턴 형성 공정을 첨가해 주어야 하므로, 폴리 실리콘 TFT의 경우에 비해서는 공정 진행이 다소 복잡하게 된다. 이를 (a) ~ (c) 과정으로 구분하여 설명하면 다음과 같다.
(a) 과정으로서, 상기 제1 투명전극(102)과 TFT(T)를 포함한 기판(10) 전면에 감광막(미 도시)을 증착한 다음, 포토 마스크를 이용하여 제 1 칼라 필터층이 형성될 부분의 상기 제1 투명전극(102) 표면이 노출되도록 상기 감광막을 식각처리한다. 이어, 상기 기판(100)을 전해질 용매가 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 접속시키고, 전하 조정제가 첨가된 고분자 수지(전하를 갖는 가용성 수지)와 착색 안료를 상기 전해질 용매 중에 용해(분산)시켜 준 뒤, 상기 전착조 내의 전극에 전압을 걸어 주어 표면이 노출된 제1 투명전극(102) 상에만 선택적으로 최적화된 레드 분광특성을 갖는 제 1 칼라 필터층(R 패턴)(104)을 형성한 후, 상기 감광막을 제거한다.
(b) 과정으로서, 상기 제 1 칼라 필터층(104)을 포함한 기판(100) 전면에 감광막을 증착한 다음, 포토 마스크를 이용하여 제 2 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극(102) 표면이 노출되도록 상기 감광막을 식각처리하고, (a) 과정과 동일한 방법으로 표면이 노출된 상기 제1 투명전극(102) 상에만 선택적으로 최적화된 그린 분광특성을 갖는 제 2 칼라 필터층(G 패턴)(106)을 형성한 후, 상기 감광막을 제거한다.
(c) 과정으로서, 상기 제 1 및 제 2 칼라 필터층(104),(106)을 포함한 기판(100) 전면에 감광막을 증착한 다음, 포토 마스크를 이용하여 제 3 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극(12) 표면이 노출되도록 상기 감광막을 식각처리하고, (a) 과정과 동일한 방법으로 표면이 노출된 상기 제1 투명전극(102) 상에만 선택적으로 최적화된 블루 분광특성을 갖는 제 3 칼라 필터층(B 패턴)(108)을 형성한 후, 상기 감광막을 제거한다.
다음으로, 구동회로가 집적된 폴리 실리콘 TFT인 경우에 대하여 살펴본다. 폴리 실리콘 TFT의 경우, 액정에 선택적으로 전압을 인가하는 것이 가능하여 전착법을 이용한 칼라 필터층 형성시, R, G, B 각 구동 파형을 선택적으로 제1 투명전극(102) 상에 인가할 수 있게 되므로, 포토 마스크를 이용한 마스크 패턴 형성 공정없이도 순차적으로 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108)을 형성할 수 있게 된다. 이를 (a) ~ (c) 과정으로 구분하여 설명하면 다음과 같다.
(a) 과정으로서, 전해질 용매가 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 제1 투명전극(102)과 TFT(T)가 구비된 기판(100)을 접속시키고, 전하 조정제가 첨가된 고분자 수지(전하를 갖는 가용성 수지)와 착색 안료를 상기 전해질 용매 중에 용해(분산)시켜 준 뒤, 상기 전착조 내의 전극에 R 구동 파형을 인가하여 제 1 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극(102) 상에만 선택적으로 최적화된 레드 분광특성을 갖는 제 1 칼라 필터층(R 패턴)(104)을 형성한다.
(b) 과정으로서, 상기 전착조 내의 양극 전극판에 G 구동 파형을 인가하여 제 2 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극(102) 상에만 선택적으로 최적화된 그린 분광특성을 갖는 제 2 칼라 필터층(G 패턴)(106)을 형성한다.
(c) 과정으로서, 상기 전착조 내의 양극 전극판에 B 구동 파형을 인가하여 제 3 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극(102) 상에만 선택적으로 최적화된 블루 분광특성을 갖는 제 3 칼라 필터층(B 패턴)을 형성한다.
제 3 단계로서, 도 7에 도시된 바와 같이 전착법을 이용하여 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108) 상에만 선택적으로 400 ~ 1600Å의 두께를 갖는 ITO(또는 SnO2) 재질의 제2 투명전극(110)을 형성하므로써, 본 공정을 완료한다.
이때, 상기 제 3 단계의 공정은 크게, 다음의 (a) ~ (c) 과정을 거쳐 진행된다. (a) 과정으로서, 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108)이 구비된 기판(100)을 전해질 용매가 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 접속시키고 (b) 과정으로서, 투명 도전성 물질(전착액)을 상기 전해질 용매 중에 분산시켜 준 뒤 (c) 과정으로서, 상기 양극 전극판에 R, G, B 구동 파형을 동시에 인가하여 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108) 상에만 선택적으로 제2 투명전극(110)을 형성한다.
그 결과, 도 7의 단면도에서 알 수 있듯이 TFT 기판(100) 상에는 복수의 데이터 라인 및 게이트 라인에 각각 접속되도록, TFT(T)와 제1 투명전극(102)이 형성되고, 상기 제1 투명전극(102) 상에는 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108)이 순차 반복적으로 형성되고, 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108) 상에는 제2 투명전극(110)이 형성된 구조의 LCD용 칼라필터가 제조된다.
이와 같이, TFT 기판(100) 상에 제 1 내지 제 3 칼라 필터층(104),(106),(108)을 형성해 줄 경우, 칼라 필터층 형성후 보호층 증착 공정없이 곧바로 제2 투명전극(110)을 형성하는 것이 가능하게 되고, 또한 폴리 실리콘 TFT 의 경우 전착법을 이용한 칼라 필터층 형성시 요구되는 노광 공정을 스킵할 수 있게 되므로, 공정 단순화를 기할 수 있게 된다. 게다가, TFT 기판(100) 상에 칼라 필터층과 데이터 및 게이트 구동회로가 모두 형성되므로, LCD 패널 외부에 배치된 구동회로와 최소한의 전극 단자 연결만으로도 R, G, B 패턴에 영상신호를 각각 인가하는 것이 가능하게 된다.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 의하면, 1) 제 1 내지 제 3 칼라 필터층이 전착법에 의해 TFT 기판 상의 제1 투명전극 위에 형성되므로, 보호층 증착 공정없이 곧바로 제2 투명전극을 형성하는 것이 가능하게 되어 공정 단순화 및 비용 절감을 실현할 수 있게 되고, 2) 폴리 실리콘 TFT의 경우, 제1 투명전극에 R, G, B 각각의 구동 파형을 인가할 수 있으므로, 전압이 인가된 제2 투명전극 상에만 선택적으로 전착액 성분이 석출되도록 하는 것이 가능하여, 비정질 실리콘 TFT에서 요구되는 별도의 포토 마스크없이도 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 형성이 가능하게 된다.
도 1 내지 도 4는 종래 기술에 의한 TFT-LCD의 칼라 필터 제조방법을 나타낸 공정수순도,
도 5 내지 도 7은 본 발명에 의한 TFT-LCD의 칼라 필터 제조방법을 나타낸 공정수순도.

Claims (13)

  1. 복수의 데이터 라인 및 게이트 라인에 각각 접속되도록, 박막트랜지스터와 제1 투명전극이 구비된 TFT 기판;
    상기 제1 투명전극 상에 순차 반복적으로 각각 형성된 제 1 내지 제 3 칼라 필터층; 및
    상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층의 표면 상에 형성된 제2 투명전극으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 제1 투명전극과 상기 제2 투명전극은 ITO나 SnO2 중 선택된 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 제2 투명전극은 400 ~ 1600Å 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 박막트랜지스터는 비정질 실리콘이나 폴리 실리콘 박막트랜지스터중 선택된 어느 하나로 이루어지고,
    상기 TFT 기판에는 비정질 실리콘이나 폴리 실리콘 박막트랜지스터로 이루어져 상기 복수의 데이터 라인과 게이트 라인에 구동신호를 인가하기 위한 구동회로가 구비되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  5. 복수의 데이터 라인 및 게이트 라인에 각각 접속되도록, 박막트랜지스터와 제1 투명전극이 구비된 TFT 기판의 상기 제1 투명전극 상에 전착법을 이용하여 제 1 내지 제 3 칼라 필터층을 순차 반복적으로 각각 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층 상에 제2 투명전극을 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 제1 투명전극과 상기 제2 투명전극은 ITO나 SnO2 중 선택된 어느 하나로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  7. 제 5항에 있어서, 상기 제2 투명전극은 400 ~ 1600Å 이하의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  8. 제 5항에 있어서, 상기 TFT 기판에는 폴리 실리콘 박막트랜지스터로 이루어져 상기 복수의 데이터 라인과 게이트 라인에 구동신호를 인가하기 위한 구동회로가 구비되고,
    상기 제1 투명전극 상에 전착법에 이용하여 제 1 내지 제 3 칼라 필터층을 순차 반복적으로 각각 형성하는 단계에서, 상기 구동회로는 상기 제1 투명전극에 레드, 그린 및 블루 전압파형을 순차적으로 인가하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  9. 제 5항에 있어서, 상기 전착법을 이용하여 상기 제1 투명전극 상에 제 1 내지 제 3 칼라 필터층을 순차 반복적으로 각각 형성하는 단계는,
    상기 제 1 칼라 필터층이 형성될 부분에서 상기 제1 투명극의 표면이 노출되도록 상기 제1 투명전극 상에 감광막을 형성하는 단계;
    전착액(고분자 수지와 착색 안료가 분산된 전해질 용매)이 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 상기 TFT 기판을 접속시키고, 상기 전극에 전압을 인가하여 노출된 상기 제1 투명전극의 표면 상에 레드 분광특성을 갖는 상기 제 1 칼라 필터층을 형성하는 단계;
    상기 감광막을 제거하는 단계;
    상기 제 2 칼라 필터층이 형성될 부분에서 상기 제1 투명전극 표면이 노출되도록 상기 제1 투명전극 상에 감광막을 형성하는 단계;
    전착액(고분자 수지와 착색 안료가 분산된 전해질 용매)이 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 상기 TFT 기판을 접속시키고, 상기 전극에 전압을 인가하여 노출된 상기 제1 투명전극의 표면 상에 그린 분광특성을 갖는 상기 제 2 칼라 필터층을 형성하는 단계;
    상기 감광막을 제거하는 단계;
    상기 제 3 칼라 필터층이 형성될 부분에서 상기 제1 투명전극 표면이 노출되도록 상기 제1 투명전극 상에 감광막을 형성하는 단계;
    전착액(고분자 수지와 착색 안료가 분산된 전해질 용매)이 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 상기 TFT 기판을 접속시키고, 상기 전극에 전압을 인가하여 노출된 상기 제1 투명전극의 표면 상에 블루 분광특성을 갖는 제 3 칼라 필터층을 형성하는 단계; 및,
    상기 감광막을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  10. 제 8항에 있어서, 상기 전착법을 이용하여 상기 제1 투명전극 상에 상기 제 1 내지 제 3 칼라 필터층을 순차 반복적으로 각각 형성하는 단계는,
    전착액(고분자 수지와 착색 안료가 분산된 전해질 용매)이 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 상기 TFT 기판을 접속하는 단계;
    상기 전착조 내의 양극 전극판에 레드 구동 파형을 인가하여 상기 제 1 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극 상에 레드 분광특성을 갖는 상기 제 1 칼라 필터층을 형성하는 단계;
    상기 전착조 내의 양극 전극판에 그린 구동 파형을 인가하여 제 2 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극 상에 그린 분광특성을 갖는 제 2 칼라 필터층을 형성하는 단계; 및
    상기 전착조 내의 양극 전극판에 블루 구동 파형을 인가하여 제 3 칼라 필터층이 형성될 부분의 제1 투명전극 상에 블루 분광특성을 갖는 제 3 칼라 필터층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  11. 제 5항에 있어서, 상기 제2 투명전극은 전착법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  12. 제 11항에 있어서, 상기 제2 투명전극은 형성하는 단계는,
    전착액(투명 도전성 물질이 분산된 전해질 용매)이 담겨진 전착조 내의 양극 전극판에 제 1 내지 제 3 칼라 필터층이 형성된 기판을 접속하는 단계; 및
    상기 전착조 내의 양극 전극판에 전압을 인가하여 상기 제2 투명전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  13. 제 12항에 있어서, 상기 양극 전극판에 전압 인가시 레드, 그린, 블루 구동 파형을 동시에 인가하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
KR1019970038572A 1997-08-13 1997-08-13 액정표시소자및그제조방법 Expired - Fee Related KR100468594B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970038572A KR100468594B1 (ko) 1997-08-13 1997-08-13 액정표시소자및그제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970038572A KR100468594B1 (ko) 1997-08-13 1997-08-13 액정표시소자및그제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990016123A KR19990016123A (ko) 1999-03-05
KR100468594B1 true KR100468594B1 (ko) 2005-07-11

Family

ID=37303333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970038572A Expired - Fee Related KR100468594B1 (ko) 1997-08-13 1997-08-13 액정표시소자및그제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100468594B1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07333595A (ja) * 1994-06-14 1995-12-22 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置
JPH08122824A (ja) * 1994-10-19 1996-05-17 Sony Corp カラー表示装置
JPH08334755A (ja) * 1995-06-08 1996-12-17 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置用電極基板の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置
JPH09101544A (ja) * 1995-10-06 1997-04-15 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置
KR19980077392A (ko) * 1997-04-18 1998-11-16 김영환 박막 트랜지스터 액정표시자 및 그의 제조방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07333595A (ja) * 1994-06-14 1995-12-22 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置
JPH08122824A (ja) * 1994-10-19 1996-05-17 Sony Corp カラー表示装置
JPH08334755A (ja) * 1995-06-08 1996-12-17 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置用電極基板の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置
JPH09101544A (ja) * 1995-10-06 1997-04-15 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置
KR19980077392A (ko) * 1997-04-18 1998-11-16 김영환 박막 트랜지스터 액정표시자 및 그의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990016123A (ko) 1999-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6989876B2 (en) Four color liquid crystal display and panel therefor
US8411216B2 (en) Active matrix substrate, liquid crystal panel, liquid crystal display unit, liquid crystal display device, television receiver, and active matrix substrate manufacturing method
KR100294194B1 (ko) 액정표시소자
KR20050054216A (ko) 횡전계방식 액정표시장치 및 이의 제조방법
US20040127135A1 (en) Method for fabricating color filter of liquid crystal display device
US20040126678A1 (en) Method for fabricating color filter of liquid crystal display device
US7359014B2 (en) Liquid crystal display device and method for fabricating the same
KR100672645B1 (ko) 컬러필터 기판의 제조방법
US8675156B2 (en) Color filter substrate for liquid crystal display, and manufacturing method thereof
US7438947B2 (en) Color filter process
KR100468594B1 (ko) 액정표시소자및그제조방법
JPH06242311A (ja) 液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
KR101222953B1 (ko) 컬러필터 어레이 기판의 제조방법
KR100648218B1 (ko) 고개구율 컬러 액정표시장치
KR100710141B1 (ko) 컬러필터 기판의 제조방법
KR100242435B1 (ko) 액정표시장치용 칼라필터 및 그 제조방법
KR960000260B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
KR101121997B1 (ko) 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그의 제조 방법
JPH05257137A (ja) カラー液晶表示装置
JP3258128B2 (ja) 液晶表示パネルの製造方法
KR100502157B1 (ko) 엘씨디 장치의 칼라 필터 기판 제조용 마스크
US20040253526A1 (en) Manufacturing method for color filter
KR100246040B1 (ko) 패턴화된 투명 전도막의 제조방법
KR950008936B1 (ko) 칼라필터 및 그 제조방법
KR200255831Y1 (ko) 액정표시장치

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

R17-X000 Change to representative recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R17-X000 Change to representative recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000

D13-X000 Search requested

St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000

D14-X000 Search report completed

St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002 Payment of registration fee

St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number: 1

PG1601 Publication of registration

St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301

St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 4

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 5

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 6

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120116

Year of fee payment: 8

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 8

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-5-5-R10-R14-asn-PN2301

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903

Not in force date: 20130120

Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

PC1903 Unpaid annual fee

St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903

Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

Not in force date: 20130120

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000