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KR100444521B1 - Back Plate of Plasma Display Panel and Method of Fabricating the same - Google Patents

Back Plate of Plasma Display Panel and Method of Fabricating the same Download PDF

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KR100444521B1
KR100444521B1 KR10-2002-0005816A KR20020005816A KR100444521B1 KR 100444521 B1 KR100444521 B1 KR 100444521B1 KR 20020005816 A KR20020005816 A KR 20020005816A KR 100444521 B1 KR100444521 B1 KR 100444521B1
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KR
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green sheet
compound
sio
mgo
zno
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KR10-2002-0005816A
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이명원
장우성
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엘지전자 주식회사
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Publication date
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Abstract

본 발명은 격벽의 성형성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 및 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lower plate of a plasma display panel capable of improving the formability of partition walls and a method of manufacturing the same.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 하판은 기판 상에 접합되는 그린시트와, 상기 그린시트 상에 인쇄되는 어드레스전극과, 상기 어드레스전극을 덮도록 그린시트 상에 형성된 페이스트층의 성형에 의해 형성되는 격벽을 구비한다. 상기 페이스트층에는 ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO를 포함한 제1 화합물과, ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO, TiO2를 포함한 제2 화합물이 혼합되며, 상기 제1 화합물과 상기 제2 화합물은 1 : 1 ~ 2 : 1 의 혼합비로 혼합된다.The lower plate of the plasma display panel according to the present invention is a partition wall formed by molding a green sheet bonded on a substrate, an address electrode printed on the green sheet, and a paste layer formed on the green sheet to cover the address electrode. It is provided. The paste layer is mixed with a second compound including ZnO, B 2 O 3, MgO , SiO 2, and a first compound containing CuO, ZnO, B 2 O 3 , MgO, SiO 2, CuO, TiO 2, wherein The first compound and the second compound are mixed in a mixing ratio of 1: 1 to 2: 1.

본 발명에 의하면, 격벽의 성형성을 향상시킬 수 있다.According to this invention, the moldability of a partition can be improved.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 하판 및 그의 제조방법{Back Plate of Plasma Display Panel and Method of Fabricating the same}Back plate of plasma display panel and method of fabricating the same

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 격벽의 성형성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 및 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a lower plate of a plasma display panel capable of improving the formability of partition walls and a method of manufacturing the same.

플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하, "PDP"라 함)은 He+Xe 또는 Ne+Xe 가스의 방전시 발생하는 147nm의 자외선에 의해 형광체를 발광시킴으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상을 표시하게 된다. 이러한 PDP는 박막화와 대형화가 용이할 뿐만 아니라 최근의 기술 개발에 힘입어 크게 향상된 화질을 제공한다.Plasma Display Panels (hereinafter referred to as "PDPs") display an image including characters or graphics by emitting phosphors by ultraviolet rays of 147 nm generated upon discharge of He + Xe or Ne + Xe gas. Such a PDP is not only thin and easy to enlarge, but also greatly improved in quality due to recent technology development.

도 1을 참조하면, 어드레스전극(2)이 실장되어진 하부 유리기판(14)과 유지전극쌍(4)이 실장되어진 상부 유리기판(16)을 구비하는 교류 구동방식의 PDP가 도시되어 있다. 어드레스전극(2)이 실장된 하부 유리기판(14) 상에는 유전체 후막(18)과 방전셀들을 분할하는 격벽(8)이 형성된다. 유전체 후막(18)과 격벽(8)의 표면에는 형광체(6)가 도포된다. 형광체(6)는 플라즈마 방전시 발생되는 자외선에 의해 발광함으로써 가시광선이 발생되게 한다. 유지전극쌍(4)이 실장된 상부유리기판(16)에는 유전층(12)과 보호막(10)이 순차적으로 형성된다. 유전층(12)은 플라즈마 방전시 벽전하를 축적하게 되고, 보호막(10)은 플라즈마 방전시 가스 이온의 스퍼터링으로부터 유지전극쌍(4)과 유전층(12)을 보호함과 아울러 이차전자의 방출효율을 높이는 역할을 한다. 이러한 PDP의 방전셀들에는 He+Xe 또는 Ne+Xe의 혼합가스가 봉입된다.Referring to FIG. 1, there is shown an AC drive type PDP having a lower glass substrate 14 on which an address electrode 2 is mounted and an upper glass substrate 16 on which a pair of sustain electrodes 4 are mounted. On the lower glass substrate 14 on which the address electrode 2 is mounted, a partition wall 8 for dividing the dielectric thick film 18 and the discharge cells is formed. The phosphor 6 is coated on the surfaces of the dielectric thick film 18 and the partition wall 8. The phosphor 6 emits light by ultraviolet rays generated at the time of plasma discharge so that visible light is generated. The dielectric layer 12 and the passivation layer 10 are sequentially formed on the upper glass substrate 16 on which the sustain electrode pairs 4 are mounted. The dielectric layer 12 accumulates wall charges during plasma discharge, and the protective layer 10 protects the pair of sustain electrodes 4 and the dielectric layer 12 from sputtering of gas ions during plasma discharge and improves the emission efficiency of secondary electrons. Height plays a role. The discharge cells of the PDP are filled with a mixed gas of He + Xe or Ne + Xe.

격벽(8)은 방전셀간의 전기적·광학적 크로스토크(Crosstalk)를 방지하는 역할을 한다. 따라서, 격벽(8)은 표시품질과 발광효율을 위한 가장 중요한 요소이며 패널이 대형화·고정세화됨에 따라 격벽에 대한 다양한 연구가 이루어지고 있다. 격벽 제조방법으로는 스크린 프린팅(Screen printing)법, 샌드 블라스팅(Sand blasting)법, 첨가(Additive), 감광성 페이스트법 및 LTCCM(Low Temperature Cofired Ceramic on Metal) 방법 등이 적용되고 있다.The partition 8 serves to prevent electrical and optical crosstalk between discharge cells. Therefore, the partition wall 8 is the most important factor for display quality and luminous efficiency, and as the panel is enlarged and fixed, various studies on the partition wall have been made. As the barrier rib manufacturing method, a screen printing method, a sand blasting method, an additive, a photosensitive paste method, and a low temperature cofired ceramic on metal (LTCCM) method are applied.

그 중에서 스크린 프린팅법은 공정이 간단하고 제조단가가 낮은 장점이 있으나, 매 인쇄시 스크린과 유리기판(14)의 정렬, 글라스 페이스트의 인쇄 및 건조를 수회 되풀이하는 문제점이 있다. 또한, 스크린과 유리기판의 위치가 어긋나게 되면 격벽이 변형되므로 격벽의 형상 정밀도가 떨어지는 단점이 있다.Among them, the screen printing method has a simple process and low manufacturing cost, but there is a problem of repeating the screen and the glass substrate 14 in each printing, printing and drying the glass paste several times. In addition, when the position of the screen and the glass substrate is shifted, the partition wall is deformed, so that the shape accuracy of the partition wall is lowered.

샌드 블라스팅법은 대면적의 기판에 격벽을 형성할 수 있는 장점이 있지만 연마제(샌드입자)에 의해 제거되는 글라스 페이스트의 양이 많게 되므로 재료의 낭비와 제조비용이 큰 단점이 있다. 또한, 연마제에 의해 유리기판(14)이 충격을 받게 되어 유리기판(14)이 균열 또는 손상되는 단점이 있다.The sand blasting method has a merit of forming a partition on a large-area substrate, but a large amount of glass paste removed by the abrasive (sand particles) has a disadvantage of wasting material and manufacturing cost. In addition, the glass substrate 14 is impacted by the abrasive, so that the glass substrate 14 is cracked or damaged.

첨가법은 대면적의 기판 상에 격벽들(8)을 형성하기에 적합한 장점이 있으나, 포토레지스트와 글라스 페이스트의 분리가 어려워 잔류물이 남게 되거나 격벽 성형시 격벽이 허물어지는 문제점이 있다.The addition method has an advantage of forming barrier ribs 8 on a large-area substrate, but it is difficult to separate photoresist and glass paste, leaving a residue or collapsing barrier ribs when forming barrier ribs.

LTCCM 방법은 다른 격벽 제조방법에 비하여, 저온공정이며 공정이 단순한 장점이 있다.The LTCCM method has a low temperature process and a simple process compared with other barrier rib manufacturing methods.

도 2a 내지 도 2h는 LTCCM법을 이용한 하판 제조방법을 단계적으로 나타낸다. 먼저, 도 2a와 같은 그린시트(30)가 제작된다. 그린시트(30)는 유리분말, 유기용액, 가소제, 결합제, 첨가제 등이 소정 비율로 혼합된 슬러리를 폴리 에스테르 필름 위에 올려 놓고 닥터 블레이딩(Doctor Blading)으로 시트 형태로 성형한 후에 건조함으로써 제작된다. 그린시트(30)가 접합되는 기판(32)의 재료로는 통상 금속 예를 들면, 티타늄(Titanum)이 주로 사용된다. 티타늄은 글라스 또는 세라믹 계열의 기판보다 강도, 내열온도가 크기 때문에 다른 글라스, 세라믹 재료보다 얇은 두께로 제작될 수 있으며, 기판(32)의 열적·기계적 변형을 줄일 수 있다.Figure 2a to 2h shows step by step manufacturing method using the LTCCM method. First, the green sheet 30 as shown in Figure 2a is produced. The green sheet 30 is manufactured by drying a slurry in which a glass powder, an organic solution, a plasticizer, a binder, an additive, and the like are mixed in a predetermined ratio on a polyester film, and forming a sheet in a doctor blading, followed by drying. . As a material of the substrate 32 to which the green sheet 30 is bonded, a metal, for example, titanium (Titanum) is usually used. Titanium may be manufactured to have a thickness thinner than that of other glass and ceramic materials because of its greater strength and heat resistance than glass or ceramic substrates, and may reduce thermal and mechanical deformation of the substrate 32.

기판(32)과 그린시트(30)의 접합을 위하여 도 2b에 도시된 바와 같이 기판(32) 상에 글레이즈(glaze)용 무기물을 분사(spray)한 후 500∼550℃의 온도에서 소성하여 글레이즈층(34)을 형성한다. 이어서, 글레이즈층(34) 상에 글루(glue)용 유기물을 분사하고 건조하여 글루층(36)을 형성한다. 이 글루층(36)은 접합제 역할을 하며 도 2c에 도시된 바와 같이 기판(32)과 그린시트(30)가 라미네이션 공정에 의해 접합된다. 라미네이션 공정은 기판(32)과 그린시트(30)에 균일한 압력과 온도을 가하면서 접착하는 공정이다.In order to bond the substrate 32 and the green sheet 30, as shown in FIG. 2B, an inorganic material for glaze is sprayed onto the substrate 32 and then fired at a temperature of 500 to 550 ° C. to glaze. Form layer 34. Subsequently, an organic substance for glue is sprayed on the glaze layer 34 and dried to form a glue layer 36. The glue layer 36 serves as a bonding agent, and the substrate 32 and the green sheet 30 are bonded by a lamination process as shown in FIG. 2C. The lamination process is a process of adhering the substrate 32 and the green sheet 30 while applying a uniform pressure and temperature.

이어서, 도 2d와 같이 그린시트(30) 상에는 어드레스전극(2)이 인쇄된 후에건조된다.Subsequently, the address electrode 2 is printed on the green sheet 30 as shown in FIG. 2D and then dried.

어드레스전극(2)이 형성된 기판(32) 상에는 도 2e와 같이 유전체 슬러리가 전면 인쇄된 후 건조됨으로써 전극보호층(37)이 형성된다. 이어서, 기판(32) 상에 접합된 그린시트(30)의 유동성을 높이기 위하여 결합제로 사용되는 유기 결합제 예를 들면, 폴리-비닐-부티랄(Poly-vinyl-butiral ; 이하, "PVB"라 함)의 연화점 부근으로 온도를 가열하게 된다.On the substrate 32 on which the address electrode 2 is formed, as shown in FIG. 2E, the dielectric slurry is completely printed and then dried to form the electrode protective layer 37. Subsequently, an organic binder used as a binder for increasing the fluidity of the green sheet 30 bonded on the substrate 32, for example, poly-vinyl-butiral (hereinafter referred to as "PVB") The temperature is heated to the softening point of).

그린시트(30)의 유동성이 높아진 상태에서 도 2f와 같이 격벽 반대 형상의 홈(38a)이 형성된 금형(38)이 기판(32) 상에 정렬된다.In the state where the flowability of the green sheet 30 is increased, as shown in FIG. 2F, the mold 38 having the groove 38a having the opposite shape to the partition wall is aligned on the substrate 32.

그리고 금형(38)은 도 2g와 같이 대략 150kgf/cm2이상의 압력으로 기판(32) 상에 가압된다. 금형(38)의 가압시 그린시트(30)와 전극보호층(37)이 금형(38)의 홈(38a) 내로 이동되어 솟아 오르게 된다.The mold 38 is pressed onto the substrate 32 at a pressure of about 150 kgf / cm 2 or more as shown in FIG. 2G. When the mold 38 is pressed, the green sheet 30 and the electrode protective layer 37 are moved into the groove 38a of the mold 38 to rise.

금형(38)이 도 2h와 같이 그린시트(30) 및 전극보호층(37)로부터 분리된 후에 격벽(8)은 승온, 유지, 냉각 존을 거치면서 소성된다. 이와 같은 소성과정에서 그린시트(30) 내의 유기물들이 타서 없어지는 번아웃(Binder burn out)을 거친 후, 번아웃 이상의 온도에서 무기물들 상에 결정핵이 생성 및 성장된다.After the mold 38 is separated from the green sheet 30 and the electrode protective layer 37 as shown in FIG. 2H, the partition wall 8 is fired while passing through a temperature raising, holding, and cooling zone. In this firing process, after the burnout (Binder burn out) of the organic material in the green sheet 30 is burned out, crystal nuclei are formed and grown on the inorganic materials at a temperature higher than the burnout.

그러나 LTCCM법을 이용한 격벽 제조방법은 표 1과 같은 조성비를 가지는 그린시트(30)의 성형시 유동성이 낮기 때문에 150 kgf/cm2이상의 압력이 필요하게 된다. 이와 같이 높은 압력으로 성형할 경우, 기판(32) 상에 압력이 가해지는 부분과 그렇지 않는 부분에서 압력차를 다르게 한다. 즉, 기판(32) 상에 편압이 발생되어 격벽(8)의 높이가 도 3과 같이 균일하지 않게 된다. 이렇게 균일하지 않은 격벽(8)의 높이를 균일하게 하기 위하여, 연마공정이 필요하게 된다. 특히, 성형시 그린시트(30)의 유동성이 낮기 때문에 고종횡비를 가지는 격벽 형성이 곤란하게 된다.However, the barrier rib manufacturing method using the LTCCM method requires a pressure of 150 kgf / cm 2 or more because of low fluidity when forming the green sheet 30 having the composition ratio as shown in Table 1. In the case of molding at a high pressure as described above, the pressure difference is different between the portion where the pressure is applied on the substrate 32 and the portion that is not. That is, the polarization pressure is generated on the substrate 32, so that the height of the partition wall 8 is not uniform as shown in FIG. In order to make the height of the non-uniform partition 8 uniform, a polishing step is required. In particular, since the fluidity of the green sheet 30 is low during molding, it is difficult to form a partition having a high aspect ratio.

따라서, 본 발명의 목적은 격벽의 성형성을 향상시킬 수 있는 PDP의 하판 및 그의 제조방법을 제공하는데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a lower plate of PDP and a method of manufacturing the same that can improve the formability of the partition wall.

도 1은 교류 구동방식의 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 사시도.1 is a perspective view showing a surface discharge type plasma display panel of an AC driving method.

도 2a 내지 도 2h는 종래의 LTCCM 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조방법을 단계적으로 나타내는 도면.2A to 2H are diagrams showing step by step manufacturing methods of a lower panel of a plasma display panel using a conventional LTCCM method.

도 3은 도 2에 도시된 격벽의 소성 전과 후의 모양을 나타내는 도면.3 is a view showing the shape before and after firing of the partition wall shown in FIG.

도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조방법을 단계적으로 나타내는 도면.4A to 4G are diagrams illustrating a method of manufacturing a lower plate of a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

2, 64 : 어드레스전극 4 : 유지전극쌍2, 64 address electrode 4 sustain electrode pair

6 : 형광체 8 : 격벽6: phosphor 8: partition wall

10 : 보호막 12, 18 : 유전층10: protective film 12, 18: dielectric layer

14, 32, 60 : 하부 기판 16 : 상부 유리기판14, 32, 60: lower substrate 16: upper glass substrate

30, 60 : 그린시트 34 : 글레이즈층30, 60: green sheet 34: glaze layer

37 : 전극보호층 38, 68 : 금형37: electrode protective layer 38, 68: mold

66 : 페이스트층66: paste layer

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 하판은 기판 상에 접합되는 그린시트와, 상기 그린시트 상에 인쇄되는 어드레스전극과, 상기 어드레스전극을 덮도록 그린시트 상에 형성된 페이스트층의 성형에 의해 형성되는 격벽을 구비한다.상기 페이스트층에는 ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO를 포함한 제1 화합물과, ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO, TiO2를 포함한 제2 화합물이 혼합되며, 상기 제1 화합물과 상기 제2 화합물은 1 : 1 ~ 2 : 1 의 혼합비로 혼합된다.상기 제1 화합물은 27 중량% ZnO, 32 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2를 포함한다.상기 제2 화합물은 27 중량% ZnO, 23 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2, 9 중량% K2O, TiO2를 포함한다.본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조방법은 기판 상에 그린시트를 접합하는 단계와, 상기 그린시트 상에 어드레스전극을 인쇄하는 단계와, 상기 어드레스전극이 인쇄된 상기 그린시트 상에 상기 어드레스전극을 덮도록 상기 조성의 페이스트층을 형성하는 단계와, 상기 페이스트층 상에 격벽 형상의 홈이 형성된 금형을 가압하여 격벽을 성형하고 상기 격벽 형태로 성형된 페이스트층을 소성하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above object, the lower plate of the plasma display panel according to the present invention is a green sheet bonded on a substrate, an address electrode printed on the green sheet, a paste layer formed on the green sheet to cover the address electrode the provided with a partition wall formed by molding the paste layer, ZnO, B 2 O 3, MgO , SiO 2, and a first compound containing CuO, ZnO, B 2 O 3 , MgO, SiO 2, CuO, TiO mixing a second compound containing a second and, the first compound and the second compound is 1: 1 to 2: is mixed at a mixing ratio of 1 wherein the first compound is 27 wt% ZnO, 32 wt% B 2 O 3 , 18 wt% MgO, 23 wt% SiO 2. The second compound comprises 27 wt% ZnO, 23 wt% B 2 O 3 , 18 wt% MgO, 23 wt% SiO 2 , 9 wt% K 2 O , and a TiO 2. lower panel manufacturing method of the PDP according to the present invention is bonded to the green sheet onto a substrate Printing an address electrode on the green sheet; forming a paste layer of the composition on the green sheet on which the address electrode is printed; And pressing the mold in which the partition-shaped grooves are formed to form the partition and firing the paste layer formed into the partition.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 4a 내지 도 4g를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 4A to 4G.

도 4a 내지 도 4g는 본 발명의 실시 예에 따른 PDP의 하판 제조방법을 나타낸다.4A to 4G illustrate a method of manufacturing a lower plate of a PDP according to an embodiment of the present invention.

도 4a 내지 도 4g를 참조하면, 본 발명에 따른 PDP는 그린시트(60) 상에 저수축률을 가지는 무기물 조성을 가지는 페이스트층(66)의 성형에 의해 형성된 격벽을 포함한다.4A to 4G, the PDP according to the present invention includes partition walls formed by forming a paste layer 66 having an inorganic composition having a low shrinkage ratio on the green sheet 60.

도 4a를 참조하면, 그린시트(60)가 제작된다. 그린시트(60)는 유리분말, 유기용액, 가소제, 결합제, 첨가제 등이 소정 비율로 혼합된다. 예를 들면, 그린시트(60) 내에 ZnO-B2O3-MgO-SiO2, ZnO-B2O3-MgO-SiO2-Al2O3의 무기물이 첨가된다. 이러한 조성물을 폴리 에스테르 필름 위에 올려 놓고 닥터 블레이딩(Doctor Blading)을 사용하여 시트 형태로 성형한 후에 건조하여 그린시트(60)를 완성한다. 그린시트(60)가 접합되는 기판(62)의 재료로는 티타늄(Titanum)이 주로 사용된다. 티타늄은 글라스 또는 세라믹 계열의 기판보다 강도, 내열온도가 크기 때문에 다른 글라스, 세라믹 재료보다 얇은 두께로 제작될 수 있으며, 기판(62)의 열적·기계적 변형을 줄일 수 있다. 또한, 티타늄은 반사율이 높기 때문에 기판(62) 쪽으로 투과되는 즉, 백스캐터링(Back scattering)되는 가시광을 표시면 쪽으로 반사시킴으로써 발광효율과 휘도를 높일 수 있는 장점이 있다.Referring to FIG. 4A, a green sheet 60 is manufactured. The green sheet 60 is a glass powder, an organic solution, a plasticizer, a binder, an additive, etc. are mixed in a predetermined ratio. For example, inorganic materials of ZnO-B 2 O 3 -MgO-SiO 2 and ZnO-B 2 O 3 -MgO-SiO 2 -Al 2 O 3 are added to the green sheet 60. This composition is placed on a polyester film and molded into a sheet using Doctor Blading, followed by drying to complete the green sheet 60. Titanum is mainly used as a material of the substrate 62 to which the green sheet 60 is bonded. Titanium may be manufactured to have a thickness thinner than that of other glass and ceramic materials because of its greater strength and heat resistance than glass or ceramic substrates, and may reduce thermal and mechanical deformation of the substrate 62. In addition, since titanium has a high reflectance, light emission efficiency and luminance may be improved by reflecting visible light that is transmitted toward the substrate 62, that is, back scattered, toward the display surface.

기판(62)과 그린시트(60)의 접합을 위하여 도 4b에 도시된 바와 같이기판(62) 상에 글레이즈(glaze)를 분사(spray)한 후 500∼600℃의 온도에서 소성하여 도시되지 않은 글레이즈층을 형성한다. 글레이즈층은 접합제 역할을 하며 글레이즈층 상에 그린시트(60)를 올려 놓고, 라미네이팅 공정을 수행하여 기판(62)과 그린시트(60)를 접합한다. 라미네이션 공정은 기판(62)과 그린시트(60)에 균일한 압력과 온도을 가하면서 접착하는 공정이다.In order to bond the substrate 62 and the green sheet 60, as shown in FIG. 4B, a glaze is sprayed onto the substrate 62 and then fired at a temperature of 500 to 600 ° C. The glaze layer is formed. The glaze layer serves as a bonding agent and the green sheet 60 is placed on the glaze layer and the lamination process is performed to bond the substrate 62 and the green sheet 60 to each other. The lamination process is a process of adhering the substrate 62 and the green sheet 60 while applying a uniform pressure and temperature.

도 4c에 도시된 바와 같이, 그린시트(60) 상에는 어드레스전극(64)이 인쇄된다.As shown in FIG. 4C, an address electrode 64 is printed on the green sheet 60.

이어서, 도 4d와 같이 어드레스전극(64)이 형성된 그린시트(60) 상에 소정 두께를 가지는 페이스트층(66)을 형성한다. 페이스트층(66)은 저수축율을 가지는 재료로 형성되는데, ZnO-B2O3-MgO-SiO2-CuO와 ZnO-B2O3-MgO-SiO2-CuO-TiO2을 소정 비율로 혼합한 조성을 가진다. 이때, 페이스트층(66)은 어드레스전극(64)을 보호하는 유전체층의 기능을 동시에 수행한다. 이러한 조성물을 가지는 페이스트층(66)은 종래의 그린시트에 비해 수축률이 적어 소성 전과 후의 격벽형상이 변형되지 않는다. 페이스트층(66)의 두께와 입경(Particle Size Distribution : PSD)을 조절하여 그린시트(60)와의 매칭(maching)성을 확보한다. 한편, 페이스트층(66)의 재료 중 CuO는 방전전압이 인가되었을 때, 전극이 황색화되는 것을 방지하는 역할을 한다. 예를 들어, 27 중량% ZnO, 32 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2를 포함한 제1 화합물과, 27 중량% ZnO, 23 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2, 중량%, 9 중량% K2O, TiO2(10%)을 1 : 1 ~ 2 : 1의 범위에서 혼합한다.Subsequently, a paste layer 66 having a predetermined thickness is formed on the green sheet 60 on which the address electrode 64 is formed as shown in FIG. 4D. Paste layer 66 is formed of a material having a low shrinkage ratio, mixing the ZnO-B 2 O 3 -MgO- SiO 2 -CuO and ZnO-B 2 O 3 -MgO- SiO 2 -CuO-TiO 2 at a predetermined ratio Has a composition. At this time, the paste layer 66 simultaneously performs the function of the dielectric layer protecting the address electrode 64. The paste layer 66 having such a composition has a smaller shrinkage rate than the conventional green sheet, so that the partition wall shape before and after firing is not deformed. The thickness and particle size (Particle Size Distribution: PSD) of the paste layer 66 are adjusted to secure matching with the green sheet 60. On the other hand, CuO in the material of the paste layer 66 serves to prevent the electrode from yellowing when a discharge voltage is applied. For example, a first compound comprising 27 wt% ZnO, 32 wt% B 2 O 3 , 18 wt% MgO, 23 wt% SiO 2 , and 27 wt% ZnO, 23 wt% B 2 O 3 , 18 wt% MgO, 23 wt% SiO 2 , wt%, 9 wt% K 2 O, TiO 2 (10%) are mixed in the range of 1: 1 to 2: 1.

ZnO는 유리연화점을 저하시키고 CTE를 조절할 수 있다. ZnO의 함량은 5 ~ 35 중량% 범위에서 선택되며 40 중량% 이상에서 조성비가 첨가될 때 CTE는 과도하게 감소된다.ZnO can lower the glass softening point and control the CTE. The content of ZnO is selected in the range of 5 to 35% by weight and the CTE is excessively reduced when the composition ratio is added at 40% by weight or more.

B2O3는 구성원소의 유리화 범위로 확장시키기 위한 유리형성요소이며 10 ~ 32 중량%, 바람직하게는 22 중량%로 포함된다. 상기 유리는 40 중량% 이상일 때 생성된 유리의 상분리가 쉽게 발생한다.B 2 O 3 is a glass forming element for extending the vitrification range of the elemental element and is included in 10 to 32% by weight, preferably 22% by weight. When the glass is 40% by weight or more, phase separation of the generated glass easily occurs.

또한, SiO2도 유리형성요소이며 함량상 10 ~ 35 중량% 바람직하게는 15 ~ 22 중량%로 선택되어져야 한다. SiO2가 30중량% 이상이면 유리의 연화점을 과도하게 증가시켜 연화점을 거치는 점도변화를 느리게 하여 탈포가 어렵게 된다.In addition, SiO 2 is also a glass forming element and should be selected to 10 to 35% by weight, preferably 15 to 22% by weight. If SiO 2 is 30% by weight or more, the softening point of the glass is excessively increased to slow down the viscosity change through the softening point, thereby making it difficult to defoaming.

K2O는 유리의 융해점을 낮추고 CTE를 조정하는 기능을 한다.K 2 O lowers the melting point of the glass and adjusts the CTE.

기판(62) 상에 접합된 그린시트(60)의 유동성을 높이기 위하여 유기 결합제의 연화점 부근으로 기판(62)을 가열한다. 그린시트(60) 내에는 포스테라이트(Foresterite), 코디어라이트(Codierite), ZrO2, Al2O3등의 조성이 첨가되므로 결정화 온도보다 낮은 연화점을 가지는 유리분말 사용시 유동 온도를 높일 수 있다.The substrate 62 is heated near the softening point of the organic binder in order to increase the fluidity of the green sheet 60 bonded on the substrate 62. The composition of Forsterite, Codierite, ZrO 2 , Al 2 O 3, etc. is added to the green sheet 60, thereby increasing the flow temperature when using glass powder having a softening point lower than the crystallization temperature. .

이렇게 그린시트(60)의 유동성이 높아진 상태에서 도 4e와 같이 격벽 반대 형상의 홈(68a)이 형성된 금형(68)이 기판(62) 상에 정렬된다.In this state in which the flowability of the green sheet 60 is increased, as shown in FIG. 4E, the mold 68 having the grooves 68a having the opposite shape to the partition wall is aligned on the substrate 62.

그리고 도 4f에 도시된 바와 같이 금형(68)은 대략 소정 압력으로 기판(62) 상에 가압된다. 금형(68)의 가압시 그린시트(60)와 페이스트층(66)이 금형(68)의 홈(68a) 내로 이동되어 솟아 오르게 된다.As shown in FIG. 4F, the mold 68 is pressed onto the substrate 62 at approximately a predetermined pressure. When the mold 68 is pressed, the green sheet 60 and the paste layer 66 are moved into the grooves 68a of the mold 68 to rise.

금형(68)이 도 4g와 같이 그린시트(60) 및 전극보호층(66)로부터 분리된 후에 격벽은 승온, 유지, 냉각 존을 거치면서 소성된다. 이와 같은 소성과정은 700 ~ 850℃의 온도에서 수행되어 그린시트(60) 내의 유기물들이 타서 없어지게 된다. 이후, 소성온도에서 글래스는 글래스-세라믹으로 생성 및 성장된다.After the mold 68 is separated from the green sheet 60 and the electrode protective layer 66 as shown in FIG. 4G, the partition wall is fired while passing through a temperature raising, holding, and cooling zone. This firing process is carried out at a temperature of 700 ~ 850 ℃ to burn off the organic material in the green sheet (60). Thereafter, at the firing temperature, the glass is produced and grown into glass-ceramic.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 PDP의 격벽재료 및 격벽 제조방법에서 그린시트 상에 저수축율을 가지는 조성으로 이루어진 페이스트층을 형성한다. 저수축율을 가지는 페이스트층이 그린시트 상에 형성됨으로써 격벽 모양으로 성형한 후 소성 후에도 소성 전의 격벽형상을 그대로 유지할 수 있다. 다시 말하면, 격벽의 성형성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 PDP의 격벽재료 및 격벽 제조방법은 종래와 대비하여 상면연삭 공정을 생략할 수 있으므로 공정을 단순화시킴으로써 공정비용을 절감할 수 있다. 나아가, 성형된 격벽이 고종횡비를 갖게 함과 아울러 균일성을 높일 수 있다.As described above, in the PDP barrier material and the barrier rib manufacturing method according to the present invention, a paste layer having a composition having a low shrinkage ratio is formed on the green sheet. Since the paste layer having a low shrinkage rate is formed on the green sheet, the partition wall shape before firing can be maintained as it is even after baking after forming into a partition wall shape. In other words, the formability of a partition can be improved. In addition, the partition material and the partition wall manufacturing method of the PDP according to the present invention can omit the upper surface grinding process as compared to the prior art can simplify the process can reduce the process cost. Furthermore, the molded partition can have a high aspect ratio and can improve uniformity.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (6)

기판 상에 접합되는 그린시트와,A green sheet bonded to the substrate, 상기 그린시트 상에 인쇄되는 어드레스전극과,An address electrode printed on the green sheet; 상기 어드레스전극을 덮도록 그린시트 상에 형성된 페이스트층의 성형에 의해 형성되는 격벽을 구비하며,A partition wall formed by molding a paste layer formed on the green sheet to cover the address electrode, 상기 페이스트층에는 ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO를 포함한 제1 화합물과, ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO, TiO2를 포함한 제2 화합물이 혼합되며, 상기 제1 화합물과 상기 제2 화합물은 1 : 1 ~ 2 : 1 의 혼합비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 하판.The paste layer is mixed with a second compound including ZnO, B 2 O 3, MgO , SiO 2, and a first compound containing CuO, ZnO, B 2 O 3 , MgO, SiO 2, CuO, TiO 2, wherein The lower panel of the plasma display panel, wherein the first compound and the second compound are mixed in a mixing ratio of 1: 1 to 2: 1. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 화합물은 27 중량% ZnO, 32 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2를 포함하며,The first compound comprises 27 wt% ZnO, 32 wt% B 2 O 3 , 18 wt% MgO, 23 wt% SiO 2 , 상기 제2 화합물은 27 중량% ZnO, 23 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2, 9 중량% K2O, TiO2를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 하판.Wherein said second compound is 27 wt% ZnO, 23 wt% B 2 O 3, 18 wt% MgO, 23 a lower plate of a plasma display panel characterized in that it comprises a weight% SiO 2, 9 wt% K 2 O, TiO 2 . 기판 상에 그린시트를 접합하는 단계와,Bonding the green sheet onto the substrate; 상기 그린시트 상에 어드레스전극을 인쇄하는 단계와,Printing an address electrode on the green sheet; 상기 어드레스전극이 인쇄된 상기 그린시트 상에 상기 어드레스전극을 덮도록 페이스트층을 형성하는 단계와,Forming a paste layer on the green sheet on which the address electrode is printed to cover the address electrode; 상기 페이스트층 상에 격벽 형상의 홈이 형성된 금형을 가압하여 격벽을 성형하고 상기 격벽 형태로 성형된 페이스트층을 소성하는 단계를 포함하며,Pressing a mold having a partition-shaped groove formed on the paste layer to form a partition wall and firing the paste layer formed in the partition wall shape, 상기 페이스트층에는 ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO를 포함한 제1 화합물과, ZnO, B2O3, MgO, SiO2, CuO, TiO2를 포함한 제2 화합물이 혼합되며, 상기 제1 화합물과 상기 제2 화합물은 1 : 1 ~ 2 : 1 의 혼합비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The paste layer is mixed with a second compound including ZnO, B 2 O 3, MgO , SiO 2, and a first compound containing CuO, ZnO, B 2 O 3 , MgO, SiO 2, CuO, TiO 2, wherein The first compound and the second compound is a barrier rib manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that the mixing ratio of 1: 1 to 2: 1. 삭제delete 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제1 화합물은 27 중량% ZnO, 32 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2를 포함하며,The first compound comprises 27 wt% ZnO, 32 wt% B 2 O 3 , 18 wt% MgO, 23 wt% SiO 2 , 상기 제2 화합물은 27 중량% ZnO, 23 중량% B2O3, 18 중량% MgO, 23 중량% SiO2, 9 중량% K2O, TiO2를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조방법.Wherein said second compound is 27 wt% ZnO, 23 wt% B 2 O 3, 18 wt% MgO, 23 a lower plate of a plasma display panel characterized in that it comprises a weight% SiO 2, 9 wt% K 2 O, TiO 2 Manufacturing method.
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