KR100421304B1 - 정전용량식 왜곡센서 및 그 사용방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (25)
- 평면 및 곡면의 적어도 한 쪽을 가지는 탄성체의 표면에, 두께가 대략 동일하고 왜곡에 의해 유전율이 변화하는 재료로 이루어진 유전체층막이 형성된 기판과, 그 표면에, 복수의 선형상 도전체를 평행한 선형상 전극으로 하여 구성되는 한 쌍의 전극이 교대 배치형으로 조합 형성되어 하나의 캐패시터가 되는, 적어도 하나의 교대 배치형 커플 전극 캐패시터를 구비하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 적어도 2개의 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터 각각은, 교대 배치형의 배치 전극인 상기 선형상 전극 각각이 직선 형상을 이루며, 상기 선형상 전극의 연장 방향이 서로 대략 직교하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 상기 판형상의 탄성체의 형상이 원판 및 정방형을 포함하는 다각형판중 어느 하나의 평판이며, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터의 상기 교대 배치형의 배치 전극이 되는 선형상 전극이 상기 평판의 중심에 대하여 대략 동심원상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 하나의 상기 탄성체가 장방형 구조체를 이루며, 상기 교대배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 장방형 탄성체의 평행하는 2변에 평행하게 연장되며 대향되는 한 쌍의 공통전극과, 상기 공통전극의 연장방향에 대하여 대략 45도 기울어 서로 엇갈리게 들어가도록 평행 연장되는 복수의 선형상 전극을 상기 교대 배치형의 배치 전극으로서 가지도록 한 쌍의 전극 패턴을 형성하여 정전용량을 구비한 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 상기 탄성체가 일축방향을 중심축으로 하여 연장되는 동시에 외주면의 단면형상이 원형을 이루는 원주형상 구조체를 가지며, 상기 유전체막층은 상기 원주형상 구조체의 외주면에 대략 동일한 두께로 형성되며, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 원주형 구조체의 외주면을 일주하여 링형상을 이루는 대향되는 한 쌍의 공통전극으로부터 상기 중심축 방향에 대하여 대략 45도 기울어 서로 엇갈리게 들어가도록 평행하게 나선형으로 연장되는 복수의 선형상 전극을 상기 교대 배치형의 배치 전극으로서 가지도록 한 쌍의 전극 패턴을 형성하여 정전용량을 구비하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 상기 탄성체가 일축방향을 중심축으로 하여 연장되는 동시에 외주면의 단면형상이 원형을 이루는 원주형 구조체를 가지며, 상기 유전체막층은 상기 원주형 구조체의 외주면에 대략 동일한 두께로 형성되며, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 중심축을 동축으로 하여 상기 교대 배치형의 배치 방향이 다른 적어도 2그룹을 가지고, 한 쪽에서는 상기 원주형 구조체의 외주면을 일주하여 링형상을 이루는 대향되는 한 쌍의 공통전극으로부터 상기 중심축 방향에 대하여 대략 45도 기울어 서로 엇갈리게 들어가도록 평행하게 나선형으로 연장되는 복수의 제 1 선형상 전극을 가지도록 한 쌍의 제 1 전극 패턴을 형성하여 정전용량을 구비하고, 다른 쪽에서는 상기 원주형 구조체의 외주면을 일주하여 링형상을 이루는 대향되는 한 쌍의 공통전극으로부터 상기 제 1 선형상 전극의 연장방향에 대하여 대략 직각으로 기울어 서로 엇갈리게 들어가도록 평행하게 나선형으로 연장되는 복수의 제 2 선형상 전극을 가지도록 한 쌍의 제 2 전극 패턴을 형성하여 정전용량을 구비하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 상기 탄성체가 일축방향을 중심축으로 하여 연장되는 동시에 외주면의 단면형상이 원형을 이루는 원주형 구조체를 가지고, 상기 유전체막층은 상기 원주형 구조체의 외주면에 대략 동일한 두께로 형성되며 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 중심축 방향으로 평행한 분할선에 의해 2등분되어 동일 한 링형상의 선위에 배치되고 상기 교대 배치형의 배치 방향이 다른 대향되는 한 쌍의 반원링 형상의 공통전극을 적어도 2그룹으로 구비하여, 한 쪽에서는 대향되는 공통전극으로부터 상기 중심축 방향에 대하여 대략 45도 기울어 서로 엇갈리게 들어가도록 평행하게 나선형으로 연장되는 복수의 제 1 선형상 전극을 가지고, 다른 쪽에서는 상기 제 1 선형상 전극의 연장방향에 대하여 대략 직각으로 기울어 서로 엇갈리게 들어가도록 평행한 나선형으로 연장되는 복수의 제 2 선형상 전극을 가지도록, 2그룹의 전극 패턴을 형성하여 2개의 정전용량을 구비하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 상기 탄성체가 평판 형상이며, 한 쪽 단부에 왜곡의 발생을 저지하는 구조의 고정부를 구비하고, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 고정부를 제외한 부분의 탄성체의 면위에 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 8항에 있어서, 상기 탄성체의 고정부를 제외한 부분의 탄성체의 면위에 탄성체의 휨을 조장하는 중량을 더 가지는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 복수의 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터중 적어도 하나를 기준 교대 배치형 커플 전극 캐패시터로 하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 10항에 있어서, 상기 탄성체가 한 쪽 단부에 왜곡이 발생하기 어려운 두께 및 왜곡의 발생을 저지하는 구조중 적어도 한 쪽을 가지는 고정부를 구비하며, 상기 기준 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 고정부 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 11항에 있어서, 상기 탄성체가 한 쪽 단부를 고정하는 고정부와, 다른 쪽 단부에 탄성체의 휨을 조장하는 중량을 가지며, 상기 기준 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 고정부 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 복수의 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터중 하나의 교대 배치형 커플 전극 캐패시터와, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터와는 다른 구성 소자에 의한 하나의 캐패시터중, 어느 한 쪽을 기준 캐패시터로서 구비하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 13항에 있어서, 상기 탄성체가 한 쪽 단부에 왜곡이 발생되기 어려운 두께 및 왜곡의 발생을 저지하는 구조중 적어도 한 쪽을 가지는 고정부를 구비하고, 상기 기준 캐패시터는 상기 고정부 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 13항에 있어서, 상기 기준 캐패시터는 상기 탄성체와는 별도로 설치된 고정부 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 상기 탄성체의 재질로서 절연성 플라스틱, 단결정 및 세라믹중 어느 하나를 이용한 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 있어서, 상기 탄성체의 재질로서 도전체가 이용되고, 상기 도전체의 표면에 유전율이 낮은 플라스틱 및 세라믹중 어느 하나가 절연층으로서 미리 형성되어 있으며, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 절연층의 표면위에 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,상기 탄성체는 통형상 밀폐용기의 상하부중 어느 한 쪽의 평면이며, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는, 그 캐패시터가 가지는 정전용량의 변화를 통해, 상기 평면에 형성되어 그 평면의 왜곡을 검출함으로써 밀폐용기의 내부 압력 변화를 검출하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,상기 탄성체는 일축방향을 중심축으로 하여 연장되는 동시에 외주면의 단면형상이 원형을 이루는 원주형 구조체를 가지며, 상기 유전체막층은 상기 원주형 구조체의 외주면에 대략 동일한 두께로 형성되고, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 원주형 구조체의 외주면을 일주하여 링형상을 이루는 대향되는 한 쌍의 공통전극으로부터 상기 중심축방향에 대하여 대략 45도 기울어 서로 엇갈리게 들어가도록 평행하게 나선형으로 연장되는 복수의 선형상 전극을 상기 교대 배치형의 배치 전극으로서 가지도록 한 쌍의 전극 패턴을 형성하여 정전용량을 구비하고, 상기 캐패시터가 가지는 정전용량의 변화로부터 상기 원주형 구조체의 비틀림 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,상기 탄성체는 일축방향을 중심축으로 하여 연장되는 동시에 외주면의 단면형상이 원형을 이루는 원주형 구조체를 가지며, 상기 원주형 구조체는 링형, 통형, 원주형 및 봉형중 어느 하나의 형상을 하고, 상기 정전용량식 왜곡 센서가 상기 원주형 구조체의 외주면에 형성되어 상기 정전용량식 왜곡 센서가 가지는 정전용량의 변화로부터 상기 원주형 구조체의 비틀림 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,상기 탄성체는 평판 형상이며, 한 쪽 단부에 왜곡의 발생을 저지하는 구조의 고정부를 구비하고, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터는 상기 고정부를 제외한 면위에 형성되며, 인가되는 가속도에 의해 발생하는 상기 탄성체의 변형에 따른 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터가 가지는 정전용량의 변화로부터 인가된 가속도를 검출하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,상기 정전용량식 왜곡 센서가 가지는 정전용량의 변화에 따른 주파수 변조를 발생하는 발진수단을 구비하고, 상기 발진수단이 출력하는 발진신호의 주파수 변동으로부터 왜곡량을 검출하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,복수의 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터중 하나의 교대 배치형 커플 전극 캐패시터와, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터와는 다른 구성 소자에 의한 하나의 캐패시터중 어느 하나를 기준 캐패시터로서 구비하며, 상기 기준 캐패시터의 캐패시턴스에 의해 나머지 교대 배치형 커플 전극 캐패시터의 캐패시턴스의 변화분을 보정하도록 하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,복수의 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터중 하나의 교대 배치형 커플 전극과, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터와는 다른 구성소자에 의한 하나의 캐패시터중 어느 하나를 기준 캐패시터로서 구비하고, 상기 기준 캐패시터의 임피던스와 나머지 교대 배치형 커플 전극 캐패시터의 임피던스의 변화분에 의해 검출 왜곡을 보정하도록 하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
- 제 1항에 따른 정전용량식 왜곡센서의 사용방법에 있어서,복수의 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터중 하나의 교대 배치형 커플 전극과, 상기 교대 배치형 커플 전극 캐패시터와는 다른 구성소자에 의한 하나의 캐패시터중 적어도 한 쪽을 기준 캐패시터로서 구비하고, 상기 기준 캐패시터 및 나머지 교대 배치형 커플 전극 캐패시터 각각의 캐패시턴스(C)에 인덕턴스(L) 및 레지스턴스(R)중 어느 하나를 더한 발진회로와, 상기 기준 캐패시터에 대응되는 발진회로의 발진 주파수 출력과 나머지 교대 배치형 커플 전극 캐패시터 각각에 대응되는 발진회로의 발진 주파수 출력의 변화분에 의해 검출 왜곡을 보정하도록 하는 것을 특징으로 하는 정전용량식 왜곡 센서의 사용방법.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101085489B1 (ko) | 2009-10-16 | 2011-11-21 | 박흥준 | 온도에 의한 오차를 보정하기 위한 유도 전압을 이용한 하중 측정 트랜스듀서 및 그 트랜스듀서를 이용한 하중 측정 시스템 |
Families Citing this family (105)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19961299B4 (de) * | 1999-12-18 | 2009-04-30 | Robert Bosch Gmbh | Sensor zur Erkennung des Klopfens bei einer Brennkraftmaschine |
AU2001223396A1 (en) * | 2000-02-01 | 2001-08-14 | Disetronic Licensing Ag | Container and device for administering a substance |
AU2001223397A1 (en) * | 2000-02-01 | 2001-08-14 | Disetronic Licensing Ag | Configurable device and method for releasing a substance |
US6518083B2 (en) * | 2001-01-31 | 2003-02-11 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Surface shape recognition sensor and method of manufacturing the same |
DE10139158C1 (de) * | 2001-08-09 | 2003-04-17 | Siemens Dematic Ag | Bauelemente-Erfassungsvorrichtung, Bauelemente-Zuführvorrichtung und Verfahren zum Zuführen von Bauelementen mittels einer Bauelemente-Zuführvorrichtung |
DE60238105D1 (de) * | 2002-12-14 | 2010-12-09 | Univ Tsinghua Res Inst | Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung der Zusammensetzung des Körpers durch Bestimmung der Dielektrizitätskonstante und der Impedanz des Körpers basiert auf digitaler Frequenzabtastung |
EP1654522A4 (en) * | 2003-08-12 | 2007-05-09 | Heung Joon Park | LOAD-MEASURING CONVERTER WITH ELASTIC STRUCTURE AND MEASURING DEVICE WITH INDUCED VOLTAGE AND LOAD MEASUREMENT SYSTEM THEREWITH |
GB0323781D0 (en) * | 2003-10-10 | 2003-11-12 | Bodycage Ltd | Safety helmet |
DE10360309B4 (de) * | 2003-12-18 | 2015-01-22 | Horst Ahlers | Resistiver Dehnungssensor |
US7644628B2 (en) * | 2005-12-16 | 2010-01-12 | Loadstar Sensors, Inc. | Resistive force sensing device and method with an advanced communication interface |
JP4977020B2 (ja) | 2004-07-08 | 2012-07-18 | シェンバーガー,デボラ | 歪モニタリングシステム及び装置 |
US20060030062A1 (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Jun He | Micromachined wafer strain gauge |
US7204162B2 (en) * | 2004-11-23 | 2007-04-17 | Delphi Technologies, Inc. | Capacitive strain gauge |
DE102005002057B4 (de) * | 2005-01-14 | 2007-05-31 | Nicol, Klaus, Prof. Dr. | Sensor zur Messung der Verteilung einer Flächenpressung |
US7509870B2 (en) * | 2005-10-26 | 2009-03-31 | Orthodata Technologies Llc | MEMS capacitive bending and axial strain sensor |
US7728492B2 (en) | 2005-12-19 | 2010-06-01 | Physical Logic Ag | Piezoelectric composite material |
US8104358B1 (en) * | 2006-01-23 | 2012-01-31 | University Of Puerto Rico | High sensitivity passive wireless strain sensor |
JP2008089412A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Matsushita Electric Works Ltd | 圧力センサ |
WO2008117566A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | アンテナおよび無線通信機 |
DE102007044225A1 (de) * | 2007-09-17 | 2009-03-19 | Liebherr-Werk Nenzing Gmbh, Nenzing | Vorrichtung zum Messen mechanischer Größen, Verfahren zum Messen mechanischer Größen sowie Verwendung einer Vorrichtung zum Messen mechanischer Größen |
EP2065681A1 (en) * | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Paramata Limited | Sensing system and method |
US20090158856A1 (en) * | 2007-12-23 | 2009-06-25 | Divyasimha Harish | Capacitive strain gauge system and method |
US20090229369A1 (en) * | 2008-03-17 | 2009-09-17 | Siew-Seong Tan | Capacitor Compensation Structure and Method for a Micro-Electro-Mechanical System |
US7784366B2 (en) * | 2008-07-29 | 2010-08-31 | Motorola, Inc. | Single sided capacitive force sensor for electronic devices |
US7545119B1 (en) | 2008-07-31 | 2009-06-09 | International Business Machines Corporation | Sensor incorporated into energy storage device package |
US8342031B2 (en) * | 2008-10-27 | 2013-01-01 | The Regents Of The University Of California | Capacitive strain sensor |
US8225677B2 (en) * | 2008-11-06 | 2012-07-24 | Northeastern University | Capacitive sensor, system, and method for measuring parameters of a two-phase flow |
US8564310B2 (en) * | 2009-08-18 | 2013-10-22 | 3M Innovative Properties Company | Capacitive oil quality monitoring sensor with fluorinated barrier coating |
CN102062652A (zh) * | 2009-11-12 | 2011-05-18 | 无锡千里信步精密机电科技有限公司 | 应用混入微小构造体的柔软感应材料的压力传感器装置及压力信号感应方法 |
US8633916B2 (en) * | 2009-12-10 | 2014-01-21 | Apple, Inc. | Touch pad with force sensors and actuator feedback |
WO2011159480A1 (en) * | 2010-06-15 | 2011-12-22 | 3M Innovative Properties Company | Variable capacitance sensors and methods of making the same |
DE102011078557A1 (de) | 2011-07-01 | 2013-01-03 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Verfahren zum Betreiben eines Absolut- oder Relativdrucksensors mit einem kapazitiven Wandler |
DE102012005262B4 (de) | 2012-03-15 | 2014-11-06 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Sensoranordnung aus Trägersubstrat und ferroelektrischer Schicht |
KR101480752B1 (ko) * | 2012-03-30 | 2015-01-09 | 한국과학기술원 | 표면 형상 측정 장치 |
RU2507474C1 (ru) * | 2012-08-07 | 2014-02-20 | Открытое акционерное общество "Авангард" | Индукционный датчик положения |
US9250143B2 (en) * | 2012-09-19 | 2016-02-02 | College Park Industries, Inc. | Multicapacitor force/moment sensor arrays |
CN102980508A (zh) * | 2012-11-21 | 2013-03-20 | 昆山北极光电子科技有限公司 | 一种自动平衡的机械形变测量方法 |
CN102997834B (zh) * | 2012-12-12 | 2016-05-25 | 山东建筑大学 | 一种共面电容传感器的非导电介质薄膜厚度在线检测装置 |
CN104034251B (zh) * | 2013-03-06 | 2016-12-28 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种微米尺度材料应变检测装置及其检测方法 |
DE102013114734A1 (de) * | 2013-12-20 | 2015-07-09 | Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg | Kapazitive Druckmesszelle mit mindestens einem Temperatursensor und Druckmessverfahren |
JP6364886B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-08-01 | 大日本印刷株式会社 | 包装袋の変形の検出方法 |
CA2901026C (en) | 2014-08-19 | 2020-11-24 | Western Michigan University Research Foundation | Helmet impact monitoring system |
KR101665187B1 (ko) * | 2014-09-22 | 2016-10-13 | 한국과학기술원 | 환경 정보 센서 회로 및 환경 정보 측정 장치 |
EP3010315A1 (en) | 2014-10-16 | 2016-04-20 | Nokia Technologies OY | A deformable apparatus and method |
EP3009822B1 (en) * | 2014-10-16 | 2017-06-21 | Nokia Technologies OY | A deformable apparatus and method |
KR20170074914A (ko) * | 2014-10-22 | 2017-06-30 | 반도 카가쿠 가부시키가이샤 | 정전 용량형 센서 |
CN105720964A (zh) * | 2014-12-02 | 2016-06-29 | 天津富纳源创科技有限公司 | 压力侦测按钮、控制器以及压力侦测按钮的操作方法 |
KR101739791B1 (ko) * | 2015-05-11 | 2017-05-26 | 주식회사 하이딥 | 압력 센싱 장치, 압력 검출기 및 이들을 포함하는 장치 |
CN105021120B (zh) * | 2015-07-06 | 2019-07-19 | 电子科技大学 | 一种电容应变传感器及其制备方法 |
CN105066870B (zh) * | 2015-08-13 | 2017-09-22 | 浙江工业大学 | 可测量表面应变轴向偏导的轴向偏差全桥双叉指型金属应变片 |
CN105180793B (zh) * | 2015-08-13 | 2017-07-25 | 浙江工业大学 | 可测量表面应变横向偏导的横向偏差全桥全叉指型金属应变片 |
US10067007B2 (en) * | 2015-09-02 | 2018-09-04 | Oculus Vr, Llc | Resistive-capacitive deformation sensor |
US9666661B2 (en) * | 2015-09-08 | 2017-05-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Coplanar metal-insulator-metal capacitive structure |
US10732055B2 (en) * | 2015-10-30 | 2020-08-04 | Northwestern University | Dielectrostrictive sensors for shear stress measurement, process monitoring, and quality examination of viscoelastic materials |
CN105241585B (zh) * | 2015-11-12 | 2017-08-18 | 桂林电子科技大学 | 一种基于银导电胶的电容式传感器装置及其制作方法 |
CN105423900B (zh) * | 2015-12-04 | 2017-12-05 | 浙江工业大学 | 可测量单侧片外横向偏导的横向分布六敏感栅全桥三叉指金属应变片 |
CN105423906B (zh) * | 2015-12-04 | 2017-12-05 | 浙江工业大学 | 可测量单侧片外横向偏导的横向分布五敏感栅边叉指金属应变片 |
CN105547133B (zh) * | 2015-12-04 | 2017-12-05 | 浙江工业大学 | 可测量单侧片外轴向偏导的轴向分布五敏感栅边叉指金属应变片 |
CN105547531B (zh) * | 2016-01-19 | 2018-07-06 | 东南大学 | 一种高灵敏电容式压力传感器及其制作方法 |
US10842667B2 (en) * | 2016-02-17 | 2020-11-24 | Tramec Termico Technologies, L.L.C. | Self-regulating heater |
CN105823411B (zh) * | 2016-03-18 | 2019-02-22 | 苏州椒图电子有限公司 | 一种曲面轮廓测量方法 |
CN106092430B (zh) * | 2016-06-16 | 2018-11-16 | 清华大学深圳研究生院 | 一种梳齿电容式压力传感器 |
CN106247920B (zh) * | 2016-07-07 | 2019-02-12 | 中国计量大学 | 一种基于弹性基底夹心叉指电容的表面应变检测器件 |
US10637108B1 (en) | 2016-12-09 | 2020-04-28 | Cornell Dubilier Marketing, Inc. | Apparatus for detecting expansion of an energy storage device case |
US10612991B1 (en) * | 2017-08-25 | 2020-04-07 | Fluke Corporation | High dynamic range capacitive pressure sensor |
JP6988469B2 (ja) | 2017-12-27 | 2022-01-05 | 株式会社デンソー | 歪み検出装置およびそれを用いた診断装置 |
CN108414126A (zh) * | 2018-01-22 | 2018-08-17 | 江苏军物联网股份有限公司 | 一种焊接工位压力监测系统和监测方法 |
TWI659217B (zh) * | 2018-03-27 | 2019-05-11 | 國立交通大學 | 無線被動應變感測器 |
AT521182B1 (de) * | 2018-07-11 | 2019-11-15 | Greenwood Power Og | Spannungsteilungsvorrichtung mit Stäbchenstruktur |
CN109238519B (zh) * | 2018-10-22 | 2024-03-15 | 河北工业大学 | 一种混合式柔性触觉传感器 |
US11189536B2 (en) * | 2018-12-31 | 2021-11-30 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for on-chip stress detection |
CN109786430B (zh) * | 2019-02-22 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示面板及显示装置 |
JP7272836B2 (ja) * | 2019-03-19 | 2023-05-12 | 住友重機械工業株式会社 | センサ、センサ固定構造 |
CN109883316B (zh) * | 2019-03-22 | 2021-01-29 | 中国科学院力学研究所 | 一种电阻式应变传感器及应变测量方法 |
US11021950B2 (en) | 2019-06-06 | 2021-06-01 | Probe Technology Services, Inc. | Production-logging sensor |
CA3083837A1 (en) | 2019-06-12 | 2020-12-12 | The Board Of Trustees Of Western Michigan University | Pressure monitoring system for helmets |
CN113748403B (zh) * | 2019-06-19 | 2024-03-08 | Nissha株式会社 | 触摸面板 |
US11494147B2 (en) | 2019-06-26 | 2022-11-08 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Sensing bending of multiple joints |
CN110487168B (zh) * | 2019-08-29 | 2024-03-01 | 清华大学深圳研究生院 | 单向弯曲敏感传感器及其制备方法 |
CN111189563B (zh) * | 2020-01-07 | 2021-08-10 | 西安电子科技大学 | 一种压力检测装置及系统 |
US11662820B2 (en) | 2020-01-08 | 2023-05-30 | Dell Products, Lp | System for a solid-state keyboard and touchpad providing haptic feedback |
JP2021110703A (ja) * | 2020-01-15 | 2021-08-02 | ミネベアミツミ株式会社 | ひずみゲージ |
US10860112B1 (en) | 2020-01-31 | 2020-12-08 | Dell Products, Lp | System for a solid-state keyboard and touchpad with a single sheet cover for providing haptic feedback |
US11067269B1 (en) | 2020-01-31 | 2021-07-20 | Dell Products, Lp | System and method for backlight integration with electrical contact foil in piezoelectric haptic keyboard |
US11294469B2 (en) | 2020-01-31 | 2022-04-05 | Dell Products, Lp | System and method for processing user input via a reconfigurable haptic interface assembly for displaying a modified keyboard configuration |
US11079816B1 (en) | 2020-01-31 | 2021-08-03 | Dell Products, Lp | System and method for vapor chamber directional heat dissipation for a piezoelectric keyboard assembly |
US11106286B2 (en) | 2020-01-31 | 2021-08-31 | Dell Products, Lp | System and method for mood detection via piezo haptic keyboard dynamics |
US10936073B1 (en) | 2020-01-31 | 2021-03-02 | Dell Products, Lp | System and method for generating high-frequency and mid-frequency audible sound via piezoelectric actuators of a haptic keyboard |
US11175745B2 (en) | 2020-01-31 | 2021-11-16 | Dell Products, Lp | System and method for application of piezo electric haptic keyboard personal typing profile |
US11106772B2 (en) | 2020-01-31 | 2021-08-31 | Dell Products, Lp | System and method for continuous user identification via piezo haptic keyboard and touchpad dynamics |
US11093048B1 (en) | 2020-01-31 | 2021-08-17 | Dell Products, Lp | System for modified key actions and haptic feedback for smart typing assist with a solid-state keyboard and touchpad |
US11079849B1 (en) | 2020-01-31 | 2021-08-03 | Dell Products, Lp | System for extended key actions and haptic feedback and optimized key layout for a solid-state keyboard and touchpad |
US11301053B2 (en) | 2020-01-31 | 2022-04-12 | Dell Products, Lp | System for providing haptic feedback across full palm rest in fixed position of information handling system |
US11579695B2 (en) | 2020-01-31 | 2023-02-14 | Dell Products, Lp | System and method for generating sound effects on fingertips with piezoelectric actuators of a haptic keyboard |
CN111208317B (zh) * | 2020-02-26 | 2021-07-02 | 深迪半导体(绍兴)有限公司 | Mems惯性传感器及应用方法和电子设备 |
US20210293645A1 (en) | 2020-03-17 | 2021-09-23 | Arris Enterprises Llc | Ceramic based strain detector |
JP7402148B2 (ja) * | 2020-03-24 | 2023-12-20 | ミネベアミツミ株式会社 | ひずみゲージ |
CN111664968A (zh) * | 2020-07-15 | 2020-09-15 | 襄阳臻芯传感科技有限公司 | 一种陶瓷电容式压力传感器的制作方法 |
CN113340476B (zh) * | 2021-05-08 | 2023-10-27 | 昆山朗德森机电科技有限公司 | 一种二维解耦力矩触觉传感器及mems制备方法 |
CN115598732A (zh) * | 2021-07-08 | 2023-01-13 | 中国石油化工股份有限公司(Cn) | 基于重磁电震勘探技术融合的潜山构造识别方法 |
FR3126776B1 (fr) * | 2021-09-09 | 2024-02-16 | Faurecia Sieges Dautomobile | Transducteur capacitif à électrodes interdigité coplanaire, tapis de détection d’occupation pour siège de véhicule et siège de véhicule |
CN114111697B (zh) * | 2021-11-26 | 2023-07-25 | 中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 | 一种倾倒变形体监测预警装置及监测预警方法 |
FR3130786B1 (fr) * | 2021-12-17 | 2023-12-15 | Nanomade Labs | Micro-capteur à électrodes interdigitées |
CN114353916A (zh) * | 2022-01-10 | 2022-04-15 | 江苏大学 | 一种基于柔性电容式传感器的质量测量装置 |
CN116448286A (zh) * | 2022-10-10 | 2023-07-18 | 成都凯天电子股份有限公司 | 一种硅谐振压力传感器及其在线校准方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5434519B2 (ko) * | 1973-08-31 | 1979-10-27 | ||
US4188651A (en) * | 1978-03-27 | 1980-02-12 | Sprague Electric Company | Ceramic capacitor with surface electrodes |
JPS5837799A (ja) * | 1981-08-05 | 1983-03-05 | ワイケイケイ株式会社 | 荷重感知マツト |
US4422127A (en) * | 1981-12-15 | 1983-12-20 | Electronic Concepts, Inc. | Substantially small sized wound capacitor and manufacturing method therefor |
JPS5954904A (ja) * | 1982-09-24 | 1984-03-29 | Hitachi Ltd | 容量型ひずみゲ−ジ |
US4479392A (en) * | 1983-01-03 | 1984-10-30 | Illinois Tool Works Inc. | Force transducer |
DE3634855C1 (de) | 1986-10-13 | 1988-03-31 | Peter Seitz | Kapazitive Messanordnung zur Bestimmung von Kraeften und/oder Druecken |
EP0354386B1 (de) * | 1988-08-11 | 1991-12-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Messaufnehmer für Längen- oder Abstandsänderungen, insbesondere für berührungslose Messung von Drehmomenten an rotierenden Wellen |
US5233213A (en) | 1990-07-14 | 1993-08-03 | Robert Bosch Gmbh | Silicon-mass angular acceleration sensor |
CH685214A5 (fr) * | 1991-10-15 | 1995-04-28 | Hans Ulrich Meyer | Capteur capacitif de position. |
US5608246A (en) * | 1994-02-10 | 1997-03-04 | Ramtron International Corporation | Integration of high value capacitor with ferroelectric memory |
EP0776467B1 (de) * | 1994-08-16 | 2000-05-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Kraft- oder dehnungssensor |
EP0776466B1 (de) * | 1994-08-16 | 1999-03-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Kraft- oder dehnungssensor |
FR2732467B1 (fr) | 1995-02-10 | 1999-09-17 | Bosch Gmbh Robert | Capteur d'acceleration et procede de fabrication d'un tel capteur |
US5610528A (en) | 1995-06-28 | 1997-03-11 | International Business Machines Corporation | Capacitive bend sensor |
JP3525400B2 (ja) * | 1995-10-17 | 2004-05-10 | Necトーキン株式会社 | 力検出装置 |
US5804065A (en) * | 1995-11-17 | 1998-09-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Agriculture | Control apparatus for marine animals |
US6222376B1 (en) * | 1999-01-16 | 2001-04-24 | Honeywell International Inc. | Capacitive moisture detector and method of making the same |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101085489B1 (ko) | 2009-10-16 | 2011-11-21 | 박흥준 | 온도에 의한 오차를 보정하기 위한 유도 전압을 이용한 하중 측정 트랜스듀서 및 그 트랜스듀서를 이용한 하중 측정 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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