KR100405859B1 - 에폭시수지경화용촉매인1-이미다졸릴메틸-2-나프톨 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- (A)에폭시 수지; 및 (B) 성분(A) 100부당 하기 일반식(I)의 화합물 2 내지 25 중량부를 포함하는 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물:상기식에서,R1, R2및 R3가 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 12의 알킬; 탄소수 3 내지 12의 시클로알킬 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기로 치환된 상기 시클로알킬; 탄소수 4 내지 20의 시클로알킬-알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기로 치환된 상기 시클로알킬-알킬; 탄소수 6 내지 10의 아릴, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 아릴; 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1내지 3으로 치환된 상기 페닐알킬; 탄소수 3내지 12의 알케닐, 탄소수 3 내지 12의 알키닐, 탄소수 3 내지 12의 방향족 또는 지방족 아실기, 또는 시아노기 또는 할로겐을 포함하는 탄소수 3 내지 12의 알킬 또는 아릴; 그리고R4, R5, R6, R7, R8및 R9은 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 12의 알킬; 탄소수 3 내지 12의 시클로알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬로 치환된 상기 시클로알킬, 탄소수 4 내지 20의 시클로알킬-알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기에 의해 치환된 상기 시클로알킬-알킬; 탄소수 6 내지 10의 아릴, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 아릴; 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 페닐알킬; 탄소수 3 내지 12의 알케닐; 탄소수 3 내지 12의 알키닐; 할로겐; 탄소수 1 내지 12의 알콕시; 또는 히드록시이다.
- 제 1항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 12의 알킬; 페닐; 또는 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 2항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 12의 알킬; 페닐; 또는 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬; 그리고 R4∼R9가 각각 수소인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 2항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1, R2및 R3는 각각 독립적으로수소; 탄소수 1 내지 8의 알킬; 페닐; 또는 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 페닐알킬인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 4항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 8의 알킬; 페닐; 또는 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 페닐알킬; 그리고 R4∼R9가 각각 수소인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 4항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬; 또는 페닐인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 6항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 4의 알킬, 또는 페닐이고, 그리고 R4∼R9가 각각 수소인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 6항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1는 탄소수 1 내지 3의 알킬 또는 페닐이고; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 6항에 있어서, 일반식(I)의 화합물에서 R1는 탄소수 1 내지 3의 알킬 또는 페닐이고; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬이며; R4∼R9가 각각 수소인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 9항에 있어서, 성분 (B)가 1-(2-메틸이미다졸릴메틸)-2-나프톨인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 9항에 있어서, 성분 (B)가 1-(2-에틸-4-메틸이미다졸릴메틸)-2-나프톨인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 9항에 있어서, 성분 (B)가 1-(2-프로필이미다졸릴메틸)-2-나프톨인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 9항에 있어서, 성분 (B)가 1-(2-페닐이미다졸릴메틸)-2-나프톨인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서, 성분 (A)가 상온에서 액체인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서, 성분 (A)가 상온에서 고체인 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 1항에 있어서, 촉진제, 가소제, 강화제, 유연제, 안료, 보강재, 충전재 또는 다른 경화제를 더 포함하는 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물.
- 제 1항의 조성물의 경화후 수득된 경화 수지 생성물.
- 에폭시 수지에 에폭시 수지 100부당 하기 일반식(I)의 화합물 2내지 25 중량부를 첨가하는 것을 포함하고, 110∼150℃에서 경화하는 저장-안정성, 고속 경화성 에폭시 수지 조성물의 제조방법:상기식에서,R1, R2및 R3가 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 탄소수 3 내지 12의 시클로알킬 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기로 치환된 상기 시클로알킬; 탄소수 4 내지 20의 시클로알킬-알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기로 치환된 상기 시클로알킬-알킬; 탄소수 6 내지 10의 아릴, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 아릴, 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 페닐알킬; 탄소수 3 내지 12의 알케닐; 탄소수 3 내지 12의 알키닐; 탄소수 3 내지 12의 방향족 또는 지방족 아실기; 또는 시아노기 또는 할로겐을 포함하는 탄소수 3 내지 12의 알킬 또는 아릴; 그리고R4, R5, R6, R7, R8및 R9은 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 12의 알킬, 탄소수 3 내지 12의 시클로알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬로 치환된 상기 시클로알킬; 탄소수 4 내지 20의 시클로알킬-알킬, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기에 의해 치환된 상기 시클로알킬-알킬; 탄소수 6 내지 10의 아릴, 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 아릴; 탄소수 7 내지 15의 페닐알킬 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기 1 내지 3으로 치환된 상기 페닐알킬, 탄소수 3 내지 12의 알케닐; 탄소수 3 내지 12의 알키닐; 할로겐; 탄소수 1 내지 12의 알콕시; 또는 히드록시기이다.
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