KR100341579B1 - Repair device of semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 퓨즈로 사용되는 전도성 물질의 폭을 줄여서 퓨즈 커팅시 사용되는 레이저의 파워를 줄일 수 있게 되어 레이저에 의한 디바이스의 손상을 막을 수 있는 반도체메모리 장치의 리페어 장치를 제공하는 것으로, 이를 위한 본 발명의 리페어장치는 신호라인; 상기 신호라인을 논리 하이로 프리차지하기 위한 프리차지수단; 상기 신호라인에 실린 신호를 반전/래치하여 노말셀 또는 리던던시 셀을 선택하기 위한 제어신호를 출력하는 반전/래치수단; 상기 신호라인의 임의의 노드와 접지전원단 사이에 소스-드레인 경로가 접속된 제1트랜지스터; 어드레스신호입력단과 상기 제1트랜지스터의 게이트단 사이에 접속된 퓨즈; 상기 퓨즈가 커팅되고 상기 어드레스신호입력단으로 어드레스신호가 활성화되어 입력될때 상기 제1트랜지스터를 턴-오프시키기 위한 제2트랜지스터; 및 상기 퓨즈가 커팅되고 상기 어드레스신호가 비활성화될 경우 상기 제1트랜지스터의 게이트단이 플로팅되는 것을 방지하기 위한 플로팅방지수단을 포함하여 이루어진다.The present invention is to provide a repair device for a semiconductor memory device that can reduce the power of the laser used in the fuse cutting by reducing the width of the conductive material used as the fuse to prevent damage to the device by the laser. The repair apparatus of the invention comprises a signal line; Precharge means for precharging the signal line to a logic high; Inverting / latching means for inverting / latching the signal loaded on the signal line and outputting a control signal for selecting a normal cell or a redundancy cell; A first transistor having a source-drain path connected between any node of the signal line and a ground power supply terminal; A fuse connected between an address signal input terminal and a gate terminal of the first transistor; A second transistor for turning off the first transistor when the fuse is cut and an address signal is activated and input to the address signal input terminal; And floating prevention means for preventing the gate terminal of the first transistor from floating when the fuse is cut and the address signal is inactivated.
Description
본 발명은 반도체메모리장치에 관한 것으로, 특히 리페어 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a repair device.
일반적으로 반도체 장치의 코스트(Cost)는 그것의 수율에 의해 크게 영향을 받기 때문에 이 수율을 향상시키기 위하여 리던던시 메모리셀을 기본적으로 노멀 메모리 셀에 부가한다. 그리하여 몇개의 결함 메모리 셀이 발생된 경우 이를 리던던시 메모리 셀로 대체하는 방법(리페어)을 사용하여 왔다. 이러한 리던던시 메모리 셀로 대체하는 것은 각각의 메모리 셀 어드레스에 해당하는 퓨즈를 구비하고 페일(fail)이 발생한 메모리 셀에 해당하는 퓨즈를 레이저 커팅(Cutting)함으로써 각 메모리 셀 블록에 구비되어 있는 리던던시 메모리 셀로 대치할 수 있게 하는 방식을 사용한다.In general, since the cost of a semiconductor device is greatly influenced by its yield, a redundant memory cell is basically added to the normal memory cell in order to improve the yield. Thus, if a few defective memory cells are generated, a method (repair) of replacing them with redundant memory cells has been used. The replacement of the redundant memory cells is to replace the redundant memory cells with redundant memory cells provided in each memory cell block by laser cutting a fuse corresponding to each memory cell address and a failing memory cell. Use a way to do it.
도1은 종래 기술의 리페어 장치에 대한 회로도이다.1 is a circuit diagram of a repair apparatus of the prior art.
상기 도1을 참조하면, 종래 기술의 리페어 장치는 어드레스를 게이트단으로 입력받고 소스-드레인 경로가 퓨즈와 접지단 시이에 형성된 다수의 병렬연결된 엔모스트랜지스터(100)와, 상기 엔모스트랜지스터의 드레인단과 제1노드 사이에 형성된 다수의 퓨즈(110)와, 프리차지신호(ctr)을 게이트단으로 입력받고 소스-드레인 경로가 전원전압과 제1노드 사이에 형성된 피모스트랜지스터(120)와, 제1노드의 신호를 반전하여 노말셀과 리페어셀을 선택하는 제2노드로 출력하는 인버터(130)와, 상기 제2노드의 신호를 게이트단으로 입력받고 소스-드레인 경로가 전원전압과 상기 제1노드 사이에 형성된 피모스트랜지스터(140)를 구비한다.Referring to FIG. 1, a repair apparatus according to the related art includes a plurality of parallel-connected NMOS transistors 100 having an address input to a gate end, and a source-drain path formed at a fuse and a ground end, and a drain of the NMOS transistor. A plurality of fuses 110 formed between the stage and the first node, the PMOS transistor 120 having a pre-charge signal ctr as a gate terminal, and having a source-drain path formed between the power supply voltage and the first node; An inverter 130 that inverts the signal of one node and outputs the normal cell and the repair cell to a second node that selects a normal cell and a repair cell; The PMOS transistor 140 is formed between the nodes.
종래기술의 리페어 장치에 대한 각 구성의 작용 및 동작을 살펴보면, 퓨즈가 커팅이 되지 않았을 때는 상기 프리차지신호(ctr)가 논리 로우로써 제1노드에 전원전압을 인가하고 인가된 전원전압의 전압 레벨이 그대로 유지되어 상기 인버터(130)와 상기 피모스트랜지스터(140)에 의해서 계속 래치된다. 특정 어드레스가 인가되어 어드레스 신호가 논리 하이로 활성화되면 상기 엔모스트랜지스터(100)가 턴-온(Turn-On)되어 상기 제1노드에 프리차지되어 있던 전원전압 레벨의 전압을 가지고 있는 전류가 접지단으로 흘러들어서 상기 제1노드를 논리 로우로 만들어주게 되고 상기 인버터(130)을 통해 반전되어 상기 제2노드가 논리 하이가 된다. 그러면 리던던시 메모리 셀은 억세스(Access)되지 않고 노멀 메모리 셀이 억세스된다.Looking at the operation and operation of each configuration for the repair device of the prior art, when the fuse is not cut, the precharge signal (ctr) is applied to the first node as a logic low voltage level of the applied power supply voltage This is maintained as it is and is continuously latched by the inverter 130 and the PMOS transistor 140. When a specific address is applied and the address signal is activated to be logic high, the enMOS transistor 100 is turned on so that the current having the voltage of the power supply voltage level precharged to the first node is grounded. Flow into the stage makes the first node logic low, and is inverted through the inverter 130 to make the second node logic high. The redundancy memory cell is then not accessed and the normal memory cell is accessed.
퓨즈가 커팅되었을 때는 프리차지되어 있던 상기 제1노드가 접지단으로 흐르는 경로가 오픈(Open)되어서 논리 하이를 그대로 유지하고 있다. 그러면 제1노드는 상기 인버터(130)을 통해 반전되어 상기 제2노드가 논리 로우가 되어 리던던시 셀을 억세스하게 된다.When the fuse is cut, a path through which the first node, which has been precharged, flows to the ground terminal is opened to maintain the logic high. The first node is then inverted through the inverter 130 such that the second node becomes a logic low to access the redundancy cell.
이러한 과정을 통해서 퓨즈의 역할은 상기 제1노드의 전류를 접지단으로 흐를 수 있도록 설계되어야 한다. 그러므로 퓨즈로 사용되는 전도체는 충분한 폭을 가져야하며 이는 곧 레이저 커팅 시에 파워(Power)가 높아야 함을 의미한다.Through this process, the role of the fuse should be designed to flow the current of the first node to the ground terminal. Therefore, the conductor used as the fuse should have a sufficient width, which means that the power should be high when cutting the laser.
따라서 퓨즈가 기본적으로 상당량의 전류를 흘려줄 수 있도록 설계되어야하므로 퓨즈의 폭이 어느정도 이상이 되도록 래이아웃(layout)되어야 한다. 이로 인해 퓨즈를 커팅할 때 레이저의 파워가 높게 사용될 수 밖에 없으며 이에 따른 파생적인 문제로 퓨즈 근처의 회로나 절연체의 파괴가 일어날 수 있어 디바이스(Device)의 장기적 신뢰성에 치명적인 문제점을 발생할 수 있다.Therefore, the fuse is basically designed to allow a large amount of current flow, so the fuse should be laid out to a certain extent. As a result, when the fuse is cut, the power of the laser must be used high, and as a result, the circuit or insulator near the fuse may be destroyed, which may cause a fatal problem in the long-term reliability of the device.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로써, 퓨즈로 사용되는 전도성 물질의 폭을 줄여서 퓨즈 커팅시 사용되는 레이저의 파워를 줄일 수 있게 되어 레이저에 의한 디바이스의 손상을 막을 수 있는 리페어 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, it is possible to reduce the width of the conductive material used as a fuse to reduce the power of the laser used for cutting the fuse to prevent damage to the device by the laser It is an object of the present invention to provide a repair apparatus.
도1은 종래 기술의 리페어 장치,1 is a repair apparatus of the prior art,
도2는 본 발명의 리페어 장치.2 is a repair apparatus of the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
240 : 퓨즈240: fuse
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 리페어장치는 신호라인; 상기 신호라인을 논리 하이로 프리차지하기 위한 프리차지수단; 상기 신호라인에 실린 신호를 반전/래치하여 노말셀 또는 리던던시 셀을 선택하기 위한 제어신호를 출력하는 반전/래치수단; 상기 신호라인의 임의의 노드와 접지전원단 사이에 소스-드레인 경로가 접속된 제1트랜지스터; 어드레스신호입력단과 상기 제1트랜지스터의 게이트단 사이에 접속된 퓨즈; 상기 퓨즈가 커팅되고 상기 어드레스신호입력단으로 어드레스신호가 활성화되어 입력될때 상기 제1트랜지스터를 턴-오프시키기 위한 제2트랜지스터; 및 상기 퓨즈가 커팅되고 상기 어드레스신호가 비활성화될 경우 상기 제1트랜지스터의 게이트단이 플로팅되는 것을 방지하기 위한 플로팅방지수단을 포함하여 이루어진다.The repair apparatus of the present invention to achieve the above object is a signal line; Precharge means for precharging the signal line to a logic high; Inverting / latching means for inverting / latching the signal loaded on the signal line and outputting a control signal for selecting a normal cell or a redundancy cell; A first transistor having a source-drain path connected between any node of the signal line and a ground power supply terminal; A fuse connected between an address signal input terminal and a gate terminal of the first transistor; A second transistor for turning off the first transistor when the fuse is cut and an address signal is activated and input to the address signal input terminal; And floating prevention means for preventing the gate terminal of the first transistor from floating when the fuse is cut and the address signal is inactivated.
이하 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. .
도2는 본 발명의 리페어 장치의 회로도이다.2 is a circuit diagram of the repair apparatus of the present invention.
상기 도2를 참조하면, 본 발명의 리페어장치는 신호라인, 상기 신호라인을 논리 하이로 프리차지하기 위한 프리차지수단(100)과, 상기 신호라인에 실린 신호를 반전/래치하여 노말셀 또는 리던던시 셀을 선택하기 위한 제어신호를 출력하는 반전/래치수단(200), 상기 신호라인의 임의의 노드와 접지전원단 사이에 소스-드레인 경로가 접속된 제1트랜지스터(400)와, 어드레스신호입력단과 상기 제1트랜지스터의 게이트단 사이에 접속된 퓨즈(300)와, 상기 퓨즈가 커팅되고 상기 어드레스신호입력단으로 어드레스신호가 활성화되어 입력될때 상기 제1트랜지스터를 턴-오프시키기 위한 제2트랜지스터(600)와, 상기 퓨즈가 커팅되고 상기 어드레스신호가 비활성화될 경우 상기 제1트랜지스터의 게이트단이 플로팅되는 것을 방지하기 위한 플로팅방지수단(500)을 구비한다.Referring to FIG. 2, the repair apparatus of the present invention includes a normal line or redundancy by inverting / latching a signal line, a precharge means 100 for precharging the signal line to logic high, and a signal loaded on the signal line. Inverting / latching means 200 for outputting a control signal for selecting a cell, a first transistor 400 having a source-drain path connected between an arbitrary node of the signal line and a ground power supply terminal, an address signal input end, A fuse 300 connected between the gate terminal of the first transistor and a second transistor 600 for turning off the first transistor when the fuse is cut and an address signal is activated and input to the address signal input terminal; And a floating prevention means 500 for preventing the gate terminal of the first transistor from floating when the fuse is cut and the address signal is inactivated. The.
상기 플로팅방지수단(500)은 상기 어드레스신호입력단으로 입력된 어드레스신호를 반전시켜 출력하는 반전수단과 상기 반전수단의 출력을 게이트로 인가받고 상기 제1트랜지스터의 게이트단과 상기 접지전원단 사이에 소스-드레인 경로가 형성되는 제3트랜지스터(n1)을 구비한다.The floating preventing means 500 is provided with the inverting means for inverting and outputting the address signal inputted to the address signal input terminal and the output of the inverting means as a gate and between the gate terminal of the first transistor and the ground power supply terminal. And a third transistor n1 having a drain path formed therein.
상기 프리차지 수단(100)은 드레인단과 게이트단이 전원전압에 연결되어 있고 소스단이 상기 신호라인 에 연결되어 신호라인에 전원전압을 인가하는 피모스트랜지스터를 구비한다.The precharge means 100 includes a PMOS transistor having a drain terminal and a gate terminal connected to a power supply voltage, and a source terminal connected to the signal line to apply a power supply voltage to the signal line.
상기 반전/래치 수단(200)은 상기 신호라인의 신호를 반전하여 노말셀과 리던던시 셀을 선택하기 위한 인버터와, 상기 인버터의 출력을 게이트단으로 입력받고 소스-드레인 경로가 전원전압과 상기 신호라인 사이에 형성된 피모스트랜지스터를 구비한다.The inverting / latching means 200 inverts the signal of the signal line to select a normal cell and a redundancy cell, an output of the inverter is input to a gate terminal, and a source-drain path is a power supply voltage and the signal line. It has a morph transistor formed in between.
본 발명의 리페어 장치에 대한 동작을 살펴보면, 퓨즈가 커팅이 되지 않았을 때는 상기 프리차지수단(100)이 신호라인에 전원전압을 인가하고 인가된 전원전압의 전압 레벨이 그대로 유지되어 상기 래치/반전수단(200)의 인버터와 피모스트랜지스터에 의해서 계속 래치된다. 특정 어드레스가 인가되어 어드레스 신호가 논리 하이로 활성화되면 상기 제1트랜지스터(n3)가 턴-온(Turn-On)되어 상기 신호라인에 프리차지되어 있던 전원전압 레벨의 전압을 가지고 있는 전류가 접지단으로 흘러들어서 상기 신호라인을 논리 로우로 만들어주게 되고 상기 반전/래치수단(200)을 통해 반전되어 출력노드가 논리 하이가 된다. 이에 의해 노말셀이 억세스된다. 이 때 상기 제2트랜지스터(n2)가 턴-온(Turn-On)되지만 상기 제2트랜지스터(n2)로 흐르는 전류보다 퓨즈를 통하여 전달되는 직접 전류 경로가 더 강하므로 상기 제1트랜지스터(n3)의 게이트를 논리 로우로 만들어주지 못하고 상기 어드레스 신호에 의해 상기 제1트랜지스터(n3)는 턴-온(Turn-On)되게 된다. 따라서 리던던시 메모리 셀은 억세스(Access)되지 않고 노멀 메모리 셀이 억세스된다.Referring to the operation of the repair apparatus of the present invention, when the fuse is not cut, the precharge means 100 applies a power supply voltage to a signal line, and the voltage level of the applied power supply voltage is maintained as it is. The latch is continuously latched by the inverter 200 and the PMOS transistor. When a specific address is applied and the address signal is activated to a logic high, the first transistor n3 is turned on so that the current having the voltage of the power supply voltage level precharged to the signal line is grounded. The signal line flows to make the signal line logic low, and is inverted through the inverting / latching means 200 so that the output node becomes logic high. Thereby, the normal cell is accessed. At this time, although the second transistor n2 is turned on, the direct current path transmitted through the fuse is stronger than the current flowing through the second transistor n2, so that the first transistor n3 The first transistor n3 is turned on by the address signal without turning the gate to a logic low. Therefore, the redundancy memory cell is not accessed, but the normal memory cell is accessed.
퓨즈가 커팅되었을 때는 상기 제2트랜지스터(n2)에 의해서 상기 제1트랜지스터(n3)의 게이트가 논리 로우로 되고 상기 제1트랜지스터(n3)는 턴-오프(Turn-Off)된다. 그러면 상기 신호라인은 계속 논리 하이 상태를 유지하고 상기 출력신호는 논리 로우가 되어 리던던시 셀이 억세스된다. 상기 플로팅방지수단(500)은 퓨즈가 커팅되었을 경우 다른 어드레스를 억세스할 때 상기 제1트랜지스터(n3)의 게이트가 플로팅(Floating)되는 것을 막아주기 위해서 존재한다.When the fuse is cut, the gate of the first transistor n3 is logic low by the second transistor n2 and the first transistor n3 is turned off. The signal line then remains at a logic high state and the output signal is at a logic low so that the redundancy cell is accessed. The floating preventing means 500 is provided to prevent the gate of the first transistor n3 from floating when the fuse is cut and the other address is accessed.
상기의 회로에서 상기 플로팅방지수단과 제2트랜지스터(n1, n2)를 충분히 작은 폭(Width)로 만들어줄 경우 퓨즈의 저항이 크더라도 충분하게 상기 엔모스트랜지스터(n3)의 게이트단의 전압제어가 가능하기 때문에 퓨즈의 폭을 좁게 래이아웃하더라도 상관이 없다. 그러므로 퓨즈 커팅 시에 레이저 파워에 의한 디바이스(Device)의 손상을 줄일 수 있다.In the above circuit, when the floating prevention means and the second transistors n1 and n2 are made to have a sufficiently small width, even if the resistance of the fuse is large, the voltage control of the gate terminal of the nMOS transistor n3 is sufficient. It is possible to lay out the fuse narrowly so that it is possible. Therefore, damage to the device due to laser power can be reduced during fuse cutting.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.Although the technical spirit of the present invention has been described in detail according to the above-described preferred embodiment, it should be noted that the above-described embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, those skilled in the art will understand that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.
상기와 같이 본 발명은 퓨즈가 엔모스트랜지스터의 게이트단을 제어하므로 기존의 폭(width)에 비해 더 작게 래이아웃할 수 있으므로 레이저 리페어 시에 레이저 파워를 적게 할 수 있어서 디바이스(Device)에 대한 레이저의 손상을 감소시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, since the fuse controls the gate stage of the NMOS transistor, the fuse can be laid out smaller than the conventional width, so that the laser power can be reduced during the laser repair. Can reduce damage.
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