KR100281922B1 - 제2고조파 발생 장치의 구동 회로 및 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 비선형광학소자를 사용함으로써 나타나는 광출력의 불안정 현상을 개선하기 위한 제2고조파 발생 장치 및 방법에 관한 것이다.
즉, 본 발명에 따른 제2고조파 발생장치 구동 회로 및 방법은 제2고조파 발생 장치가 안정되기 전에 실제 출력된 광이 설정된 출력광과 같아지도록 비선형 광학소자의 온도를 서서히 온도를 조절하면 비선형 광학 소자의 온도가 T2에서 정지하지 않고 오버슈트 하게되는 양이 장치 작동 시작 당시 비선형 광학 소자의 출력 특성 피크치 P1점보다 클 경우에는 안정되지 않고 원하는 광출력을 얻을 수 없게 되는 것을 제2적분계수기라는 제1적분계수기에 병렬로 연결될 수 있도록하고 부극성 제어 스위치를 사용하여 광출력 값에 따라 적분계수를 선택하여 적분함으로써, 안정화시킬 수 있는 효과를 얻는다.
Description
제1도는 제2고조파 발생 장치의 비선형 광학 소자의 온도에 따른 출력광 특성 선도이고,
제2도는 제2고조파 발생 장치의 시간에 따른 출력광 안정도 특성선도이고,
제3도는 종래의 제2고조파 발생 장치 구동회로의 블럭도이고,
제4도는 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치 구동회로의 블럭도이고,
제5도는 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치 구동 회로의 실제 회로도이고,
제6도는 종래 및 본 발명의 제2고조파 발생 장치의 시간에 따른 출력광 안정 특성 선도이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
1 : 광 검출기 2 : 제2고조파 광출력 설정부
3 : 증폭기 4 : 비교기
5 : 적분 계수 6 : 적분기
7 : 전압 전류 변환부 8 : 전자 냉각 소자
11 : 광 검출기 12 : 제2고조파 광출력 설정부
13 : 증폭기 14 : 비교기
15 : 적분 계수 16 : 적분기
17 : 전압 전류 변환부 18 : 전자 냉각 소자
19 : 스위치 152 : 적분계수2
본 발명은 비선형광학소자를 사용함으로써 나타나는 광출력의 불안정 현상을 개선하기 위한 제2고조파 발생 장치 및 방법에 관한 것이다.
레이저 광을 이용하여 데이타를 기록 재생하는 광자기 기록방식의 경우, 830nm 파장의 적외선 반도체 레이저 다이오드를 이용하고 있지만 보다 고밀도의 광기록이 요구되고 있는 현실에서 보다 더 짧은 파장의 레이저 다이오드의 제작이 추구되고 있다.
왜냐하면, 830nm 반도체 레이저 다이오드의 출력 빔은 초점이 모아졌을 때 그 초점에서의 빔의 지름은 830nm 이상이 되기 때문이다. 따라서, 830nm 보다 더 짧은 파장의 레이저 광원이 있으면 초점 지름을 더 줄일 수 있게 된다.
이와같은 단파장의 레이저 광원으로는 헤륨-네온 레이저나 아르곤 레이저가 있지만, 민수용 데이타 정보를 기록 재생하기에는 크기가 너무 크고 소모전력이 많아 취급하기가 어렵다.
제2고조파발생장치(Second Harmonic Generation; 이하 SHG 라고도 함)는 부피와 취급이 용이한 809nm 반도체 레이저로 Nd:YAG를 펌핑하여 1064nm 레이저 광원으로 만들고 KTP(KTiOPO4; Potassium Titanyl Phosphate), KNbO3같은 비선형소자를 이용하여 기본파에 대한 제2고조파(1064nm 레이저광의 파장의 반인 532nm의 레이저광)를 얻어낸다.
제2고조파 발생장치의 출력광은 온도에 대단히 민감한 비선형 광학소자를 이용하기 때문에 광출력이 불안정하다. 따라서 비선형 광학소자의 온도를 조건에 따라 정확히 제어하여야만 일정한 레이저 출력을 얻을 수 있다.
먼저 종래의 제2고조파 발생 장치의 구성을 살펴보면 다음과 같다.
제2고조파 발생장치에서 레이저 다이오드로 부터 나오는 809nm 레이저광은 제1미러를 통과한후 두개의 미러 사이의 공진기 내부에 위치한 Nd:YAG를 통과함으로써 1064nm 기본파의 레이저 공진이 일어난다. 이때 Nd:YAG와 제2미러 사이에는 브루스터 플레이트와 비선형 광학소자가 있으며, 이 비선형 광학 소자에서 기본파 파장의 절반인 532nm이 제2고조파가 발생한다.
제2미러로 진행하는 광에는 1064nm와 532nm의 광이 섞여있는데, 제2미러는 기본파에 대해 고반사율을 가지기 때문에 1064nm광은 제1미러쪽으로 반사시키고 532nm 광만 출력되게 한다. 이때에 532nm의 광을 안정하게 조절발생하기 위하여 투과율:반사율이 97:3이 되는 차단판을 사용하여 출력되는 고조파 광의 일부를 빔스프리터를 통하여 광검출기에 입력되게 한다.
532nm의 레이저광(제2고조파)은 광 검출기에 닿으면 광전변환이 일어나 입력된 광량에 비례하여 전류로 변환된다. 이 전류는 제2고조파 광출력 장치 구동회로로 입력된다. 제2고조파 광출력 장치 구동회로로 부터 출력되는 제어신호는 전자 냉각기(Thermo Electric cooler)로 입력되어 비선형 광학 소자의 온도를 조절하게 된다.
제3도는 종래의 제2고조파 발생 장치 구동회로의 블럭도이다. 이 도면을 참조하여 그 구성 및 동작을 설명하면 다음과 같다.
제2고조파 광출력 장치 구동회로는 광 검출기(1), 증폭기(3), 제2고조파 광출력 설정부(2), 비교기(4), 적분계수기(5), 적분기(6), 전압/전류 변환기(7) 및 전자냉각소자(8)로 구성되어 있다.
비선형광학소자로 부터 출력되는 광출력에 해당하는 전류를 발생시켜 주는 광검출기(1)로부터의 전류는 광출력 안정화를 목적으로 증폭기(3)로 입력되어 전압으로 증폭 변환시켜서 제2고조파 광출력 설정부(2)로부터의 설정전압과 비교하기 위하여 비교기(4)로 입력된다.
비교기(4)에서의 비교치는 광출력 오차신호가 되는데, 이 값을 적분기(6)를 통해 적분시켜서 적분전압을 전자냉각기 구동부로 하여금 전자냉각기소자(8)를 구동시키게 하여 비선형광학소자의 온도를 제어한다.
결국, 종래의 제2고조파발생장치의 제어메카니즘은 비선형 광학 소자로 부터 출력되는 고조파 광출력을 광검출기(1)에서 출력광량에 비례하는 전류로 검출하고, 이 전류는 다시 광출력 안정화 목적으로 전압으로 변환되어 비교기(4)에서 미리 설정된 광출력에 대한 전압과 비교된다. 이 비교된 값은 광출력 오차가 되는데 이 값을 적분시켜 비선형광학소자의 온도를 제어하도록 되어 있다.
이때 비선형 광학 소자는 온도에 따라, 제1도에 도시된 바와 같이, 여러개의 광출력 첨두치를 나타내게 되는데, 설정된 광출력값과 실제 얻어지는 광출력값이 같아질 때 까지 광출력 오차가 부궤환되어 안정된 출력이 얻어지게 된다. 광출력 오차는 비선형 광학 소자의 온도를 낮추기 위해 제5도의 블럭도에 표시된 전자 냉각 소자(thermo electric cooler)에 인가되게 된다.
여기서 제1도는 비선형광학소자의 온도와 광출력과의 관계를 도시한 그래프이다. 이 도면에서 초기 비선형광학소자의 온도 T1에서 제3도 또는 제4도에 도시된 바와 같은 구성으로 부극성 되먹임이 진행되어 제2고조파광출력이 광출력 설정치에 도달하는 온도 T2에 이를때까지 비선형광학소자의 온도를 냉각시킨다. T2까지 냉각시킨후 광출력 설정값 p0를 넘는 제1피크를 만나면 광출력은 증가 하다가 광출력 설정치에서 온도가 정지된다. 또한 광출력이 증가하거나 감소하면 설정 광출력과, 같아지도록 비선형 광학소자의 온도를 조절한다.
그리고 제2고조파 발생장치의 자체온도나 입사 펌핑되는 809nm파장의 입력광량, 스펙트럼에 따라 제2고조파의 출력 특성은 달라진다.
제1도에는 제2고조파 발생장치를 작동 시작한 후와 안정될 때 까지 수 분 정도 지난후의 비선형광학 소자의 온도에 대한 제2고조파의 출력 특성이 나타나 있다. 제2고조파 발생 장치를 작동할 당시는 A실선과 같은 특성을 나타내며, 수분 정도 지난후 장치가 안정된 뒤의 특성은 B점선 특성으로 제2고조파의 최고 출력값이 다르다.
제2고조파 발생장치가 안정되기 전에 실제 출력된 광이 설정된 출력광과 같아지도록 비선형 광학소자의 온도를 T1에서 T2쪽으로 서서히 온도를 조절하면 비선형 광학 소자의 온도가 T2에서 정지하지 않고 대개 정지하지 않고, 오버슈트를 하게된다. 만일 오버슈트되는 양이 장치 작동 시작 당시 비선형 광학 소자의 출력 특성 피크치 P1점보다 작을 경우에는 안정되어 설정된 출력값과 같은 값으로 제2도의 A실선과 같은 광출력 특성 곡선이 얻어진다.
그러나, 오버슈트되는 양이 P1점 보다 크게되면 제2도 B점선과 같이 안정되지 않고 원하는 광출력을 얻을 수 없게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하고자 창안된 것으로, 장치가 안정되기전 비선형 광학 소자의 온도를 조절하였을 때, 오버슈트되는 광출력량이 P1점 보다 클 경우에도 안정된 광출력을 얻을 수 있도록 하여주는 제2고조파 발생 장치의 구동회로 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치의 구동회로는, 제2고조파의 광출력량을 감지하여 그에 비례하는 전류를 발생시키는 광 검출 수단; 상기 광 검출 수단으로 부터 전류 출력을 전압으로 바꾸어 증폭하는 증폭 수단; 제2고조파의 광출력 레벨을 소망하는 레벨로 설정하는 제2고조파 광출력 설정 수단; 상기 증폭 수단으로 부터의 입력된 검출 광출력값과 상기 광 출력 설정 수단에서 인가된 소정의 광출력 설정값과의 오차를 비교하여 연산하여 주는 제1의 비교수단; 상기 제1의 비교 수단으로 부터의 오차 신호를 적분하여 제2고조파 광출력값이 상기 제2고조파 광출력 설정 수단의 설정값과 같게하여 주는 적분 수단; 상기 제1의 비교 수단의 출력값이 정상 제어 동작일 경우의 상기 적분 수단에 입력되는 제1적분 계수를 설정시키는 제1적분계수설정수단; 상기 제1의 비교 수단의 출력값의 오버슈트가 오버슈트 제한 설정값보다 클 경우는 로우, 오버슈트 제한 설정값 보다 작을 경우에는 하이 신호를 발생하여 주는 제2의 비교수단; 상기 제2의 비교 수단의 출력값이 로우 일 경우 오버슈트 응답 제어 동작에 따라 상기 제1적분 계수와의 합의 값으로 상기 적분기의 적분계수를 설정시키는 제2의 적분계수설정수단; 상기 제2의 비교 수단의 출력값이 로우 일 경우 오버슈트 응답 제어 동작에 따라 상기 제2적분계수설정 수단을 상기 적분 수단에 연결해 주는 스위칭 수단; 상기 적분기의 출력 전압을 전류로 변환해 주는 전압/전류 변환수단; 그리고 상기 전압/전류 변환 수단에서 출력되는 전류에 의해 상기 비선형 광학소자의 온도를 조절할 수 있도록 하는 전자냉각 수단;을 구비하여 된 것을 특징으로 한다.
상기와 같이 이루어진 제2고조파 발생 장치의 구동 방법은, 제2고조파광출력량을 검출하여 광출력설정값과의 비교를 통하여 비선형광학 소자의 온도를 제어함으로써 일정한 광출력을 얻어내는 제2고조파 발생방법에 있어서, 제2고조파 발생 장치의 광출력을 검출하여 제2고조파 광출력 설정값과의 비교를 통하여 그 비교값이 오버슈트 응답 제어 동작일 때 이 오버슈트되는 양을 스위칭 수단에 의해 부궤환시킴으로써 상기 제2고조파 광출력량에 의한 제2고조파 광출력 제어를 수행하여 안정된 제2고조파 출력광 만을 출력시키는 것을 특징으로 한다.
이하 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 제2고조파 발생장치의 구동회로 및 방법을 설명한다.
제4도는 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치 구동회로의 블럭도이며, 제5도는 본 발명에 따른 제2고조파 발생 장치 구동 회로의 실제 회로도이다. 이 도면들을 참조하여 그 구동회로 및 방법을 살펴보면 다음과 같다.
제2고조파 광출력 장치 구동회로는 광 검출기(11), 증폭기(13), 제2고조파 광출력 설정부(12), 비교기(14), 제1적분계수기(15), 제2적분계수기(152), 적분기(16), 전압/전류 변환기(17), 스위치(19) 및 전자냉각소자(18)로 구성되어 있다.
비선형광학소자로 부터 출력되는 광출력에 해당하는 전류를 발생시켜 주는 광검출기(11)로 부터의 전류는 광출력 안정화를 목적으로 증폭기(13)로 입력되어 전압으로 증폭 변환시켜서 제2고조파 광출력 설정부(12)로부터의 설정전압과 비교하기 위하여 비교기(14)로 입력된다.
비교기(14)에서의 비교치는 광출력 오차신호가 되는데, 이 값을 적분기(16)를 통해 적분시켜서 적분전압을 전자냉각기 구동부로 하여금 전자냉각소자(18)를 구동시키게 하여 비선형광학소자의 온도를 제어한다.
이때, 본 발명의 제2고조파발생장치의 제어메카니즘은 비선형 광학 소자로 부터 출력되는 고조파 광출력을 광검출기(11)에서 출력광량에 비례하는 전류로 검출하고, 이 전류는 다시 광출력 안정화 목적으로 전압으로 변환되어 비교기(14)에서 미리 설정된 광출력에 대한 전압과 비교된다. 이 비교된 값은 광출력 오차가 되는데 이 값을 적분시켜 비선형광학소자의 온도를 제어하도록 되어 있다.
이때 비선형 광학 소자는 온도에 따라, 제1도에 도시된 바와 같이, 여러개의 광출력 첨두치를 나타내게 되는데, 설정된 광출력값과 실제 얻어지는 광출력값이 같아질 때 까지 광출력 오차가 부궤환되어 안정된 출력이 얻어지게 된다. 광출력 오차는 비선형 광학 소자의 온도를 낮추기 위해 전자 냉각 소자(Thermo Electric Cooler)에 인가되게 된다.
여기서 제1도는 비선형광학소자의 온도와 광출력과의 관계를 도시한 그래프이다. 이 도면에서 초기 비선형광학소자의 온도 T1에서 부극성 되먹임이 진행되어 제2고조파광출력이 광출력 설정치에 도달하는 온도 T2에 이를때까지 비선형광학소자의 온도를 냉각시킨다. T2까지 냉각시킨후 광출력 설정값 p0를 넘는 제1피크를 만나면 광출력은 증가하다가 광출력 설정치에서 온도가 정지된다. 또한 광출력이 증가하거나 감소하면 설정 광출력과 같아지도록 비선형 광학소자의 온도를 조절한다.
제1도에 도시된 바와 같이, 제2고조파 발생장치를 작동 시작한 후와 안정될 때 까지 수 분 정도 지난후의 비선형광학 소자의 온도에 대한 제2고조파의 출력 특성은, 제2고조파 발생 장치를 작동할 당시는 A실선과 같은 특성을 나타내며, 수분 정도 지난후 장치가 안정된 뒤의 특성은 B점선 특성으로 제2고조파의 최고 출력값이 다르다.
이와 같이 제2고조파 발생 장치가 안정되기 전에 실제 출력된 광이 설정된 출력광과 같아지도록 비선형 광학소자의 온도를 T1에서 T2쪽으로 서서히 온도를 조절하면 비선형 광학 소자의 온도가 T2에서 정지하지 않고 대개 정지하지 않고, 오버슈트를 하게된다. 만일 오버슈트되는 양이 장치 작동 시작 당시 비선형 광학 소자의 출력 특성 피크치 P1점보다 작을 경우에는 안정되어 설정된 출력값과 같은 값으로 제2도의 A실선과 같은 광출력 특성 곡선이 얻어지지만, 오버슈트되는 양이 P1점 보다 크게되면 제2도 B점선과 같이 안정되지 않고 원하는 광출력을 얻을 수 없게 된다.
따라서 본 발명에서는 이와 같이 오버슈트되는 양이 제2고조파 발생 장치 작동 시작시 비선형 광학 소자의 광출력 특성 피크치 P1점보다 클 경우에도 광 출력 특성을 제6도에 도시된 B곡선과 같이 안정화시키기 위하여 제4도에 도시된 바와 같이, 제2적분계수기(152) 및 스위치(19)를 더 구비한다. 여기에 관해서는 제5도의 실제 회로도를 참조하면서 설명한다.
제5도의 광검출기(PD)에 제2고조파 출력광이 검출되면 광세기에 비례하는 전류가 광검출기에 흐른다. OP1에서 이 전류를 전압으로 바꾸어 준다. 또한 제2고조파 광출력 설정 단자(VR1)에 걸리는 전압은 OP3에서 전류 버퍼시킨다.
제1비교기(OP2)에서 OP1출력과 OP3출력의 차이를 오차신호로 출력한다. 이 오차신호는 제2비교기(OP4)의 반전 극성 입력과 제1적분계수기(R11), 제2적분계수기(R12)에 연결된다. 이곳을 통과하여 적분기(16)에 입력되고, 적분기 전압은 OP6과 트랜지스터를 통하여 전자냉각소자(TEC)에 전류를 흘러 비선형 광학소자를 냉각시킴으로써 제2고조파가 안정되게 출력된다.
제2고조파 발생 장치를 작동 개시하였을 때, 그출력광의 파형 특성은 제6도에 도시된 바와 같다. 여기서 점선(B)은 종래의 제2고조파 발생 장치 구동회로의 응답특성곡선이며, t2까지 오버슈트를 한다. 이때 제2고조파 발생 장치를 작동개시할 때, 비선형 광학 소자의 온도에 대한 제2고조파 출력이 최고점 P1보다 작게 오버슈트되어야 제2고조파, 출력이 안정된다. 본 발명에서는 출력 설정점 보다 약 3~5% 이상되는 점을 R8과 R9의 분압을 이용하여 오버슈트 제한 설정하면 된다.
한편, 제2고조파 발생장치가 실제 광출력이 설정 출력값으로 제어되는 동안에 실제 광출력이 설정 광출력값 보다 훨씬 크게 오버슈트하게 되면 OP2의 출력은 매우 큰 +전압으로 된다. 그리고, R8, R9는 분압에 {R8/(R8+R9)}·5V가 OP4의 +극에 입력되고 OP2의 출력은 OP4의 -극에 입력된다. 또 R8, R9의 분압은 실제 광출력의 허용 오버슈트를 설정한다. 만일 OP2의 출력 +0.5V가 실제 광출력의 허용 오버슈트라 한다면 OP4의 +극에 인가되는 전압이 +0.5V가 인가되도록 R8, R9의 비를 맞추어야 한다. OP4의 -극에 입력되는 전압이 OP4의 +극보다 +극성으로 크게되면(허용 오버슈트를 넘게되면) OP4의 출력은 +극에서 -극으로 급반전된다. 이 OP4의 출력은 +, -전압 모두 출력되지만 D1 다이오드에 의해 +극과 접지 전위로 정류되고, 즉 논리 '1', '0'으로 된다. D1을 통과한 전압은 다시 부극성 제어 스위치의 제어 단자에 인가된다. 여기서 부극성 제어 스위치는 제어 단자 전압이 '1' 논리이면 스위치 양단 저항이 ∞[Ω]이 된다. 결국 실제 광출력이 허용오버슈트를 넘게되면 스위치(SW1)의 양단이 0[Ω] 즉 온이 되어 OP4의 적분계수가 R11과 R12의 병렬 저항으로 달라지게 된다. 실제 광 출력값이 오버슈트가 아닐 경우의 적분계수는 1/C·(R11∥R12)로 되어 보다 빠른 속도로 전자냉각소자(TEC)에 흐르는 전류가 감소되어 비선형 광학, 소자가 가열되어, 제6도에 도시된 A곡선과 같이, 오버슈트가 크게 되지 않게되어 안정시간을 단축시킬 수 있다.
또한 허용 오버슈트 안에서는 스위치 제어 단자 전압이 '1'논리가 되어 스위치 양단 저항이 ∞[Ω]이 되어 R12는 제2적분계수기로 작동하지 않게되어 다시 1/C·R11의 적분계수로 안정제어가 된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 제2고조파 발생장치 구동회로 및 방법은 제2고조파 발생 장치가 안정되기 전에 실제 출력된 광이 설정된 출력광과 같아지도록 비선형 광학소자의 온도를 서서히 온도를 조절하면 비선형 광학 소자의 온도가 T2에서 정지하지 않고 오버슈트 하게되는 양이 장치 작동 시작 당시 비선형 광학 소자의 출력 특성 피크치 P1점보다 클 경우에는 안정되지 않고 원하는 광출력을 얻을 수 없게 되는 것을 제2적분계수기라는 제1적분계수기에 병렬로 연결될 수 있도록하고 부극성 제어 스위치를 사용하여 광출력 값에 따라 적분계수를 선택하여 적분함으로써, 안정화시킬 수 있는 효과를 얻는다.
Claims (4)
- 제2고조파의 광출력량을 감지하여 그에 비례하는 전류를 발생시키는 광 검출 수단; 상기 광 검출 수단으로 부터 전류 출력을 전압으로 바꾸어 증폭하는 증폭 수단; 제2고조파의 광출력 레벨을 소망하는 레벨로 설정하는 제2고조파 광출력 설정 수단; 상기 증폭 수단으로 부터의 입력된 검출 광출력값과 상기 광 출력 설정 수단에서 인가된 소정의 광출력 설정값과의 오차를 비교하여 연산하여 주는 제1의 비교수단; 상기 제1의 비교 수단으로 부터의 오차 신호를 적분하여 제2고조파 광출력값이 상기 제2고조파 광출력 설정 수단의 설정값과 같게하여 주는 적분 수단; 상기 제1의 비교 수단의 출력값이 정상 제어 동작일 경우의 상기 적분 수단에 입력되는 제1적분 계수를 설정시키는 제1적분계수설정수단; 상기 제1의 비교 수단의 출력값의 오버슈트가 오버슈트 제한 설정값보다 클 경우는 로우, 오버슈트 제한 설정값 보다 작을 경우에는 하이 신호를 발생하여 주는 제2의 비교수단; 상기 제2의 비교 수단의 출력값이 로우 일 경우 오버슈트 응답 제어 동작에 따라 상기 제1적분 계수와의 합의 값으로 상기 적분기의 적분계수를 설정시키는 제2의 적분계수설정수단; 상기 제2의 비교 수단의 출력값이 로우 일 경우 오버슈트 응답 제어 동작에 따라 상기 제2적분계수설정 수단을 상기 적분 수단에 연결해 주는 스위칭 수단; 상기 적분기의 출력 전압을 전류로 변환해 주는 전압/전류 변환수단; 그리고 상기 전압/전류 변환 수단에서 출력되는 전류에 의해 상기 비선형 광학소자의 온도를 조절할 수 있도록 하는 전자냉각 수단;을 구비하여 된 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치의 구동 회로.
- 제2고조파광출력량을 검출하여 광출력 설정값과의 비교를 통하여 비선형광학 소자의 온도를 제어함으로써 일정한 광출력을 얻어내는 제2고조파 발생방법에 있어서, 제2고조파 발생 장치의 광출력을 검출하여 제2고조파 광출력 설정값과의 비교를 통하여 그 비교값이 오버슈트 응답 제어 동작일 때 이 오버슈트되는 양을 스위칭 수단에 의해 부궤환시킴으로써 상기 제2고조파 광출력량에 의한 제2고조파 광출력 제어를 수행하여 안정된 제2고조파 출력광 만을 출력시키는 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치의 구동 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 오버슈트 제어 동작은 제2고조파 발생 장치가 안정되기전 실제 출력된 광이 설정된 광 출력과 같아지도록 비선형 광학 소자의 온도를 내릴 때 오버슈트되는 양이 상기 제2고조파 발생장치 작동 시작 당시 상기 비선형 광학 소자의 출력 특성 최고값 보다 큰 경우에 상기 제2고조파 발생 출력광을 안정시키기 위한 제어 동작인 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치의 구동 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 스위칭 수단은 부극성 제어 스위치인 것을 특징으로 하는 제2고조파 발생 장치.
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