KR100222740B1 - 자기저항 소자 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
기본압력 | 5×10-6Torr | |||
스퍼터링 조건 | NiO | NiFe | Cu | Ta |
플라즈마 | 고주파 마그네트론 스퍼터링 | 직류 마그네트론 스퍼터링 | ||
전원 | 100W | 400V, 120mA | 370V, 50mA | 370V, 120mA |
부분압력 | 1.3×10-3Torr | |||
증착속도 | 420Å/h | 2Å/sec | ||
스퍼터링 시간 | 10 분 | 5 분 | ||
일축 자기장 | 200Οe |
Claims (25)
- 실리콘 기판의 표면에 산화층(SiO2)이 형성된 실리콘 기판을 준비하는 단계와, 상기 산화층 위에 포토 레지스터를 도포하고 증착 윈도우를 형성하는 사진식각 단계와, 상기 포토 레지스터 및 증착 윈도우에 의해 노출된 산화층 위에 스핀밸브구조를 갖는 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층을 순차적으로 적층시키는 스퍼터링 증착 단계와, 상기 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층이 소정형상을 갖도록 포토 레지스트를 리프트 오프(Lift-Off)시켜 패턴을 형성하는 단계와, 상기 패턴된 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층 상면에 전극을 형성하고 와이어 본딩하는 단계로 된 자기저항 소자 제조방법
- 제 1 항에 있어서,상기 스핀밸브구조를 갖는 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층을 순차적으로 적층시키는 스퍼터링 증착 단계에서 프리층 및 핀층인 NiFe층의 플라즈마 발생 총이 직류 마그네트론 총인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 NiFe층의 증착속도가 2Å/se인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 NiFe층의 예비 스터터링 시간을 5 분간 수행하는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 스핀밸브구조를 갖는 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층을 순차적으로 적층시키는 스퍼터링 증착 단계에서 비자성층인 Cu 층의 플라즈마 발생 총이 직류 마그네트론 총인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 Cu 층의 증착속도가 2Å/sec인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 Cu 층의 예비 스터터링 시간을 5 분간 수행하는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 스핀밸브구조를 갖는 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층을 순차적으로 적층시키는 스퍼터링 증착 단계에서 반강자성층인 NiO 층의 플라즈마 발생 총이 고주파 마그네트론 총인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 NiO 층의 증착속도가 420Å/h 인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 NiFe층의 예비 스터터링 시간을 10 분간 수행하는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 스핀밸브구조를 갖는 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층을 순차적으로 적층시키는 스퍼터링 증착 단계에서 보호층인 Ta 층의 플라즈마 발생 총이 직류 마그네트론 총인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 Ta 층의 증착속도가 2Å/sec인 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 Ta 층의 예비 스터터링 시간을 5 분간 수행하는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 상기 스퍼터링 증착 공정의 아르곤의 부분압력을 1.3×10-3torr로 고정하는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 스퍼터링 증착 공정에서 시료 홀더 양쪽에 영구자석을 장착하여 150∼380οe정도의 자기장을 인가시켜 강자성층에 일축 자기이방성을 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자 제조방법.
- 표면에 산화층(SiO2)이 형성된 실리콘 기판 위에 스퍼터링 증착공정에 의해 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층이 순차적으로 적층된 스핀밸브 구조를 갖는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 프리층인 NiFe 층이 30∼70Å 정도의 두께로 적층되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 비자성층인 Cu 층이 20∼50Å 정도의 두께로 적층되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 핀층인 NiFe 층이 10∼100Å 정도의 두께로 적층되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 반강자성층인 NiO 층이 420Å 정도의 두께로 적층되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 보호층인 Ta 층이 50Å 정도의 두께로 적층되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층이 순차적으로 적층된 스핀밸브 구조를 갖는 자기저항 소자를 구비하는 에어콘 콤프레셔 속도센서가 에어콘 콤프레셔의 풀리 회전수를 검출하여 에어콘의 동작을 제어할 수 있도록 풀리에 장치되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층이 순차적으로 적층된 스핀밸브 구조를 갖는 자기저항 소자를 구비하는 차고센서가 보디와 차축의 상대위치를 검출할 수 있도록 앞차축과 뒷차축의 크로스멤버의 양단에 장치되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층이 순차적으로 적층된 스핀밸브 구조를 갖는 자기저항 소자를 구비하는 ABS 센서가 바퀴의 미끄러짐량을 감지할 수 있도록 장치되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
- 제 16 항에 있어서,상기 NiFe/Cu/NiFe/NiO/Ta 층이 순차적으로 적층된 스핀밸브 구조를 갖는 자기저항 소자를 구비하는 회전속도 검출용 속도센서가 주행속도를 검출할 수 있도록 차량의 바퀴 휠에 장치되는 것을 특징으로 하는 자기저항 소자.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019960070602A KR100222740B1 (ko) | 1996-12-23 | 1996-12-23 | 자기저항 소자 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960070602A KR100222740B1 (ko) | 1996-12-23 | 1996-12-23 | 자기저항 소자 및 그 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19980051688A KR19980051688A (ko) | 1998-09-25 |
KR100222740B1 true KR100222740B1 (ko) | 1999-10-01 |
Family
ID=19490405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019960070602A KR100222740B1 (ko) | 1996-12-23 | 1996-12-23 | 자기저항 소자 및 그 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR100816686B1 (ko) * | 2001-06-30 | 2008-03-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | 실린더 구조의 캐패시터 제조방법 |
KR100479445B1 (ko) * | 2002-08-31 | 2005-03-30 | 한국과학기술연구원 | 풀 브리지 특성을 갖는 교환 바이어스형 스핀밸브를이용한 자기센서 제조방법 |
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1996
- 1996-12-23 KR KR1019960070602A patent/KR100222740B1/ko not_active IP Right Cessation
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