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KR0168150B1 - 반도체 소자 제조 방법 - Google Patents

반도체 소자 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 토포로지 단차가 큰 소자를 단차가 낮은 영역의 포토레지스트는 노광 장치의 포커스(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 단차가 높은 영역의 포토레지스트는 디포커스(DeFocus)를 발생시켜 패터닝이 형성이 되지 않게 하여 평탄화시키므로서 소자의 평탄화를 높이고, 공정 시간의 단축 및 공정의 단순화를 할 수 있도록 한 반도체 소자 제조 방법이 개시된다.

Description

반도체 소자 제조 방법
제1a 내지 1e도는 본 발명에 따른 반도체 소자 제조 방법을 설명하기 위한 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 실리콘 기판 2 : 전도성 패턴
3 : 절연층 4 : 포토레지스트
5 : SOG막
본 발명은 반도체 소자 제조 방법에 관한 것으로, 특히 소자의 토포로지(Topology)단차를 완화하여 소자의 평탄화를 높일 수 있도록 한 반도체 소자 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 종래의 반도체 소자의 평탄화 공정에는 SDD(Selective Dielectric Deposition), CMP(Chemical Mechanical Polishing), TLP(Two Layer Planarization)등의 공정 방법이 사용되어 왔다. 그러나, SDD공정은 표면 상태에 따라 민감하고, CMP 공정은 오염 및 긁힘의 유발가능성, TLP 공정은 추가의 사진 및 식각 공정의 어려운 단점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 단점을 해결하기 위하여 소자의 평탄화를 높일 수 있도록 한 반도체 소자 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 패터닝 된 실리콘 기판상에 SiO2층 및 포토레지스트를 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트는 블랭킷 스트립 마스크(Blanket Stripe Mask)를 이용하여 노광에 의해 패터닝 되는 단계와, 상기 SiO2층은 엣치-백(Etch-Back)공정으로 SiO2층의 일부분이 식각된 후 패터닝 된 포토레지스트를 제거하는 단계와, 상기 전체 구조 상부에 SOG(Spin On Glass)막을 도포하는 단계와, 상기 SOG막이 엣치-백(Etch-Back)공정으로 전체 상부면을 평탄화 시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
제1a 및 1e 도는 본 발명에 따른 반도체 소자 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
제1a도와 관련하여, 실리콘 기판(1)상에 소정의 전도성 패턴(2)이 형성되고 전도성 패턴(2)을 포함한 절연청(3) 및 포토레지스트(4)가 순차적으로 형성된다. 상기 포토 레지스트(4)는 효과적인 평탄화를 위하여 토포로지의 단차보다 두껍게 도포된다.
제1b도와 관련하여, 상기 포토레지스트(4)는 블랭킷 스트립 마스크(Blanket Stripe mask)를 이용하여 노광에 의해 토포로지 단차가 낮은 영역의 포토 레지스트(4)는 노광 장치의 포커서(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 토포로지 단차가 높은 영역의 포토 레지스트(4)는 디포커스(DeFocus)를 유발시켜 패턴이 형성이 되지 않게 한다. 상기 블랭킷 스트립 마스크의 패턴 라인 폭은 토포로지 단차와 같은 크기로 만든다. 상기 최적 포커스 오프 셋(Offset)은 포토 리지스트(4)의 두께가 증가됨에 따라 포커스 마진(Margin)이 감소되므로 토포로지에 따른 포토 레지스트(4)의 두께 변동을 고려하여 스트립 패턴 라인 (Stripe Pattern Line)폭을 조정하는 것이다.
제1c도와 관련하여, 상기 절연층(3)은 엣치-백(Etch-Back) 공정이 실시되어 절연층(3)의 일부분이 식각된다. 상기 낮은 영역에 패터닝되어 형성된 포토레지스트(4)는 제거된다.
제1d도와 관련하여, 상기 전체 구조 상부에 SOG막(5)이 도포된다.
제1e도와 관련하여, 상기 SOG막(5)은 엣치-백(Etch-Back)공정이 실시되어 전체 구조 상부면이 평탄화가 된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 토포로지차가 큰 소자를 단차가 낮은 영역의 포토레지스트는 노광 장치의 포커스(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 단차가 높은 영역의 포토레지스트는 디포커스(DeFocus)를 발생시켜 패터닝이 형성이 되지 않게 하여 소자의 평탄화를 높일 수 있는 탁월한 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 반도체 소자 제조 방법에 있어서, 실리콘 기판(1)상에 소정의 전도성 패턴(2)이 형성되고 전도성 패턴(2)을 포함한 절연층(3) 및 포토레지스트(4)가 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트는 블랭킷 스트립 마스크(Blanket Stripe Mask)를 이용하여 노광에 의해 패터닝 되는 단계와, 상기 SiO2층은 엣치-백(Etch-Back)공정으로 SiO2층의 일부분이 식각된 후 패터닝 된 포토레지스트를 제거하는 단계와, 상기 전체 구조 상부에 SOG(Spin On Glass)막을 도포하는 단계와, 상기 SOG막이 엣치-백(Etch-Back)공정으로 전체 상부면을 평탄화 시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 토포로지 단차가 낮은 영역의 포토레지스트는 노광 장치의 포커스(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 단차가 높은 영역의 포토레지스트는 디포커스(DeFocus)를 유발시켜 패턴이 형성 되지 않게 하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서 상기 블랭킷 스트립 마스크의 패턴 라인 폭은 토포로지 단차와 같은 크기로 만드는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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