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KR0157294B1 - Pumping voltage generating circuit - Google Patents

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KR0157294B1
KR0157294B1 KR1019950043519A KR19950043519A KR0157294B1 KR 0157294 B1 KR0157294 B1 KR 0157294B1 KR 1019950043519 A KR1019950043519 A KR 1019950043519A KR 19950043519 A KR19950043519 A KR 19950043519A KR 0157294 B1 KR0157294 B1 KR 0157294B1
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김광호
삼성전자주식회사
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Abstract

[청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야][Technical field to which the invention described in the claims belongs]

본 발명은 반도체 메모리장치내부의 동작전원전압보다 높은 레벨로 승압된 펌핑전압을 발생하는 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로에 관한 것이다.The present invention relates to a pumping voltage generation circuit of a semiconductor memory device for generating a pumping voltage boosted to a level higher than an operating power supply voltage inside the semiconductor memory device.

[발명이 해결하려고 하는 기술적 과제][Technical Challenges to Invent]

종래의 반도체 메모리장치에서 전원전압 VCC가 2볼트이상인 경우, 2VCC를 VCC+1.5볼트로 만드는 것은 어렵지 않다. 그러나 전원전압 VCC가 1.5볼트이하의 저전원전압상태에서 2VCC를 VCC+1.5볼트로 만드는 것은 그리 용이하지 않다. 따라서 저전원전압상태에서 높게 승압된 전압레벨을 출력하는 것이 본 발명의 과제이다.In a conventional semiconductor memory device, when the power supply voltage VCC is 2 volts or more, it is not difficult to make 2 VCC into VCC + 1.5 volts. However, it is not very easy to make 2 VCC into VCC + 1.5 volts with a low supply voltage of less than 1.5 volts. Accordingly, it is a problem of the present invention to output a voltage level that is elevated in a low power supply state.

[발명의 해결방법의 요지][Summary of the solution of the invention]

초기상태에서 소정의 제1노드를 전원전압레벨로 프리차아지하는 프리차아지수단과, 소정의 제1클럭신호에 응답하여 상기 제1노드의 전압레벨을 소정의 제1전압레벨로 승압하는 제1승압수단과, 소정의 제2클럭신호에 응답하여 상기 제1노드와 소정의 제2노드를 선택적으로 접속하여 1노드이 전압을 제2노드로 전달을 선택적으로 제어하는 제1전송수단과, 소정의 제3클럭신호에 응답하여 상기 제2노드의 전압레벨을 소정의 제2전압레벨로 2차승압하는 제2승압수단과, 소정의 제4클럭신호에 응답하여 상기 제2노드의 제2전압레벨을 출력단으로 전송하는 제2전송수단을 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로를 구현함으로써 상기 과제를 달성하게 된다.Precharge means for precharging a predetermined first node to a power supply voltage level in an initial state, and a first step of boosting the voltage level of the first node to a predetermined first voltage level in response to the predetermined first clock signal; A boosting means, first transmission means for selectively connecting the first node and the predetermined second node in response to a predetermined second clock signal, and selectively controlling the transmission of the voltage to the second node by one node; Second boosting means for boosting the voltage level of the second node to a predetermined second voltage level in response to a third clock signal; and a second voltage level of the second node in response to a predetermined fourth clock signal. The above object is achieved by implementing a pumping voltage generation circuit of a semiconductor memory device, characterized in that it comprises a second transfer means for transmitting the output to the output terminal.

[발명의 중요한 용도][Important Uses of the Invention]

저전원전압에서 소망하는 펌핑전압을 출력하는 반도체 메모리장치.A semiconductor memory device that outputs a desired pumping voltage at a low power supply voltage.

Description

펌핑전압 발생회로Pumping voltage generating circuit

제1도는 종래기술에 따른 펌핑전압 발생회로의 회로도.1 is a circuit diagram of a pumping voltage generation circuit according to the prior art.

제2도는 본 발명에 따른 펌핑전압 발생회로의 회도로.2 is a circuit diagram of a pumping voltage generating circuit according to the present invention.

제3도는 제2도에 따른 동작타이밍도.3 is an operation timing diagram according to FIG.

본 발명은 반도체 메모리장치에 관한 것으로, 특히 반도체 메모리장치 내부의 동작전원전압보다 높은 레벨로 승압된 펌핑전압을 발생하는 반도체 메모리장치의 펌핑장치 발생회로에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a pumping device generating circuit of a semiconductor memory device for generating a pumping voltage boosted to a level higher than an operating power supply voltage inside the semiconductor memory device.

디램과 같은 반도체 메모리장치는 데이타를 저장하는 메모리셀 어레이(memoty cell array)와 상기 메모리셀 어레이에 저장된 데이타를 액세스하기 위한 주변회로도들로 구성된다. 상기 메모리셀 어레이는 단위메모리셀들의 집합체이다. 디램에서 상기 단위메모리셀은 한개의 스토리지 캐패시터(stotage capacitor)와 한개의 액세스 트랜지스터(access transistor)로 구성된다. 상기 액세스 트랜지스터의 제어전극을 워드라인과 접속된다. 일반적으로 상기 액세스 트랜지스터의 제어전극에는 메모리장치내부의 동작전원전압 VCC보다 높은 전압레벨이 필요한데, 이는 상기 메모리셀을 구성하는 액세스 트랜지스터의 물성적 성질을 문턱전압(threshold voltage)에 따른 신호전압의 강하를 방지하기 위해서이다. 이와 더불어 반도체 메모리장치에서는 여러가지 이유로 전원전압보다 높게 승압된 펌핑장압이 필요하다. 따라서 반도체 메모리장치내부에는 동작전원전압을 입력하여 높게 승압하는 펌핑전압 발생회로를 탑재하는 것이 일반화되어 있다.A semiconductor memory device such as a DRAM is composed of a memory cell array storing data and peripheral circuit diagrams for accessing data stored in the memory cell array. The memory cell array is a collection of unit memory cells. In the DRAM, the unit memory cell includes one storage capacitor and one access transistor. The control electrode of the access transistor is connected to a word line. In general, the control electrode of the access transistor requires a voltage level higher than the operating power supply voltage VCC in the memory device. To prevent it. In addition, in the semiconductor memory device, a pumping voltage voltage boosted higher than the power supply voltage is required for various reasons. Therefore, it is common to mount a pumping voltage generation circuit that inputs an operating power supply voltage and boosts the voltage high.

제1도는 종래기술에 따른 펌핑전압 발생회로 회로도이다.1 is a circuit diagram of a pumping voltage generation circuit according to the prior art.

제1도를 참조하면, 발진회로(2)는 인버터들(4, 8)의 입력단들과 공통으로 접속된다. 상기 인버터들(4, 8)의 출력단들은 인버터들(6, 10)의 입력단들과 각각 접속된다. 상기 인버터들(6, 10)의 출력단들은 캐패시터들(12, 14)의 일단들과 접속된다. 상기 캐패시터들(12, 14)의 타단들은 엔모오스 트랜지스터(16)의 채널일단 및 게이트단자와 각각 접속된다. 상기 앤모오스 트랜지스터(16)의 채널타단으로는 펌핑전압 VPP1이 출력된다.Referring to FIG. 1, the oscillation circuit 2 is commonly connected with the input terminals of the inverters 4, 8. The output terminals of the inverters 4, 8 are connected to the input terminals of the inverters 6, 10, respectively. The output ends of the inverters 6, 10 are connected to one ends of the capacitors 12, 14. The other ends of the capacitors 12 and 14 are connected to the channel end and the gate terminal of the NMOS transistor 16, respectively. The pumping voltage VPP1 is output to the other end of the channel of the NMOS transistor 16.

제1도에서 유의할 사항은 노드 Na과 Nb를 프리차아지하기 위한 프리차아지수단들이 생략되어 있다.Note that in FIG. 1, precharge means for precharging nodes Na and Nb are omitted.

제1도의 종래회로에서 노드 Na은 전원전압 VCC레벨로 프리차아지되고, 노드 Nb는 2VCC로 프리차아지된다. 이러한 구조에서 펌핑전압 VPP1레벨의 최대값은 2VCC이다. 디램에서 데이타의 입출력을 제어하는 액세스 트랜지스터의 게이트에 전달되는 전압레벨은 최소한 VCC+1.5볼트이상은 되어야 한다. 만약 VCC가 2볼트이상인 경우, 2VCC를 VCC+1.5볼트로 만드는 것은 어렵지 않다. 그러나 VCC 가 1.5볼트이하가 되면 2VCC를 VCC+1.5볼트로 만드는 것은 그리 용이하지 않다.In the conventional circuit of FIG. 1, node Na is precharged to the power supply voltage VCC level, and node Nb is precharged to 2VCC. In this structure, the maximum value of the pumping voltage VPP1 level is 2VCC. The voltage level delivered to the gate of the access transistor that controls the input and output of data in the DRAM must be at least VCC + 1.5 volts. If VCC is more than 2 volts, it is not difficult to make 2 VCC into VCC + 1.5 volts. However, when VCC is below 1.5 volts, it is not easy to make 2VCC into VCC + 1.5 volts.

따라서 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 반도체 메모리장치에서 승압되는 전압레벨을 용이하게 출력하는 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로를 제공하는 데 있다.Accordingly, in order to achieve the object of the present invention, there is provided a pumping voltage generation circuit of a semiconductor memory device which easily outputs a voltage level boosted in the semiconductor memory device according to the present invention.

상기 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로는,In order to achieve the object of the present invention, the pumping voltage generation circuit of the semiconductor memory device according to the present invention,

초기상태에서 소정의 제1노드를 전원전압레벨로 프리차아지하는 프리차아지수단과,Precharge means for precharging a predetermined first node to a power supply voltage level in an initial state;

소정의 제1클럭신호에 응답하여 상기 제1노드의 전압레벨을 소정의 제1전압레벨로 승압하는 제1승압수단과,First boosting means for boosting the voltage level of the first node to a predetermined first voltage level in response to a predetermined first clock signal;

소정의 제2클럭신호에 응답하여 상기 제1노드와 소정의 제2노드를 선택적으로 상기 제1노드이 전압을 제2노드로 전달을 선택적으로 제어하는 제1전송수단과,First transmission means for selectively controlling the transfer of the voltage to the second node by the first node and selectively to the first node and the predetermined second node in response to a predetermined second clock signal;

소정의 제3클럭신호에 응답하여 상기 제2노드의 전압레벨을 소정의 제2전압레벨로 2차승압하는 제2승압수단과,Second boosting means for boosting the voltage level of the second node to a predetermined second voltage level in response to a predetermined third clock signal;

소정의 제4클럭신호에 응답하여 상기 제2노드의 제2전압레벨을 출력단으로 전송하는 제2전송수단을 구비함을 특징으로 한다.And second transmission means for transmitting a second voltage level of the second node to an output terminal in response to a predetermined fourth clock signal.

이하 첨부된 도면을 사용하여 본 발명에 따른 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로의 바람직한 실시예를 설명하겠다.Hereinafter, a preferred embodiment of a pumping voltage generation circuit of a semiconductor memory device according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

제2도는 본 발명의 실시예에 따른 펌핑전압 발생회로의 회로도이다.2 is a circuit diagram of a pumping voltage generation circuit according to an embodiment of the present invention.

제2도를 참조하면, 제1클럭 A는 인버터(32)의 입력단과 캐패시터(22)의 일단에 공통으로 접속된다. 상기 인버터(32)의 출력단은 캐패시터(34)의 일단과 접속되고, 상기 캐패시터(22)의 타단은 다이오드접속된 엔모오스 트랜지스터(24)의 소오스단 및 드레인이 전원전압단자에 접속된 엔모오스 트랜지스터(26)의 게이트단자에 공통으로 접속된다. 상기 캐패시터(34)의 타단 및 상기 엔모오스 트랜지스터(26)의 소오스는 소정의 제1노드 N1에 공통으로 접속된다. 엔모오스 트랜지스터(28)는 채널양단이 상기 엔모오스 트랜지스터(26)의 채널양단에 병렬로 접속되고 게이트가 전원전압단에 다이오드접속된다. 캐패시터(22)와 다이오드접속된 엔모오스 트랜지스터(24)와 엔모오스 트랜지스터(26, 28)은 유기적으로 접속되어 상기 제1노드 N1를 초기상태에서 전원전압레벨로 프리차아지하기 위한 프리차아지수단이다. 또한, 인버터(32)와 캐패시터(34)는 유기적으로 접속되고, 상기 제1클럭 A에 응답하여 상기 제1노드 N1전압을 펌핑하기 위한 회로이다. 한편, 상기 노드 N1은 피모오스 트랜지스터(36)의 소오스와 접속되고, 상기 피모오스 트랜지스터(36)는 게이트가 제1클럭 B에 접속되고, 드레인이 소정의 제2노드 N2에 접속된다. 제3클럭 C는 인버터(42)의 입력단과 접속되고, 상기 인버터(42)의 출력단은 캐패시터(44)의 일단과 접속된다. 상기 캐패시터(44)의 타단은 상기 제2노드 N2에 접속된다. 상기에서 피모오스 트랜지스터(36)은 상기 노드 N1의 전하를 선택적으로 상기 제2노드 N2로 전송하기 위한 전송역할을 수행한다. 또, 인버터(42)와 캐패시터(44)는 상기 노드 N2의 전압레벨을 펌핑하는 역할을 수행한다. 피모오스 트랜지스터(46)은 제4클럭 D이 게이트에 접속되고, 소오스가 상기 제2노드 N2에 접속되고, 드레인 출력라인과 접속된다. 상기 출력라인으로는 펌핑전압 VPP2가 출력된다. 상기 피모오스 트랜지스터(46)은 상기 노드 N2의 전하를 출력라인으로 전송하는 역할을 수행한다. 상기 피모오스 트랜지스터(36, 46)의 기판에는 웰바이어스전압이 접속된다.Referring to FIG. 2, the first clock A is commonly connected to an input terminal of the inverter 32 and one end of the capacitor 22. An output terminal of the inverter 32 is connected to one end of the capacitor 34, and the other end of the capacitor 22 is an NMOS transistor in which a source terminal and a drain of the diode-connected enMOS transistor 24 are connected to a power supply voltage terminal. Commonly connected to the gate terminal of (26). The other end of the capacitor 34 and the source of the enMOS transistor 26 are commonly connected to a predetermined first node N1. In the NMOS transistor 28, both ends of the channel are connected in parallel to both ends of the channel of the NMOS transistor 26, and a gate thereof is diode-connected to the power supply voltage terminal. The pre-charge means for precharging the first node N1 from the initial state to the power supply voltage level is organically connected to the NMOS transistor 24 and the NMOS transistors 26 and 28 which are diode-connected with the capacitor 22. to be. In addition, the inverter 32 and the capacitor 34 are organically connected and are a circuit for pumping the first node N1 voltage in response to the first clock A. FIG. On the other hand, the node N1 is connected to the source of the PMOS transistor 36, the gate of the PMOS transistor 36 is connected to the first clock B, the drain is connected to the predetermined second node N2. The third clock C is connected to the input terminal of the inverter 42, and the output terminal of the inverter 42 is connected to one end of the capacitor 44. The other end of the capacitor 44 is connected to the second node N2. The PMOS transistor 36 performs a transfer role for selectively transferring the charge of the node N1 to the second node N2. In addition, the inverter 42 and the capacitor 44 serve to pump the voltage level of the node N2. The PMOS transistor 46 has a fourth clock D connected to its gate, a source connected to the second node N2, and a drain output line. The pumping voltage VPP2 is output to the output line. The PMOS transistor 46 transfers the charge of the node N2 to an output line. A well bias voltage is connected to the substrates of the PMOS transistors 36 and 46.

제3도는 상기 제2도에 따른 동작타이밍도이다.3 is an operation timing diagram according to FIG. 2.

초기상태에서 다이오드접속된 엔모오스 트랜지스터(24)을 통하여 전달되는 전압전원에 의해 노드 Np는 VCC-Vtn1(여기서 Vtn1은 엔모오스 트랜지스터(24)의 문턱전압)레벨로 충전되는데, 클럭 A의 전압레벨이 VCC이므로 상기 노드 Np는 2VCC-Vtn1레벨이 된다. 이에 따라 엔모오스 트랜지스터(26)은 플턴온되고 노드 N1은 VCC레벨로 프리차아지된다. 이 상태에서 피모오스 트랜지스터(36)은 턴온상태이므로 노드 N2도 VCC레벨로 프리차아지된다. 상기 클럭 A가 VCC레벨로 변환함에 따라 인버터(32)와 캐패시터(34)의 동작에 의해 상기 노드 N1은 2VCC레벨로 펌핑되는데, 상기 피모오스 트랜지스터(36)이 턴온되어 있으므로 상기 노드 N1의 2VCC레벨은 노드 N1과 노드 N2의 차아지셰어링(charge sharing)동작에 의해 모두 1.5VCC레벨이 된다. 여기서 클럭 B가 VPP레벨로 승압됨에 따라 피모오스 트랜지스터(36)은 턴오프된다. 이때 클럭 C가 VCC레벨에서 VSS레벨로 변환하게 되고, 이에 따라 상기 노드 N2의 전압레벨은 2.5VCC레벨로 펌핑된다. 이러한 노드 N2의 전압은 클럭 D가 VPP레벨에서 VSS레벨로 변환한에 따라 피모오스 트랜지스터(46)을 통하여 출력라인으로 전송된다. VPP2가 바로 상기 제2도에서 출력되는 본 발명에 따른 펌핑전압이다.In the initial state, the node Np is charged to VCC-Vtn1 (where Vtn1 is the threshold voltage of the NMOS transistor 24) by the voltage power transmitted through the diode-connected NMOS transistor 24. Since this is VCC, the node Np becomes 2VCC-Vtn1 level. Accordingly, the NMOS transistor 26 is turned on and the node N1 is precharged to the VCC level. In this state, since the PMOS transistor 36 is turned on, the node N2 is also precharged to the VCC level. As the clock A changes to the VCC level, the node N1 is pumped to the 2 VCC level by the operation of the inverter 32 and the capacitor 34. Since the PMOS transistor 36 is turned on, the 2 VCC level of the node N1 is turned on. Is 1.5 VCC level due to the charge sharing operation of the node N1 and the node N2. Here, as the clock B is boosted to the VPP level, the PMOS transistor 36 is turned off. At this time, the clock C is converted from the VCC level to the VSS level, so that the voltage level of the node N2 is pumped to the 2.5VCC level. The voltage of the node N2 is transmitted to the output line through the PMOS transistor 46 as the clock D is converted from the VPP level to the VSS level. VPP2 is the pumping voltage according to the present invention output in FIG.

결국, 캐패시터(34)를 통하여 1차로 펌핑하고, 캐패시터(44)를 통하여 2차펌핑을 실시함으로써 저전원전압에서 충분히 펌핑하여 소망하는 전압레벨을 얻을 수 있게 된다. 이때, 피모오스 트랜지스터들(36, 46)의 웰바이어스는 펌핑전압 VPP보다 높은 VPPW를 사용하는 이유는 노드 N2와 피모오스 트랜지스터들의 웰사이에 포지티브 바이어스가 걸려 래치업(latch-up)문제를 유발하는 것을 방지하기 위한 것이다. 이에 대한 사항은 본 출원인에 의하여 특허출원된 대한민국 특허출원 제93-23697호에 자세히 개시되어 있다. 상기에서 전송수단으로 구성된 피모오스 트랜지스터들(36, 46)은 차아지를 전달시 전압드롭(voltage drop)을 억제하는 효과를 발생하게 된다.As a result, the first pumping through the capacitor 34 and the second pumping through the capacitor 44 allow the pump to be sufficiently pumped at a low power supply voltage to obtain a desired voltage level. In this case, the reason why the well bias of the PMOS transistors 36 and 46 uses VPPW higher than the pumping voltage VPP is that a positive bias is applied between the node N2 and the well of the PMOS transistors, causing a latch-up problem. It is to prevent that. Details thereof are disclosed in Korean Patent Application No. 93-23697 filed by the applicant. The PMOS transistors 36 and 46 configured as the transmission means generate an effect of suppressing a voltage drop when transferring a charge.

이상에서와 같은 펌핑전압 발생회로가 구현됨으로써 종래에서 문제시되었던 저전압전압에서 효과적으로 원하는 전압레벨을 얻을 수 있게 된다.By implementing the pumping voltage generation circuit as described above, it is possible to effectively obtain the desired voltage level at the low voltage voltage that has been a problem in the prior art.

Claims (5)

반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로에 있어서, 초기상태에서 소정의 제1노드를 전원전압레벨로 프리차아지하는 프리차아지수단과, 소정의 제1클럭신호에 응답하여 상기 제1노드의 전압레벨을 소정의 제1전압레벨로 승압하는 제1승압수단과, 소정의 제2클럭신호에 응답하여 상기 제1노드와 소정의 제2노드를 선택적으로 접속하여 상기 제1노드의 전압을 제2노드로 전달을 선택적으로 제어하는 제1전송수단과, 소정의 제3클럭신호에 응답하여 상기 제2노드의 전압레벨을 소정의 제2전압레벨로 2차승압하는 제2승압수단과, 소정의 제4클럭신호에 응답하여 상기 제2노드의 제2전압레벨을 출력단으로 전송하는 제2전송수단을 구비함을 특징으로 하는 메모리장치의 펌핑전압 발생회로.A pumping voltage generation circuit of a semiconductor memory device, comprising: precharge means for precharging a predetermined first node to a power supply voltage level in an initial state, and a voltage level of the first node in response to a predetermined first clock signal. First boosting means for boosting to a predetermined first voltage level, and selectively connecting the first node to a predetermined second node in response to the predetermined second clock signal to transfer the voltage of the first node to the second node; First transmission means for selectively controlling transmission, second boosting means for secondly boosting the voltage level of the second node to a predetermined second voltage level in response to a predetermined third clock signal, and a predetermined fourth And a second transmission means for transmitting a second voltage level of the second node to an output terminal in response to a clock signal. 제1항에 있어서, 상기 제1전압레벨이 전원전압레벨의 1.5배임을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로.The pumping voltage generation circuit of claim 1, wherein the first voltage level is 1.5 times a power supply voltage level. 제1항에 있어서, 상기 제2전압레벨이 전원전압레벨의 2.5배임을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로.2. The pumping voltage generation circuit of claim 1, wherein the second voltage level is 2.5 times the power supply voltage level. 제1항에 있어서, 상기 제1전송수단과 제2전송수단이 각각 피오스트랜지스터임을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로.The pumping voltage generation circuit of a semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first transfer means and the second transfer means are pio transistors, respectively. 제4항에 있어서, 상기 피모오스 트랜지스터가 소정의 승압전압보다 높은 전압이 웰바이어스로 인가됨을 특징으로 하는 반도체 메모리장치의 펌핑전압 발생회로.The pumping voltage generation circuit of claim 4, wherein a voltage higher than a predetermined boost voltage is applied to the PMOS transistor as a well bias.
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