KR0139784B1

KR0139784B1 - Laser Marking Device Using Polarizing Glass Mask

Info

Publication number: KR0139784B1
Application number: KR1019920019833A
Authority: KR
Inventors: 정재용
Original assignee: 이희종; 엘지산전주식회사
Priority date: 1992-10-27
Filing date: 1992-10-27
Publication date: 1998-07-01
Also published as: KR940008883A

Abstract

본 발명은 편광유리마스트를 이용한 레이저 마킹장치에 관한 것으로, 종래의 레이저 마킹장치는 정상마킹과 역상마킹에 따라서 마스크를 교환 해야하는 문제점이 이었는 바, 레이저 빔 발생기(1)와, 빔 확대기(2)와, 레이저 빔의 광축을 중심으로 90°회전 가능하도록 설치되어 비편광된 레이저 빔을 선형편광시켜주는 선형편광자(9)와, 투명한 유기기판(10a)위에 마킹하려는 패턴부분에 λ/2코팅층(10b)을 형성하는 편광유리마스크(10)와, 레이저 빔의 편광방향에 따라서 빔의 진행방향을 분리하는 편광분할자(11)와, 마킹대상물(13a)(13b)에 레이저 빔을 결상시켜주는 결상용 렌즈계(4)와, 마킹에 사용되지 않는 레이저 빔을 흡수하는 흡수체(12)로 구성되는 본 발명을 제공하여 정상마킹과 역상마킹을 선택적으로 실시가능하게 하는 한편, 상기 흡수체(12)대신에 결상용 렌즈계(4')를 설치하여 정상마킹과 역상마킹을 동시에 실시할 수 있게 되어 제품의 성능이 현저하게 향상된 것이다.The present invention relates to a laser marking apparatus using a polarizing glass mast, the conventional laser marking apparatus has a problem that the mask must be replaced according to the normal marking and the reverse phase marking, the laser beam generator (1) and the beam expander (2) And a linear polarizer 9 installed to rotate 90 ° about the optical axis of the laser beam to linearly polarize the unpolarized laser beam, and a λ / 2 coating layer on the pattern portion to be marked on the transparent organic substrate 10a. Polarizing glass mask 10 forming 10b, polarizing splitter 11 separating the traveling direction of the beam according to the polarization direction of the laser beam, and imaging the laser beam on the marking objects 13a and 13b. The present invention comprises an imaging lens system 4 and an absorber 12 that absorbs a laser beam that is not used for marking, thereby making it possible to selectively perform normal marking and reversed phase marking, instead of the absorber 12. Texture By installing a commercial lens system 4 ', it is possible to perform normal marking and reverse marking at the same time, which significantly improves the performance of the product.

Description

Laser Marking Device Using Polarizing Glass Mask

제1도는 종래 장치의 구성도1 is a block diagram of a conventional device

제2도 및 3도는 종래 장치에 의한 실시예를 도시한 것으로 제2도는 금속판 마스크의 형상도.제3도는 레이저 빔에 의해 투과된 마킹 대상물의 형상도.2 and 3 show an embodiment by a conventional apparatus, in which FIG. 2 is a shape of a metal plate mask. FIG. 3 is a shape of a marking object transmitted by a laser beam.

제4도 및 제5도는 본 발명 장치의 작용을 설명하기 위한 것으로 제4도는 정상 마킹일 경우의 구성도. 제5도는 역상 마킹일 경우의 구성도.4 and 5 are for explaining the operation of the device of the present invention, Figure 4 is a configuration diagram when the normal marking. 5 is a configuration diagram in the case of reversed marking.

제6도 및 제7도는 본 발명 장치에 의한 실시예를 도시한 것으로 제6도는 편광 유리 마스크의 형상도. 제7도의 a는 정상 마킹일 경우의 마킹 대상물의 형상도. b는 역상 마킹일 경우의 마킹 대상물의 형상도.6 and 7 show an embodiment by the apparatus of the present invention, and FIG. 6 is a shape diagram of a polarizing glass mask. 7A is a shape diagram of a marking object in the case of normal marking. b is the shape of the marking object in the case of reversed marking.

제8도는 본 발명장치에 의해 정상마킹과 역상 마킹이 동시에 실시되어지는 작용을 보인 구성도.8 is a block diagram showing the effect that the normal marking and the reverse phase marking is carried out at the same time by the apparatus of the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1:레이저 빔 발생기2:빔 확대기1: laser beam generator 2: beam expander

4,4':걸상용 렌즈계10:편광유리마스크4,4 ': Lens system for bench 10: Polarizing glass mask

10a:유리기관10b:패턴부분10a: glass engine 10b: pattern portion

11:편광 분할자12:흡수체11: polarization splitter 12: absorber

13a,13b:마킹대상물13a, 13b: Marking object

본 발명은 마스크를 이용한 레이저 마킹 장치에 관한 것으로, 특히 편광 유리마스크를 이용하여 정상마킹을 선택적으로 실시할 수 있도록 한 편광유리마스크를 이용한 레이저 마킹 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser marking apparatus using a mask, and more particularly, to a laser marking apparatus using a polarizing glass mask to selectively perform normal marking using a polarizing glass mask.

일반적으로 통용되고 있는 레이저 마킹은 레이저 빔을 광원으로 사용하여 물체 표면의 일부를 용융제거하거나 변색시킴으로써 원하는 문자나 도형을 각인(刻印)하는 방법으로서, 기존의 잉크 젯트 프린터나 실크 인쇄등에 의한 마킹 방식에 비하여 레이져 빔을 직접적인 가공수단으로 사용하기 때문에 비접촉식이며, 영구마킹이 가능하여 지워질 염려가 없으며, 고정밀도의 선명한 마킹이 가능하게 되는 등의 여러가지 장점이 있다.Commonly used laser marking is a method of marking a desired character or figure by melting or discoloring a part of an object surface by using a laser beam as a light source, and marking by a conventional ink jet printer or silk printing. Compared with the laser beam as a direct processing means, it is non-contact type, permanent marking is possible, there is no fear of erasing, and there are various advantages such as high precision and clear marking.

이와같은 레이저 마킹방식에는 소형의 스폿으로 포커싱 시킨 레이저 빔을 갈바노미러(Galvano Mirror)등으로 주사하여 레이저 빔이 조사된 부분이 마킹되는 주사형(또는 Pen Type)마킹 방식과, 원하는 문자나 도형등의 패턴을 미리 마스크에 형성하여 마스크를 투과한 레이저 빔을 렌즈계 등을 이용하여 물체표면에 결상시킴으로써 패턴 부분이 마킹되는 마스크형 마킹 방식으로 구별되는데 이러한 레이저 마킹은 각종 반도체, Ic,공구,명판 등의 고품위 마킹이나 조각등의 분야에 사용되고 있다.In this laser marking method, a laser beam focused on a small spot is scanned by a galvano mirror or the like, and a scanning type (or pen type) marking method in which the laser beam is irradiated is marked, and a desired character or figure Patterns are formed on the mask in advance, and the laser beam that has passed through the mask is formed on the surface of the object by using a lens system to distinguish the mask type marking method. The laser marking is classified into various semiconductors, ICs, tools, and nameplates. It is used for fields such as high quality marking or sculpture.

본 발명은 상기한 레이저 마킹 방식 중 마스크형 마킹 방식에 관련된느 것으로, 종래의 레이저 마킹장치는 제1도에 도시한 바와같이, 레이저 빔의 광원인 레이저 빔 발생기(1)와, 레이저 빔의 직경을 확대시켜주는 빔 확대기(2)와, 마킹패턴이 형성되어 있는 금속판 마스크(3)와 마스크(3)를 투과한 레이저 빔을 마킹대상물(5)에 결상시켜주는 렌즈계(4)로 구성되어 있다.The present invention relates to a mask-type marking method of the above-described laser marking method, the conventional laser marking apparatus, as shown in Figure 1, the laser beam generator 1, which is a light source of the laser beam, and the diameter of the laser beam A beam enlarger 2 for enlarging the light, a metal plate mask 3 on which a marking pattern is formed, and a lens system 4 for forming a laser beam passing through the mask 3 on the marking object 5. .

이와같이 구성된 종래 장치에서 금속판 마스크(3)의 패턴(3a)부분을 제2도에서 처럼 A문자 부분의 금속을 제거하였을 경우를 실시예로서 작용원리를 설명하면, 레이저 빔 발생기(1)로 부터 발생된 레이저 빔(6)은 빔 확대기(2)에서 마스크(3)상에 형성된 패턴(3a)을 조사하기에 충분한 크기로 확대되어 금속판 마스크(3)로 입사되고, 금속마스크(3)에 입사되는 레이저 빔(7)은 금속부분이 제거된 A문자의 패턴부분(3a)은 통과되고 주변부분(3b)은 레이저 빔(7)이 차단되어 마스크(3)를 통과한 레이저 빔(8)만이 결상용 렌즈계(4)에 의해 마킹대상물(5)의 표면에 패턴에 패턴이 결상(結橡)됨으로써 제3도와 같이 마스크(3)의 패턴부분(3a)과 동일한 형상의 패턴(M)을 얻게 된다.In the conventional apparatus configured as described above, the principle of operation is described in the case where the metal of the letter A portion is removed as shown in FIG. 2 in the pattern 3a portion of the metal plate mask 3, and is generated from the laser beam generator 1. The laser beam 6 is enlarged to a size sufficient to irradiate the pattern 3a formed on the mask 3 in the beam expander 2 and is incident on the metal plate mask 3 and is incident on the metal mask 3. The laser beam 7 passes through the pattern portion 3a of the letter A from which the metal portion is removed, and the peripheral portion 3b passes through the mask 3 by blocking the laser beam 7. As a pattern is formed on the surface of the marking object 5 by the commercial lens system 4, a pattern M having the same shape as the pattern portion 3a of the mask 3 is obtained as shown in FIG. .

그러나, 종래의 레이저 마킹장치는 사용되어지는 마스크가 금속 재질의 판을 사용하여, 마킹하려는 패턴부분의 형상에 해당되는 금속물을 마스크에서 제거한 후, 그 부위에 레이저 빔을 투과시켜 마킹하는 방식으로, 마스크에 형성된 패턴의 역상(逆橡)마킹을 위해서는 패턴부분이 반대로 형성된 역상마킹용 마스크로 교환하여 사용해야만 하는 문제점이 있었다.However, in the conventional laser marking apparatus, the mask used is a metal plate to remove the metal material corresponding to the shape of the pattern portion to be marked from the mask, and then transmits the laser beam through the portion to mark it. In order to reverse the marking of the pattern formed on the mask, there is a problem that the pattern portion must be replaced with a mask for reverse phase marking in which the pattern portion is formed in reverse.

본 발명의 목적은 편광유리 마스크를 사용하여 레이저 빔의 편광방향을 조절함으로써 정상마킹과 역상마킹을 동시에 또는 선택적으로 실시하려는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to simultaneously or selectively perform normal marking and reverse marking by adjusting the polarization direction of a laser beam using a polarizing glass mask.

이러한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 레이저 빔 발생기와, 빔 확대기와, 레이저 빔의 광축을 중심으로 90°회전 가능하도록 설치되어 비편광된 레이저 빔을 선형편광시켜주는 선형편광자와, 투명한 유리기판 위에 마킹하려는 패턴부분에 λ/2코팅층을 형성하는 편광유리마스크와, 레이저 빔의 편광방향에 따라서 빔의 진행방향을 분리하는 편광분할자와, 마킹대상물에 레이저 빔을 결상시켜주는 결사용 렌즈와, 마킹에 사용되지 않는 레이저 빔을 흡수하는 흡수제로 구성되어 정상마킹과 역상마킹을 선택적으로 실시하는 것임을 특징으로 하는 편광유리마스크를 이용한 레이저 마킹장치가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention, a laser beam generator, a beam expander, a linear polarizer for linearly polarizing a non-polarized laser beam is installed so as to rotate 90 ° around the optical axis of the laser beam, a transparent glass substrate A polarizing glass mask for forming a λ / 2 coating layer on the pattern portion to be marked above, a polarization splitter for separating the traveling direction of the beam according to the polarization direction of the laser beam, and an absent lens for forming a laser beam on the marking object; The present invention provides a laser marking apparatus using a polarizing glass mask, comprising an absorbent absorbing a laser beam not used for marking to selectively perform normal marking and reversed marking.

또한, 상기 본 고안 장치에 있어서, 흡수체 대신에 결상용 렌즈계를 설치하면 정상마킹과 역상마킹을 동시에 실시할 수 있는 효과가 있다.In addition, in the device of the present invention, if an imaging lens system is provided in place of the absorber, the normal marking and the reverse phase marking can be simultaneously performed.

이하, 본 발명을 첨부도면에 의해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with the accompanying drawings.

제5도 내지 제8도는 본 발명에 의한 실시예를 도시한 것으로, 본 발명에 의한 레이저 마킹장치는 레이저 빔 발생기(1)와, 레이저 빔(6)의 크기를 확대시켜주는 빔 확대기(Beam Expander)(2)와, 비평광된(Unpolarized)레이저 빔(7)을 선형편광시켜주는 선형편광자(Linear Polarizer)(9)와, 투명한 유리기판(10a)위에 마킹하려는 패턴부분에 λ/2코팅(A Half - Costing)층(10b)을 형성하는 편광유리마스크(10)와, 레이저 빔의 편광방향에 따라서 빔의 진행방향을 분리시켜주는 편광분할자(Polarizing Beam Splitter)(11)와, 마킹대상물(13a)(13b)에 레이저 빔을 결상시켜주는 결상용 렌즈계(4)와, 마킹에 사용하지 않는 레이저 빔을 흡수하는 흡수체(12)로 구성한다.5 to 8 illustrate an embodiment according to the present invention. The laser marking apparatus according to the present invention includes a laser beam generator 1 and a beam expander for enlarging the size of the laser beam 6. 2), a linear polarizer 9 for linearly polarizing the unpolarized laser beam 7, and a λ / 2 coating on the pattern portion to be marked on the transparent glass substrate 10a. A half-costing layer 10b, a polarizing glass mask 10 for forming a layer, a polarizing beam splitter 11 for separating the traveling direction of the beam according to the polarization direction of the laser beam, and a marking object An imaging lens system 4 for forming a laser beam at (13a) and (13b), and an absorber 12 for absorbing a laser beam not used for marking.

상기 선형편광자(9)는 레이저 빔의 광축을 중심으로 90°회전가능하도록 구성되어 있다.The linear polarizer 9 is configured to be rotatable 90 degrees about the optical axis of the laser beam.

도면 중 14a,17은 수직방향, 14b,16은 수평방향, 15a15b는 수직, 수평방향으로 편광되는 레이저 빔을 나타낸 것이다.14a and 17 show the laser beams polarized in the vertical direction, 14b and 16 in the horizontal direction, and 15a15b in the vertical and horizontal directions.

이와같이 구성된 본 발명의 작용 효과를 설명한다.The effect of this invention comprised in this way is demonstrated.

제4도는 본 발명 장치에 의해 정상마킹된느 경우를 도시한 구성도로서, 레이저 빔 발생기(1)로 부터 출사된 레이저 빔(6)은 빔(6)의 단면적이 작기 ㄸ문에 마스크(10)상에 패턴을 조사하기에 충분한 크기의 레이저 빔(7)으로 빔 확대기(2)에 의해 확대되는데, 이ㄸ의 레이저 빔(6)(7)은 빛의 진행방향에 대하여 수직인 평면상에서 모든 방향의 편광성분을 포함하고 있는 비 편광빔(Unpolarized Beam)이다.4 is a block diagram showing the case of normal marking by the apparatus of the present invention. Since the laser beam 6 emitted from the laser beam generator 1 has a small cross-sectional area of the beam 6, the mask 10 The beam expander 2 is enlarged with a laser beam 7 of sufficient size to irradiate the pattern onto it, which is then directed in all directions on a plane perpendicular to the direction of light propagation. It is an unpolarized beam containing the polarization component of (Unpolarized Beam).

상기한 바와같이 빔 확대기(2)에서 확대된 레이저 빔(7)은 선형편광자(9)를 지나제 되면 레이저 빔의 편광방향이 한쪽 방향으로 동일한 성분의 레이저 빔 만이 투과되어 선형편광된 (제4도에서는 선형 편광자의 방향에 의해 수직방향으로 편광된)레이저 빔(14a)이 편광유리마스크(10)로 입사하게 된다.As described above, when the laser beam 7 enlarged in the beam expander 2 passes through the linear polarizer 9, only the laser beam having the same component is transmitted in one direction in the polarization direction of the laser beam and is linearly polarized (fourth). In the drawing, the laser beam 14a polarized in the vertical direction by the direction of the linear polarizer is incident on the polarizing glass mask 10.

이 때 상기 편광유리마스크(10)는 제6도에서 도시한 바와같이, 투명한 유리기판 상에 패턴(도면에서 문자A부분)이 형성되는 부분에만 λ/2코팅을 하여 주므로, 투명한 유리부분(10a)을 통과하는 레이저 빔과 패턴부분(10b)을 통과하는 레이저 빔은 편광방향이 90°의 차이를 갖게 된다.In this case, as shown in FIG. 6, the polarizing glass mask 10 is coated with λ / 2 only on a portion where a pattern (the letter A portion in the drawing) is formed on the transparent glass substrate, thereby providing a transparent glass portion 10a. The laser beam passing through) and the laser beam passing through pattern portion 10b have a polarization direction of 90 °.

즉, 수직방향으로 선형편광된 레이저 빔(14a)이 편광유리마스크(10)를 투과하게 되면 투명유리부분(10a)을 통과한 레이저 빔은 아무런 변화 없이 수직인 편광상태를 유지하게 되고, 패턴부분(10b)을 통과한 레이저 빔은 편광방향이 90°바뀌어 수평편광된 레이저 빔이 된다.That is, when the laser beam 14a linearly polarized in the vertical direction passes through the polarizing glass mask 10, the laser beam passing through the transparent glass part 10a maintains the vertically polarized state without any change, and the pattern part The laser beam passing through 10b becomes a horizontally polarized laser beam by changing the polarization direction by 90 degrees.

상기 편광유리마스크(10)를 통과한 레이저 빔(15a)은 편광분할자(11)로 입사되는데, 상기 편광분할자(11)는 빛의 편광방향에 따라서 수평방향성분과 수직방향성분을 분리해 주는 역활을 하므로, 편광유리마스크(10)의 패턴부분(10b)을 통과하면서 수평편광 된 레이저 빔은 편광분할자(11)를 그대로 통과하여 결상용 렌즈계(4)에 입사되어 마킹대상물(13a)의 표면에 패턴부분(10b)을 마킹하게 되고, 투명유리부분(10a)을 통과하면서 수직편광된 레이저 빔은 편광분할자(11)에 의해 방향이 90°바뀌어 흡수체(12)에 흡수하게 된다.The laser beam 15a passing through the polarization glass mask 10 is incident to the polarization splitter 11, and the polarization splitter 11 separates the horizontal component and the vertical component according to the polarization direction of light. Since the main role plays a role, the horizontally polarized laser beam passing through the pattern portion 10b of the polarizing glass mask 10 passes through the polarization splitter 11 as it is and enters the imaging lens system 4 to be marked. The pattern portion 10b is marked on the surface of the laser beam, and the laser beam vertically polarized while passing through the transparent glass portion 10a is changed by 90 ° by the polarization splitter 11 to be absorbed by the absorber 12.

즉 제4도에 도시한 바와같은 구성은 패턴부분(10a)을 통과한 레이저 빔(16)만이 결상렌즈(4)에 의해 마킹대상물(13a)에 제6도의 (a)에서 처럼 패턴 N으로 마킹되는 것ㄷ이다.That is, in the configuration as shown in FIG. 4, only the laser beam 16 which has passed through the pattern portion 10a is marked by the imaging lens 4 in the pattern N as shown in (a) of FIG. 6 to the marking object 13a. It is.

또한, 정상마킹 되는 패턴 A문자를 역상마킹을 실시하려면 제5도에 도시한 바와같이 성형편광자(9)의 방향을 90°회전시켜 주어 장치를 작동하면 된다.In addition, in order to perform reverse phase marking on the pattern A letter to be normally marked, the apparatus may be operated by rotating the direction of the molded polarizer 9 by 90 ° as shown in FIG.

즉, 선형편광자(9)를 통과한 레이저 빔(14b)은 수평편광되므로, 편광유리마스크(10)의 패턴부분(10b)을 투과하는 레이저 빔은 λ/2코팅부분의 작용에 의해 편광방향이 수직방향으로 바뀌게 되며 편광분할자(11)에 의해 분리되어 레이저 빔(17)이 흡수체(12)로 흡수되고, 투명유리부분(10a)을 투과하는 레이저 빔은 수평편광된 상태로 편광분할자(11)를 통과하여 레이저 빔(16)이 결상용 렌즈계(4)에 의해 마킹대상물(13b)에 결상됨으로써 제6도의 (b)에서와 같은 패턴(M)으로 마킹된느 역상마킹이 이루어지게 된다.That is, since the laser beam 14b passing through the linear polarizer 9 is horizontally polarized, the laser beam passing through the pattern portion 10b of the polarizing glass mask 10 has a polarization direction due to the action of the λ / 2 coating portion. It is changed in the vertical direction and separated by the polarization splitter 11 so that the laser beam 17 is absorbed into the absorber 12, and the laser beam passing through the transparent glass portion 10a is polarized splitter in a horizontally polarized state ( By passing through 11), the laser beam 16 is imaged on the marking object 13b by the imaging lens system 4, so that the inverse marking marked by the pattern M as shown in FIG. .

한편, 제8도에 도시한 바와같이, 편광분할자(11)의 수직방향에 설치되는 흡수체 대신에 결상용렌즈계(4')를 설치하게 되면 마킹대상물(13a)(13b)에 각각 정상마킹과 역상마킹이 동시에 이루어지게 되며, 이 때, 선형편광자(9)을 90°회전시켜 주면 마킹대상물(13a)에는 역상마킹물, 마킹대상물(13b)에는 정상마킹을 실시할 수 있게 된다.On the other hand, as shown in FIG. 8, when the imaging lens system 4 'is installed instead of the absorber installed in the vertical direction of the polarization splitter 11, the normal marking and the marking objects 13a and 13b are respectively marked. Reverse phase marking is performed at the same time. At this time, when the linear polarizer 9 is rotated by 90 °, the reverse phase marking object is marked on the marking object 13a and the normal marking is performed on the marking object 13b.

이상에서 상세하게 설명한 바와같이, 본 발명에 의한 편광유리마스크를 이용한 레이저 마킹장치는 선형편광자를 사용하여 레이저 빔을 선형편광 시키고, 편광유리마스크를 이용하여 패턴부분과 패턴주변부분을 투과하는 레이저 빔의 편광방향을 각각 수평방향과 수직방향으로 바꾸어 주어 편광분할자를 통해 각각의 성분을 갖는 레이저 빔을 분리해 내어 마킹함으로써, 정상마킹과 역상마킹을 선택적으로 실시할 수 있게 하는 한편, 결상용 렌즈계를 부가하여 설치하여 정상마킹과 역상마킹을 동시에 실시할 수 있어 제품이 성능이 현저하게 향상되는 효과가 있다.As described in detail above, the laser marking apparatus using the polarizing glass mask according to the present invention uses a linear polarizer to linearly polarize the laser beam, and uses a polarizing glass mask to transmit the laser beam through the pattern portion and the pattern surrounding portion. By changing the polarization direction in the horizontal direction and the vertical direction, respectively, the laser beam having the respective components is separated and marked through the polarization divider, so that the normal marking and the reversed phase marking can be selectively performed. In addition, since the normal marking and the reverse phase marking can be performed at the same time, the performance of the product is remarkably improved.

Claims

1. A laser beam generator (1), a beam expander (2), a linear polarization beam (9) installed so as to be able to rotate 90 ° about an optical axis of a laser beam and linearly polarize an unpolarized laser beam, and a transparent A polarization glass mask 10 having a λ / 2 coating layer formed on the pattern portion 10b to be marked on the glass substrate 10a, and a polarization splitter that separates a horizontal component and a vertical component according to the polarization direction of the laser beam ( 11), an imaging lens system 4 for forming a laser beam onto the marking objects 13a and 13b, and an absorber 12 for absorbing a laser beam not used for marking. Laser marking apparatus using a polarizing glass mask, characterized in that to perform selectively.

2. Laser beam generator (1), beam expander (2), linear polarizer (9) installed to rotate 90 ° about the optical axis of the laser beam to linearly polarize the unpolarized laser beam, and transparent glass A polarizing glass mask 10 having a λ / 2 coating layer formed on the pattern portion 10b to be marked on the substrate 10a, and a polarization splitter 11 that separates a horizontal component and a vertical component according to the polarization direction of the laser beam. ), And an imaging lens system (4) (4 ') for forming a laser beam on the marking objects (13a) and (13b) and configured to simultaneously perform normal marking and reversed marking. Marking device.