JPWO2008035533A1 - スクアリリウム色素−金属錯体化合物を含有する光学フィルター及びこれを用いたディスプレイパネル用フィルター - Google Patents

Abstract

本発明は、耐候性に優れ、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にする光学フィルター、及びそれを用いたディスプレイパネル用フィルターを提供する。この光学フィルターは、可視光領域に極大吸収を有し、下記一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物及びバインダーを含有することを特徴とする。【化１】（式中、Ｍは金属原子を表し、Ａは有機基を表し、Ｂは５員環を表し、Ｘは酸素原子、窒素原子または硫黄原子を表し、Ｙはｎ＝０の場合は窒素原子を、ｎ＝１の場合は炭素原子を表し、Ｒは置換基を表し、ｎは０または１を表し、ｍは０〜３の整数を表す。）

Description

本発明は、スクアリリウム色素−金属錯体化合物を含有する光学フィルター及びこれを用いたディスプレイパネル用フィルターに関する。詳しくは、特定のスクアリリウム色素−金属錯体化合物を含有することを特徴とする光学フィルター及びこれを用いたディスプレイパネル用フィルターに関するもので、特にプラズマディスプレイパネルから放射されるネオン発光を有効に遮蔽することができるディスプレイパネル用フィルターである。

従来より、カラー画像の表示装置として、陰極管、蛍光表示管、電界放射、プラズマパネル、液晶、エレクトロルミネッセンス等による各種画像表示装置が開発されている。特に、近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとしてプラズマディスプレイパネルが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益々増加するものと考えられる。

これらカラー画像の表示装置は、基本的には赤、緑、青の３原色発光の組み合わせを利用し画像表示をする形式をとっている。特にプラズマディスプレイでは、放電によりキセノンとネオンの混合ガスが励起され真空紫外線を放射し、その真空紫外線励起による赤、青、緑のそれぞれの蛍光体の発光を利用して３原色発光を得ている。プラズマディスプレイでは、その際、ネオン原子が励起された後、基底状態に戻る際に６００ｎｍ付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光する（例えば、非特許文献１参照）。このため、プラズマディスプレイでは、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点がある。

カラー画像の表示装置では一般的に、上記３原色以外の発光を、いわゆるバンドパスフィルターを用いて吸収し、鮮明なカラー画像を得、かつ、画像の色バランスの補正が行われている。

該バンドパスフィルターとしては色素を用いたものの検討が各種なされているが、この場合、目的とする吸収以外に吸収がないこと、及び、色素の耐熱性・耐光性等の耐候性が重要な因子となるが、さらに、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に温度変化による発光装置の発光波長変化によりカラー画像の色再現性が変わるという問題があり、この点にも十分に考慮する必要がある。

一方で、金属と特定のスクアリリウム化合物を混合したスクアリリウム色素−金属錯体化合物（金属−スクアリリウム化合物混合組成物）が知られている。

例えば、下記構造Ａで示されるようなスクアリリウム色素−金属錯体化合物の構造が開示されている（特許文献１参照）。

さらに下記構造Ｂ−１及び構造Ｂ−２で表されるようなスクアリリウム色素−金属錯体化合物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。

さらに下記構造Ｃで表されるようなスクアリリウム色素−金属錯体化合物ならびに赤外線吸収剤、ディスプレイパネル用フィルターが開示されている（例えば、特許文献３参照）。

（式中、Ｘ及びＸ′は活性水素を有する基を表し、Ｙ₁及びＹ₂は、水素原子、アルキルアミノ基を表し、ｋ及びｋ′は１〜４の整数を表す。）
しかしながら、該公報においては、構造Ｃに対応するスクアリリウム化合物として、以下の構造Ｄで表されるスクアリリウム化合物しか具体的に開示されておらず、また、使用形態においても赤外線吸収剤ならびに赤外線カットディスプレイ用フィルターに関する記載のみである。

（式中、Ｚ₁〜Ｚ₆は、水素原子、アルキル基を表す。）
そして上述した特許文献１〜３のスクアリリウム金属化合物については、いずれも光学フィルターとしての記述は見られない。

また、スクアリリウム色素を光学フィルターとして利用した例としては、特定のスクアリリウム色素を用いたカラーフィルターの例（例えば、特許文献４参照）や、さらにスクアリリウム色素のベンゼン環上の置換基としてＯＨ基のみを有する化合物やピラゾール系スクアリリウム色素が記載されているが（例えば、特許文献５参照）、これらはネオンオレンジ光をカット、あるいはその他の不要な光をカットするには十分であるが、化合物の耐候性、特に、高温高湿の環境条件においても高い耐光性を有することについてはさらなる改良が望まれており、さらに、使用環境温度変化による発光装置の発光波長変化によって引き起こされるカラー画像の色再現性の劣化についても改良が望まれていた。

以上の現状に鑑み、さらなる化合物の耐候性向上とともに、使用環境温度変化による発光装置の発光波長が変化しても、鮮明なカラー画像を得ることのできる光学フィルターならびにこれを用いたディスプレイパネル用フィルターが望まれている。
国際公開第０２／５０１９０Ａ１号パンフレット 国際公開第０４／７４４７Ａ１号パンフレット 特開２０００−１５９７７６号公報 特開２０００−３４５０５９号公報 特開２００５−１９７２４０号公報 映像情報メディア学会誌，Ｖｏｌ．５１，Ｎｏ．４，Ｐ．４５９−４６３（１９９７）

本発明はプラズマディスプレイ等のカラー画像の表示装置に好適に使用できるスクアリリウム色素−金属錯体化合物を含有する光学フィルター、及びそれを用いたディスプレイパネル用フィルターを提供することを目的とする。さらに、耐候性に優れ、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にする光学フィルター、及びそれを用いたディスプレイパネル用フィルターを提供することを目的とする。特にネオン発光を有効にカットすることができ、耐候性に優れ、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にするプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することを目的とする。

本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。

１．可視光領域に極大吸収を有し、下記一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物及びバインダーを含有することを特徴とする光学フィルター。

（式中、Ｍは金属原子を表し、Ａは有機基を表し、Ｂは５員環を表し、Ｘは酸素原子、窒素原子または硫黄原子を表し、Ｙはｎ＝０の場合は窒素原子を、ｎ＝１の場合は炭素原子を表し、Ｒは置換基を表し、ｎは０または１を表し、ｍは０〜３の整数を表す。）
２．前記一般式（１）において、Ａがアリール基、複素環基または下記一般式（１−Ａ）であることを特徴とする前記１に記載の光学フィルター。

（式中、Ａ¹は５員環または６員環を表し、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。）
３．前記一般式（１）において、金属原子Ｍが銅、ニッケル、コバルト、亜鉛、アルミニウム、ベリリウムのいずれかであることを特徴とする前記１または２に記載の光学フィルター。

４．前記１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルターを用いることを特徴とするディスプレイパネル用フィルター。

本発明によれば、プラズマディスプレイ等のカラー画像の表示装置に好適に使用できるスクアリリウム色素−金属錯体化合物を含有する光学フィルター、及びそれを用いたディスプレイパネル用フィルターを提供することができる。さらに、耐候性に優れ、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にする光学フィルター、及びそれを用いたディスプレイパネル用フィルターを提供することができる。特にネオン発光を有効にカットすることができ、耐候性に優れ、カラー画像の表示装置自体の使用環境、特に温度変化による発光装置の発光波長変化によらず、良好な色再現性を可能にするプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することができる。

本発明らは、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、特定のスクアリリウム色素−金属錯体化合物及びバインダーを含有する光学フィルター、ならびに、この光学フィルターを用いたディスプレイパネル用フィルターにより上記目的が達成されることを見出した。

即ち、本発明の要旨は、前記一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物及びバインダーを含有する光学フィルター、及びこれを有することを特徴とするディスプレイパネル用フィルター、プラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明の光学フィルターに含まれる本発明に係る前記一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物（以下、本発明の化合物または本発明のスクアリリウム色素−金属錯体化合物とも言う）について説明する。

本発明の化合物が溶液状態で可視光領域（４００〜７００ｎｍ）に吸収を有し、実質的に近赤外線領域に吸収を有していなければ、本発明の化合物は本発明のディスプレイ用光学フィルターに好適に使用できる。本発明の化合物が溶液状態で可視光領域に吸収極大を有していることが好ましく、さらに本発明の化合物は溶液状態で４５０〜６５０ｎｍに吸収極大を有していることが好ましく、溶液状態で５７０〜６１０ｎｍに吸収極大を有していることが最も好ましい。

次に、一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物について説明する。

一般式（１）において、Ｍは金属原子を表し、該金属としてはキレートを形成し、一般式（１）で表される本発明の化合物を形成可能なものであれば特に制限はない。例えば、銅、ニッケル、コバルト、亜鉛、アルミニウム、ベリリウム、鉄、銀、クロム、マンガン、イリジウム、バナジウム、チタン、ルテニウム、モリブデン、スズ、ビスマス、オスミウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ガリウム、ゲルマニウム、白金、金、水銀等を挙げることができる。キレート形成能力の点で、好ましくは、銅、ニッケル、コバルト、亜鉛、アルミニウム、ベリリウム、鉄、銀、クロム、マンガン、チタン、ルテニウム、オスミウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ガリウム、水銀であり、銅、ニッケル、コバルト、亜鉛、アルミニウム、ベリリウムが最も好ましい。

Ｂは５員環を表す。一般式（１）において、Ｂは可視光吸収特性及び金属との錯体形成において重要な部分構造である。Ｂで表される５員環としては、スクアリン酸残基と結合している炭素原子及びＹとともに環を形成することが可能であれば、環を形成する構成原子に特に制限はないが、該構成原子としては炭素、窒素、硫黄原子から任意に選ばれる原子の組み合わせであることが好ましく、例としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾセレナゾール環、ベンゾテルラゾール環、ベンゾイミダゾール環、チアゾリン環、インドレニン環、オキサジアゾール環、ピラゾロン環、イソオキサゾロン環、ピロリドン環、チオキサチアゾロン環、ピロロピロール環、ピロロイミダゾール環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロピロール環、ピラゾロイミダゾール環、ピラゾロトリアゾール環、ピラゾロピリミジン環、イミダゾロピラゾール環、イソオキサゾリジン環、チオキサイミダゾリジン環、イミダゾリジン環、イミダゾリジンチオン環、チアゾリジノン環等が挙げられる。これらは任意の位置に置換基を有していてもよい。本発明において、金属との錯体形成という点において特に好ましいＢの具体例としては、下記一般式１ｂ−１〜１ｂ−１１で表される構造を挙げることができる。

式１ｂ−１〜１ｂ−１１において、＊は一般式（１）中のＢのスクアリリウム構造への結合位置を表し、ＱはＣ（Ｒａ）₂、Ｃ＝Ｏ、Ｃ＝Ｓ、Ｃ＝Ｎ−Ｒａ、Ｎ（Ｒａ）、Ｏ、Ｓ、Ｓ＝Ｏ、Ｓ（＝Ｏ）₂、Ｓｅ、Ｔｅを表し、好ましくはＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｓ、Ｎ（Ｒａ）、Ｏ、Ｓであり、より好ましくはＮ（Ｒａ）、Ｏ、Ｓである。

Ｘｂは酸素原子または硫黄原子を表し、好ましくは硫黄原子であり、Ｔ₁及びＴ₂はＮＲａ、Ｃ（Ｒａ）₂、Ｃ＝Ｏ、Ｃ＝Ｓ、Ｏ、Ｓを表し、ＺはＯまたはＳを表し、Ｏが好ましく、Ｒｄは置換基を表し、Ｌ₁〜Ｌ₃は、−Ｎ＝あるいは−Ｃ（Ｒａ）＝を表す。

ｂは０〜２の整数を表し、ｃは０または１を表し、Ｒａは水素原子または置換基を表す。

Ｒａで表される置換基としては特に制限はないが、例えばアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は、同様の置換基によってさらに置換されていてもよい。好ましくは、アルキル基、アルケニル基、シアノ基、アルコキシ基であり、Ｒａが複数存在する場合には、各式中各々のＲａは同じでも異なっていてもよく、Ｒａ同士が任意に結合して環を形成してもよく、必要に応じて積極的にＲａ同士が任意に結合した縮合環を導入し、前記一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物の色調を所望の色調に調整することもできる。このとき、該縮合環としては、上述したアリール基、複素環基を挙げることができ、該縮合環にはさらに前述したＲａで表される置換基と同義の基で置換されていてもよい。

Ｒｄで表される置換基としては特に制限はないが、例えば、前述したＲａで表される置換基と同義の基を挙げることができる。一般式１ｂ−８において、Ｒｄが複数存在する場合は各々のＲｄは同じでも異なっていてもよく、Ｒｄ同士が任意に結合して環を形成してもよい。

金属錯体の安定性という点で特に好ましいＢの具体例としては、１ｂ−２、１ｂ−３、１ｂ−５〜１ｂ−１１であり、幅広い可視光吸収特性の点、さらに、４５０〜６５０ｎｍに吸収極大を有するために好ましいＢの具体例としては、一般式１ｂ−１〜１ｂ−３、１ｂ−７〜１ｂ−１１で表される構造を挙げることができる。特に、５７０〜６１０ｎｍに極大吸収を有するために好ましい具体例としては、一般式１ｂ−１〜１ｂ−３、１ｂ−７、１ｂ−１０、１ｂ−１１を挙げることができる。

一般式（１）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、好ましくは酸素原子である。Ｙはｎ＝０の場合は窒素原子を、ｎ＝１の場合は炭素原子を表す。

Ｒは置換基を表し、ｍは０〜３の整数を表す。該置換基としては特に制限はないが、例えば、前述したＲａで表される置換基と同義の基を挙げることができる。

ｍが１以上の場合、Ｒは環Ｂ上の任意の位置と結合して環を形成してもよく、ｍが２もしくは３の場合、複数のＲは同じでも異なっていてもよく、Ｒ同士が任意の位置で結合して環を形成してもよい。

Ａは有機基を表し、有機基としては、例えば前述したＲａで表される置換基と同義の基を挙げることができ、好ましくはアリール基または複素環基またはアルケニル基であり、これらはＲａで表される置換基と同義の基が置換していてもよい。一般式（１）で表されるスクアリリウム色素−金属錯体化合物の堅牢性の面から、Ａはさらに好ましくはアリール基、複素環基または前記一般式（１−Ａ）で表される置換基である。

前記一般式（１−Ａ）において、Ａ¹は５員環または６員環を表し、Ａ¹で表される５員環としては、ピラゾリジンジオン環、イソオキサゾロン環、ピラゾロン環、ピロリドン環（例えば、１Ｈ−ピロール−２（５Ｈ）−オン環）、チオキサチアゾリジノン環（例えば、ローダニン環、４−チオキサイミダゾリジン−２−オン環、５−チオキサイミダゾリジン−２−オン環）、ピロロトリアゾール環（例えば、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ｂ］［１，２，４］トリアゾール環、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［２，１−ｃ］［１，２，４］トリアゾール環）、ピラゾロトリアゾール環（例えば、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｃ］［１，２，４］トリアゾール環、７，７ａ−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾロ［１，５−ｂ］［１，２，４］トリアゾール環）、ピラゾロピリミジン環、イミダゾール環（例えば、４Ｈ−イミダゾール環）、イミダゾロピラゾール環、ピロール環、イソオキサゾリジンジオン環、チオキサイミダゾリジノン環（例えば、４−チオキサイミダゾリジン−２−オン環）、イミダゾリジンジオン環（例えば、ヒダントイン環）、イミダゾリジンジチオン環（例えば、イミダゾリジン−２，４−ジチオン環）、チアゾリジンジオン環、ピラゾールジオン環、インドール環等が挙げられ、これらは任意の位置に前述したＲａで表される置換基と同義の基を有していてもよい。

Ａ¹で表される６員環としては、例えば、シクロヘキサジエン環（１、３−シクロヘキサジエン環、１、４−シクロヘキサジエン環）、ジヒドロピリジン環（１、４−ジヒドロピリジン環、３、４−ジヒドロピロジン環）、４Ｈ−ピラン環、４Ｈ−チオピラン環、ピリドン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−オン環）、ピリジンチオン環（例えば、ピリジン−２（３Ｈ）−チオン環）、ピリジンジオン環（例えば、ピリジン−２，４（３Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、バルビツール酸環、チオバルビツール酸環、オキサジン環、チアジン環、ジヒドロピリミジンジオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジオン環）、ジヒドロピリミジンジチオン環（例えば、ジヒドロピリミジン−４，６（１Ｈ，５Ｈ）−ジチオン環）、オキサジンジオン環（例えば、４Ｈ−１，３−オキサジン−４，６（５Ｈ）−ジオン環）、オキサジアジン環（例えば、４Ｈ−１，２，３−オキサジアジン環）等が挙げられ、これらは任意の位置に前述したＲａで表される置換基と同義の基を有していてもよい。

Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、該置換基は前述したＲａで表される置換基と同義の基である。Ｒ¹は好ましくは水素原子またはアルキル基またはハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子またはアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子またはメチル基またはエチル基であり、最も好ましいのは水素原子である。

本発明の一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物は、電荷を中和させるために一つの金属イオンに対して、複数個のスクアリリウム色素が配位してもよい。配位するスクアリリウム色素が複数個の場合、同一構造のスクアリリウム色素のみであってもよく、各々構造の異なるスクアリリウム色素であってもよい。

本発明の一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物は、電荷を中和させるのに対イオンが必要な場合、対イオンを有してもよい。例えば、本発明の一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物が陽イオン、陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を持つかどうかは、その金属の価数、配位しているスクアリリウム色素の数、及び置換基に依存する。置換基が解離性基を有する場合、解離して負電荷を持ってもよい。典型的な陽イオンは無機または有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン）、アルカリ金属イオン及びプロトンであり、一方、陰イオンは具体的に無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、例えば、ハロゲン陰イオン、（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン（例えば、メチル硫酸イオン）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。

以下に、本発明の一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物の具体例を挙げる。ただし、本発明はこれらに限定されることはない。なお、ここに示す構造式は幾つも取り得る共鳴構造の中の１つの極限構造に過ぎず、便宜上、共有結合（−で示す）と配位結合（…で示す）を区別するが、絶対的な区別を表すものではない。

以下、一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物の一般的な製法について説明する。

これらの化合物は、従来公知の方法を参考にして合成することができる。例えば、特開平６−２５０３５７号、同７−１７５１８７号、同３−８２２５５号、同３−２６１５３９号、同４−１３８８３４号、特開昭６３−２１０１６７号、特開平１０−３６６９５号、特開２０００−２５１９５８号、同２０００−２８５９７８号、同２０００−３４５０５９号等の公報、国際公開第０１／０４４２３３号、同第０２／０５０１９０号、同第０４／００７４４７号等のパンフレットを参考にすることができる。以下に具体的に合成法の一例を示すが、その他の化合物も同様にして合成することが可能であり、合成法としては、これらに限定されない。

《例示化合物１の合成》
（スクアリリウム色素Ａの合成）
下記のスキームにより合成した。

４−（４−ブチル（エチル）アミノフェニル）−３−ヒドロキシ−３−シクロブテン−１，２−ジオン５．４ｇにｎ−ブタノール１１０ｍｌ、トルエン１１０ｍｌ及び３−エチル−２，４−ジメチルピロール２．７ｇを加え、４時間加熱還流した後、溶媒を減圧留去した。残さにメタノール２０ｍｌを加え、析出物を濾取することにより、化合物Ａ（スクアリリウム色素Ａ）３．６ｇを得た。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって目的の中間体であることを確認した。

（例示化合物１の合成）
化合物Ａ ３．６ｇ、酢酸亜鉛二水和物１．１ｇ及びエタノール５００ｍｌの混合物を６時間加熱還流した後、析出物を濾取することにより、例示化合物１ ３．３ｇを得た。元素分析により目的物と確認した。例示化合物１はクロロホルム中で赤紫色の溶液であり、最大吸収波長は５５４ｎｍであった。

《例示化合物３の合成》
例示化合物１の合成において、４−（４−ブチル（エチル）アミノフェニル）−３−ヒドロキシ−３−シクロブテン−１，２−ジオンを４−（４−（ジエチルアミノ）−２−メチルフェニル）−３−ヒドロキシ−３−シクロブテン−１，２−ジオンに変更し、酢酸亜鉛二水和物を酢酸ニッケル二水和物に変更した以外は同様な操作により、例示化合物３を得た。例示化合物３はクロロホルム中で赤紫色の溶液であり、最大吸収波長は５６０ｎｍであった。

《例示化合物２４の合成》
（スクアリリウム色素Ｄの合成）
下記のスキームにより合成した。

化合物Ｂ ９．０ｇ、ｎ−ブタノール９０ｍｌ、トルエン４５ｍｌ及び化合物Ｃ ９．０ｇを加え、１１０℃で５時間処理した。その後、メタノール１００ｍｌを加え、８０℃で１時間反応させた後、析出物を濾取し、化合物Ｄを８．２ｇ得た。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって目的の中間体であることを確認した。

（例示化合物２４の合成）
例示化合物１の合成において、酢酸亜鉛二水和物を酢酸ニッケル二水和物に変更した以外は同様な操作により７．６ｇの例示化合物２４を得た。元素分析により目的物であることを確認した。例示化合物２４はクロロホルム、アセトン、アセトニトリル、ＴＨＦ中で青紫色〜青色の溶液であり、これらの溶媒中では５８５〜６１０ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。

《例示化合物２５の合成》
（スクアリリウム色素Ｇの合成）
下記のスキームにより合成した。

例示化合物２４の合成において、化合物Ｂを化合物Ｅに、化合物Ｃを化合物Ｆに変更した以外は同様な操作によりスクアリリウム色素Ｇを得た。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって目的の中間体であることを確認した。

（例示化合物２５の合成）
得られたスクアリリウム色素Ｇ ６．０ｇをメタノール３００ｍｌに溶解し、水１００ｍｌにＮｉ（ＰＦ₆）₂ ５．３ｇを溶解した水溶液を加え、室温下５時間撹拌した。溶媒を徐々に濃縮し、析出を濾取し、水及びメタノールで洗浄して、例示化合物２５を７．２ｇ得た。元素分析にて目的物と確認した。例示化合物２５はクロロホルム、アセトン、アセトニトリル、ＴＨＦ中で赤紫〜青紫色の溶液であり、これらの溶媒中では５６０〜５９０ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。

《例示化合物４２の合成》
（スクアリリウム色素Ｊの合成）
下記のスキームにより合成した。

例示化合物１の合成において、スクアリリウム色素Ａの合成と同様にスクアリリウム色素Ｊを合成した。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって目的の中間体であることを確認した。

（例示化合物４２の合成）
得られたスクアリリウム色素Ｊを用いて、例示化合物２５の合成と同様の方法で例示化合物４２を得た。例示化合物４２はクロロホルム、アセトン、アセトニトリル、ＴＨＦ、ＤＭＦ中で赤紫〜青紫色の溶液であり、これらの溶媒中では５５５〜５９０ｎｍの範囲に吸収極大があることを確認した。

《例示化合物５２の合成》
（スクアリリウム色素Ｍの合成）
下記のスキームにより合成した。

例示化合物２４の合成において、スクアリリウム色素Ｄの合成と同様にして、スクアリリウム色素Ｍを合成した。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって目的の中間体であることを確認した。

（例示化合物５２の合成）
得られたスクアリリウム色素Ｍとアルミニウム（トリス）エチルアセトアセテートを酢酸エチル−酢酸混合溶媒中で５０℃で２時間反応させて例示化合物５２を得た。元素分析にて目的物であることを確認した。例示化合物５２はクロロホルム中で青紫色の溶液であり、５８６ｎｍに吸収極大があることを確認した。

《例示化合物１２２の合成》
スクアリン酸０．５ｇ、１−フェニル−３−ｔ−ブチルピラゾロン２．１ｇ、トルエン１０ｍｌ、ｎ−ブタノール５ｍｌを密閉容器に入れ、マイクロ波を照射しながら１８０℃で１０分間反応した。生じた固体を濾取し、少量のメタノールで洗浄した。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって目的の中間体であることを確認した。

この固体１ｇをメタノール３００ｍｌに溶解した後、ニッケル（II）アセチルアセトナート二水和物０．２９ｇを加え、室温で３時間撹拌した。溶媒を減圧留去後、残渣にアセトニリルを１０ｍｌ加えて再結晶し、例示化合物１２２を得た。元素分析にて目的物であることを確認した。例示化合物１２２はアセトン中で赤紫色の溶液であり、５３５ｎｍに吸収極大があることを確認した。

《例示化合物１４０の合成》
（スクアリリウム色素Ｒの合成）
下記のスキームにより合成した。

中間体Ｎ ５．４ｇに１−ブタノール５０ｍｌとトリエチルアミン４．０ｇを加え６０℃で撹拌溶解した。次に中間体Ｏ ４．６ｇを１−ブタノール２０ｍｌに溶解したものを１時間かけて滴下した。滴下終了後、２時間同温度で撹拌した後、濃縮し、酢酸エチル：２００ｍｌに溶解し分液した後、中和、水洗し濃縮する。濃縮物をカラムクロマトグラフィーにて精製した。次に濃縮物をアセトン２００ｍｌに溶解し、２Ｍ−ＨＣｌ ７０ｍｌを加えて６時間加熱還流した。反応液を１００ｍｌまで濃縮し、水３００ｍｌ中へ滴下し析出する結晶を濾過し、中間体Ｐ６．２ｇを得た。

中間体Ｐ ３．１ｇ、中間体Ｑ ３．２ｇに１−ブタノール４０ｍｌとトルエン４０ｍｌを加えて８時間加熱還流した。反応液を冷却し、析出する結晶を濾過し、スクアリリウム色素Ｒ ５．３ｇを得た。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって同定し、目的物であることを確認した。

（例示化合物１４０の合成）
例示化合物１の合成と同様の操作により、例示化合物１４０を得た。例示化合物１４０は酢酸エチル中で青紫色であった。

《例示化合物１４２の合成》
例示化合物１４０の合成において得られたスクアリリウム色素Ｒ ２．３ｇ、塩化銅二水和物０．３４ｇにメタノール１００ｍｌを加えて２時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、析出する結晶を濾過し、例示化合物１４２を１．８ｇ得た。元素分析によって同定し、目的物であることを確認した。例示化合物１４２は酢酸エチル中で赤紫色であった。

《例示化合物１４３の合成》
例示化合物１４２の合成において、塩化銅を塩化マグネシウムに変更した以外は同様の操作により、例示化合物１４３を得た。

《例示化合物２４８の合成》
（スクアリリウム色素Ｕの合成）
下記のスキームにより合成した。

中間体Ｓ ３．１ｇ、中間体Ｔ １．９ｇに１−ブタノール４０ｍｌとトルエン４０ｍｌを加えて８時間加熱還流した。反応液を冷却し、析出する結晶を濾過し、スクアリリウム色素Ｕ ４．１ｇを得た。ＭＡＳＳ、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルによって同定し、目的物であることを確認した。

（例示化合物２４８の合成）
得られたスクアリリウム色素Ｕ １ｇ、硫酸ベリリウム四水和物０．２ｇ、エタノール１００ｍｌ及び水３０ｍｌの混合物を５時間加熱還流した後、析出物を濾取することにより例示化合物２４８ ０．８ｇを得た。元素分析によって同定し、目的物であることを確認した。例示化合物２４８はクロロホルム中で赤紫色であった。

《例示化合物２５７の合成》
例示化合物１２２の合成において、ニッケル（II）アセチルアセトナート二水和物を塩化銅二水和物に変更し、他は同様の操作により、例示化合物２５７を得た。例示化合物２５７はアセトン中で赤色を示し、５１２ｎｍに吸収極大を有することを確認した。

《例示化合物２５８の合成》
例示化合物２５７の合成において、塩化銅二水和物を酢酸亜鉛二水和物に変更し、他は同様の操作により、例示化合物２５８を得た。例示化合物２５８はアセトン中で赤色を示し、５３６ｎｍに吸収極大を有することを確認した。

《光学フィルター》
次に光学フィルターについて説明する。

本発明の光学フィルターは、本発明のスクアリリウム色素−金属錯体化合物を単独または混合して含有し、可視光線を吸収する形態で使用することができる。本発明の光学フィルターは、色調補正等、色再現性を向上させる目的に使用されることが好ましく、特に、透過光を吸収することで、色再現性を向上させる目的に使用されることが好ましい。

（バインダー）
本発明の光学フィルターは、本発明の化合物とともにさらにバインダーを含有する。バインダーとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）、あるいはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。バインダーの使用量は、本発明の化合物の総質量に対して、１０〜５００質量倍、好ましくは５０〜３５０質量倍である。

（光学フィルターの作製）
本発明の光学フィルターを作製するに当たり、バインダーと本発明化合物との混合に溶媒を使用してもよい。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等が挙げられる。組成物の濃度は、グラム吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるため、使用目的に応じて最適な濃度を設定すればよい。なお、前記本発明の化合物と前記バインダー樹脂との溶液もしくは分散液には、必要に応じて、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、石油樹脂、ロジン系樹脂等の分散剤を用いてもよい。

本発明の光学フィルターには、一般的に公知である添加剤、例えばフェノール系、燐系等の酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができる。

複数の本発明の化合物を含有させる場合、それぞれを別々にバインダー樹脂に混入し、本発明の化合物を含有する各バインダー樹脂を積層することにより、個々の化合物が別層に存在する積層体の形態をとってもよい。この場合、積層操作が増えるため、製造という観点では手間が増えて好ましくないが、化合物に応じたより好ましいバインダー樹脂を選択することが可能となり、微妙な色調節が必要となる場合には有用である。

上記積層体を作製する方法としては、例えば、
（１）本発明の化合物とバインダー樹脂とを適当な溶剤の溶液もしくは分散液とし、公知の塗布方法でシート状あるいはフィルム状の透明基材上に塗布し、乾燥させる方法、
（２）熱可塑性樹脂における常法の成形法に従って、前記本発明の化合物とバインダー樹脂とを溶融混練して押出成形、射出成形、圧縮成形等によってフィルムあるいはシートに成形し、そのフィルムあるいはシートを透明基材上に接着剤等により接着させる方法、
（３）前記本発明の化合物とバインダー樹脂とを溶融混練してフィルム状あるいはシート状に押出し、透明基材上に押出ラミネートする方法、
（４）前記本発明の化合物とバインダー樹脂とを溶融混練して透明樹脂基材と共押出成形する方法、
等の各種の方法を採ることができ、このうち特には、上記（１）の方法が好ましい。

また、上記後者の単層のシートあるいはフィルムを作製する方法としては、例えば、
（１）前記本発明の化合物とバインダー樹脂とを適当な溶剤の溶液もしくは分散液としてキャリヤー上に流延し、乾燥させる方法、
（２）熱可塑性樹脂における常法の成形法に従って、前記本発明の化合物とバインダー樹脂とを溶融混練して押出成形、射出成形、圧縮成形等によってフィルムあるいはシートに成形する方法、
等を採ることができる。

（分散剤）
本発明の光学フィルターは、本発明の化合物とともに分散剤を使用してもよい。必要に応じて使用される分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、本発明の化合物の総質量に対して０．５〜１５０質量倍、好ましくは１０〜１００質量倍である。

本発明におけるフィルターは、前記本発明の化合物を単独または混合して含有する。その含有形態としては、代表的には、シート状あるいはフィルム状の透明基材上に、前記本発明の化合物を含有するバインダー樹脂により本発明の化合物含有樹脂層を形成させた積層体、または、前記本発明の化合物を含有するバインダー樹脂そのものからなる本発明の化合物含有樹脂の単層シートあるいはフィルムが挙げられる。

《ディスプレイパネル用フィルター》
本発明のディスプレイパネル用フィルターは、プラズマディスプレイや有機ＥＬディスプレイのような自発光型表示装置の前面に配置され、色調補整や不要な波長域の発光を遮るために用いられる。

基材としては、透明樹脂板、透明フィルム、透明ガラス等が挙げられ、波長４００〜７００ｎｍの光線透過率が４０％以上の透明性があれば特に制限はない。例えば、ポリイミド、ポリスルフォン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチレンメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が好ましく用いられる。

基材の厚さは、ある程度の機械的強度があれば特に制限はないが、通常は、２０μｍ〜１０ｍｍであり、２０μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２００μｍが特に好ましい。

上記本発明の化合物を用いて本発明のディスプレイパネル用フィルターを作製する方法としては、特に限定されるものではないが、
（１）透明粘着剤に含有させる方法、
（２）高分子成形体へ含有させる方法、
（３）高分子成形体またはガラス表面にコーティングする方法、
等が挙げられる。

（１）に挙げた透明粘着剤の具体的な例としては、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール粘着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤等を挙げることができ、この中でもアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤が好ましい。添加量は、通常１０ｐｐｍ〜３０質量％であり、１０ｐｐｍ〜２０質量％が好ましく、１０ｐｐｍ〜１０質量％が特に好ましい。

（２）に挙げた高分子樹脂成形体へ含有させる方法としては、
（Ａ）樹脂に色素混合物を混錬し、加熱成形する方法と、
（Ｂ）有機溶剤に、樹脂または樹脂モノマーと色素混合物を分散、溶解させ、キャスティング法により高分子成形体を作成する方法が挙げられる。

（Ａ）で使用される樹脂としては、板またはフィルム作製した際に、できるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。

加工条件としては、本発明の化合物をベース高分子の粉体あるいはペレットに添加、混合し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して板を作製する方法、押し出し機でフィルム化する方法、押し出し機で原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に１〜２軸に延伸して、１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法等が挙げられる。なお、混錬する際に可塑性等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えてもよい。

（Ｂ）のキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマーの有機溶剤溶液もしくは有機溶剤に、本発明の化合物を含む混合物を添加、溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発、乾燥または重合、溶剤揮発、乾燥させることにより、板またはフィルムを製造することができる。

使用される樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＡ、ＥＶＡ等）あるいはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーが挙げられる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等が挙げられる。

（３）に挙げた高分子成形体またはガラス表面にコーティングする方法としては、本発明の化合物をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて組成物とした後に塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に本発明の化合物を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料にする方法等が挙げられる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。

バインダーとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）あるいはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。

溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等が挙げられる。

前記組成物の濃度は、グラム吸光係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の質量に対して、通常、０．１ｐｐｍ〜３０質量％である。また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０質量％である。

上記の方法で作製した塗料は、基材上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、あるいはスプレー等のコーティング法等の公知の方法で薄膜を形成することにより、塗工することができる。

本発明のディスプレイパネル用フィルターには、電磁波シールド機能や近赤外線遮断機能を持たせることが好ましい。電磁波シールドとしては、銀薄膜を用いた積層体や銅を主として用いる金属のメッシュを用いることができる。銀薄膜を用いた積層体としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン等の誘電体と銀を交互に、積層したようなものが好ましい。金属のメッシュとしては、繊維に金属を蒸着した繊維メッシュ、フォトリソグラフィーの技術を用いパターンを形成してエッチングによりメッシュを得るエッチングメッシュ等を使用することができる。また、金属を含有するインクによるパターニングを行う方法、ハロゲン化銀を塗布、現像定着させる方法等も好適に用いられる。

近赤外線遮断機能については、銀薄膜を用いる電磁波シールドを用いる場合は、銀の自由電子による散乱のため、同時に、近赤外線の遮断を行うことができる。その他、メッシュ、インクパターニングあるいは現像法等を用いた場合は、別途、近赤外線を吸収、もしくは反射するフィルムを用いる。また、公知の種々の赤外線吸収剤を適当な層に添加してもよい。

さらに本発明のディスプレイパネル用フィルターには公知の反射防止層、防眩層、ハードコート層、静電防止層、防汚層等の機能性透明層を付加することができる。

本発明のディスプレイパネル用フィルターを用いて、電子ディスプレイ、またはプラズマディスプレイパネル表示装置を得るには、表示装置として、公知の表示装置あるいは市販品であれば特に限定なく用いることができる。

プラズマディスプレイパネル表示装置とは、次のような原理によってカラー画像の表示を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラス板との間に表示電極対と、２枚のガラス板の間に設けた各画素（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応するセルを設け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封入し、一方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する蛍光体を塗布しておく。表示電極間の放電によって、セル中のキセノンガス及びネオンガスの励起発光し、紫外線が発生する。そしてこの紫外線を蛍光体に照射することによって、各画素に対応する可視光が発生する。そして、背面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアドレス用電極に信号を印加することにより、どの放電セルを表示するかを制御し、カラー画像の表示を行うものである。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。

実施例１ （光学フィルター）
《光学フィルターの作製》
（光学フィルター１０１の作製）
色素として例示化合物１ の１．０％テトラヒドロフラン溶液とポリエステル樹脂（バイロン２００；東洋紡績（株）製）の２０％ジメトキシエタン溶液を２：８の割合で混合し、ガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター１０１を作製した。

（光学フィルター１０２〜１０５の作製）
光学フィルター１０１の作製において、例示化合物１（色素）を表１のように変更した以外は同様にして、光学フィルター１０２〜１０５を作製した。

（光学フィルター１０６の作製）
本発明の例示化合物１ の０．５％ジメトキシエタン溶液を調製し、ガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター１０６を作製した。

（光学フィルター１０７〜１１０の作製）
光学フィルター１０６の作製において、例示化合物１（色素）を表１のように変更した以外は同様にして、光学フィルター１０７〜１１０を作製した。

《光学フィルターの評価》
作製した光学フィルターについて下記の評価を行った。

（耐光性１）
作製直後の光学フィルターに可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの波長での透過率（％）（Ｔ０：例えば、４５０ｎｍでの透過率はＴ０（４５０）と表記する）を測定した。続いて、光学フィルターにキセノンランプを７万ｌｕｘで５日間照射した後、同様に可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの波長での透過率（％）（Ｔ１：例えば、試験後の４５０ｎｍでの透過率はＴ１（４５０）と表記する）を測定した。キセノンランプ照射前後での各波長での透過率変化（％）の絶対値を積算し、この積算値｜ΔＴ｜から下記基準で耐光性を評価した。

積算値｜ΔＴ｜＝｜Ｔ０（４５０）−Ｔ１（４５０）｜＋｜Ｔ０（５５０）−Ｔ１（５５０）｜＋｜Ｔ０（５８６）−Ｔ１（５８６）｜＋｜Ｔ０（６１２）−Ｔ１（６１２）｜＋｜Ｔ０（６２８）−Ｔ１（６２８）｜）
ａ：｜ΔＴ｜が２．５％未満
ｂ：｜ΔＴ｜が２．５％〜５％未満
ｃ：｜ΔＴ｜が５％〜１０％未満
ｄ：｜ΔＴ｜が１０％以上
｜ΔＴ｜が小さいほど、キセノンランプ照射に対して安定であり、耐光性に優れることを示す。ａ、ｂが実用上問題ないレベルである。

（耐光性２：高温高湿条件保存後の耐光性）
作製直後の光学フィルターに可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの波長での透過率（％）（Ｔ０：例えば、４５０ｎｍでの透過率はＴ０（４５０）と表記する）を測定した。続いて、光学フィルターを５５℃、９０％ＲＨの条件化で３日間保存した後に、さらにキセノンランプを７万ｌｕｘで５日間照射した後、同様に可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの波長での透過率（％）（Ｔ１：例えば、試験後の４５０ｎｍでの透過率はＴ１（４５０）と表記する）を測定した。キセノンランプ照射前後での各波長での透過率変化（％）の絶対値を積算し、この積算｜ΔＴ｜から下記基準で耐光性を評価した。

積算｜ΔＴ｜＝｜Ｔ０（４５０）−Ｔ１（４５０）｜＋｜Ｔ０（５５０）−Ｔ１（５５０）｜＋｜Ｔ０（５８６）−Ｔ１（５８６）｜＋｜Ｔ０（６１２）−Ｔ１（６１２）｜＋｜Ｔ０（６２８）−Ｔ１（６２８）｜）
ａ：｜ΔＴ｜が２．５％未満
ｂ：｜ΔＴ｜が２．５％〜５％未満
ｃ：｜ΔＴ｜が５％〜１０％未満
ｄ：｜ΔＴ｜が１０％以上
｜ΔＴ｜が小さいほど、キセノンランプ照射に対して安定であり、高温高湿条件化で保存後も耐光性に優れることを示す。ａ、ｂが実用上問題ないレベルである。

評価の結果を表１に示す。

表１より明らかなように、本発明の光学フィルターはバインダーを使用することで、高温高湿条件保存後の耐光性は向上することが分かる。

実施例２ （光学フィルター）
《光学フィルターの作製》
（光学フィルター２０１Ａの作製）
色素として例示化合物１ の１．０％テトラヒドロフラン溶液と、バインダーとしてポリエステル樹脂（バイロン２００；東洋紡績（株）製）の２０％ジメトキシエタン溶液を２：８の割合で混合し、ガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して光学フィルター２０１Ａを作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを含んだ組成物であっても可視光線を有効に吸収することが分かった。

（光学フィルター２０１Ｂ、２０１Ｃ、２０１Ｄの作製）
光学フィルター２０１Ａの作製において、バインダーとしてのポリエステル樹脂を、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂（Ｓｔ／ＨＥＭＡ／ＳＭＡ＝３０／４０／３０共重合体、Ｓｔ：スチレン、ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ＳＭＡ：ステアリルメタクリレート）、アクリル樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０；三菱レーヨン社製）に変更した以外は同様にして、それぞれ光学フィルター２０１Ｂ、２０１Ｃ、２０１Ｄを作製した。このフィルターは、いずれも赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することが分かった。

（光学フィルター２０１Ｅの作製）
色素として例示化合物１ の１．０％テトラヒドロフラン溶液と熱溶融ポリエステル樹脂（ダイアボンド工業社製、商品名：ＳＰ３３００Ｘ１）の２０％ジメトキシエタン溶液を２：８の割合で混合し、剥離用ポリエステルフィルム（東洋紡社製、商品名：ＭＲＦ７５、厚さ７５μｍ）にバーコーターで塗工、乾燥した後、ポリエステルフィルム（東洋紡社製、商品名：Ａ４３００、厚さ１００μｍ）を塗布面に熱ロールラミネート装置を用いて貼り付け、剥離用ポリエステルフィルムを剥がしてＳＰ３３００Ｘ１塗工面をガラス側にし、表面が約１００℃のアイロンにて１分間熱をかけ、ガラス基板へ貼り合わせ、光学フィルター２０１Ｅを作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することが分かった。

（光学フィルター２０１Ｆの作製）
光学フィルターＥの作製において、バインダーとしての熱溶融ポリエステル樹脂樹脂を熱溶融エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂（東ソー社製、商品名：メルセンＧ）に変更した以外は同様にして光学フィルター２０１Ｆを作製した。このフィルターは、赤紫色を呈しており、バインダを変更した組成物であっても可視光線を有効に吸収することが分かった。

（光学フィルター２０２Ａ〜２４５Ｆの作製）
光学フィルター２０１Ａの作製において、色素を表２のように変更した以外は同様にして光学フィルター２０２Ａ〜２４５Ａを作製した。

以下、同様にして、光学フィルター２０１Ｂ、２０１Ｃ、２０１Ｄ、２０１Ｅ、２０１Ｆの作製において、色素を表３、４、５、６、７のように変更した以外は同様にして、それぞれ光学フィルター２０２Ｂ〜２４５Ｂ、２０２Ｃ〜２４５Ｃ、２０１Ｄ〜２４５Ｄ、２０１Ｅ〜２４５Ｅ、２０１Ｆ〜２４５ＦＣを作製した。

いずれの光学フィルターも、可視光線を有効に吸収した。

なお、比較例で使用した色素Ａ、Ｂ、Ｃは以下の通りである。

Ａ：国際公開第０４／００７４４７号パンフレット表２記載化合物（７）
Ｂ：下記比較化合物１とＭＳ−１を、比較化合物１：ＭＳ−１＝１：３（モル比）の割合でＴＨＦ溶液中で混合し、溶液を減圧留去後の残渣を色素として用いた。

Ｃ：特開２００５−１９７２４０号公報の例示化合物II−３

《光学フィルターの評価》
作製した光学フィルターについて下記の評価を行った。

（耐光性）
実施例１の耐光性１と同様に評価した。

（耐熱性）
作製直後の光学フィルターに可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ０：例えば、４５０ｎｍでの透過率はＴ０（４５０）と表記する）を測定した。続いて、光学フィルターを８０℃の条件下で１０日間保存した後、同様に可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ１：例えば、試験後の４５０ｎｍでの透過率はＴ１（４５０）と表記する）を測定した。保存前後での各波長での透過率変化（％）の絶対値を積算し、この積算｜ΔＴ｜から下記基準で耐熱性を評価した。

積算｜ΔＴ｜＝｜Ｔ０（４５０）−Ｔ１（４５０）｜＋｜Ｔ０（５５０）−Ｔ１（５５０）｜＋｜Ｔ０（５８６）−Ｔ１（５８６）｜＋｜Ｔ０（６１２）−Ｔ１（６１２）｜＋｜Ｔ０（６２８）−Ｔ１（６２８）｜
ａ：｜ΔＴ｜が２．５％未満
ｂ：｜ΔＴ｜が２．５％〜５％未満
ｃ：｜ΔＴ｜が５％〜１０％未満
ｄ：｜ΔＴ｜が１０％以上
｜ΔＴ｜が小さいほど、熱に対して安定であり、耐熱性に優れることを示す。ａ、ｂが実用上問題ないレベルである。

（耐湿性）
作製直後の光学フィルターに可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ０：例えば、４５０ｎｍでの透過率はＴ０（４５０）と表記する）を測定した。続いて、光学フィルターを５０℃、８０％ＲＨの条件化で１０日間保存した後、同様に可視光線を照射し、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５８６ｎｍ、６１２ｎｍ及び６２８ｎｍの各波長での透過率（％）（Ｔ１：例えば、試験後の４５０ｎｍでの透過率はＴ１（４５０）と表記する）を測定した。保存前後での各波長での透過率変化（％）の絶対値を積算し、この積算｜ΔＴ｜から下記基準で耐湿性を評価した。

積算｜ΔＴ｜＝｜Ｔ０（４５０）−Ｔ１（４５０）｜＋｜Ｔ０（５５０）−Ｔ１（５５０）｜＋｜Ｔ０（５８６）−Ｔ１（５８６）｜＋｜Ｔ０（６１２）−Ｔ１（６１２）｜＋｜Ｔ０（６２８）−Ｔ１（６２８）｜
ａ：｜ΔＴ｜が２．５％未満
ｂ：｜ΔＴ｜が２．５％〜５％未満
ｃ：｜ΔＴ｜が５％〜１０％未満
ｄ：｜ΔＴ｜が１０％以上
｜ΔＴ｜が小さいほど、湿度に対して安定であり、耐湿度性に優れることを示す。ａ、ｂが実用上問題ないレベルである。

評価の結果を表２〜７に示す。

表から明らかなように、本発明の試料は良好な耐光性、耐熱性、耐湿性を有するのに対して、比較試料は劣ることが分かる。

実施例３ （ディスプレイパネル用フィルター）
（Ｉ）（ネオン発光吸収フィルターの作製）
（３−１）ポリエチレンテレフタレート製フィルム（厚み１００μｍ）に、本発明の例示化合物２４の０．３％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．５ｇ、ポリエステル樹脂の２０％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液６．５ｇを混合した後、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚５μｍのネオン発光吸収層コーティングフィルムを得た。このコーティングフィルムの透過率曲線は、５９３ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５８０〜６００ｎｍにあることから、透過率の高い、ネオン発光カットに好適なディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。

（３−２）ポリエチレンテレフタレート製フィルム（厚み１００μｍ）に、本発明の例示化合物２５の０．４％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．６ｇ、アクリル樹脂の３５％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液４．０ｇを混合した後、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚５μｍのネオン発光吸収層コーティングフィルムを得た。このコーティングフィルムの透過率曲線は、５９３ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５８０〜６００ｎｍにあることから、透過率の高い、ネオン発光カットに好適なディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。

（３−３）ポリエチレンテレフタレート製フィルム（厚み１００μｍ）に、本発明の例示化合物４２の０．４％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．６ｇ、アクリル樹脂の３５％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液４．０ｇを混合した後、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚５μｍのネオン発光吸収層コーティングフィルムを得た。このコーティングフィルムの透過率曲線は、５９５ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５８０〜６００ｎｍにあることから、透過率の高い、ネオン発光カットに好適なディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。

（３−４）ポリエチレンテレフタレート製フィルム（厚み１００μｍ）に、本発明の例示化合物５２の０．３％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．６ｇ、アクリル樹脂の３５％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液４．０ｇを混合した後、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚５μｍのネオン発光吸収層コーティングフィルムを得た。このコーティングフィルムの透過率曲線は、５８６ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５８０〜６００ｎｍにあることから、透過率の高い、ネオン発光カットに好適なディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。

（３−５）ポリエチレンテレフタレート製フィルム（厚み１００μｍ）に、本発明の例示化合物１４０の０．３％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液（メチルエチルケトン／トルエン＝１：１）０．６ｇ、アクリル樹脂の３５％メチルエチルケトン／トルエン混合溶液４．０ｇを混合した後、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚５μｍのネオン発光吸収層コーティングフィルムを得た。このコーティングフィルムの透過率曲線は、５９０ｎｍに極小値を有しており、これ以外に明瞭な極小値はなく、可視光透過率の最小値の波長がネオン発光の波長領域である５８０〜６００ｎｍにあることから、透過率の高い、ネオン発光カットに好適なディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。

（II）（紫外線吸収層の形成例）
上記（３−１）〜（３−５）のディスプレイパネル用フィルターのネオン発光吸収層面と反対側のポリエテレンテレフタレート面上に、イソシアネート樹脂をバインダーとし、酸化亜鉛を紫外線吸収剤として含有する紫外線吸収コート液（住友大阪セメント（株）製）をバーコーターでコーティングし、乾燥して、膜厚３μｍの紫外線吸収層を形成した。各々のフィルターにおいて可視光透過率の極小波長は変化しなかった。

（III）（近赤外線吸収層の形成例）
上記（３−１）〜（３−５）のディスプレイパネル用フィルターのネオン発光吸収層面と反対側のポリエテレンテレフタレート面上に、近赤外線吸収色素（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩）の０．５％シクロヘキサノン溶液０．３ｇ、ポリエステル樹脂２０％シクロヘキサノン溶液３ｇを混合し、バーコーターで塗工し、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング膜を形成した。このフィルターを日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。各々のフィルターにおいて、可視光透過率の極小波長は変化せず、赤外線透過率の最小値における波長は１１００ｎｍであった。

（IV）（近赤外線吸収剤、本発明の組成物混合膜の形成例）
（３−６）上記近赤外線吸収色素の０．５％シクロヘキサノン溶液０．５ｇ及び本発明の例示化合物２４の０．３％シクロヘキサノン溶液０．５ｇをポリエステル樹脂の２０％シクロヘキサン溶液６．５ｇに混合し、ポリエテレンテレフタレートフィルム（厚み１００μｍ）に、バーコーターで塗工、乾燥して、膜厚６μｍのコーティング膜を形成し、ディスプレイパネル用フィルターを作製した。

（Ｖ）（電磁波カット層、ノングレア層の形成例）
（３−７）酸化インジウム−酸化スズ競結体を用い、アルゴンガス、酸素ガスを用いて、ＩＴＯ薄膜を作製したポリエテレンテレフタレートフィルム（厚み１００μｍ）上に、上記（２−６）で作製した塗工液を用いて近赤外線吸収、ネオン発光吸収層を厚さ６μｍで積層させた。さらに反対面上にアンチグレア層を有する厚み３ｍｍ、ＡＲコーティング済みのＰＭＭＡ板のノングレア層の形成されていない面と上記フィルターのＩＴＯ面を貼り合わせて、プラズマディスプレイパネル用フィルターを作製し、良好なフィルターを得ることができた。

（VI）（比較例）
（３−８）本発明の例示化合物２４の代わりに、比較化合物Ｄを使用した以外は（III）と同様にして近赤外線吸収層を有するディスプレイパネル用フィルターを得た。なお、比較化合物Ｄは特開２００５−１９７２４０号公報の例示化合物Ｉ−３４、Ｉ−３５，Ｉ−３６の２５：５０：２５混合物である。

（III）、（IV）、（Ｖ）及び（VI）で作製したフィルターをそれぞれ別々にガラスに貼合した前面板を作り、さらにこの前面板をプラズマディスプレイに装着した。使用環境温度を４５℃、８０％ＲＨに設定した環境室にこのプラズマディスプレイを入れ、２４時間連続使用し、２４時間後の色再現性を目視で確認した。本発明のフィルター（（III）、（IV）、（Ｖ））を用いた前面板を装着したプラズマディスプレイは、いずれも４５℃、８０％ＲＨ環境下において、２４時間後もネオン発光波長の変動の影響を受けず良好な色再現性を示したのに対して、比較例のフィルター（VI）を用いた前面板を装着したプラズマディスプレイは、４５℃、８０％ＲＨ環境下での、ネオン発光波長の変動の影響により明らかに色再現性が劣化したことを確認した。

以上より、本発明のスクアリリウム色素−金属錯体化合物及びバインダーを用いることで耐光性及び耐湿熱性に優れた光学フィルターを作製することができる。特に高温高湿環境下での耐光性を向上させることができることが分かる。さらにディスプレイ用前面フィルター、特に、ネオン発光を有効に吸収できるネオン発光吸収フィルターに適用することで、良好な色再現性を有するディスプレイパネル用フィルターを提供することができた。

Claims (4)

1. 可視光領域に極大吸収を有し、下記一般式（１）で表される部分構造を有するスクアリリウム色素−金属錯体化合物及びバインダーを含有することを特徴とする光学フィルター。
   

   

   
   （式中、Ｍは金属原子を表し、Ａは有機基を表し、Ｂは５員環を表し、Ｘは酸素原子、窒素原子または硫黄原子を表し、Ｙはｎ＝０の場合は窒素原子を、ｎ＝１の場合は炭素原子を表し、Ｒは置換基を表し、ｎは０または１を表し、ｍは０〜３の整数を表す。）
2. 前記一般式（１）において、Ａがアリール基、複素環基または下記一般式（１−Ａ）であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の光学フィルター。
   

   

   
   （式中、Ａ¹は５員環または６員環を表し、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。）
3. 前記一般式（１）において、金属原子Ｍが銅、ニッケル、コバルト、亜鉛、アルミニウム、ベリリウムのいずれかであることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載の光学フィルター。
4. 請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項に記載の光学フィルターを用いることを特徴とするディスプレイパネル用フィルター。