JPS639178A - ガスレ−ザ装置 - Google Patents
ガスレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS639178A JPS639178A JP15304686A JP15304686A JPS639178A JP S639178 A JPS639178 A JP S639178A JP 15304686 A JP15304686 A JP 15304686A JP 15304686 A JP15304686 A JP 15304686A JP S639178 A JPS639178 A JP S639178A
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- opening
- chamber
- impurities
- window
- laser
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ物質が充填されるガスレーザ装置に関
し、特にエキシマレーザに関する。
し、特にエキシマレーザに関する。
従来、横型のエキシマレーザは、第５図に示すように、
キャビティ１０内にリアミラー１とフロントミラー２と
からなる共振器と、上記リアミラー１とチャンバー３と
の間に波長選択素子としてのエタロン４を配設させた構
成になっている。そしてチャンバー３は、水平方向のレ
ーザ光の光軸りに一致して配設される筒体３ａと、この
筒体３ａの両端に密着するフランジ３ｂ、３ｂ’からな
っている。このフランジ３ｂ、３ｂ’ は中央付近に光
軸りに一致して図示しない開口部がそれぞれ設けられて
おり、開口部はウィンドウ５．５′によって密閉されて
いる。上記チャンバー３内には、例えばアルゴンとフッ
素の混合ガス、クリプトンとフッ素の混合ガスなどのレ
ーザ物質が充填されている。また第６図に示すようにチ
ャンバー３内には、貫流ファン６、熱交換器７のガス循
環装置が配設されているので、上記混合ガスは、チャン
バー３の内周面に沿って循環し、電極８．９間の放電に
よって励起する。エキシマレーザは、この放電励起によ
ってエキシマと呼ばれる励起状態の原子と基底状態の原
子が結合してできる分子を用いて波長が短＜（ＡｒＦで
１９３ｎｍ。
キャビティ１０内にリアミラー１とフロントミラー２と
からなる共振器と、上記リアミラー１とチャンバー３と
の間に波長選択素子としてのエタロン４を配設させた構
成になっている。そしてチャンバー３は、水平方向のレ
ーザ光の光軸りに一致して配設される筒体３ａと、この
筒体３ａの両端に密着するフランジ３ｂ、３ｂ’からな
っている。このフランジ３ｂ、３ｂ’ は中央付近に光
軸りに一致して図示しない開口部がそれぞれ設けられて
おり、開口部はウィンドウ５．５′によって密閉されて
いる。上記チャンバー３内には、例えばアルゴンとフッ
素の混合ガス、クリプトンとフッ素の混合ガスなどのレ
ーザ物質が充填されている。また第６図に示すようにチ
ャンバー３内には、貫流ファン６、熱交換器７のガス循
環装置が配設されているので、上記混合ガスは、チャン
バー３の内周面に沿って循環し、電極８．９間の放電に
よって励起する。エキシマレーザは、この放電励起によ
ってエキシマと呼ばれる励起状態の原子と基底状態の原
子が結合してできる分子を用いて波長が短＜（ＡｒＦで
１９３ｎｍ。
ＫｒＦで２４１１１ｎｍの紫外）、また本質的にインコ
ヒーレント性を有するレーザ光を発振することができる
。
ヒーレント性を有するレーザ光を発振することができる
。
ところが上記したようなエキシマレーザのチャンバーで
は、混合ガスが電極間の放電によって励起するときに、
同時に微粉末の不純物も生成されてしまう。この不純物
はレーザ発振時にはガスと共にチャンバー内を内周面に
沿って循環しており、レーザ光軸方向には速度成分をも
たないが、レーザ停止時にはチャンバー内を浮遊しウィ
ンドウに付着しやすくなり、この不純物がウィンドウに
付着すると、レーザの出力が低下するという問題点があ
った。
は、混合ガスが電極間の放電によって励起するときに、
同時に微粉末の不純物も生成されてしまう。この不純物
はレーザ発振時にはガスと共にチャンバー内を内周面に
沿って循環しており、レーザ光軸方向には速度成分をも
たないが、レーザ停止時にはチャンバー内を浮遊しウィ
ンドウに付着しやすくなり、この不純物がウィンドウに
付着すると、レーザの出力が低下するという問題点があ
った。
この問題点を解決すべく、従来の装置では、静電除塵器
を設け、除塵したガスをウィンドウに吹き付けて不純物
がウィンドウに付着しないようにするものがあったが、
これを実施するためには複雑な装置が必要となりコスト
が高くなるという問題点があった。
を設け、除塵したガスをウィンドウに吹き付けて不純物
がウィンドウに付着しないようにするものがあったが、
これを実施するためには複雑な装置が必要となりコスト
が高くなるという問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、ウィンド
ウへの不純物の付着を防止してレーザ出力の向上を図る
ガスレーザ装置を提供することを目的とする。
ウへの不純物の付着を防止してレーザ出力の向上を図る
ガスレーザ装置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明は、
チャンバー内の開口部に該チャンバー内の不純物の前記
ウィンドウへの付着を防止する不純物付着防止手段を配
設し、レーザ停止時に浮遊する不純物を上記不純物付着
防止手段に付着させることにより、ウィンドウへの不純
物の付着を防止し、レーザ出力を向上させている。
チャンバー内の開口部に該チャンバー内の不純物の前記
ウィンドウへの付着を防止する不純物付着防止手段を配
設し、レーザ停止時に浮遊する不純物を上記不純物付着
防止手段に付着させることにより、ウィンドウへの不純
物の付着を防止し、レーザ出力を向上させている。
本発明の実施例を第１図乃至第４図の図面にもとづき詳
細に説明する。
細に説明する。
第１図は、第５図に示したような横型のエキシマレーザ
のチャンバーに本発明の不純物付着防止装置を配設した
一実施例を示す部分断面図である。
のチャンバーに本発明の不純物付着防止装置を配設した
一実施例を示す部分断面図である。
なお、本発明の不純物甘心防止装置は、第５図に示した
チャンバー３の両方のフランジ３ｂ。
チャンバー３の両方のフランジ３ｂ。
３ｂ’ にそれぞれ取付けられており、その構成は同一
なのでフランジ３ｂ側に取付けた場合について説明する
。
なのでフランジ３ｂ側に取付けた場合について説明する
。
第１図において、本発明の不純物付着防止装置２０はチ
ャンバーのフランジ３ｂ内の開口部３Ｃにレーザ光の光
軸りと一致して筒体２１を取付け、この筒体２１の内周
面２２に複数の壁板２３を配設してなる。これによりチ
ャンバーの内周方向から／Ｖ遊してきた不純物は、筒体
２１の外周面に付着し、光軸方向に浮遊してきて円筒２
１内に入った不純物は、光軸方向の速度成分が小さいの
で、すぐに速度を失い円筒２１内の壁板２３に付着し、
ウィンドウ５には到達しない。したがって上記ウィンド
ウ５は、常に不純物の付着しないクリーンな状態になる
。また壁板２３を永久磁石等の磁性体で構成すれば、壁
板２３への不純物の付着効果は、さらに向上される。
ャンバーのフランジ３ｂ内の開口部３Ｃにレーザ光の光
軸りと一致して筒体２１を取付け、この筒体２１の内周
面２２に複数の壁板２３を配設してなる。これによりチ
ャンバーの内周方向から／Ｖ遊してきた不純物は、筒体
２１の外周面に付着し、光軸方向に浮遊してきて円筒２
１内に入った不純物は、光軸方向の速度成分が小さいの
で、すぐに速度を失い円筒２１内の壁板２３に付着し、
ウィンドウ５には到達しない。したがって上記ウィンド
ウ５は、常に不純物の付着しないクリーンな状態になる
。また壁板２３を永久磁石等の磁性体で構成すれば、壁
板２３への不純物の付着効果は、さらに向上される。
第２図は、チャンバー３１とガス循環器系および電源３
２を分離し、フロントミラー３３、チャンバー３１、エ
タロン３４およびリアミラー３５を垂直に配列してレー
ザ光の光軸りを垂直方向に設定した縦型のエキシマレー
ザの一例である。図においてガス循環器系は、ブロア３
６、ガス交換器３７、熱交換器３８、フィルタ３９およ
びガス純化装置４０から構成され、チャンバー３１とは
ダクト４１．４２を介して接続されている。そして混合
ガスはブロア３６によってダクト４１゜４゛２内を矢印
方向に循環している。この場合、チャンバー３１内の不
純物は、上方のウィンドウ４３にはごく微量付着する程
度であるが、下方のウィンドウ４４には多くの量が付着
することになる。
２を分離し、フロントミラー３３、チャンバー３１、エ
タロン３４およびリアミラー３５を垂直に配列してレー
ザ光の光軸りを垂直方向に設定した縦型のエキシマレー
ザの一例である。図においてガス循環器系は、ブロア３
６、ガス交換器３７、熱交換器３８、フィルタ３９およ
びガス純化装置４０から構成され、チャンバー３１とは
ダクト４１．４２を介して接続されている。そして混合
ガスはブロア３６によってダクト４１゜４゛２内を矢印
方向に循環している。この場合、チャンバー３１内の不
純物は、上方のウィンドウ４３にはごく微量付着する程
度であるが、下方のウィンドウ４４には多くの量が付着
することになる。
そこで、本発明の他の実施例の不純物付着防止装置は、
第３図の平面図および第３図のＡ−Ａ断面図である第４
図に示すようにダクトによって循環するガスの押圧力を
利用してチャンバー３１の下方に設けたフランジ４６内
の開口部４６ａ上を摺動し、上記開口部４６ａを開閉す
るように構成されている。すなわち第３図、第４図にお
いて、フランジ４６の上面４６ｂは、ガスの進行方向（
矢印）に傾斜して形成されており、この上面４６ｂには
開口部４６ａと同一の開口部を有する基板４７が固設さ
れ、基板４７にはＬ字形の壁板４８が載置されている。
第３図の平面図および第３図のＡ−Ａ断面図である第４
図に示すようにダクトによって循環するガスの押圧力を
利用してチャンバー３１の下方に設けたフランジ４６内
の開口部４６ａ上を摺動し、上記開口部４６ａを開閉す
るように構成されている。すなわち第３図、第４図にお
いて、フランジ４６の上面４６ｂは、ガスの進行方向（
矢印）に傾斜して形成されており、この上面４６ｂには
開口部４６ａと同一の開口部を有する基板４７が固設さ
れ、基板４７にはＬ字形の壁板４８が載置されている。
上記壁板４８は、基板４７にネジ４９．５０等によって
摺動自在に係合し、開口部４６ａを開閉している。
摺動自在に係合し、開口部４６ａを開閉している。
したがってレーザ発振時にガスが循環し、ダクト４１が
分岐したダクト４１ａによってガスが吹き出されるとく
第２図参照）、壁板４８はガスの矢印方向の押圧力によ
って基板４７上を摺動し、開口部４６ａを開にする。こ
れによりレーザ光はウィンドウ４４を開して外部に出射
することができる。またレーザ停止時には、ガスの循環
も停止するので、矢印方向の押圧力は減圧してなくなり
、壁板４８は自重によって矢印と逆方向に摺動し、開口
部４６ａを閉にすることができる。これによりチャンバ
ー内の不純物は、浮遊しながら落下して壁板４８に付着
し、ウィンドウ４４には到達しない。したがって上記ウ
ィンドウ４４は、常に不純物の付着しないクリーンな状
態になる。
分岐したダクト４１ａによってガスが吹き出されるとく
第２図参照）、壁板４８はガスの矢印方向の押圧力によ
って基板４７上を摺動し、開口部４６ａを開にする。こ
れによりレーザ光はウィンドウ４４を開して外部に出射
することができる。またレーザ停止時には、ガスの循環
も停止するので、矢印方向の押圧力は減圧してなくなり
、壁板４８は自重によって矢印と逆方向に摺動し、開口
部４６ａを閉にすることができる。これによりチャンバ
ー内の不純物は、浮遊しながら落下して壁板４８に付着
し、ウィンドウ４４には到達しない。したがって上記ウ
ィンドウ４４は、常に不純物の付着しないクリーンな状
態になる。
本発明の不純物付着防止装置は、上記したように構成が
簡単なので、コストを安価にすることができる。
簡単なので、コストを安価にすることができる。
なお上方のウィンドウ４３に付着する不純物は、ごく微
量なので、レーザ発振時にダクト４１が分岐したダクト
４１ｂからウィンドウ４３にガスを吹きつけることによ
り不純物の付着を防止することができる。また第３図、
第４図に示した壁板は、ガスの押圧力によって摺動する
ようにしたが、この実施例に限らず機械的な摺動機構に
よって摺動させることも可能である。
量なので、レーザ発振時にダクト４１が分岐したダクト
４１ｂからウィンドウ４３にガスを吹きつけることによ
り不純物の付着を防止することができる。また第３図、
第４図に示した壁板は、ガスの押圧力によって摺動する
ようにしたが、この実施例に限らず機械的な摺動機構に
よって摺動させることも可能である。
以上説明したように本発明は、チャンバー内の開口部に
該チャンバー内の不純物の前記ウィンドウへの付着を防
止する不純物付着防止手段を配設したので、ウィンドウ
への不純物の付着を防止してレーザ出力の向上を図るこ
とができる。
該チャンバー内の不純物の前記ウィンドウへの付着を防
止する不純物付着防止手段を配設したので、ウィンドウ
への不純物の付着を防止してレーザ出力の向上を図るこ
とができる。
第１図は、本発明による不純物付着防止装置の一実帷例
を示す断面図、第２図は縦型エキシマレーザの一例を示
す図、第３図は第２図に示したチャンバーに不純物付着
防止装置を用いた他の実施例を示す図、第４図は第３図
のＡ−Ａ断面図、第５図は横型エキシマレーザの一例を
示す図、第６図は第５図のＡ−Ａ断面図である。 ３．３１・・・チャンバー、３ｃ、４６ａ・・・開口部
、５．５’、４３．４４・・・ウィンドウ、２０・・・
不純物付着防止装置、２１・・・円筒、２３．４８・・
・壁板、Ｌ・・・光軸。 第４図 ３−一一テマンハ” ３Ｇ−日間 ３ｂ、３ｂ−−−フつシラ ５．５−−一つインドつ 第６図
を示す断面図、第２図は縦型エキシマレーザの一例を示
す図、第３図は第２図に示したチャンバーに不純物付着
防止装置を用いた他の実施例を示す図、第４図は第３図
のＡ−Ａ断面図、第５図は横型エキシマレーザの一例を
示す図、第６図は第５図のＡ−Ａ断面図である。 ３．３１・・・チャンバー、３ｃ、４６ａ・・・開口部
、５．５’、４３．４４・・・ウィンドウ、２０・・・
不純物付着防止装置、２１・・・円筒、２３．４８・・
・壁板、Ｌ・・・光軸。 第４図 ３−一一テマンハ” ３Ｇ−日間 ３ｂ、３ｂ−−−フつシラ ５．５−−一つインドつ 第６図
Claims (5)
- （１）レーザ物質が充填されるとともにレーザ光を出射
する開口部を有し、該開口部をウィンドウによって密閉
するチャンバーを有するガスレーザ装置において、 前記チャンバー内の開口部に該チャンバー内の不純物の
前記ウィンドウへの付着を防止する不純物付着防止手段
を配設したことを特徴とするガスレーザ装置。 - （２）前記不純物付着防止手段は前記レーザ光の光軸と
一致して配設される筒体と、 該筒体の内周面に複数配設される壁板とからなることを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載のガスレーザ
装置。 - （３）前記壁板は磁性体からなることを特徴とする特許
請求の範囲第（２）項記載のガスレーザ装置。 - （４）前記不純物付着防止手段は前記チャンバー内の開
口部上を摺動し、該開口部を開閉する壁板からなること
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載のガスレー
ザ装置。 - （５）前記壁板はレーザ装置の動作時においてガス流の
押圧力によって前記開口部上を開方向に摺動することを
特徴とする特許請求の範囲第（４）項記載のガスレーザ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15304686A JPS639178A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | ガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15304686A JPS639178A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | ガスレ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS639178A true JPS639178A (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=15553788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15304686A Pending JPS639178A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | ガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS639178A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988009579A1 (en) * | 1987-05-18 | 1988-12-01 | Fanuc Ltd | Laser oscillator and method of sealing laser gas into said laser oscillator |
| JPS6442188A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | Excimer laser apparatus |
| JPH042186A (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキシマレーザ装置 |
| JPH0690041A (ja) * | 1992-09-07 | 1994-03-29 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ガスレーザ装置におけるダスト除去装置 |
| EP0641050A1 (en) * | 1993-08-26 | 1995-03-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Gas laser oscillator |
| JP2002368438A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Toshiba Corp | 電子機器の壁掛け構造 |
| JP2010050420A (ja) * | 2008-08-25 | 2010-03-04 | Mitsumi Electric Co Ltd | 電子機器 |
| JP2010123665A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ガスレーザ発振器とそれを備えたレーザ加工機 |
| KR101181474B1 (ko) | 2010-12-27 | 2012-09-10 | 한국원자력연구원 | 이온 증착이 방지되는 시창구를 구비한 진공챔버 |
| JP2015220292A (ja) * | 2014-05-15 | 2015-12-07 | ファナック株式会社 | ガス循環式のレーザ発振装置 |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15304686A patent/JPS639178A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1988009579A1 (en) * | 1987-05-18 | 1988-12-01 | Fanuc Ltd | Laser oscillator and method of sealing laser gas into said laser oscillator |
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| JP2015220292A (ja) * | 2014-05-15 | 2015-12-07 | ファナック株式会社 | ガス循環式のレーザ発振装置 |
| US9484704B2 (en) | 2014-05-15 | 2016-11-01 | Fanuc Corporation | Gas circulation type laser oscillator |
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