JPS6386576A - 半導体式加速度センサ - Google Patents
半導体式加速度センサInfo
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- JPS6386576A JPS6386576A JP61232223A JP23222386A JPS6386576A JP S6386576 A JPS6386576 A JP S6386576A JP 61232223 A JP61232223 A JP 61232223A JP 23222386 A JP23222386 A JP 23222386A JP S6386576 A JPS6386576 A JP S6386576A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010044565 Tremor Diseases 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P2015/0805—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration
- G01P2015/0822—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass
- G01P2015/0825—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass
- G01P2015/0828—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining out-of-plane movement of the mass for one single degree of freedom of movement of the mass the mass being of the paddle type being suspended at one of its longitudinal ends
Landscapes
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体基板上あるいは該基板内に半導体歪ゲ
ージを形成し、弾性変化時に発生する半導体歪ゲージの
抵抗値変化を電気信号として出力する半導体式加速度セ
ンサに関する。
ージを形成し、弾性変化時に発生する半導体歪ゲージの
抵抗値変化を電気信号として出力する半導体式加速度セ
ンサに関する。
従来、振動や加速度等を検知するのに一般的に用いられ
ている構造としては、半導体基板に半導体歪ゲージの形
成される薄肉状のダイヤフラム部を形成し、一方の厚肉
部である支持体を固定し、他方の厚肉部を自由端として
、半導体歪ゲージの抵抗値変化に応じて被測定力を検知
するカンチレバー型の半導体式加速度センサが知られて
いる。
ている構造としては、半導体基板に半導体歪ゲージの形
成される薄肉状のダイヤフラム部を形成し、一方の厚肉
部である支持体を固定し、他方の厚肉部を自由端として
、半導体歪ゲージの抵抗値変化に応じて被測定力を検知
するカンチレバー型の半導体式加速度センサが知られて
いる。
第4図(alにそのような装置の部分的」二面図、同図
fb)にその部分的側面図を示す。図において、500
はシリコン単結晶基板であり、厚肉状である自由端50
0a、Fll状状あるダイヤフラム部500b及び厚肉
状で半田等により台座400に接続し固定する支持体5
00Cよりなる。そして、ダイヤフラム部500bには
4つの半導体歪ゲージ100が形成されており、不純物
を高濃度に導入して形成した配線N200、及びAff
蒸着膜等から成る配線部材300により各々の半導体歪
ゲージ100は互いに電気的接続されておりフルブリッ
ジを構成している。尚、300aは配線層200と配線
部材300とのコンタクト部であり、300bはパッド
部である。
fb)にその部分的側面図を示す。図において、500
はシリコン単結晶基板であり、厚肉状である自由端50
0a、Fll状状あるダイヤフラム部500b及び厚肉
状で半田等により台座400に接続し固定する支持体5
00Cよりなる。そして、ダイヤフラム部500bには
4つの半導体歪ゲージ100が形成されており、不純物
を高濃度に導入して形成した配線N200、及びAff
蒸着膜等から成る配線部材300により各々の半導体歪
ゲージ100は互いに電気的接続されておりフルブリッ
ジを構成している。尚、300aは配線層200と配線
部材300とのコンタクト部であり、300bはパッド
部である。
ここで、ダイヤフラム部500bは薄肉状であるので、
厚内状の支持体500C1自由端500aと比較してそ
の機械的強度は当然小さくなっている。そして、何らか
の原因で上記のような半導体式加速度センサに強い衝撃
が加わってダイヤフラム500bが折れた場合を想定す
ると、通常は支持体500Cに近い側のダイヤフラム部
500b、例えば第4図中に示すC−C線に沿って折れ
、その場合には出力信号に異常信号が現れるので半導体
式加速度センサの異常状態はlII!認できるが、本発
明者達の実験によると、自由端500aに近い側のダイ
ヤフラム500b、例えば第4図中に示すl3−B線に
沿って折れる事もあり、その場合半導体歪ゲージ100
や配線層200は何ら破損していないので、その出力信
号は測定感度が落ちるだけであり異常信号として現れな
いので、半導体式加速度センサの異常を確認するのは困
難であった。
厚内状の支持体500C1自由端500aと比較してそ
の機械的強度は当然小さくなっている。そして、何らか
の原因で上記のような半導体式加速度センサに強い衝撃
が加わってダイヤフラム500bが折れた場合を想定す
ると、通常は支持体500Cに近い側のダイヤフラム部
500b、例えば第4図中に示すC−C線に沿って折れ
、その場合には出力信号に異常信号が現れるので半導体
式加速度センサの異常状態はlII!認できるが、本発
明者達の実験によると、自由端500aに近い側のダイ
ヤフラム500b、例えば第4図中に示すl3−B線に
沿って折れる事もあり、その場合半導体歪ゲージ100
や配線層200は何ら破損していないので、その出力信
号は測定感度が落ちるだけであり異常信号として現れな
いので、半導体式加速度センサの異常を確認するのは困
難であった。
そこで本発明は、上記の点に鑑みなされたもので、ダイ
ヤフラム部の破損が容易に検出可能な半導体式加速度セ
ンサを提供する事を目的としている。
ヤフラム部の破損が容易に検出可能な半導体式加速度セ
ンサを提供する事を目的としている。
上記の目的を達成する為に本発明は、半導体基板に、半
導体歪ゲージを有する薄肉状のダイヤフラム部及び厚肉
部と、前記半導体歪ゲージに電気接続する配線手段とを
形成し、一方の前記厚肉部を固定し、他方の前記厚肉部
を自由端とした半導体式加速度センサにおいて、 前記配線手段の少なくとも一部が前記自由端に延在して
いる事を特徴とする半導体式加速度センサを採用してい
る。
導体歪ゲージを有する薄肉状のダイヤフラム部及び厚肉
部と、前記半導体歪ゲージに電気接続する配線手段とを
形成し、一方の前記厚肉部を固定し、他方の前記厚肉部
を自由端とした半導体式加速度センサにおいて、 前記配線手段の少なくとも一部が前記自由端に延在して
いる事を特徴とする半導体式加速度センサを採用してい
る。
そして本発明によると、ダイヤフラム部が破損した場合
には配線手段あるいは半導体歪ゲージが必ず切断される
ので、半導体式加速度センサの出力信号は異常信号を示
す。
には配線手段あるいは半導体歪ゲージが必ず切断される
ので、半導体式加速度センサの出力信号は異常信号を示
す。
以下、本発明を図面に示す実施例を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す図であり、同図(a)
にその上面図、同図(b)に同図fa)におけるA−A
線断面図を示す。図において、4aは例えばN型シリコ
ン単結晶基板から成るカンチレバーであり、薄肉状のダ
イヤフラム部7、自由端1、自由端lを保護する為に自
由端1の周りに配置するガード部4a1、支持体8とか
ら成る。尚、自由端1とガード部4alとの間隙4a2
を形成する為のスクライブはカンチレバー4aを両面エ
ツチングする事により行われ、例えば、カンチレバー4
3のスクライブする箇所の表面(第1図(blにおける
上面)を予め溝堀りエツチングしておき、その後のダイ
ヤフラム部7の形成時に裏面よりエツチングを行なう事
でダイヤフラム部7の形成とスクライブとを同時に行な
う。
にその上面図、同図(b)に同図fa)におけるA−A
線断面図を示す。図において、4aは例えばN型シリコ
ン単結晶基板から成るカンチレバーであり、薄肉状のダ
イヤフラム部7、自由端1、自由端lを保護する為に自
由端1の周りに配置するガード部4a1、支持体8とか
ら成る。尚、自由端1とガード部4alとの間隙4a2
を形成する為のスクライブはカンチレバー4aを両面エ
ツチングする事により行われ、例えば、カンチレバー4
3のスクライブする箇所の表面(第1図(blにおける
上面)を予め溝堀りエツチングしておき、その後のダイ
ヤフラム部7の形成時に裏面よりエツチングを行なう事
でダイヤフラム部7の形成とスクライブとを同時に行な
う。
支持体8及びガード部4alの所定領域の表面にはNi
層等をめっき又は蒸着した下地13bが形成されており
、同じく下地層3bの形成されている台座6と半田層5
bを介して接着している。
層等をめっき又は蒸着した下地13bが形成されており
、同じく下地層3bの形成されている台座6と半田層5
bを介して接着している。
尚、台座6にはカンチレバー4aが被測定加速度に応じ
て変位できるように、第2図に示すようにカンチレバー
4aと相対する面6aに所定の深さの凹部6alが一方
の端面6bから他方の端面6Cにわたって形成されてい
る。この凹部6alの深さは自由端1の変位の最大値を
決定するものであり、強い衝撃が加わった場合に、自由
端1の第1図fbl中下方向への変位における機械的ス
トッパーとして働きカンチレバー4aの破損を防止して
いる。
て変位できるように、第2図に示すようにカンチレバー
4aと相対する面6aに所定の深さの凹部6alが一方
の端面6bから他方の端面6Cにわたって形成されてい
る。この凹部6alの深さは自由端1の変位の最大値を
決定するものであり、強い衝撃が加わった場合に、自由
端1の第1図fbl中下方向への変位における機械的ス
トッパーとして働きカンチレバー4aの破損を防止して
いる。
又、台座6の材質としてはカンチレバー43との熱膨張
係数をあわせる為にシリコンが望ましし1゜自由端1の
一主面(接着面)2には複数箇所(図では7箇所)に下
地層3aが形成されており、その下地層3aを介して負
荷としての半田層5aを接着している。ここで、本例の
ように半田層5aを複数箇所に形成する事により半田の
垂れ、片寄りを極力抑える事ができる。尚、下地層3a
及び半田層5aは、支持体8又はガード部4alの表面
上に形成される下地層3b及び半田層5bとそれぞれ同
時に同じ工程で形成可能である。
係数をあわせる為にシリコンが望ましし1゜自由端1の
一主面(接着面)2には複数箇所(図では7箇所)に下
地層3aが形成されており、その下地層3aを介して負
荷としての半田層5aを接着している。ここで、本例の
ように半田層5aを複数箇所に形成する事により半田の
垂れ、片寄りを極力抑える事ができる。尚、下地層3a
及び半田層5aは、支持体8又はガード部4alの表面
上に形成される下地層3b及び半田層5bとそれぞれ同
時に同じ工程で形成可能である。
又、ダイヤフラム部7内あるいはダイヤプラム部7上(
図は前者)に公知の半導体加工技術、例えばボロン等の
P型不純物を熱拡散又はイオン注入する事によりダイヤ
フラム部7内に導入し、形成した4個の半導体歪ゲージ
9が存在しており、P型不純物を高濃度で導入して形成
した配線N11a、及びAI!、蒸着膜等から成る配線
部材11bにより各々の半導体歪ゲージは互いに電気的
接続されておりフルブリッジを構成している。尚、10
はシリコン酸化膜等の保護膜であり、又、11b1は配
線層11aと配線部材11bとのコンタクト部、11b
2はパッド部である。
図は前者)に公知の半導体加工技術、例えばボロン等の
P型不純物を熱拡散又はイオン注入する事によりダイヤ
フラム部7内に導入し、形成した4個の半導体歪ゲージ
9が存在しており、P型不純物を高濃度で導入して形成
した配線N11a、及びAI!、蒸着膜等から成る配線
部材11bにより各々の半導体歪ゲージは互いに電気的
接続されておりフルブリッジを構成している。尚、10
はシリコン酸化膜等の保護膜であり、又、11b1は配
線層11aと配線部材11bとのコンタクト部、11b
2はパッド部である。
そして、上記の半導体式加速度センサは、自由端lに加
速度を加えるとダイヤプラム部7に歪を生じ、加速度の
大きさに応じて半導体歪ゲージ9の抵抗値が変化し、ブ
リッジ回路に予め電圧を印加しておくことによりブリッ
ジ出力として不平衡電圧を生じ、その電圧値に応じて被
検出加速度を検知するものである。
速度を加えるとダイヤプラム部7に歪を生じ、加速度の
大きさに応じて半導体歪ゲージ9の抵抗値が変化し、ブ
リッジ回路に予め電圧を印加しておくことによりブリッ
ジ出力として不平衡電圧を生じ、その電圧値に応じて被
検出加速度を検知するものである。
そこで本実施例によると、第1図ta+におけるダイヤ
フラム部を中心とした要部の拡大上面図である第3図に
示すように、配線Jillaの引き回し部11al、1
1a2が自由端1に延在しているので、支持体8から自
由端1にわたって配線層11aが連続的に、あるいは半
導体歪ゲージ9を介して形成される。従って、例えば第
1図(b)中上方向に大きな加速度が加わって第3図中
X方向にダイヤフラム部7が破損した場合には、必ず配
線層11aが半導体歪ゲージ9を切断する事になるので
、ブリ、ジ出力は異常な値となり、ダイヤフラム部7の
破損が検出できる。尚、図中Y方向へのダイヤフラム部
7の破損はほとんど起きないので問題はない。
フラム部を中心とした要部の拡大上面図である第3図に
示すように、配線Jillaの引き回し部11al、1
1a2が自由端1に延在しているので、支持体8から自
由端1にわたって配線層11aが連続的に、あるいは半
導体歪ゲージ9を介して形成される。従って、例えば第
1図(b)中上方向に大きな加速度が加わって第3図中
X方向にダイヤフラム部7が破損した場合には、必ず配
線層11aが半導体歪ゲージ9を切断する事になるので
、ブリ、ジ出力は異常な値となり、ダイヤフラム部7の
破損が検出できる。尚、図中Y方向へのダイヤフラム部
7の破損はほとんど起きないので問題はない。
次に、ダイヤフラム部の破損時における異常信号を検出
する具体的な電気回路を第5図を用いて説明する。図に
おいて、A、 B、 C,D点は第3図におけるパッ
ド部11b2のA、 B、 C,Dに対応する点であり
、抵抗RARI RACI RBDI RCDも
第3図における半導体歪ゲージ9に対応している。21
.22は演算増幅器(オペアンプ)であり、抵抗R1,
R2と抵抗R3,R4によりそれぞれ非反転増幅回路B
、Fを構成している。そして、A点には定電流が流れて
おり、B点には抵抗R,を介して電源電圧Vccが印加
されている。尚、抵抗値R1とR4、RZとR3はそれ
ぞれ同し値であり、又、Re ) RAB、 RAc、
RIID、 PCI+である。
する具体的な電気回路を第5図を用いて説明する。図に
おいて、A、 B、 C,D点は第3図におけるパッ
ド部11b2のA、 B、 C,Dに対応する点であり
、抵抗RARI RACI RBDI RCDも
第3図における半導体歪ゲージ9に対応している。21
.22は演算増幅器(オペアンプ)であり、抵抗R1,
R2と抵抗R3,R4によりそれぞれ非反転増幅回路B
、Fを構成している。そして、A点には定電流が流れて
おり、B点には抵抗R,を介して電源電圧Vccが印加
されている。尚、抵抗値R1とR4、RZとR3はそれ
ぞれ同し値であり、又、Re ) RAB、 RAc、
RIID、 PCI+である。
そこで、上記の電気回路によろくと、ダイヤフラム部が
破損していない時には出力電圧V。8.はに2 B点の電位V、と0点の電位■。との差分に応じた値が
出力される。そして、ダイヤプラム部が破損した場合、
例えば第3図における引き回し部11al、11a2が
切断したとすると、第5図においてラインBBとライン
CCが断線され、電流が流れないのでB点の電位■、は
電源電圧Vccと等しくなり、0点の電位V、は接地電
圧となる。
破損していない時には出力電圧V。8.はに2 B点の電位V、と0点の電位■。との差分に応じた値が
出力される。そして、ダイヤプラム部が破損した場合、
例えば第3図における引き回し部11al、11a2が
切断したとすると、第5図においてラインBBとライン
CCが断線され、電流が流れないのでB点の電位■、は
電源電圧Vccと等しくなり、0点の電位V、は接地電
圧となる。
従って、出力電圧V。LITは電源電圧V ccに等し
くなる。ここで、電圧Vccは電圧 バ2 値であり、半導体式加速度センサの検出可能な加速度の
範囲を考えた場合、とうてい出力される値ではない。そ
こでこの値を検出した際にダイヤフラム部の破損が検知
される事になる。
くなる。ここで、電圧Vccは電圧 バ2 値であり、半導体式加速度センサの検出可能な加速度の
範囲を考えた場合、とうてい出力される値ではない。そ
こでこの値を検出した際にダイヤフラム部の破損が検知
される事になる。
尚、本発明は上記実施例に限定される事なく、その主旨
を逸脱しない限り例えば以下に示す如く口変形可能であ
る。
を逸脱しない限り例えば以下に示す如く口変形可能であ
る。
fi+配線層11aの引き回し部11al、l1a2は
第6図の要部の拡大上面図に示すように、ダイヤフラム
部7が破損した場合にA−D点間に電流が流れないよう
にするために、その抵抗RAII)RBlll及びRA
ClRCDとの電気接続を自由端1に形成されている引
き回し部11a1.11a2から2本の配線に分けて行
ってもよい。
第6図の要部の拡大上面図に示すように、ダイヤフラム
部7が破損した場合にA−D点間に電流が流れないよう
にするために、その抵抗RAII)RBlll及びRA
ClRCDとの電気接続を自由端1に形成されている引
き回し部11a1.11a2から2本の配線に分けて行
ってもよい。
(2)配線層11aは/l蒸着膜等から成る配線部材で
あってもよい。
あってもよい。
(3)半導体歪ゲージ9の数は限定される事なく、フル
ブリッジを構成する必要もない。
ブリッジを構成する必要もない。
(4)半導体歪ゲージ9はダイヤフラム部7上に多結晶
シリコン等によって形成してもよい。
シリコン等によって形成してもよい。
(5)ガード部4alのない構成のカンチレバー型半導
体式加速度センサとしてもよい。
体式加速度センサとしてもよい。
以上述べた様に本発明によると、配線手段が自由端に達
しているので、ダイヤフラム部が破損した場合に、配線
手段あるいは半導体歪ゲージが必ず切断され、半導体式
加速度センサの出力信号は異常な値となり、ダイヤプラ
ム部が破損している事を容易にしかも確実に検知できる
という効果がある。
しているので、ダイヤフラム部が破損した場合に、配線
手段あるいは半導体歪ゲージが必ず切断され、半導体式
加速度センサの出力信号は異常な値となり、ダイヤプラ
ム部が破損している事を容易にしかも確実に検知できる
という効果がある。
本発明の適用例として、自動車の加速度を検出し、アン
チスキッド制御に用いる事が考えられる。
チスキッド制御に用いる事が考えられる。
もし、ダイヤフラム部の破損が検出できないとすると、
自動車が急制動しているにもかかわらず、半導体式加速
度センサの測定感度が低下する為にその状態に応じた信
号を出力できない。従って、自動車は非常に危険な状態
になる可能性がある。
自動車が急制動しているにもかかわらず、半導体式加速
度センサの測定感度が低下する為にその状態に応じた信
号を出力できない。従って、自動車は非常に危険な状態
になる可能性がある。
しかし、本発明によると確実にダイヤフラム部の破損が
検出できるので、その際にはアンチスキッド制御を行わ
ずに通常のブレーキシステムに戻す事ができ、危険な状
態になる事はない。本発明はそういった意味から考えで
も非常に優れたものと言えよう。
検出できるので、その際にはアンチスキッド制御を行わ
ずに通常のブレーキシステムに戻す事ができ、危険な状
態になる事はない。本発明はそういった意味から考えで
も非常に優れたものと言えよう。
第1図(a)は本発明の一実施例の上面図、第1図(b
]は同図+a)におけるA−A線断面図、第2図は第1
図における台座の斜視図、第3図は第1図におけるダイ
ヤフラム部を中心とした要部の拡大上面図、第4図ta
+は従来の半導体式加速度センサの部分的上面図、第4
図(b)は同図(alの側面図、第5図は異常信号を検
出する具体的な電気回路図、第6図は本発明の他の実施
例の要部の拡大上面図である。 1・・・自由端、4a・・・カンチレバー、6・・・台
座。 7・・・ダイヤフラム部、8・・・支持体、9・・・半
導体歪ゲージ、11a・・・配線層、11b・・・配線
部材。
]は同図+a)におけるA−A線断面図、第2図は第1
図における台座の斜視図、第3図は第1図におけるダイ
ヤフラム部を中心とした要部の拡大上面図、第4図ta
+は従来の半導体式加速度センサの部分的上面図、第4
図(b)は同図(alの側面図、第5図は異常信号を検
出する具体的な電気回路図、第6図は本発明の他の実施
例の要部の拡大上面図である。 1・・・自由端、4a・・・カンチレバー、6・・・台
座。 7・・・ダイヤフラム部、8・・・支持体、9・・・半
導体歪ゲージ、11a・・・配線層、11b・・・配線
部材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体基板に、半導体歪ゲージを有する薄肉状のダイ
ヤフラム部及び厚肉部と、前記半導体歪ゲージに電気接
続する配線手段とを形成し、一方の前記厚肉部を固定し
、他方の前記厚肉部を自由端とした半導体式加速度セン
サにおいて、 前記配線手段の少なくとも一部が前記自由端に延在して
いる事を特徴とする半導体式加速度センサ。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61232223A JPS6386576A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 半導体式加速度センサ |
EP19910112458 EP0456285A3 (en) | 1986-09-22 | 1987-09-15 | Semiconductor accelerometer |
EP19910112438 EP0454190A3 (en) | 1986-09-22 | 1987-09-15 | Semiconductor accelerometer |
DE8787113466T DE3780242T2 (de) | 1986-09-22 | 1987-09-15 | Halbleiterbeschleunigungsmesser. |
EP87113466A EP0261555B1 (en) | 1986-09-22 | 1987-09-15 | Semiconductor accelerometer |
US07/098,050 US4829822A (en) | 1986-09-22 | 1987-09-17 | Semiconductor accelerometer |
KR1019870010447A KR900005635B1 (ko) | 1986-09-22 | 1987-09-21 | 반도체 가속도계 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61232223A JPS6386576A (ja) | 1986-09-30 | 1986-09-30 | 半導体式加速度センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6386576A true JPS6386576A (ja) | 1988-04-16 |
Family
ID=16935910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61232223A Pending JPS6386576A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-30 | 半導体式加速度センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6386576A (ja) |
-
1986
- 1986-09-30 JP JP61232223A patent/JPS6386576A/ja active Pending
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