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JPS6374275A - Solid-state image pickup device - Google Patents

Solid-state image pickup device

Info

Publication number
JPS6374275A
JPS6374275A JP61218801A JP21880186A JPS6374275A JP S6374275 A JPS6374275 A JP S6374275A JP 61218801 A JP61218801 A JP 61218801A JP 21880186 A JP21880186 A JP 21880186A JP S6374275 A JPS6374275 A JP S6374275A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solid
state imaging
imaging device
switch
vertical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61218801A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tokuo Koizumi
小泉 徳夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP61218801A priority Critical patent/JPS6374275A/en
Publication of JPS6374275A publication Critical patent/JPS6374275A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体基板上に光電変換素子と走査回路を集積
し、光情報を順次読み出す固体機1象装置に関するもの
である。 〔発明の概要〕 本発明はテレビカメラ等?構成する固体撮像装置におい
て、固体撮像装置の雑音除去を第1項に記述した如くす
ることによって%撮は特性の向上を計ったものである。 〔従来の技術〕 従来の技術の概要を第3図及び第4図を用いて説明する
。 第3図は二次元固体撮像装置の構成列を示す。 光電変換素子は光ダイオード1を用いており、元ダイオ
ード1はマトリックス状に配置されている。 たとえば光ダイオード1を選択するスイッチMO8トラ
ンジスタ2および3であり、MOS)ランジスタ2およ
び3は各々垂直走査回路9及び水平走査回路10によシ
垂直走査ゲート4及び水平走査ゲート5を通じ制御され
ている。すなわち垂直走査回路9によシ選択された光ダ
イオード1の光情報は垂直信号線6にスイッチ用MO8
)ランジスタ2を通じ読み出される1次に水平走査回路
i。 により選択されたスイッチ用MO8)ランジスタ3は垂
直信号線6にある光情報を水平信号線7に読み出し、出
力端8に光情報を出力する。 このようにマトリックス状に配置された光ダイオードl
に蓄積された情報を順次選択及び走査することにより、
画家信号として取シ出すものである。 スイッチ用MOB)ランジスタ2及び3または垂直走査
ゲート4.水平走置ゲート5または垂直信号線6.水平
信号線7.出力端8は目的に応じ複数になっている場合
もある。 第4図は光電変換部の単位画素の断面構造を示す、以下
説明の便宜):S電子を信号電荷とするNチャンネル型
の撮像装置について述べるが、正孔を信号電荷とするr
チャンネル型の撮像装置においても以下の説明は極性お
よび導電型を逆にするのみで、同様に適用できるもので
ある。 単位画素は、P型S<単結晶からなるSZ基板14とn
型拡散層11で形成される光ダイオード。 と同時に形成されるn型拡散層11をソースとして多結
&87からなるゲート電極13及びル型拡散層12をド
レインとするMOB型電界効果トランジスタで形成され
る。ドレイン12はA L す、!’の金属からなる電
極15と接続され第1図に示す垂直信号線6を形成する
。 光17が撮鐵面に入射するとn型拡散層11およびP型
Si基板14内で電子−正孔対を発生し。 この内電子が信号電荷としてn型拡散層11に注入され
、n型拡散層11とP型sz?li!:板14で形成さ
れる接合容量により蓄積される。垂直走査ゲ−)13に
正のパルスが印加されると、正電位となってbるn型拡
散層12(ドレイン)にと配電子すなわち信号電荷が電
極15(第3図では垂直信号線6)に読み出され、第3
図で説明した如く出力端8まで読み出される。このとき
n型拡散層11(ソース)は正の電位とな91次に走査
されるまで光17によ)発生する電子を蓄積しつづけ正
の電位が低下する。このように各単位画素を選択走査し
#J慮倍信号して出力端8に取)出す。 〔発明が解決しよりとする問題点〕 しかし以下の欠点を有しているため実用化が。 はばまれている。 光17によシ発生した電子−正孔対は、信号電荷となる
。その信号電荷は光ダイオード1を形成する。拡散層1
1及び拡散層11の近辺の半導体基板14で発生する。 しかし拡散層11の近辺の半導体基板14以外の半導体
基板14
[Industrial Application Field] The present invention relates to a solid-state mechanical device that integrates a photoelectric conversion element and a scanning circuit on a semiconductor substrate and sequentially reads out optical information. [Summary of the invention] Is the invention applicable to television cameras, etc.? In the solid-state imaging device, the performance of the % imaging is improved by eliminating noise in the solid-state imaging device as described in the first section. [Prior Art] An overview of the conventional technology will be explained using FIGS. 3 and 4. FIG. 3 shows the configuration of a two-dimensional solid-state imaging device. A photodiode 1 is used as a photoelectric conversion element, and the original diodes 1 are arranged in a matrix. For example, the switch MO8 transistors 2 and 3 select the photodiode 1, and the MOS transistors 2 and 3 are controlled by a vertical scanning circuit 9 and a horizontal scanning circuit 10, respectively, through a vertical scanning gate 4 and a horizontal scanning gate 5. . That is, the optical information of the photodiode 1 selected by the vertical scanning circuit 9 is transmitted to the vertical signal line 6 by the switching MO8.
) Primary horizontal scanning circuit i read out through transistor 2. The transistor 3 for the switch selected by MO8) reads out the optical information on the vertical signal line 6 to the horizontal signal line 7, and outputs the optical information to the output terminal 8. Photodiodes arranged in a matrix like this
By sequentially selecting and scanning the information accumulated in
This is taken out as a painter's signal. Switch MOB) transistors 2 and 3 or vertical scanning gate 4. Horizontal running gate 5 or vertical signal line 6. Horizontal signal line7. There may be a plurality of output terminals 8 depending on the purpose. Figure 4 shows the cross-sectional structure of a unit pixel of a photoelectric conversion section (for convenience of explanation below): An N-channel type imaging device that uses S electrons as signal charges will be described, but r
The following explanation can be similarly applied to a channel type imaging device by simply reversing the polarity and conductivity type. The unit pixel consists of an SZ substrate 14 made of P-type S<single crystal and n
A photodiode formed of a type diffusion layer 11. It is formed of a MOB type field effect transistor having an n-type diffusion layer 11 formed at the same time as a source, a gate electrode 13 made of multi-connection &87, and an R-type diffusion layer 12 as a drain. Drain 12 is AL! ' is connected to the electrode 15 made of metal to form the vertical signal line 6 shown in FIG. When the light 17 is incident on the iron sensing surface, electron-hole pairs are generated within the n-type diffusion layer 11 and the P-type Si substrate 14. Among them, electrons are injected into the n-type diffusion layer 11 as signal charges, and the n-type diffusion layer 11 and the P-type sz? li! : Accumulated by the junction capacitance formed by the plate 14. When a positive pulse is applied to the vertical scanning gate (vertical scanning gate) 13, a positive potential is applied to the n-type diffusion layer 12 (drain), and electrons, that is, signal charges are distributed to the electrode 15 (vertical signal line 6 in FIG. 3). ), and the third
As explained in the figure, up to the output terminal 8 is read out. At this time, the n-type diffusion layer 11 (source) has a positive potential and continues to accumulate electrons generated by the light 17 until the next scan, and the positive potential decreases. In this way, each unit pixel is selectively scanned and the #J multiplication signal is outputted to the output terminal 8. [Problems to be solved by the invention] However, it has the following drawbacks and cannot be put into practical use. I'm blocked. Electron-hole pairs generated by the light 17 become signal charges. The signal charge forms a photodiode 1. Diffusion layer 1
1 and the semiconductor substrate 14 near the diffusion layer 11. However, semiconductor substrates 14 other than the semiconductor substrate 14 near the diffusion layer 11

【半導体基板14の深部及び酸化膜16の下方
及び拡散層12及び拡散層12の下方の半導体基板14
)においても、光17により電子−正孔対が発生する。 信号電荷の量工は次式に示される。 工=Aλ、−az λは光の波長、αは半導体基板の吸収係数、2は拡散層
11を含めた半導体基板の深さ、Aは定数である。この
ように半導体基板14の深部及び酸化膜16の下方及び
拡散層12の下方の半導体基板14で発生した電子−正
孔対は再結合して消滅してしまえば、間昭とならないが
、拡散層12もしくは、隣接する画素の拡散層(ダイオ
ード1及び垂直信号線6に接続するドレイン)に混入し
てします、真の信号電荷にまざってしまう、このことは
固体撮像装置の解は度の低下をもたらし。 強いスポット光等の光の入射に対し垂直方向に白もしく
は輝度の高い線が発生してしまう、(以上をスミアと呼
ぶ) スミアは固体撮像装置の撮像特注上非常に画質を低下さ
せるばかりでなく、垂直方向に白あるいは輝度の高い線
を発生させてしまうため、実用上問題となり、また固体
撮諌装置の実用をさまたげているという問題を有してい
る。そこで本発明は従来のこのような問題点を解決する
ため、スミア成分を除去するための回路を設けることに
よ!1%固体撮ま装置の解像度の向上及びスミアをなく
すことによシ、撮滓特性を改善及び向上させることを目
的とする。 〔間頂点を解決するための手段〕 本発明の固体撮像装置は、水平、垂直方向に2次元状に
配置した光電変換素子と、該光電変換素子から、順次映
像信号を読み出す第1.第2のスイッチ素子と、該第1
.第2のスイッチ素子を制御する第1.第2の走査回路
を備えた′固体撮濠装置において、 1)):記第1スイッチ素子を第1.第2走査回路で制
御することを特徴とする。 2)上記第1スイツチ素子と上記第2スイツチ素子を接
続する信号線に接続された第3のスイッチ素子を備えた
ことを特徴とする。 3)上記第3スイツチ素子は上記第2走査回路によって
制御されることを特徴とする。 4)上記第3スイツチ素子は出力端に接続されているこ
とを特徴とする。 〔作用〕 本発明の上記の構成にすることKよって、上記第1スイ
ツチ素子と第2スイツチ素子を接続する垂直信号線に混
入するスミア成分?、第1スイツチ素子で垂直信号線に
光信号を読み出す直前に第3のスイッチ素子で読み出し
てしまい完全にスミア成分を消滅してから光信号を読み
出すことで、固体撮は装置特有のスミアを完全になくす
ことができ、しいては解像度の向上につながり撮は特性
を向上させることが可能になるのである。 〔実施例〕 本発明の固体撮像装置の実施列を第1図に示す。 第3図に示した従来の固体撮像装置と比較して異なる点
は、第1のスイッチ素子(垂直スイッチ)が、従来はシ
ングルゲートトランジスタ2であるのに対し1本発明に
おいぞは、デュアルゲートトランジスタnで構成されて
いる。 またスミア電荷が蓄積される垂直信号&A26に第2ス
イツチ素子(水平スイッチ)23と同様に第3スイツチ
素子(リセットスイッチ)31が接続されており、その
リセットスイッチ31は水平走査回路間によって制御さ
れることが、本発明の特徴である。 すなわち従来の固体撮l装置は、垂直信号線6にスミア
電荷が蓄積してしまい、光信号電荷を読み出す際に光信
号電荷とスばアミ荷を同時に読み出してしまうが1本発
明においては、光信号、電荷を読み出す直前にスミア電
荷をリセットしてしまう。 本発明の動作について説明する。垂直走査回路四によっ
て垂直ゲート24を通じ垂直スイッチごが選択される。 しかし光電変換素子であるフォトダイオード21に蓄積
されている光信号電荷は垂直信号線あにはまだ転送され
ない1次に水平走査回路30によって水平ゲーへ34ヲ
通じリセットスイッチ31が口Nし、垂直信号線26に
蓄積されたスミア電荷を水平スきア掃き出し線32を通
しスミア出力端おへ掃き出してしまう、その後水平走査
回路間によシ水平ゲート25を通じ垂直スイッチ乙がO
Nすることによシフオドダイオード21の光信号電荷は
垂直信号線3に転送される。)、記の水平ゲート乙によ
り水平スイッチ田も同時にONしていることはいうまで
もない、光信号電荷は垂直信号線26ヲ通り水平信号線
27を通り、光信号出力端羽に読み出される。 第2図に本発明の実施例である光電変換素子と垂直スイ
ッチの構造図を示す、フォトターイオードは外型拡散層
43とP型基板41で構成されている。 光51が入射し発生したキャリアが、n型拡散層43と
P型基板41の接合容量で蓄積される。しかしP型基板
4】の深部で発生したキャリアが、垂直スイッチのドレ
インであるn型拡散層44に蓄積される。 この蓄積された電荷がスミア電荷となる。このスミア電
荷は垂直信号線であるAL配配線4企2リセットスイッ
チにより掃き出されてしまう,よってフォトダイオード
を構成するn型拡散層43に蓄積されている光信号電荷
は,垂直ゲート46及び水平ゲート犯により,スミア電
荷が消去された垂直信号線47に転送され水平スイッチ
を通シ信号出力端へ読み出される。 なお水平ゲートが46で垂直ゲートが刃であってもよい
ことはいうまでもない。 〔発明の効果〕 本発明は垂直信号線に蓄積されるスミア成分を完全に光
信号線から掃き出してしまうことによQ。 固体撮像装置の特有な現象であるスミアを抑制し。 しいては解像度を上げ、固体撮像装置の撮像特性が向上
するという効果が得られる。
[Deep part of the semiconductor substrate 14, below the oxide film 16, the diffusion layer 12, and the semiconductor substrate 14 below the diffusion layer 12]
), electron-hole pairs are also generated by the light 17. The amount of signal charge is shown in the following equation. λ is the wavelength of light, α is the absorption coefficient of the semiconductor substrate, 2 is the depth of the semiconductor substrate including the diffusion layer 11, and A is a constant. If the electron-hole pairs generated in the semiconductor substrate 14 in the deep part of the semiconductor substrate 14, under the oxide film 16, and under the diffusion layer 12 recombine and disappear, they will not be destroyed, but they will be diffused. layer 12 or the diffusion layer of the adjacent pixel (the drain connected to diode 1 and vertical signal line 6), it mixes with the true signal charge, which means that the solution for solid-state imaging devices is extremely difficult. resulting in a decline. A white or high-luminance line is generated in the vertical direction when light such as a strong spot light is incident (this is called a smear). Smearing not only greatly degrades the image quality of a custom-made solid-state imaging device, but also This poses a practical problem because it generates white or high-luminance lines in the vertical direction, and it also has the problem of hindering the practical use of solid-state imaging devices. In order to solve these conventional problems, the present invention provides a circuit for removing smear components. The purpose of this invention is to improve the resolution of a 1% solid-state imaging device and eliminate smear, thereby improving the imaging slag characteristics. [Means for resolving inter-vertices] The solid-state imaging device of the present invention includes photoelectric conversion elements arranged two-dimensionally in the horizontal and vertical directions, and a first image sensor that sequentially reads out video signals from the photoelectric conversion elements. a second switch element;
.. The first switch element controls the second switch element. In the 'solid-state moat imaging device provided with the second scanning circuit, 1)): The first switch element is connected to the first switch element. It is characterized in that it is controlled by a second scanning circuit. 2) A third switch element connected to a signal line connecting the first switch element and the second switch element is provided. 3) The third switch element is controlled by the second scanning circuit. 4) The third switch element is connected to the output terminal. [Operation] Due to the above configuration of the present invention, smear components are mixed into the vertical signal line connecting the first switch element and the second switch element. By reading out the optical signal with the third switching element immediately before reading out the optical signal on the vertical signal line with the first switching element and reading out the optical signal after completely eliminating the smear component, solid-state imaging completely eliminates the smear peculiar to the device. This can lead to improved resolution and improved imaging characteristics. [Embodiment] FIG. 1 shows an implementation of the solid-state imaging device of the present invention. The difference from the conventional solid-state imaging device shown in FIG. It is composed of transistor n. Also, a third switch element (reset switch) 31 is connected to the vertical signal &A 26 in which smear charges are accumulated, similar to the second switch element (horizontal switch) 23, and the reset switch 31 is controlled by the horizontal scanning circuit. This is a feature of the present invention. In other words, in the conventional solid-state imaging device, smear charges accumulate on the vertical signal line 6, and when reading out the optical signal charges, the optical signal charges and the smear charges are read out at the same time. The smear charge is reset immediately before reading out the signal and charge. The operation of the present invention will be explained. Each vertical switch is selected by the vertical scanning circuit 4 through the vertical gate 24. However, the optical signal charges accumulated in the photodiode 21, which is a photoelectric conversion element, are not transferred to the vertical signal line yet.The primary horizontal scanning circuit 30 passes through the horizontal gate 34 to the horizontal gate 34, and the reset switch 31 is turned on. The smear charge accumulated in the signal line 26 is swept out to the smear output terminal through the horizontal sweep line 32, and then the vertical switch O is passed through the horizontal gate 25 between the horizontal scanning circuits.
By doing so, the optical signal charge of the shifted diode 21 is transferred to the vertical signal line 3. ), it goes without saying that the horizontal switch field is also turned on at the same time by the horizontal gate B.The optical signal charge passes through the vertical signal line 26, the horizontal signal line 27, and is read out to the optical signal output terminal. FIG. 2 shows a structural diagram of a photoelectric conversion element and a vertical switch according to an embodiment of the present invention. The photodiode is composed of an outer diffusion layer 43 and a P-type substrate 41. As shown in FIG. Carriers generated by the incident light 51 are accumulated in the junction capacitance between the n-type diffusion layer 43 and the P-type substrate 41 . However, carriers generated deep in the P-type substrate 4 are accumulated in the n-type diffusion layer 44, which is the drain of the vertical switch. This accumulated charge becomes a smear charge. This smear charge is swept out by the AL wiring line 4 reset switch, which is a vertical signal line. Therefore, the optical signal charge accumulated in the n-type diffusion layer 43 constituting the photodiode is swept out by the vertical gate 46 and the horizontal The gate thief transfers the smear charge to the erased vertical signal line 47 and reads it out to the signal output terminal through the horizontal switch. It goes without saying that the horizontal gate may be 46 and the vertical gate may be a blade. [Effects of the Invention] The present invention eliminates Q by completely sweeping out the smear components accumulated in the vertical signal line from the optical signal line. Suppresses smear, a phenomenon peculiar to solid-state imaging devices. As a result, the effect of increasing the resolution and improving the imaging characteristics of the solid-state imaging device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による固体撮像装置の構成図であシ、第
2図は本発明による固体撮像装置の単位画素の断面図で
あシ、第3図は従来の固体撮像装置の構成図であり、第
4図は従来の固体撮像装置の単位II!li素の断面図
である。 1.21−・・光ダイオード 2.22・・愉垂直スイッチ用MO8)ランジスタ 3.23・・ψ水平スイッチ用MO13)ランジスタ 4.24・φ・垂直走査ゲート及び配線5.25.34
・・水平走査ゲート及び配線6.26Φ争・垂直信号線 7.27・Φ・水平イば帰線 8.28・・・光信号出力端 9.29−・・垂直走査回路 10 、30 @・・水平走査回路 31・・・リセットスイッチ用MO8)ランジスタ β・・・水平スミア掃き出し線 あ・・・スミア出力端 11 、12 、43 、49 、44 ・m n型拡
散層13、so、46” e ケ−) (POLY−8
i )14 、41・・、P型半導体基板 15 、47・・・金属配線(八り 16 、45・・・酸化膜 17 、51・・・光 18 、48・拳・層間膜 19 、42・・・?不純物層 以   上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理出張 上  務他1名 2n 彩4−ρ
FIG. 1 is a block diagram of a solid-state imaging device according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a unit pixel of the solid-state imaging device according to the present invention, and FIG. 3 is a block diagram of a conventional solid-state imaging device. Yes, Figure 4 shows the unit II of a conventional solid-state imaging device! FIG. 2 is a cross-sectional view of Li element. 1.21-...Photodiode 2.22...MO8) Transistor 3.23...MO13) ψ for horizontal switch
・・Horizontal scanning gate and wiring 6.26Φ・Vertical signal line 7.27・φ・Horizontal return line 8.28・・Optical signal output end 9.29−・・Vertical scanning circuit 10, 30 @・・Horizontal scanning circuit 31...MO8 for reset switch) Transistor β...Horizontal smear sweep line...Smear output end 11, 12, 43, 49, 44 ・m n-type diffusion layer 13, so, 46'' e K) (POLY-8
i) 14, 41..., P-type semiconductor substrate 15, 47...metal wiring (8 16, 45... oxide film 17, 51... light 18, 48, fist, interlayer film 19, 42) ...?Impurity layer or above Applicant: Seiko Epson Co., Ltd. Representative Patent attorney business trip: Senior affairs and 1 other person 2n Aya 4-rho

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)水平、垂直方向に2次元状に配置した光電変換素
子と、該光電変換素子から、順次映像信号を読み出す第
1、第2のスイツチ素子と、該第1、第2のスイッチ素
子を制御する第1、第2の走査回路を備えた固体撮像装
置において、 前記第1スイッチ素子を前記第1、第2走査回路で制御
することを特徴とする固体撮像装置。
(1) A photoelectric conversion element arranged two-dimensionally in the horizontal and vertical directions, first and second switch elements that sequentially read out video signals from the photoelectric conversion element, and the first and second switch elements. A solid-state imaging device comprising first and second scanning circuits for controlling the solid-state imaging device, wherein the first switching element is controlled by the first and second scanning circuits.
(2)上記第1スイッチ素子と上記第2スイッチ素子を
接続する信号線に接続された第3のスイッチ素子を備え
たことを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の固体
撮像装置。
(2) The solid-state imaging device according to claim 1, further comprising a third switch element connected to a signal line connecting the first switch element and the second switch element.
(3)上記第3スイッチ素子は上記第2走査回路によっ
て制御されることを特徴とする特許請求の範囲第2項の
固体撮像装置。
(3) The solid-state imaging device according to claim 2, wherein the third switching element is controlled by the second scanning circuit.
(4)上記第3スイッチ素子は出力端に接続されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項の固体撮像装置
(4) The solid-state imaging device according to claim 3, wherein the third switch element is connected to an output terminal.
JP61218801A 1986-09-17 1986-09-17 Solid-state image pickup device Pending JPS6374275A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020129439A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 株式会社ジャパンディスプレイ Detection device

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