JPS6367308B2 - - Google Patents
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- JPS6367308B2 JPS6367308B2 JP9749580A JP9749580A JPS6367308B2 JP S6367308 B2 JPS6367308 B2 JP S6367308B2 JP 9749580 A JP9749580 A JP 9749580A JP 9749580 A JP9749580 A JP 9749580A JP S6367308 B2 JPS6367308 B2 JP S6367308B2
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- Japan
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- shadow mask
- electron beam
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- picture tube
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 30
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
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- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
- H01J29/076—Shadow masks for colour television tubes characterised by the shape or distribution of beam-passing apertures
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラー受像管用シヤドウマスクに係
り、特に矩形状の電子ビーム通過孔部が長手方向
にブリツジ部を介して連設されたシヤドウマスク
に関するものである。
り、特に矩形状の電子ビーム通過孔部が長手方向
にブリツジ部を介して連設されたシヤドウマスク
に関するものである。
一般のシヤドウマスク形カラー受像管は第1図
に示すように、内面に電子ビームの射突により、
赤、緑、青各色に発光する帯状の蛍光体層が規則
的に配設された蛍光面11が被着形成されている
パネル12と、このパネル12にフアンネル13
を介して連接されたネツク14と、このネツク1
4に内装された電子銃15と、この電子銃15か
らの3本の電子ビーム16R,16G,16Bを
一つの電子ビーム通過孔部17aを介して蛍光体
層に射突するようになされたシヤドウマスク17
と、このシヤドウマスク17を保持するマスクフ
レーム18と、このマスクフレーム18とパネル
12の側壁部内面に値設されたパネルピン19と
の間に設けられた支持構体20と、フアンネル1
3からネツク14へかけての外壁に接着された偏
向装置21とからなる。
に示すように、内面に電子ビームの射突により、
赤、緑、青各色に発光する帯状の蛍光体層が規則
的に配設された蛍光面11が被着形成されている
パネル12と、このパネル12にフアンネル13
を介して連接されたネツク14と、このネツク1
4に内装された電子銃15と、この電子銃15か
らの3本の電子ビーム16R,16G,16Bを
一つの電子ビーム通過孔部17aを介して蛍光体
層に射突するようになされたシヤドウマスク17
と、このシヤドウマスク17を保持するマスクフ
レーム18と、このマスクフレーム18とパネル
12の側壁部内面に値設されたパネルピン19と
の間に設けられた支持構体20と、フアンネル1
3からネツク14へかけての外壁に接着された偏
向装置21とからなる。
このような構造を有するシヤドウマスク形カラ
ー受像管に於ては、電子ビーム16R,16G,
16Bが偏向装置21によりパネル12の有効面
を水平及び垂直に走査されたとき、常にシヤドウ
マスク17の一つの電子ビーム通過孔部17aを
介して、それぞれの蛍光体層に射突し、蛍光面1
1上にカラー画像を再現するようになつている。
ー受像管に於ては、電子ビーム16R,16G,
16Bが偏向装置21によりパネル12の有効面
を水平及び垂直に走査されたとき、常にシヤドウ
マスク17の一つの電子ビーム通過孔部17aを
介して、それぞれの蛍光体層に射突し、蛍光面1
1上にカラー画像を再現するようになつている。
次に前述したシヤドウマスク17の製造方法の
一例を説明すると、先ず0.10mm〜0.18mm厚、460
m〜610m幅、200m〜300m長さの長尺の帯状鉄
板などからなるシヤドウマスク素材の両主面をク
リーニングしたのち感光樹脂液を全面に塗布乾燥
する。次いこの素材の両面より所定のパターンの
形成された1対のネガマスクを密着・感光する。
次に現像工程により未感光の樹脂被膜を除去した
のち、エツチング工程により多数の電子ビーム通
過孔部及び所定形状の抜取りラインを有するフラ
ツトマスクを形成する。次に抜取りラインに沿つ
てシヤドウマスク素材より、フラツトマスクをピ
ツクオフする。次にこのフラツトマスクを焼鈍工
程、レベリング工程、フオーミング工程を経て所
定の曲率を有するシヤドウマスクに仕上げる。
一例を説明すると、先ず0.10mm〜0.18mm厚、460
m〜610m幅、200m〜300m長さの長尺の帯状鉄
板などからなるシヤドウマスク素材の両主面をク
リーニングしたのち感光樹脂液を全面に塗布乾燥
する。次いこの素材の両面より所定のパターンの
形成された1対のネガマスクを密着・感光する。
次に現像工程により未感光の樹脂被膜を除去した
のち、エツチング工程により多数の電子ビーム通
過孔部及び所定形状の抜取りラインを有するフラ
ツトマスクを形成する。次に抜取りラインに沿つ
てシヤドウマスク素材より、フラツトマスクをピ
ツクオフする。次にこのフラツトマスクを焼鈍工
程、レベリング工程、フオーミング工程を経て所
定の曲率を有するシヤドウマスクに仕上げる。
この様にして形成されたシヤドウマスク17の
電子ビーム通過孔部17aは通常、カラー受像管
の垂直軸方向に長手方向を有しブリツジ部を介し
てほぼ直線状に列をなすと共に、この列がカラー
受像管の水平方向に所定のピツチで並列され、ま
た蛍光面11側は大孔部であり、電子銃15側は
小孔部になるように形成されている。そしてこの
大孔部の寸法は電子銃15から射出された電子ビ
ーム16R,16G,16Bが偏向装置21によ
り偏向された軌跡と、シヤドウマスク17の所
謂、マスク曲率によりシヤドウマスク17内の軌
跡角が決まるし、また1対のネガマスクの大孔部
に対応するパターンと、小孔部に対応するパター
ンとの合せ精度などの合成により決定される。
電子ビーム通過孔部17aは通常、カラー受像管
の垂直軸方向に長手方向を有しブリツジ部を介し
てほぼ直線状に列をなすと共に、この列がカラー
受像管の水平方向に所定のピツチで並列され、ま
た蛍光面11側は大孔部であり、電子銃15側は
小孔部になるように形成されている。そしてこの
大孔部の寸法は電子銃15から射出された電子ビ
ーム16R,16G,16Bが偏向装置21によ
り偏向された軌跡と、シヤドウマスク17の所
謂、マスク曲率によりシヤドウマスク17内の軌
跡角が決まるし、また1対のネガマスクの大孔部
に対応するパターンと、小孔部に対応するパター
ンとの合せ精度などの合成により決定される。
周知の如くシヤドウマスク17内の軌跡角はシ
ヤドウマスク17の中心部より周辺部へ半径方向
に除々に増え、周辺部で大孔部寸法が最も大きく
なる。このように周辺部方向に進むにつれて大孔
部寸法が大きくなるため、電子ビーム軌跡に無関
係のシヤドウマスク中心側の矩形状電子ビーム通
過孔部の長手方向の側壁巾も大きくなる。
ヤドウマスク17の中心部より周辺部へ半径方向
に除々に増え、周辺部で大孔部寸法が最も大きく
なる。このように周辺部方向に進むにつれて大孔
部寸法が大きくなるため、電子ビーム軌跡に無関
係のシヤドウマスク中心側の矩形状電子ビーム通
過孔部の長手方向の側壁巾も大きくなる。
電子銃15より射出された電子ビーム16R,
16G,16Bはシヤドウマスク17の電子ビー
ム通過孔部17aの電子銃15側の面に設けられ
た小孔部を通過し、蛍光面11側の面に設けられ
た大孔部を介して所定の蛍光体層に射突するもの
と、電子銃15側の面で遮蔽反射され、カラー受
像管の外囲器内を散乱し、一部は再び電子ビーム
通過孔部17aを通過し、不所望な蛍光体層に射
突する散乱電子ビームに分けられる。
16G,16Bはシヤドウマスク17の電子ビー
ム通過孔部17aの電子銃15側の面に設けられ
た小孔部を通過し、蛍光面11側の面に設けられ
た大孔部を介して所定の蛍光体層に射突するもの
と、電子銃15側の面で遮蔽反射され、カラー受
像管の外囲器内を散乱し、一部は再び電子ビーム
通過孔部17aを通過し、不所望な蛍光体層に射
突する散乱電子ビームに分けられる。
特に周辺部方向での矩形状の電子ビーム通過孔
部はシヤドウマスク中心方向の長手方向の側壁部
近傍より前述した散乱電子ビームを通過し易く、
不所望な蛍光体層に射突し、この蛍光体層を発光
させるため、蛍光面上に画かれる再生画像全体を
白つぽく即ち黒しずみを悪くし画像品位をおとす
原因となる。
部はシヤドウマスク中心方向の長手方向の側壁部
近傍より前述した散乱電子ビームを通過し易く、
不所望な蛍光体層に射突し、この蛍光体層を発光
させるため、蛍光面上に画かれる再生画像全体を
白つぽく即ち黒しずみを悪くし画像品位をおとす
原因となる。
またシヤドウマスクの機械的強度を考えても中
心部と周辺部では単位面積当りのシヤドウマスク
体積に差が生じ周辺部を弱くするため、電子ビー
ムの射突によるシヤドウマスクの熱膨張(受像管
特性で云えばピユリテイドリフト)に悪影響を与
える。
心部と周辺部では単位面積当りのシヤドウマスク
体積に差が生じ周辺部を弱くするため、電子ビー
ムの射突によるシヤドウマスクの熱膨張(受像管
特性で云えばピユリテイドリフト)に悪影響を与
える。
前述した諸欠点の解決策としてはシヤドウマス
クの周辺部の大孔部寸法を小さくすればよいが、
このようにすると電子ビーム軌跡を満足すること
ができなくなるし、またシヤドウマスクの中心部
の大孔部寸法を大きくすると、前述の如く黒しず
みを悪くすることになる。
クの周辺部の大孔部寸法を小さくすればよいが、
このようにすると電子ビーム軌跡を満足すること
ができなくなるし、またシヤドウマスクの中心部
の大孔部寸法を大きくすると、前述の如く黒しず
みを悪くすることになる。
本発明は前記従来の諸欠点に鑑みなされたもの
であり、大孔部の配列を変えることによりカラー
受像管特性を向上させ、かつ機械的強度の良好な
カラー受像管用シヤドウマスクを提供することを
目的としている。
であり、大孔部の配列を変えることによりカラー
受像管特性を向上させ、かつ機械的強度の良好な
カラー受像管用シヤドウマスクを提供することを
目的としている。
即ち本発明はシヤドウマスク全面の機械的強度
を増すため周辺部方向の大孔部寸法を極力小さく
することが必要であるが、しかし前述の如く電子
ビーム軌跡から矩形状の電子ビーム通過孔部の側
壁部寸法(大孔部寸法とほぼ同じ)が決定される
ため限度があり、また従来のシヤドウマスクに於
ける電子ビーム通過孔部が大孔部のピツチと小孔
部のピツチとが垂直軸に平行な直線にあるため、
大孔部寸法を小さくすることに限度があると云う
考えを基になされたものである。
を増すため周辺部方向の大孔部寸法を極力小さく
することが必要であるが、しかし前述の如く電子
ビーム軌跡から矩形状の電子ビーム通過孔部の側
壁部寸法(大孔部寸法とほぼ同じ)が決定される
ため限度があり、また従来のシヤドウマスクに於
ける電子ビーム通過孔部が大孔部のピツチと小孔
部のピツチとが垂直軸に平行な直線にあるため、
大孔部寸法を小さくすることに限度があると云う
考えを基になされたものである。
次に本発明のカラー受像管用シヤドウマスクの
一実施例を第2図乃至第4図により説明する。
一実施例を第2図乃至第4図により説明する。
即ち、小孔部のピツチaはシヤドウマスク17
の垂直軸Yに平行な直線配列とし、大孔部のピツ
チbはシヤドウマスク17の垂直軸Yと水平軸X
とを含む平面上で図のように周辺部に行くに従つ
てピツチbが大きくるように二次曲線配列とする
ことにより大孔部寸法を小さくすることが可能と
なり、電子ビーム軌跡がシヤドウマスクに形成さ
れた電子ビーム通過孔部の側壁部に衝突すること
を防止するようにしている。
の垂直軸Yに平行な直線配列とし、大孔部のピツ
チbはシヤドウマスク17の垂直軸Yと水平軸X
とを含む平面上で図のように周辺部に行くに従つ
てピツチbが大きくるように二次曲線配列とする
ことにより大孔部寸法を小さくすることが可能と
なり、電子ビーム軌跡がシヤドウマスクに形成さ
れた電子ビーム通過孔部の側壁部に衝突すること
を防止するようにしている。
この大孔部のピツチの二次曲線は次の式を満足
するようになされている。即ち、 但し n:整数(1、2、3、…) A:小孔部のピツチ T:シヤドウマスク板厚 Yd:Y軸方向の距離 UM:シヤドウマスク最大有効径寸法/2 θ:カラー受像管の偏向角/2 RM:シヤドウマスク曲率 C:定数(0CA/2) ここで定数Cの範囲は前述値以下では電子ビー
ムが電子ビーム通過孔部の側壁に衝突し、所定の
電子ビーム形状が得られず、また最大値は前述の
黒しずみの状態で決り、ほぼ小孔部ピツチの1/2
まで効果があることがわかつた。
するようになされている。即ち、 但し n:整数(1、2、3、…) A:小孔部のピツチ T:シヤドウマスク板厚 Yd:Y軸方向の距離 UM:シヤドウマスク最大有効径寸法/2 θ:カラー受像管の偏向角/2 RM:シヤドウマスク曲率 C:定数(0CA/2) ここで定数Cの範囲は前述値以下では電子ビー
ムが電子ビーム通過孔部の側壁に衝突し、所定の
電子ビーム形状が得られず、また最大値は前述の
黒しずみの状態で決り、ほぼ小孔部ピツチの1/2
まで効果があることがわかつた。
また特殊な例として上式中のYd値を0とし、
簡易的にY軸からの距離で表わすことも可能であ
る。
簡易的にY軸からの距離で表わすことも可能であ
る。
上述の如く本発明にシヤドウマスクは矩形状の
電子ビーム通過孔部の大孔部寸法を従来のものに
比較して小さく出来るため、シヤドウマスクの機
械的強度が向上するし、また大孔部寸法を極力小
さくしたためカラー受像管の外囲器内の散乱ビー
ムによる不所望な蛍光体層の発光を減少すること
が可能となりカラー受像管としての画像品位を向
上させることが出来る。
電子ビーム通過孔部の大孔部寸法を従来のものに
比較して小さく出来るため、シヤドウマスクの機
械的強度が向上するし、また大孔部寸法を極力小
さくしたためカラー受像管の外囲器内の散乱ビー
ムによる不所望な蛍光体層の発光を減少すること
が可能となりカラー受像管としての画像品位を向
上させることが出来る。
第1図はシヤドウマスク形カラー受像管の説明
用断面図、第2図乃至第4図は本発明のカラー受
像管用シヤドウマスクの一実施例を示す図であ
り、第2図は小孔部ピツチの配列を示す説明図、
第3図は大孔部ピツチの配列を示す説明図、第4
図は蛍光面側から見た平面図である。 16R,16G,16B……電子ビーム、17
……シヤドウマスク、17a……電子ビーム通過
孔部、a……小孔部のピツチ、b……大孔部のピ
ツチ。
用断面図、第2図乃至第4図は本発明のカラー受
像管用シヤドウマスクの一実施例を示す図であ
り、第2図は小孔部ピツチの配列を示す説明図、
第3図は大孔部ピツチの配列を示す説明図、第4
図は蛍光面側から見た平面図である。 16R,16G,16B……電子ビーム、17
……シヤドウマスク、17a……電子ビーム通過
孔部、a……小孔部のピツチ、b……大孔部のピ
ツチ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 所定厚の金属板にカラー受像管の垂直軸方向
に長手方向を有し、ブリツジ部を介してほぼ直線
状に列をなすと共に、前記列が水平軸方向に所定
のピツチで並設された矩形状の電子ビーム通過孔
部を有するカラー受像管用シヤドウマスクに於
て、前記電子ビーム通過孔部の電子銃側の小孔部
のピツチを前記垂直軸に平行な直線配列とし、前
記電子ビーム通過孔部の蛍光面側の大孔部のピツ
チを を満足する二次曲線としたことを特徴とするカラ
ー受像管用シヤドウマスク。 但し n:整数、A:小孔部のピツチ T:シヤドウマスク板厚 Yd:Y軸方向の距離 UM:シヤドウマスク最大有効径寸法/2 θ:カラー受像管の偏向角/2 RM:シヤドウマスク曲率 C:定数(0CA/2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9749580A JPS5723446A (en) | 1980-07-18 | 1980-07-18 | Shadow mask for color picture tube |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9749580A JPS5723446A (en) | 1980-07-18 | 1980-07-18 | Shadow mask for color picture tube |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5723446A JPS5723446A (en) | 1982-02-06 |
JPS6367308B2 true JPS6367308B2 (ja) | 1988-12-23 |
Family
ID=14193841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9749580A Granted JPS5723446A (en) | 1980-07-18 | 1980-07-18 | Shadow mask for color picture tube |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5723446A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1461377A3 (ru) * | 1984-05-25 | 1989-02-23 | Рка Корпорейшн (Фирма) | Цветной кинескоп |
US4794299A (en) * | 1986-03-25 | 1988-12-27 | Zenith Electronics Corporation | Flat tension mask color CRT front assembly with improved mask for degrouping error compensation |
JPS6381502U (ja) * | 1986-11-17 | 1988-05-28 | ||
JP2653318B2 (ja) * | 1992-04-03 | 1997-09-17 | 三菱電機株式会社 | カラー陰極線管 |
-
1980
- 1980-07-18 JP JP9749580A patent/JPS5723446A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5723446A (en) | 1982-02-06 |
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